CA2160221C - Electrode pour procede electrochimique et utilisation de ladite electrode - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 18
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 35
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 23
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical compound O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 12
- -1 alkali metal salt Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 16
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 8
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 229910021639 Iridium tetrachloride Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- CALMYRPSSNRCFD-UHFFFAOYSA-J tetrachloroiridium Chemical compound Cl[Ir](Cl)(Cl)Cl CALMYRPSSNRCFD-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 5
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 4
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 3
- MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N oxoplatinum Chemical compound [Pt]=O MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910003446 platinum oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 2
- KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2,2-bis(chloromethyl)propane Chemical compound ClCC(CCl)(CCl)CCl KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910001514 alkali metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OTLGFUHTYPXTTG-UHFFFAOYSA-M indium(3+);oxygen(2-);hydroxide Chemical compound [OH-].[O-2].[In+3] OTLGFUHTYPXTTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000011505 plaster Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
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Abstract
Électrode pour procédé électrochimique, comprenant, sur un substrat électroconducteur, un revêtement de platine, d'oxyde d'iridium et d'oxyde d'étain, le revêtement comprenant plus de 8 % en poids d'oxyde d'iridium. Utilisation de ladite électrode comme anode dans un procédé d'électroly se d'un sel de métal alcalin en solution aqueuse.
Description
~ ' ~~.~Q'~2~
Électrode pour procédé électrochimicfue et utilisation de ladite électrode L'invention concerne les procédés électrochimiques, en particulier les procédés d'électrolyse.
Elle concerne plus particulièrement une électrode utilisable dans de tels procédés.
Des paramètres importants des procédés d'électrolyse industriels sont, d'une part, les potentiels des réactions électrochimiques aux électrodes et, d'autre part, le rendement de courant aux électrodes.
La difficulté de réaliser des rendements de courant acceptables est particulièrement présente dans les procédés d'électrolyse des sels des métaux alcalins en solution aqueuse, la réaction à l'anode s'accompagnant habituellement d'une formation parasite d'oxygène. Cette difficulté est particulièrement présente dans les procédés de fabrication de chlore par électrolyse de solutions aqueuses de chlorure de métal alcalin (en particulier de sodium).
Le moyen utilisé pour réduire la production parasite d'oxygène dans les procédés d'électrolyse consiste à faire usage d'anodes présentant une surtension élevée à l'oxydation des anions d'oxygène. A cet effet, dans la demande de brevet européen EP-A-0153586, on propose des anodes comprenant, sur un substrat électroconducteur, un revêtement d'oxyde de ruthénium et d'oxyde d'étain, associés à du platine, de l'oxyde de platine ou de l'oxyde d'iridium. On cite par ailleurs une anode dont le revêtement consiste en un mélange de 14 % molaire de platine, de 6 % molaire d'iridium et de 80 % molaire d'étain. Dans ce revêtement connu, l'iridium et l'étain sont à l'état d'oxydes.
En ce qui concerne le revêtement connu précité de platine, d'oxyde d'iridium et d'oxyde d'étain, on a maintenant trouvé qu'en modifiant de manière appropriée ses teneurs relatives en platine, oxyde d'iridium et oxyde d'étain, il était possible d'augmenter de manière sensible et inattendue la surtension à l'oxydation des anions d'oxygène et, par voie de conséquence, d'améliorer le rendement de courant anodique dans les procédés d'électrolyse des sels de métaux alcalins en solution aqueuse.
L'invention concerne dès lors une électrode pour procédé électro-
Électrode pour procédé électrochimicfue et utilisation de ladite électrode L'invention concerne les procédés électrochimiques, en particulier les procédés d'électrolyse.
Elle concerne plus particulièrement une électrode utilisable dans de tels procédés.
Des paramètres importants des procédés d'électrolyse industriels sont, d'une part, les potentiels des réactions électrochimiques aux électrodes et, d'autre part, le rendement de courant aux électrodes.
