CN100385359C - 流体质量流量控制器和流体流量计及测量和控制方法 - Google Patents

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Abstract

本发是涉及流体质量流量控制器和流体流量计及测量和控制方法。一种流体质量流量控制器(20)，包括一与压力传感器(46，48)连接的控制电路(70，72，74，76，80)，这些压力传感器(46，48)用于感测跨限流器(56)的压差，控制电路用于控制一阀(40)，从而将流体质量流速控制到一给定点。该控制电路(70，72，74，76，80)将所测量温度下的压差和下游压力与一定范围内压差和下游压力下流过流量控制器(20)的气体的数据组进行对比，并相应调节控制速度。该流量控制器(20)包括一个两部件本体(22)。限流器(56)可包括一小孔或喷嘴，但最好包括一烧结的金属塞，该塞对于期望的材料具有预定的孔隙度和流量控制器(20)所面临的流量条件。

Description

流体质量流量控制器和流体流量计及测量和控制方法
技术领域
本发明涉及一种流体质量流量控制器，特别是用于控制在半导体器件等的制造过程中使用的有毒或高活性气体的流量，还包括在数据基础上操作控制器的方法，该数据将控制器操作与跨控制器的限流器部分的流体压差以及由控制器观察的下游流体压力相互关联起来。
背景技术
已经进行了一些努力来开发精确流体质量流量控制器，特别是例如在半导体器件的制造过程中所使用的用于控制流体如有毒和高活性气体的质量流速的流量控制器。在半导体制造领域，多种气体用在蚀刻和蒸发沉淀工序中，这些气体对于人体是有毒的，且当暴露于例如大气条件下时还是高反应性的。已经开发了质量流量控制器用来测量和控制上述类型流体的流速，其中测量是基于流体的热特性进行的。还开发了基于测量跨限流器或小孔的压差的其它流体质量流量控制器。这里所述类型的现有技术流体质量流量控制器的精度对于许多流量控制器的应用是不够的。
半导体制造工艺要求向工艺腔室中排放非常精确量的流体(主要是气体)。例如，可能需要高达20升每分钟，低至几十分之一立方厘米每分钟的流速。另外，用于控制半导体制造中的活性气体的流量控制器的响应时间和稳定速度可能要求控制器能够对“ON”信号作出反应，并在所需的0.5到1.0秒内的流体流速下保持稳定。工艺过程自身可能持续几秒钟到几个小时，通常要求流体流量控制器的关闭响应时间小于1秒。热基流体质量流量控制器很难达到以这样的速度反应和稳定的能力。
与这里所述的一般类型的现有技术流体质量流量控制器相关的另一个问题在于，需要对各种工艺流体控制器进行校准。现有技术流体质量流量控制器一般用惰性或无毒校准流体进行校准，这需要研究转换系数或者转换数据组。由于用有毒或高活性气体校准每个控制仪器在成本上不允许且对于操作人员很危险，现有技术质量流量控制器一般基于惰性流体，如氮气或氩气，或者性质类似于将由质量流量控制器控制的工艺流体性质的流体进行校准。使用校准流体和转换系数的这种方法会将错误带入质量流量控制器的操作中，耗时因而昂贵。现有技术质量流量控制器的不精确以及在初始设置和替换过程中校准控制器所需的成本和时间，都相当大地增加了许多制造工艺的成本，包括半导体器件的制造，以至于强烈需要对流体质量流量控制器进行某些改进。
因此，已经确定了对于特别是在上述制造过程中所使用类型的流体质量流量控制器所迫切需要的改进。这些需要的改进包括，在控制器给定点的百分之几范围内的控制器精度(至少需要百分之一)，如由热基质量流量控制器经历的在高于或低于“正常”温度及各种位置或姿态(即右侧朝上，向侧面，或顶部朝下)操作而不损失精度，对于很宽范围流速的精确测量和控制，从打开到实现稳定的流量状态的快速响应时间，制造经济以及不复杂的模块机械结构，以利于流量控制器的维护，并有利于在用于制造过程的流体流量分配系统之外改变流量控制器。流体质量流量控制器中所需的其它特征包括不需要在制造时校准每个完成的控制器装置或者在维护之后校准仪器，提供一个可靠的易于互换的限流器或孔口部件，易于在维护或更换限流器之后校验流量控制器的可操作性和精度，以及对于多种有毒和/或活性气体特别是在半导体制造工艺中使用的数百种气态形式的流体的精确控制流速的能力，以及易于改变用于不同气体或液态流体的流速的控制器工作数据。为此，提出了本发明。
发明内容
本发明提供一种改进的流体质量流量控制器和操作方法。特别地，提供一种改进的质量流量控制器和操作方法，用于控制半导体器件等的制造过程中使用的气态流体的流量。
根据本发明的一个方面，提供了一种流体质量流量控制器，它通过测量跨限流器的压差和限流器下游的压力，从而提供在一特定温度下一特定流体的实际质量流量的读数。这种测量可仅用两个压力传感器或压力换能器在被测量流体的一个很宽的温度范围内完成。
本发明还提供一种改进的流体质量流量控制器，特别适于控制包括在半导体制造过程中使用的有毒和活性气体的质量流速，其中流量控制器包括快速响应时间在所需的给定点流速下稳定，且在给定点条件下精确到小于百分之一误差。控制器还可操作而在最大和最小流速之比为100比1的比率量级下，在很宽范围的这种流速下测量质量流速。该质量流量控制器不需要用工艺流体或校准流体校准，因而在流量测量过程中不需要转换系数。
本发明还提供一种改进的流体质量流量控制器，该流量控制器通过测量跨限流器的流体压差和限流器下游的压力来操作，其利用一定范围的压差和下游压力下的选定流体的质量流量数据，所述控制器暴露于该选定的流体且在其中工作。本发明的质量流量控制器和流量计还可在由用于有毒和活性气体的所谓安全输送系统所经历的从高于大气压到真空条件的很宽范围的入口压力下工作。另外，本发明包括一流体质量流量控制器，它可结合一控制系统操作，该控制系统包括一适当的处理器电路，如数字信号处理器，一非易失性存储器，用于存储上述数据并可在需要时接收额外成组的数据。
本发明还提供一种流体质量流量控制器，它具有机械上不复杂的结构，形式上是模块式的，特别适于快速更换一可更换限流器，一个或多个压力传感器及与控制器相关的一个单个流量控制阀。