La difficulté de réaliser des rendements de courant acceptables est particulièrement présente dans les procédés d'électrolyse des sels des métaux alcalins en solution aqueuse, la réaction à l'anode s'accompagnant habituellement d'une formation parasite d'oxygène. Cette difficulté est particulièrement présente dans les procédés de fabrication de chlore par électrolyse de solutions aqueuses de chlorure de métal alcalin (en particulier de sodium).
Le moyen utilisé pour réduire la production parasite d'oxygène dans les procédés d'électrolyse consiste à faire usage d'anodes présentant une surtension élevée à l'oxydation des anions d'oxygène. A cet effet, dans la demande de brevet européen EP-A-0153586, on propose des anodes comprenant, sur un substrat électroconducteur, un revêtement d'oxyde de ruthénium et d'oxyde d'étain, associés à du platine, de l'oxyde de platine ou de l'oxyde d'iridium. On cite par ailleurs une anode dont le revêtement consiste en un mélange de 14 % molaire de platine, de 6 % molaire d'iridium et de 80 % molaire d'étain. Dans ce revêtement connu, l'iridium et l'étain sont à l'état d'oxydes.
En ce qui concerne le revêtement connu précité de platine, d'oxyde d'iridium et d'oxyde d'étain, on a maintenant trouvé qu'en modifiant de manière appropriée ses teneurs relatives en platine, oxyde d'iridium et oxyde d'étain, il était possible d'augmenter de manière sensible et inattendue la surtension à l'oxydation des anions d'oxygène et, par voie de conséquence, d'améliorer le rendement de courant anodique dans les procédés d'électrolyse des sels de métaux alcalins en solution aqueuse.
L'invention concerne dès lors une électrode pour procédé électro-
-2-chimique, comprenant, sur un substrat électroconducteur, un revêtement de platine, d'oxyde d'iridium et d'oxyde d'étain, ledit revêtement comprenant plus de 8 % en poids d'oxyde d'iridium.
Dans l'électrode selon l'invention, le substrat doit être en un matériau électroconducteur, inerte dans les conditions d'électrolyse auxquelles l'électrode est destinée. Nonobstant cette condition, le substrat de l'électrode selon l'invention n'est pas critique et sa constitution ne constitue pas l'objet de l'invention. A titre d'exemple, le substrat peut avantageusement être en un métal sélectionné parmi le titane, le tantale, le zirconium, le vanadium, le niobium et le tungstène ou en un alliage de ces métaux.
Le profil du substrat n'est pas critique et ne constitue pas l'objet de l'invention, le profil le plus adéquat dépendant de la destination de l'élec-trode et devant dès lors être déterminé dans chaque cas particulier. A titre d'exemple, le substrat de l'électrode selon l'invention peut être une plaque pleine ou ajourée, rigide ou flexible, un fil, un treillis de fils entrelacés ou un empilage de billes.
Le revêtement doit être présent sur le substrat en une quantité
suffisante pour couvrir une partie substantielle du substrat et catalyser la réaction électrochimique à laquelle l'électrode est destinée. La quantité
optimum de revêtement va dès lors dépendre de la réaction électrochimique à laquelle on destine l'électrode et elle peut être déterminée dans chaque cas particulier par un travail de routine au laboratoire. En pratique, il est souhaitable que le revêtement soit présent sur le substrat en une quantité au moins égale à 1 g (de préférence à 5 g) par m2 de la surface du substrat sur laquelle il est appliqué. Bien qu'il n'existe pas, en principe, de limite supérieure à l'épaisseur du revêtement sur le substrat, en pratique il n'y a pas intérêt à ce qu'il excède 20 g par m2 de la surface précitée du substrat, les épaisseurs de 8 à 12 g/m2 étant spécialement recommandées.
Dans l'électrode selon l'invention, le platine, l'oxyde d'iridium et l'oxyde d'étain sont de préférence répartis de manière homogène dans le revêtement. On entend par cette expression, que les concentrations relatives de platine, d'oxyde d'iridium et d'oxyde d'étain sont sensiblement identiques en tous points de revêtement ou qu'elles ne divergent pas de plus de 5 % (de préférence 1 % ) entre deux points quelconque du revêtement.
Tous moyens appropriés peuvent être utilisés pour appliquer le revê-tement sur le substrat. Un moyen recommandé consiste à appliquer sur le
Dans l'électrode selon l'invention, le substrat doit être en un matériau électroconducteur, inerte dans les conditions d'électrolyse auxquelles l'électrode est destinée. Nonobstant cette condition, le substrat de l'électrode selon l'invention n'est pas critique et sa constitution ne constitue pas l'objet de l'invention. A titre d'exemple, le substrat peut avantageusement être en un métal sélectionné parmi le titane, le tantale, le zirconium, le vanadium, le niobium et le tungstène ou en un alliage de ces métaux.
Le profil du substrat n'est pas critique et ne constitue pas l'objet de l'invention, le profil le plus adéquat dépendant de la destination de l'élec-trode et devant dès lors être déterminé dans chaque cas particulier. A titre d'exemple, le substrat de l'électrode selon l'invention peut être une plaque pleine ou ajourée, rigide ou flexible, un fil, un treillis de fils entrelacés ou un empilage de billes.
Le revêtement doit être présent sur le substrat en une quantité
suffisante pour couvrir une partie substantielle du substrat et catalyser la réaction électrochimique à laquelle l'électrode est destinée. La quantité
optimum de revêtement va dès lors dépendre de la réaction électrochimique à laquelle on destine l'électrode et elle peut être déterminée dans chaque cas particulier par un travail de routine au laboratoire. En pratique, il est souhaitable que le revêtement soit présent sur le substrat en une quantité au moins égale à 1 g (de préférence à 5 g) par m2 de la surface du substrat sur laquelle il est appliqué. Bien qu'il n'existe pas, en principe, de limite supérieure à l'épaisseur du revêtement sur le substrat, en pratique il n'y a pas intérêt à ce qu'il excède 20 g par m2 de la surface précitée du substrat, les épaisseurs de 8 à 12 g/m2 étant spécialement recommandées.
Dans l'électrode selon l'invention, le platine, l'oxyde d'iridium et l'oxyde d'étain sont de préférence répartis de manière homogène dans le revêtement. On entend par cette expression, que les concentrations relatives de platine, d'oxyde d'iridium et d'oxyde d'étain sont sensiblement identiques en tous points de revêtement ou qu'elles ne divergent pas de plus de 5 % (de préférence 1 % ) entre deux points quelconque du revêtement.
Tous moyens appropriés peuvent être utilisés pour appliquer le revê-tement sur le substrat. Un moyen recommandé consiste à appliquer sur le
-3-substrat un enduit de composés thermodécomposables du platine, de l'iridium et de l'étain et à soumettre ensuite l'enduit à un traitement thermique en atmosphère oxydante, de manière à décomposer les composés thermodécomposables et à former le revêtement. Les composés thermo-décomposables peuvent être tous composés qui, chauffés en atmosphère oxydante, libèrent du platine ou de l'oxyde de platine, du dioxyde d'iridium et du dioxyde d'étain. Ils peuvent par exemple être sélectionnés parmi les nitrates, les sulfates, les phosphates, les halogénures et les sels d'acides carboxyliques. Pour constituer l'enduit, les composés thermodécomposables précités peuvent être mis en oeuvre à l'état solide, par exemple à l'état d'une poudre, ou à l'état liquide, par exemple sous la forme de sels fondus, de suspensions ou de solutions. Le traitement thermique consiste, par déimition, en un chauffage de l'enduit à une température suffisante en atmosphère oxydante contrôlée pour décomposer les composés thermo-décomposables et coprécipiter du platine ou de l'oxyde de platine, de l'oxyde d'iridium et de l'oxyde d'étain. L'atmosphère oxydante peut consister en de l'air atmosphérique, de l'air enrichi ou de l'oxygène pur. On préfère utiliser l'air atmosphérique. Le choix des composés thermo-décomposables et la température du traitement thermique sont inter-dépendants. Le choix des composés thermodécomposables est notamment influencé par la température admissible pour le traitement thermique, de manière à éviter que celui-ci endommage le substrat. Dans une forme d'exécution avantageuse de l'invention, les composés thermodécomposables sont sélectionnés parmi les halogénures et ceux-ci sont mis en oeuvre à
l'état dissous dans un solvant organique. Les chlorures sont préférés, en particulier le tétrachlorure d'iridium, le tétrachlorure d'étain et l'acide hexachloroplatinique, et le solvant organique est avantageusement sélectionné parmi les alcools, de préférence les alcools aliphatiques tels que le méthanol, l'éthanol et l'isopropanol, par exemple. Pour l'exécution du traitement thermique, les températures de 100 à 1 000 °C conviennent dans la majorité des cas, celles de 200 à 750 °C étant spécialement recom-mandées. Dans la mise en oeuvre de cette forme d'exécution de l'invention, il est généralement recommandé d'appliquer plusieurs couches successives de la solution organique des composés thermodécomposables sur le substrat et de soumettre chaque couche individuellement au traitement thermique défini plus haut.