本发明还提供一种限流器，对于该限流器，流量对于压差和下游压力的数据可作为多种流体的数据组而获得，特别适于与根据本发明的以压力为基础的流体质量流量控制器或流量计，而且适用于其它应用，且特别适于与有毒或活性气体一起使用。
此外，本发明构想一种通过测量跨限流器的压差和限流器下游的流体压力，特别是但不限于下游压力低于大气压的操作条件而测量和/或控制质量流速的方法。本发明还构想一种操作流体质量流量控制器的方法，其不需要用校准流体校准控制器，而是使用用于各种工艺流体的控制器限流器部件的预定数据组，工艺流体可能包括有毒或高反应性的流体。
本发明还设想一种流体质量流量控制器，包括一微控制器或处理器装置，其适于从两个压力传感器、一个温度传感器和指令信号输入接收信号，同时向与流体质量流量控制器的相关控制阀提供一个适当的模拟输出信号。此外，微控制器还可操作而支持RS485通信以及支持用于从一远程地点接收数据并向一串联EEPROM提供和输入数据的各种网络通信。因此，本发明构想一种操作流体质量流量控制器的方法，其中表征用于不同流体的流量限流器的数据组可通过一网络远程获取，以用于在各种流体上快速改变控制器的操作。
具体地，本发明提出一种流体质量流量控制器，用于控制向一工序的流体流量，所述质量流量控制器包括：一本体，该本体中包括一流体流通道；一置于所述本体的流通道中的限流器；一用于感测所述限流器上游的流通道中的流体压力的第一压力传感器，及一用于感测所述限流器下游的流通道中的流体压力的第二压力传感器；一温度传感器，用于感测流过所述质量流量控制器的流体的温度；一位于所述流量控制器的上游的控制阀，用于控制通过所述流通道的流体流量；及一控制电路，该控制电路可操作地与所述控制阀、第一和第二压力传感器以及温度传感器连接，用于在由所述第一和第二压力传感器分别感测的压力之差所确定的跨限流器的压差、限流器下游的流通道中的流体压力，以及流过所述质量流量控制器的所述流体的温度的基础上，控制流过所述流量控制器的流体的质量流量。
所述控制电路包括一微控制器，该微控制器可操作地与所述第一和第二压力传感器、所述温度传感器、所述流量控制阀及一存储器连接，该存储器中包括具体说明对于通过所述限流器的质量流速、跨所述限流器的所述流体的压差、在所述限流器下游流动的流体的压力和温度的数据，所述微控制器可操作以提供：1)表示在一特定的压差、下游压力和温度下通过所述流量控制器的所述流体的流速的输出信号；2)操作所述控制阀以在与所述微控制器相联通的给定点流体流速的基础上将流过所述流量控制器的所述流体的流量限定在一预定量。
包括：一与所述微控制器连接的接口，该接口可操作为与一源连接，该源用于接收对于至少一个预定的流体组成的相对跨限流器的压差以及在流量控制器中所述限流器下游的压力的流体质量流速的数据组。
所述微控制器包括一存在所述存储器中的数据组，用于在预定的温度、跨限流器的流体压差以及限流器下游的流体压力下检验该检验流体的流量控制速度。
所述限流器包括一多孔塞。
所述限流器包括一具有预定孔隙度的烧结金属塞。
所述限流器的预定孔隙度对应于在所述限流器上游的一预定压力和所述限流器下游的一预定压力下的一预定流体的多个预定质量流速。
所述本体包括一个第一本体部件和一个第二本体部件，该第二本体部件在所述第一本体部件与所述第二本体部件的配合面上可松开地与所述第一本体部件连接，所述限流器安装在形成于一个所述本体部件中的沉孔中，并可在所述本体部件彼此分离后拆除。
其中所述第一和第二压力传感器中的一个安装在所述第一本体部件上，所述第一和第二压力传感器中的另一个安装在所述第二本体部件上，每个所述第一和第二压力传感器与一个在所述本体中和所述流体通道相交的通道相连。
所述控制阀安装在所述第一本体部件上，包括一置于所述流通道中的关闭元件。
所述控制电路包括一微控制器，该微控制器包括一数字信号处理器，一与所述数字信号处理器连接的存储器，一置于所述控制阀与所述微控制器之间的阀驱动电路，及一与用于向所述微控制器传送至少一个数据和指令的至少一个网络连接的接口。
所述存储器包括一数据组，该数据组代表在跨限流器的一定范围内的压差和所述限流器下游的流通道中的一定范围内的压力下，一特定流体相对于一给定温度下的质量流速。
包括：所述存储器中的多个数据组代表在跨限流器的压差和限流器下游的所述流体压力的基础上，相对于多个所述流体温度下的预定质量流速。
包括：所述存储器中的多个数据组代表跨限流器的压差和限流器下游的所述流体的压力的基础上，对于多种不同组成的流体的预定质量流速。
本发明也提出用于测量已知流体组成的质量流量的流体流量计，所述流量计包括：一本体，该本体包括从其中穿过的一流体流通道；一置于所述本体的流通道中的限流器；一用于感测所述限流器上游的所述流通道中的流体压力的第一压力传感器，及一用于感测所述限流器下游的所述流通道中流体压力的第二压力传感器；一用于感测流过所述流体流量计的流体的温度的温度传感器；一控制电路，该控制电路可操作地与所述第一和第二压力传感器以及所述温度传感器连接，用于在感测分别由所述第一和第二压力传感器感测的所述流体压力之差所确定的跨限流器压差、限流器下游的所述流通道中的所述流体压力，以及流经所述流体流量计的所述流体的温度的基础上，测量经过所述流量计的流体的质量流量。
所述控制电路包括一微控制器，该微控制器包括一信号处理器和一与所述信号处理器连接的存储器，所述存储器包括一数据组，该数据组代表在跨限流器一定范围的压差和限流器下游的所述流通道中的一定范围的压力下，一特定流体相对于一给定温度下的质量流速。
所述存储器内的多个数据组代表在跨限流器的压差和限流器下游的所述流体的压力的基础上，相对于多个所述特定流体温度下的预定质量流速。
所述存储器内的多个数据组代表在跨限流器的压差和限流器下游的所述流体的压力的基础上，相对于多种不同成分的流体下的预定质量流速。
本发明还提出用于控制向一工序的流体流速的方法，包括：
提供一流体质量流量控制器，该流体质量流量控制器具有一本体，一穿过所述本体的流通道，一置于所述流通道中的限流器，一用于所述限流器上游的感测所述流通道中流体压力的第一压力传感器，一用于感测所述限流器下游的所述流通道中流体压力的第二压力传感器，一用于感测流过所述流体质量流量控制器的流体温度的温度传感器，及一位于所述流量控制器的上游的控制阀，其用于控制通过所述流通道和所述限流器的所述流体流量；
用所述第一和第二压力传感器测量多个流过所述流通道的所述流体的压力；
在由所述第一和第二压力传感器测量的所述多个压力之差的基础上确定跨限流器的压差；
测量流过所述流体质量流量控制器的所述流体的温度；
在所述跨限流器压差、由所述第二压力传感器测量的所述压力以及由所述温度传感器测量的所述温度的基础上，确定流过所述控制器的所述流体的质量流速；及
操作所述控制阀以改变流过所述流通道的流体的流量，直到流过所述流通道的流体的质量流速基本上位于所述流体的质量流速的一预定的给定点。
所述压力的测量是在约760乇至约0乇的范围内进行的。
流过所述流通道的所述流体的质量流速是通过将跨限流器的流体压差和所述流通道中的所述下游压力与在跨限流器的所述流体的各种压差和限流器下游的所述流体的各种压力的预定质量流速的一个数据组进行对比而确定的。
包括：将所述跨限流器的压差与在所述测量温度下的所述流通道中的压力进行对比。
包括：通过使所述经选择的流体流过所述限流器并在多个下游压力下测量上游和下游压力，而获得由所述控制器控制的经选择流体的流速的数据组。
包括：利用变化率测量设备测量所述流体的流速。
提出用于测量流体的质量流速的方法，包括：
提供一个本体，该本体包括一流通道和一置于其中的限流器；使所述流体流过所述限流器，并在所述限流器的上游和下游测量流过所述流通道的流体压力；
测量流过所述流通道的所述流体的温度；
在所述限流器的上游和下游的流体的压力之差的基础上确定跨限流器的压差；
将流过所述限流器的所述压差、所述流通道下游的所述压力与流过所述流通道的流体在跨限流器的各种压差和限流器下游的所述流体的各种压力下的质量流速的数据组进行对比。
所述限流器下游的所述压力在约0乇至760乇范围内。
提供一个流体质量流量计，所述流量计包括所述本体，一用于感测所述限流器上游的所述流通道中流体压力的第一压力传感器，及一用于感测所述限流器下游的所述流通道中的压力的第二压力传感器。
将跨限流器的压差和所述限流器下游的流通道中的所述压力与在所述测量的温度以上或以下的经选择的温度下的多个质量流速的数据组进行对比。
在结合附图阅读了下面的详细说明后，本领域技术人员将进一步理解本发明的上述优点和优良特征以及其它重要方面。
附图说明
图1是本发明流体质量流量控制器的一定程序示意性的视图；
图2是图1中所示控制器的一个纵向大致中心剖视图，示出通常与之相关联的流体流量电路的某些特征；
图3是根据本发明在图1和2中的流量控制器中使用的限流器的详细剖视图；
图4是一图表，表示作为均处于大约0乇到大约2000乇的相对低压范围内的跨限流器压差和下游压力的函数的气态流体的质量流速；
图5是根据本发明的限流器另一实施例及相关支承器件的纵向剖视图；
图6是与图4相似的图表，表示作为跨限流器的压差和下游压力的函数的另一种限流器的特性；
图7A和7B是完成图1和2中所示流体质量流量控制器的操作的某些步骤的流程图。
具体实施方式
在下面的描述中，相同的元件分别在说明书和附图中用相同的标号表示。附图不一定成比例，且为了清楚和简洁，某些特征可能是以概括或示意的形式表示。
参照图1和2，示出根据本发明的一改进的流体质量流量控制器，大致以数字20表示。质量流量控制器20包括一个两部分模块本体22，该模块本体22包括分别在配合平面24a和26a通过常规机械紧固件28而彼此连接的大致矩形块状本体部件24和26。本体部件24和26设有适当的流体传导连接器部分25和27，用于将流体质量流量控制器与用于一系统的导管连接，该系统特别用于供应例如在半导体制造中使用的气态有毒或反应流体。
作为例子，如图2中所示，质量流量控制器20可设置在一制造系统中，该系统包括一用于压力流体，如六氟化钨、氯气或六氟化硫的源压力容器29。源压力容器29通过一适当的管路30与流量控制器20连接，一清洁管路32同样与管路30和一未图示的清洁气体源连接，用于在需要时将清洁流量控制器到一适当的接收器或涤气器34。但在流量控制器20的操作过程中，对通过管路33进入一半导体制造腔室或容器36中的流体进行精确的流量控制。通常例如由一个或多个真空泵37将腔室36保持在一个大大降低的压力下。如图2中所示，流量控制器20置于其中的该系统是作为例子以简化形式图示的，用于表示流量控制器的一个优选应用。
主要参照图2，本体部件24支承一电控流量控制阀40，该控制阀40由未图示的常规机械紧固件可拆卸地安装在本体部件24的表面24b上。阀40包括一电致动关闭元件41，该关闭元件41可操作而节流从本体部件24的一内部通道42到本体部件24的一第二内部通道44之间的流体的流量。阀40还包括一用于关闭元件41的致动器43。致动器43最好是使用螺线管或压电材料的用于快速响应和精细控制关闭元件41的类型。一第一压力传感器46同样可拆卸地安装在本体部件24上，并与本体部件24中的一通道47相通，该通道47又与通道44相通。一第二压力传感器48可拆卸地安装在本体部件26上，并与一向本体部件26中的纵向通道50内部开放的通道49相通，该通道50还与导向制造腔室36的管路33连接。压力传感器46和48可以是例如可从Honeywell DataInstruments Division购买的一种类型。控制阀40及压力传感器46和48可以设置在图1中用于流量控制器20的一可拆卸盖51上。