l'état dissous dans un solvant organique. Les chlorures sont préférés, en particulier le tétrachlorure d'iridium, le tétrachlorure d'étain et l'acide hexachloroplatinique, et le solvant organique est avantageusement sélectionné parmi les alcools, de préférence les alcools aliphatiques tels que le méthanol, l'éthanol et l'isopropanol, par exemple. Pour l'exécution du traitement thermique, les températures de 100 à 1 000 °C conviennent dans la majorité des cas, celles de 200 à 750 °C étant spécialement recom-mandées. Dans la mise en oeuvre de cette forme d'exécution de l'invention, il est généralement recommandé d'appliquer plusieurs couches successives de la solution organique des composés thermodécomposables sur le substrat et de soumettre chaque couche individuellement au traitement thermique défini plus haut.
-4-Selon l'invention, la sélection d'une teneur en oxyde d'indium supérieure à 8 % (de préférence au moins égale à 25 % ) du poids du revêtement permet d'augmenter de manière substantielle la surtension de décharge des anions oxygène, lorsque l'électrode selon l'invention est utilisée comme anode dans un procédé d'électrolyse d'une solution aqueuse d'un sel de métal alcalin, en particulier de chlomre de sodium.
Dans une forme de réalisation particulière de l'électrode selon l'invention, la teneur en platine du revêtement est d'au moins 10 % (de préférence d'au moins 12 %) en poids. Cette forme de réalisation de l'électrode selon l'invention possède l'avantage supplémentaire de présenter une plus faible surtension à la décharge électrochimique des anions chlorure et elle est de ce fait spécialement adaptée à servir d'anode dans les procédés de fabrication électrolytique de chlore.
Le revêtement de l'électrode peut être constitué exclusivement de platine, d'oxyde d'iridium et d'oxyde d'étain, ou bien il peut comprendre un ou plusieurs composés additionnels, différents du platine, de l'oxyde d'iridium et de l'oxyde d'étain. En général on préfere que le revêtement de l'électrode selon l'invention soit essentiellement constitué de platine, d'oxyde d'iridium et d'oxyde d'étain.
Plus particulièrement, l'invention concerne un électrode pour procédé
électrochimique, comprenant, sur un substrat électroconducteur, un revétement de 12 à 17% en poids de platine, de 30 à 40% en poids d'oxyde d'iridium et de 43 à 58% en poids d'oxyde d'étain. L'électrode conforme à cette forme de réalisation de l'invention convient spécialement bien comme anode pour la production de chlore par électrolyse des solutions aqueuses de chlorure des métaux alcalins.
L'invention concerne dès lors également l'utilisation de l'électrode selon l'invention comme anode dans les procédés d'électrolyse des sels des métaux alcalins en solution aqueuse, spécialement pour la production de chlore par électrolyse des solutions aqueuses de chlorure des métaux alcalins. Elle concerne tout spécialement l'utilisation de l'électrode selon l'invention comme anode pour la production de chlore par électrolyse d'une solution aqueuse de chlorure de sodium.
L'intérêt de l'invention va ressortir de la description des exemples suivants, en référence à la figure unique du dessin annexé qui est un diagramme fournissant les performances comparées d'une électrode selon ~~fl~~~
Dans une forme de réalisation particulière de l'électrode selon l'invention, la teneur en platine du revêtement est d'au moins 10 % (de préférence d'au moins 12 %) en poids. Cette forme de réalisation de l'électrode selon l'invention possède l'avantage supplémentaire de présenter une plus faible surtension à la décharge électrochimique des anions chlorure et elle est de ce fait spécialement adaptée à servir d'anode dans les procédés de fabrication électrolytique de chlore.
Le revêtement de l'électrode peut être constitué exclusivement de platine, d'oxyde d'iridium et d'oxyde d'étain, ou bien il peut comprendre un ou plusieurs composés additionnels, différents du platine, de l'oxyde d'iridium et de l'oxyde d'étain. En général on préfere que le revêtement de l'électrode selon l'invention soit essentiellement constitué de platine, d'oxyde d'iridium et d'oxyde d'étain.
Plus particulièrement, l'invention concerne un électrode pour procédé
électrochimique, comprenant, sur un substrat électroconducteur, un revétement de 12 à 17% en poids de platine, de 30 à 40% en poids d'oxyde d'iridium et de 43 à 58% en poids d'oxyde d'étain. L'électrode conforme à cette forme de réalisation de l'invention convient spécialement bien comme anode pour la production de chlore par électrolyse des solutions aqueuses de chlorure des métaux alcalins.
L'invention concerne dès lors également l'utilisation de l'électrode selon l'invention comme anode dans les procédés d'électrolyse des sels des métaux alcalins en solution aqueuse, spécialement pour la production de chlore par électrolyse des solutions aqueuses de chlorure des métaux alcalins. Elle concerne tout spécialement l'utilisation de l'électrode selon l'invention comme anode pour la production de chlore par électrolyse d'une solution aqueuse de chlorure de sodium.
L'intérêt de l'invention va ressortir de la description des exemples suivants, en référence à la figure unique du dessin annexé qui est un diagramme fournissant les performances comparées d'une électrode selon ~~fl~~~
-5-l'invention et d'une électrode antérieure à l'invention.
Dans les exemples dont la description suit, on a préparé des électrodes comprenant un substrat en titane et un revêtement de platine, d'oxyde d'iridium et d'oxyde d'étain sur le substrat. Le substrat a consisté en un treillis ayant la forme d'un disque d'environ 100 cm2 de superficie et le revêtement a été appliqué sur la totalité de la superficie du disque. Pour former le revêtement, on a d'abord préparé trois solutions organiques distinctes, à savoir une solution d'acide hexachloroplatinique dans de l'isopropanol (30 g d'acide hexachloroplatinique par litre de solution), une solution de tétrachlorure d'iridium dans de l'isopropanol (20 g de tétrachlorure d'iridium par litre de solution) et une solution de tétrachlomre d'étain dans de l'isopropanol (23 g de tétrachlorure d'étain par litre de solution). Les trois solutions ont ensuite été mélangées en proportions adéquates pour constituer l'enduit et celui-ci a ensuite été appliqué sur le disque en dix couches successsives. A l'issue de chaque couche d'enduit, le disque et l'enduit ont été chauffés dans l'air atmosphérique, à la température de 450 °C pendant une heure.
Les électrodes obtenues de la manière exposée ci-dessus ont été uti-lisées comme anodes dans une cellule d'électrolyse de laboratoire, dont la cathode a consisté en un disque en nickel de 100 cm2, séparé de l'anode par une membrane de marque NAFIOIV~ (DU PON'I~, sélectivement perméable aux cations. La distance entre l'anode et la cathode a été fixée à 1 min.