再参照图3，本体部件24包括一形成在其中的圆柱形沉孔54，该沉孔54与用于接收一限流器56的通道44同心。限流器56支承在一管状套管58中，该套管58可安装在一适当的管状适配器60中，该适配器60支承在密封环62之间的沉孔54中。因此，很容易通过分开本体部件24和26，拆除限流器及其支承套管58来拆除限流器56，并用具有相同流量特性或经选择的其它流量特性的适当替换限流器更换限流器56。限流器56最好包括一烧结的金属柱塞形元件，该柱塞形元件具有预定的孔隙度，通过对足以在其中产生一个可由压力传感器46和48感测的压差的流量进行限制而允许流体从中流过。限流器56例如可以由被适当压缩和烧结而提供所需孔隙度和限流特性的不锈钢或镍颗粒制造。限流器56有利地设置在位于控制阀40下游的流量控制器20中。
再次参照图1，流量控制器20由一包括一微控制器的控制电路或系统操作，该微控制器的特征在于它是一个数字信号处理器70，该处理器70可操作地与一非易失性存储器如EEPROM72、一电源74和一适当的阀驱动电路76相连。微控制器70可操作地与阀40相连，通过驱动器76实现关闭元件41的运动。微控制器70还可操作地与压力传感器46和48及一温度传感器78相连，该传感器78定位成用于感测在预定位置流过控制器20的流体的温度。微控制器70还可操作地与一适当的接口80相连，该接口80用于接收来自各种信息源的指令信号、数据组和程序变化。
微控制器70最好是一个可从Texas Instruments Incorporated获得的TM320 LF2407定点微控制器。压力传感器46和48在正/负0.5伏范围内工作，作为向承担自身A/D和D/A转换器的微控制器70的模拟输入，具有14到16位的分辨率。其它模拟输入将用于温度传感器78，是具有12位分辨率的0到5伏给定点指令信号输入。微控制器70还提供模拟输出信号，用于通过驱动器76控制阀40的操作。与微控制器70的通信可通过一RS4854-有线通信链接和/或一CAN(控制器区域网络)来完成。微控制器70还能够支承一个用于仿真和排错的JTAG接口和一个用于编程的加电引导输入程序。存储器72最好是一组具有至少4千字节的EEPROM。
微控制器70需要在用于压力传感器46和48的输入与用于控制阀40的输出信号之间以每秒约100次的速度执行一个闭环控制功能。在控制环发挥作用的同时通过接口80完成通信，尽管当不能保持控制环更新时可进行新的数据传送或传送到存储器72。
本发明的一个重要方面在于下面的发现，在质量流量控制器20的正常操作范围内，流体的流速不仅是跨限流器56的压差的函数，而且是基本上对应于制造腔室36中压力的绝对下游压力的函数。图4例如示出作为跨限流器56的压差(乇)的函数，以及作为通道50、管路33和制造腔室36中的下游压力(乇)的函数，以标准的立方厘米每分钟(SCCM)为单位的流量的典型特性。图4中的图表显示，在图表中所示压力范围内流过限流器的流体的流量特性可与由数字90表示的三维表面相符。流动特性或表面90是针对一特定温度的。在图4的图表中，对于所测试流体的质量流量特性90是在25℃下进行的。如图4中所示，在较低温度下进行的测量例如将提供由表面92和94表示的流量特性。由表面92表示的流量特性所针对的温度低于由表面94表示的流量特性的温度，而由表面94确定的流量特性所处的温度低于开发流量特性表面92所测量的温度。
从图4中还将注意到，特别对于图表中所示压力范围来讲，跨限流器的质量流速随下游压力而变化。例如，如果下游压力为大约0.0乇，跨限流器的压差大约是1575.0乇，则对于所测试的特定限流器的流速大约是280SCCM。但如果下游压力为760.0乇(标准大气压)，则对于跨限流器的相同压差的流速大约为500SCCM。因此特别是以气态形式流过限流器的流体的性质不仅取决于温度和压差，而且取决于限流器下游的压力。
图4中所示在不同的温度、跨限流器压差及下游压力下的流量特性，是针对烧结金属型限流器的，如限流器56。可替换地，从图6中看到，用数字95表示在25℃下对于边缘锋利的圆形小孔的相似的流量特性。图4和6中所示的特定流量特性是针对氮气的，虽然对于这里所述的限流器类型来讲，所示的其它气体是根据图4和6中所示的一般流量特性而工作的。
因此，对于与质量流量控制器如控制器20结合使用的特定类型限流器，以及对于液态或气态形式的各种流体，包括在半导体制造中使用的处理气体或蒸气来讲，可研究出与图4和6中的图表相符的流量特性。
可以不同的方式研究出代表三维流量特性，如图4中的表面90、92和94的数据点，并输入流量控制器20的存储器72中。当在给定点模式下操作时，流量控制器的微控制器70可编程到阀40的指令操作中，以通过用压力传感器46和48感测跨限流器的压差，以反复确定实际流速，直到流速基本上等于作为给定点编程到微控制器70中或者依照输入微控制器中的指示的流速，而将流过流量控制器20的流量调节到接近给定点。可用常规的流量测量设备来获得代表特定气体表面90、92和94的数据点。
还可用质量流量测量设备的变化速度来获得数据点。另外，可使用这种流量测量设备来检验在其设计规格内流量控制器如流量控制器20的工作，这种设备还可用于检验一个特定限流器是否处于其设计规格内。当为这里所述类型的限流器和流量控制器建立了设计规格后，可以用质量流量测量设备或其它质量流量测量设备并使用惰性气体来检验每一个的性能，从而当分别在整个流量控制器或限流器上进行检验测试的过程中，不需要使用有毒和高反应性的气体。例如，可以在30磅每平方英寸(206.8kPa)输入压力下以50、100、500和3000SCCM的流速来检验选定数量的数据点，对于流量控制器如控制器20，或者对于限流器如限流器56来讲，排放压力是大气压。还可将代表流量控制器20的设计规格的数据点输入存储器72中，以检验当用上述流量测量设备的速度改变测试时流量控制器的可操作性。适当的速度改变或者所谓上升速度的质量流量测量设备可通过购买得到。