Pour évaluer les performances de l'anode, on a procédé à l'électrolyse d'une solution aqueuse sensiblement saturée de chlorure de sodium à 85 °C, sous une densité de courant anodique de 3,5 kA/m2. A cet effet, pendant l'électrolyse, on a alimenté la chambre anodique de la cellule en permanence avec la solution de chlorure de sodium, de manière à produire, dans la chambre cathodique, une solution aqueuse de 32 % en poids environ d'hydroxyde de sodium. On a de la sorte produit du chlore à l'anode et de l'hydrogène à la cathode. Pour évaluer les performances de l'anode, on a mesuré la teneur en oxygène dans le gaz recueilli à l'anode. Les résultats des mesures ont été portés sur le diagramme du dessin annexé. Sur ce diagramme, l'échelle des abscisses représente le temps, exprimé en jours, et l'échelle des ordonnées représente la teneur en oxygène dans le gaz produit à l'anode (exprimée en % en poids de gaz).
Exemple 1 (de référence) w
Dans les exemples dont la description suit, on a préparé des électrodes comprenant un substrat en titane et un revêtement de platine, d'oxyde d'iridium et d'oxyde d'étain sur le substrat. Le substrat a consisté en un treillis ayant la forme d'un disque d'environ 100 cm2 de superficie et le revêtement a été appliqué sur la totalité de la superficie du disque. Pour former le revêtement, on a d'abord préparé trois solutions organiques distinctes, à savoir une solution d'acide hexachloroplatinique dans de l'isopropanol (30 g d'acide hexachloroplatinique par litre de solution), une solution de tétrachlorure d'iridium dans de l'isopropanol (20 g de tétrachlorure d'iridium par litre de solution) et une solution de tétrachlomre d'étain dans de l'isopropanol (23 g de tétrachlorure d'étain par litre de solution). Les trois solutions ont ensuite été mélangées en proportions adéquates pour constituer l'enduit et celui-ci a ensuite été appliqué sur le disque en dix couches successsives. A l'issue de chaque couche d'enduit, le disque et l'enduit ont été chauffés dans l'air atmosphérique, à la température de 450 °C pendant une heure.
Les électrodes obtenues de la manière exposée ci-dessus ont été uti-lisées comme anodes dans une cellule d'électrolyse de laboratoire, dont la cathode a consisté en un disque en nickel de 100 cm2, séparé de l'anode par une membrane de marque NAFIOIV~ (DU PON'I~, sélectivement perméable aux cations. La distance entre l'anode et la cathode a été fixée à 1 min.
Pour évaluer les performances de l'anode, on a procédé à l'électrolyse d'une solution aqueuse sensiblement saturée de chlorure de sodium à 85 °C, sous une densité de courant anodique de 3,5 kA/m2. A cet effet, pendant l'électrolyse, on a alimenté la chambre anodique de la cellule en permanence avec la solution de chlorure de sodium, de manière à produire, dans la chambre cathodique, une solution aqueuse de 32 % en poids environ d'hydroxyde de sodium. On a de la sorte produit du chlore à l'anode et de l'hydrogène à la cathode. Pour évaluer les performances de l'anode, on a mesuré la teneur en oxygène dans le gaz recueilli à l'anode. Les résultats des mesures ont été portés sur le diagramme du dessin annexé. Sur ce diagramme, l'échelle des abscisses représente le temps, exprimé en jours, et l'échelle des ordonnées représente la teneur en oxygène dans le gaz produit à l'anode (exprimée en % en poids de gaz).
Exemple 1 (de référence) w
-6-Dans cet exemple, les solutions d'acide hexachloroplatinique, de tétrachlorure d'iridium et de tétrachlorure d'étain ont été mélangées en proportions adéquates pour qu'à l'issue du traitement thermique, le revê-tement présente la composition pondérale suivante, qui est celle de l'élec-trode utilisée à l'exemple 13 de la demande de brevet EP-A-0153586 citée plus haut platine : 17 % , dioxyde d'iridium : 8 % , dioxyde d'étain : 75 % .
L'évolution au cours du temps de la teneur en oxygène dans le gaz recueilli a l'anode est représentée par les symboles ~ au diagramme du dessin.
Exemple 2 (conforme à l'invention) Dans cet exemple, les solutions d'acide hexachloroplatinique, de tétrachlorure d'iridium et de tétrachlorure d'étain ont été mélangées en proportions adéquates pour qu'à l'issue du traitement thermique, le revê-tement présente la composition pondérale suivante, conforme à l'invention platine : 15 % , dioxyde d' indium : 35 % , dioxyde d'étain : 50 % .
L'évolution au cours du temps de la teneur en oxygène dans le gaz recueilli a l'anode est représentée par les symboles + au diagramme du dessin.
Une comparaison des résultats des exemples 1 et 2 au diagramme du dessin fait immédiatement apparaître le progrès apporté par l'invention.
L'évolution au cours du temps de la teneur en oxygène dans le gaz recueilli a l'anode est représentée par les symboles ~ au diagramme du dessin.
Exemple 2 (conforme à l'invention) Dans cet exemple, les solutions d'acide hexachloroplatinique, de tétrachlorure d'iridium et de tétrachlorure d'étain ont été mélangées en proportions adéquates pour qu'à l'issue du traitement thermique, le revê-tement présente la composition pondérale suivante, conforme à l'invention platine : 15 % , dioxyde d' indium : 35 % , dioxyde d'étain : 50 % .
L'évolution au cours du temps de la teneur en oxygène dans le gaz recueilli a l'anode est représentée par les symboles + au diagramme du dessin.
Une comparaison des résultats des exemples 1 et 2 au diagramme du dessin fait immédiatement apparaître le progrès apporté par l'invention.
Claims (6)
1 - Electrode pour procédé électrochimique, comprenant, sur un substrat électroconducteur, un revêtement de 12 à 17% en poids de platine, de 30 à 40% en poids d'oxyde d'iridium et de 43 à 58% en poids d'oxyde d'étain.
2 - Electrode selon la revendication 1, caractérisée en ce que le revêtement est essentiellement constitué de platine, d'oxyde d'iridium et d'oxyde d'étain.
3 - Électrode selon l'une quelconque des revendications 1 et 2,carac-térisée en ce que le substrat est en un métal sélectionné parmi le titane, le tantale, le zirconium, le vanadium, le niobium et le tungstène ou en un alliage de ces métaux.
4 - Utilisation de l'électrode selon l'une quelconque des revendications 1 à3. comme anode dans un procédé d'électrolyse d'un sel de métal alcalin en solution aqueuse.
- Utilisation selon la revendication 4 , pour la production de chlore, le sel de métal alcalin étant un chlorure.
6 - Utilisation selon la revendication 5 , dans laquelle le métal alcalin est le sodium.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| ITMI942070A IT1270649B (it) | 1994-10-11 | 1994-10-11 | Elettrodo per un procedimento elettrochimico e impiego di detto elettrodo |
| ITMI94A002070 | 1994-10-11 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CA2160221A1 CA2160221A1 (fr) | 1996-04-12 |
| CA2160221C true CA2160221C (fr) | 2007-02-20 |
Family
ID=11369689
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CA002160221A Expired - Fee Related CA2160221C (fr) | 1994-10-11 | 1995-10-10 | Electrode pour procede electrochimique et utilisation de ladite electrode |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5679225A (fr) |
| EP (1) | EP0707095B1 (fr) |
| JP (1) | JP3943151B2 (fr) |
| AT (1) | ATE178367T1 (fr) |
| BR (1) | BR9504362A (fr) |
| CA (1) | CA2160221C (fr) |
| DE (1) | DE69508689T2 (fr) |
| DK (1) | DK0707095T3 (fr) |
| ES (1) | ES2131758T3 (fr) |
| IT (1) | IT1270649B (fr) |