另外，流体质量流量控制器20还可通过其接口80与一网络连接，该网络适于与一数据源连接，该数据源用于已经结合与流量控制器20类型相同的控制器测试过的任何流体。通过这种方式，将由流量控制器20控制的任何气体都可仅通过简单地查询存储在适当处理器中的数据库而将其流量特性输入存储器72中。例如，流量控制器20的供应商可具有存储在与之相连系用于多种气体的适当处理器和存储器中的经选择的数据组，每个数据组基本上对应于分别向任一种类型限流器提供图4和6中所示流量特性的数据组类型。使用流量控制器如流量控制器20，并需要用带有特定气体的控制器开始的经授权的客户，只需查询供应源，并通过一网络如互联网将所需数据组直接下载到微控制器70及其存储器72。
微控制器70的操作大致与图7A和7B中的流程图相符，不再进行详细描述。微控制器或处理器70可操作而执行闭环控制和通信功能。闭环控制最好在100次每秒的速度下进行，且需要进行查表或多项式运算。全部代码都写成“C”。图7A的流程图中概括了微控制器或处理器70的功能。图7A中的步骤100表示一个10毫秒中断，以起动处理器70的关键功能。在步骤102中，处理器获得64个下游压力XD1的样本，并对这些样本取平均值。在步骤104中，处理器70获得64个上游压力XD2的样本，并对这些样本取平均值。步骤106对由软件标识CV1SN识别的用于控制阀40的32个模拟输出信号取平均值。步骤108表示在信号模式下处理器70的操作，从而在步骤110中获得32个0到5伏给定点指令信号输入，在步骤112中获得32个0到5伏模拟输出信号。步骤114表示模拟输入短路接地。步骤116表示处理器从温度传感器78获得32个以TE1表示的信号样本，并对这些样本取平均值。步骤118将信号输入转换成压力、流量和温度的英制单位。图7A中的步骤120例如用图4中的表面90、92和94进行流量例行程序的计算。新处理器在步骤122中进行到控制模式。
图7B示出如何用成组的所谓三维映象，如表面90、92和94，为各操作温度等进行流量例行程序的计算，从而作为跨限流器56的压差、流通道50中的下游压力以及由传感器78感测的温度等变量的函数来计算流量。一组流量在一定范围的下游压力下流过，并获得限流器56的流速。该数据组代入三维曲线的一阵列中。所谓映象可以认为是相对于x轴上的压差XD2-XD1和y轴上的排放或下游压力XD1绘制的在z轴上的流量。
最佳配合过程产生了不同的y值。通常，例如可以在XD1等于1、50、100、300、500和700乇的情况下形成x-z曲线。然后在另一操作温度下重复该过程。然后将校准数据从浮点数是非曲映射成处理器中使用的定点量。将这些表下载到处理器中，并在流量计算过程中调用。图7B的步骤124中获得校准数据是通过在最靠近由传感器78感测的温度之上或之下的温度获得校准映象或表面而实现的。在步骤126和128，通过在校准数据(CAL DATA)中为两个曲线内插压差XD2-XD1而计算流量。当前校准温度下的流量是通过在校准流量数据点之间内插而计算的。在步骤130和132中，当前CAL DATA温度下的流量是通过在流量(0)和流量(1)之间内插用于流量(0)和流量(1)的XD1值和y轴值而计算的。通过在流量温度(0)和流量温度(1)之间内插TE1值和经选择的用于两个CAL DATA组的温度而计算流量。
简要参照图5，如前所述，限流器56可结合其它流量控制器和相关装置来操作。限流器56例如可以可拆卸地安装在常规装置，如面密封接头配件中。配件110包括一纵向通孔112，该通孔112在一端为沉孔，以提供一个接收柱塞限流器56及其管状支承套管58的孔114。套管58可以是轻压配合在孔114中。作为例子，与流量控制器20结合使用的限流器可以是一个直径大约为0.18英寸(4.57mm)长度大约为0.18英寸(4.57mm)的柱塞，并可由多孔烧结不锈钢、镍或哈斯特洛伊耐蚀镍基合金C-22制成。实心钢套管58可以由316L不锈钢制造。可以设想，限流器56的制造公差可以是这样，只需要在排放到大气中的30磅每平方英寸(206.8kPa)表压的限流器上游压力下，通过检验例如50、100、500和3000SCCM的质量流速来检验限流器的性能特性。
因此，对于限流器56或流量控制器20不需要校准或校准转换系数。当进行使用时，可通过经过这些装置流过预定量的惰性气体，利用前述用于检验性能的流量测量设备或类似的设备的改变速率来检验流量控制器20和/或限流器56的可操作性。然后可将限流器和/或流量控制器置于或返回到使用中，并确保各装置按照如图4中所示的流量特性来工作。
相信对于本领域技术人员来说，容易理解上面列出的质量流量控制器20和限流器56的结构和工作，以及流量控制器的操作方法。另外，流量控制器20用作流量计，并可用作将流体流速控制在一个给定点条件下的流量计。
尽管此处详细描述了本发明的优选实施例，但本领域技术人员将认识到，在不脱离本发明的范围和精神的情况下，可对本发明作各种替换和修改。

Claims (28)

1.一种流体质量流量控制器，用于控制向一工序的流体流量，所述质量流量控制器包括：
一本体，该本体中包括一流体流通道；
一置于所述本体的流通道中的限流器；
一用于感测所述限流器上游的流通道中的流体压力的第一压力传感器，及一用于感测所述限流器下游的流通道中的流体压力的第二压力传感器；
一温度传感器，用于感测流过所述质量流量控制器的流体的温度；
一位于所述流量控制器的上游的控制阀，用于控制通过所述流通道的流体流量；及
一控制电路，该控制电路可操作地与所述控制阀、第一和第二压力传感器以及温度传感器连接，用于在由所述第一和第二压力传感器分别感测的压力之差所确定的跨限流器的压差、限流器下游的流通道中的流体压力，以及流过所述质量流量控制器的所述流体的温度的基础上，控制流过所述流量控制器的流体的质量流量。
2.如权利要求1中所述的质量流量控制器，其中：
所述控制电路包括一微控制器，该微控制器可操作地与所述第一和第二压力传感器、所述温度传感器、所述流量控制阀及一存储器连接，该存储器中包括具体说明对于通过所述限流器的质量流速、跨所述限流器的所述流体的压差、在所述限流器下游流动的流体的压力和温度的数据，所述微控制器可操作以提供：1)表示在一特定的压差、下游压力和温度下通过所述流量控制器的所述流体的流速的输出信号；2)操作所述控制阀以在与所述微控制器相联通的给定点流体流速的基础上将流过所述流量控制器的所述流体的流量限定在一预定量。
3.如权利要求2所述的质量流量控制器，包括：
一与所述微控制器连接的接口，该接口可操作为与一源连接，该源用于接收对于至少一个预定的流体组成的相对跨限流器的压差以及在流量控制器中所述限流器下游的压力的流体质量流速的数据组。
4.如权利要求2所述的质量流量控制器，其中：
所述微控制器包括一存在所述存储器中的数据组，用于在预定的温度、跨限流器的流体压差以及限流器下游的流体压力下检验该检验流体的流量控制速度。
5.如权利要求1所述的质量流量控制器，其中：
所述限流器包括一多孔塞。
6.如权利要求5所述的质量流量控制器，其中：
所述限流器包括一具有预定孔隙度的烧结金属塞。
7.如权利要求6所述的质量流量控制器，其中：
所述限流器的预定孔隙度对应于在所述限流器上游的一预定压力和所述限流器下游的一预定压力下的一预定流体的多个预定质量流速。
8.如权利要求1所述的质量流量控制器，其中：
所述本体包括一个第一本体部件和一个第二本体部件，该第二本体部件在所述第一本体部件与所述第二本体部件的配合面上可松开地与所述第一本体部件连接，所述限流器安装在形成于一个所述本体部件中的沉孔中，并可在所述本体部件彼此分离后拆除。
9.如权利要求8所述的质量流量控制器，其中：
其中所述第一和第二压力传感器中的一个安装在所述第一本体部件上，所述第一和第二压力传感器中的另一个安装在所述第二本体部件上，每个所述第一和第二压力传感器与一个在所述本体中和所述流体通道相交的通道相连。
10.如权利要求9所述的质量流量控制器，其中：
所述控制阀安装在所述第一本体部件上，包括一置于所述流通道中的关闭元件。
11.如权利要求1所述的质量流量控制器，其中：
所述控制电路包括一微控制器，该微控制器包括一数字信号处理器，一与所述数字信号处理器连接的存储器，一置于所述控制阀与所述微控制器之间的阀驱动电路，及一与用于向所述微控制器传送至少一个数据和指令的至少一个网络连接的接口。
12.如权利要求11所述的质量流量控制器，其中：
所述存储器包括一数据组，该数据组代表在跨限流器的一定范围内的压差和所述限流器下游的流通道中的一定范围内的压力下，一特定流体相对于一给定温度下的质量流速。
13.如权利要求12所述的质量流量控制器，包括：
所述存储器中的多个数据组代表在跨限流器的压差和限流器下游的所述流体压力的基础上，相对于多个所述流体温度下的预定质量流速。
14.如权利要求12所述的质量流量控制器，包括：
所述存储器中的多个数据组代表跨限流器的压差和限流器下游的所述流体的压力的基础上，对于多种不同组成的流体的预定质量流速。
15.用于测量已知流体组成的质量流量的流体流量计，所述流量计包括：
一本体，该本体包括从其中穿过的一流体流通道；
一置于所述本体的流通道中的限流器；
一用于感测所述限流器上游的所述流通道中的流体压力的第一压力传感器，及一用于感测所述限流器下游的所述流通道中流体压力的第二压力传感器；
一用于感测流过所述流体流量计的流体的温度的温度传感器；
一控制电路，该控制电路可操作地与所述第一和第二压力传感器以及所述温度传感器连接，用于在感测分别由所述第一和第二压力传感器感测的所述流体压力之差所确定的跨限流器压差、限流器下游的所述流通道中的所述流体压力，以及流经所述流体流量计的所述流体的温度的基础上，测量经过所述流量计的流体的质量流量。
16.如权利要求15所述的流量计，其中：
所述控制电路包括一微控制器，该微控制器包括一信号处理器和一与所述信号处理器连接的存储器，所述存储器包括一数据组，该数据组代表在跨限流器的一定范围的压差和限流器下游的所述流通道中的一定范围的压力下，一特定流体相对于一给定温度下的质量流速。
17.如权利要求16所述的流量计，包括：
所述存储器内的多个数据组代表在跨限流器的压差和限流器下游的所述流体的压力的基础上，相对于多个所述特定流体温度下的预定质量流速。
18.如权利要求16所述的流量计，包括：
所述存储器内的多个数据组代表在跨限流器的压差和限流器下游的所述流体的压力的基础上，相对于多种不同成分的流体下的预定质量流速。
19.用于控制向一工序的流体流速的方法，包括：
提供一流体质量流量控制器，该流体质量流量控制器具有一本体，一穿过所述本体的流通道，一置于所述流通道中的限流器，一用于所述限流器上游的感测所述流通道中流体压力的第一压力传感器，一用于感测所述限流器下游的所述流通道中流体压力的第二压力传感器，一用于感测流过所述流体质量流量控制器的流体温度的温度传感器，及一位于所述流量控制器的上游的控制阀，其用于控制通过所述流通道和所述限流器的所述流体流量；
用所述第一和第二压力传感器测量多个流过所述流通道的所述流体的压力；
在由所述第一和第二压力传感器测量的所述多个压力之差的基础上确定跨限流器的压差；
测量流过所述流体质量流量控制器的所述流体的温度；
在所述跨限流器压差、由所述第二压力传感器测量的所述压力以及由所述温度传感器测量的所述温度的基础上，确定流过所述控制器的所述流体的质量流速；及
操作所述控制阀以改变流过所述流通道的流体的流量，直到流过所述流通道的流体的质量流速基本上位于所述流体的质量流速的一预定的给定点。
20.如权利要求19所述的方法，其中：
所述压力的测量是在约760乇至约0乇的范围内进行的。
21.如权利要求19所述的方法，其中：
流过所述流通道的所述流体的质量流速是通过将跨限流器的流体压差和所述流通道中的所述下游压力与在跨限流器的所述流体的各种压差和限流器下游的所述流体的各种压力的预定质量流速的一个数据组进行对比而确定的。
22.如权利要求19所述的方法，包括：
将所述跨限流器的压差与在所述测量温度下的所述流通道中的压力进行对比。
23.如权利要求19所述的方法，包括：
通过使所述经选择的流体流过所述限流器并在多个下游压力下测量上游和下游压力，而获得由所述控制器控制的经选择流体的流速的数据组。
24.如权利要求23所述的方法，包括下列步骤：