| PL (1) | PL178811B1 (fr) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2716207B1 (fr) * | 1994-02-15 | 1996-05-31 | Rhone Poulenc Chimie | Matériau électroactive, sa préparation et son utilisation pour l'obtention d'éléments cathodiques. |
| US5989396A (en) * | 1997-04-02 | 1999-11-23 | Eltech Systems Corporation | Electrode and electrolytic cell containing same |
| US6271131B1 (en) * | 1998-08-26 | 2001-08-07 | Micron Technology, Inc. | Methods for forming rhodium-containing layers such as platinum-rhodium barrier layers |
| US6284655B1 (en) * | 1998-09-03 | 2001-09-04 | Micron Technology, Inc. | Method for producing low carbon/oxygen conductive layers |
| US6323081B1 (en) | 1998-09-03 | 2001-11-27 | Micron Technology, Inc. | Diffusion barrier layers and methods of forming same |
| US6239028B1 (en) | 1998-09-03 | 2001-05-29 | Micron Technology, Inc. | Methods for forming iridium-containing films on substrates |
| US6329286B1 (en) | 1999-04-27 | 2001-12-11 | Micron Technology, Inc. | Methods for forming conformal iridium layers on substrates |
| US6660631B1 (en) | 2000-08-31 | 2003-12-09 | Micron Technology, Inc. | Devices containing platinum-iridium films and methods of preparing such films and devices |
| JP4476759B2 (ja) * | 2004-09-17 | 2010-06-09 | 多摩化学工業株式会社 | 電解用電極の製造方法、及びこの電解用電極を用いた水酸化第四アンモニウム水溶液の製造方法 |
| KR20190022333A (ko) * | 2017-08-23 | 2019-03-06 | 주식회사 엘지화학 | 전기분해용 양극 및 이의 제조방법 |
| CN116209790A (zh) | 2020-11-12 | 2023-06-02 | 株式会社Lg化学 | 电解用电极 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0121694B1 (fr) * | 1983-03-11 | 1986-04-16 | BBC Aktiengesellschaft Brown, Boveri & Cie. | Catalyseur pour le revêtement d'anodes et son procédé de fabrication |
| JPS60162787A (ja) | 1984-01-31 | 1985-08-24 | Tdk Corp | 電解用電極 |
| JPH0633489B2 (ja) * | 1984-08-17 | 1994-05-02 | ティーディーケイ株式会社 | 希薄塩水電解用電極 |
| JPS62243790A (ja) * | 1986-04-15 | 1987-10-24 | Osaka Soda Co Ltd | 塩化アルカリ電解用陽極 |
| JP2885913B2 (ja) * | 1990-09-04 | 1999-04-26 | ペルメレック電極株式会社 | クロムめっき用陽極およびその製造方法 |
-
1994
- 1994-10-11 IT ITMI942070A patent/IT1270649B/it active IP Right Grant
-
1995
- 1995-10-04 DK DK95202666T patent/DK0707095T3/da active
- 1995-10-04 ES ES95202666T patent/ES2131758T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-04 DE DE69508689T patent/DE69508689T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-04 EP EP95202666A patent/EP0707095B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-04 AT AT95202666T patent/ATE178367T1/de not_active IP Right Cessation
- 1995-10-10 BR BR9504362A patent/BR9504362A/pt not_active IP Right Cessation
- 1995-10-10 US US08/541,529 patent/US5679225A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-10 CA CA002160221A patent/CA2160221C/fr not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-10 PL PL95310881A patent/PL178811B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1995-10-11 JP JP26263595A patent/JP3943151B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BR9504362A (pt) | 1997-09-02 |
| ITMI942070A1 (it) | 1996-04-11 |
| ATE178367T1 (de) | 1999-04-15 |
| DE69508689T2 (de) | 1999-09-30 |
| US5679225A (en) | 1997-10-21 |
| EP0707095A1 (fr) | 1996-04-17 |
| PL178811B1 (pl) | 2000-06-30 |
| ES2131758T3 (es) | 1999-08-01 |
| JP3943151B2 (ja) | 2007-07-11 |
| IT1270649B (it) | 1997-05-07 |
| PL310881A1 (en) | 1996-04-15 |
| CA2160221A1 (fr) | 1996-04-12 |
| ITMI942070A0 (it) | 1994-10-11 |
| EP0707095B1 (fr) | 1999-03-31 |
| DK0707095T3 (da) | 1999-10-18 |
| DE69508689D1 (de) | 1999-05-06 |
| JPH08176876A (ja) | 1996-07-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EEER | Examination request | ||
| MKLA | Lapsed |