利用变化率测量设备测量所述流体的流速。
25.用于测量流体的质量流速的方法，包括：
提供一个本体，该本体包括一流通道和一置于其中的限流器；
使所述流体流过所述限流器，并在所述限流器的上游和下游测量流过所述流通道的流体压力；
测量流过所述流通道的所述流体的温度；
在所述限流器的上游和下游的流体的压力之差的基础上确定跨限流器的压差；
将流过所述限流器的所述压差、所述流通道下游的所述压力与流过所述流通道的流体在跨限流器的各种压差和限流器下游的所述流体的各种压力下的质量流速的数据组进行对比。
26.如权利要求25所述的方法，其中：
所述限流器下游的所述压力在约0乇至760乇范围内。
27.如权利要求25所述的方法，包括：
提供一个流体质量流量计，所述流量计包括所述本体，一用于感测所述限流器上游的所述流通道中流体压力的第一压力传感器，及一用于感测所述限流器下游的所述流通道中的压力的第二压力传感器。
28.如权利要求25所述的方法，包括：
将跨限流器的压差和所述限流器下游的流通道中的所述压力与在所述测量的温度以上或以下的经选择的温度下的多个质量流速的数据组进行对比。
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WO (1) WO2002025391A1 (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102984928A (zh) * 2012-12-31 2013-03-20 西安飞豹科技发展公司 机载小型液冷装置
CN107924199A (zh) * 2015-07-10 2018-04-17 关键系统公司 用于气体流量控制的方法和设备
TWI723489B (zh) * 2019-08-12 2021-04-01 鐳鋌科技有限公司 滌氣節能控制裝置

Families Citing this family (119)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6152162A (en) 1998-10-08 2000-11-28 Mott Metallurgical Corporation Fluid flow controlling
AUPR458201A0 (en) * 2001-04-23 2001-05-24 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Fluid properties evaluation
USRE44943E1 (en) * 2001-04-23 2014-06-10 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Fluid properties evaluation
JP4102564B2 (ja) * 2001-12-28 2008-06-18 忠弘 大見 改良型圧力式流量制御装置
US6704667B2 (en) * 2002-05-13 2004-03-09 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd Real time mass flow control system with interlock
US7552015B2 (en) * 2002-06-24 2009-06-23 Mks Instruments, Inc. Apparatus and method for displaying mass flow controller pressure
US7809473B2 (en) * 2002-06-24 2010-10-05 Mks Instruments, Inc. Apparatus and method for pressure fluctuation insensitive mass flow control
US6948508B2 (en) * 2002-06-24 2005-09-27 Mks Instruments, Inc. Apparatus and method for self-calibration of mass flow controller
US20030234047A1 (en) * 2002-06-24 2003-12-25 Ali Shajii Apparatus and method for dual processor mass flow controller
US20030234045A1 (en) * 2002-06-24 2003-12-25 Ali Shajii Apparatus and method for mass flow controller with on-line diagnostics
WO2004001516A1 (en) * 2002-06-24 2003-12-31 Mks Instruments, Inc. Apparatus and method for pressure fluctuation insensitive mass flow control
US6868862B2 (en) * 2002-06-24 2005-03-22 Mks Instruments, Inc. Apparatus and method for mass flow controller with a plurality of closed loop control code sets
US7004191B2 (en) * 2002-06-24 2006-02-28 Mks Instruments, Inc. Apparatus and method for mass flow controller with embedded web server
US6712084B2 (en) 2002-06-24 2004-03-30 Mks Instruments, Inc. Apparatus and method for pressure fluctuation insensitive mass flow control
US7136767B2 (en) * 2002-06-24 2006-11-14 Mks Instruments, Inc. Apparatus and method for calibration of mass flow controller
US6810308B2 (en) 2002-06-24 2004-10-26 Mks Instruments, Inc. Apparatus and method for mass flow controller with network access to diagnostics
US7543595B2 (en) * 2002-06-28 2009-06-09 Siemens Building Technologies, Inc. Valve calibration method and apparatus
KR100714985B1 (ko) * 2002-07-19 2007-05-09 엔테그리스, 아이엔씨. 액체 유동 제어기와 정밀 분배 장치 및 시스템
CN100422616C (zh) * 2002-08-28 2008-10-01 霍里巴斯特克公司 高精度基于压力的流量控制器
US6886929B2 (en) 2002-10-25 2005-05-03 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Techniques for improving pressure sensor shock robustness in fluid containment devices
JP4020016B2 (ja) * 2003-05-28 2007-12-12 株式会社島津製作所 ガスクロマトグラフ
US6955072B2 (en) * 2003-06-25 2005-10-18 Mks Instruments, Inc. System and method for in-situ flow verification and calibration
KR100418683B1 (ko) * 2003-06-27 2004-02-14 주식회사 현대교정인증기술원 반도체 공정가스용 차압식 유량 제어기
KR100418684B1 (ko) * 2003-06-27 2004-02-14 주식회사 현대교정인증기술원 반도체 공정가스용 차압식 유량 제어기
US7216019B2 (en) * 2004-07-08 2007-05-08 Celerity, Inc. Method and system for a mass flow controller with reduced pressure sensitivity
US7412986B2 (en) * 2004-07-09 2008-08-19 Celerity, Inc. Method and system for flow measurement and validation of a mass flow controller
WO2006017116A2 (en) * 2004-07-09 2006-02-16 Celerity, Inc. Method and system for flow measurement and validation of a mass flow controller
JP4461329B2 (ja) * 2004-08-31 2010-05-12 旭有機材工業株式会社 流体制御装置
KR101124447B1 (ko) * 2004-08-31 2012-03-21 아사히 유키자이 고교 가부시키가이샤 유체제어장치
US7383851B2 (en) * 2004-10-07 2008-06-10 Eaton Corporation Closed loop pressure control system and electrically operated pressure control valve with integral pressure sensor and method of making same
CN1974025B (zh) * 2004-10-28 2010-06-23 博奥生物有限公司 一种微量液体喷射系统
CN1311913C (zh) * 2004-10-28 2007-04-25 博奥生物有限公司 一种微量液体喷射系统
US7255012B2 (en) * 2004-12-01 2007-08-14 Rosemount Inc. Process fluid flow device with variable orifice
US7150201B2 (en) * 2004-12-15 2006-12-19 Celerity, Inc. System and method for measuring flow
US7584665B2 (en) * 2005-01-14 2009-09-08 Kulite Semiconductor Products, Inc. Combustion transducer apparatus employing pressure restriction means
US7201066B1 (en) * 2005-03-30 2007-04-10 The Board Of Regents For Oklahoma State University System for automatic tire inflation
US7468095B2 (en) 2005-05-12 2008-12-23 Perkinelmer Las, Inc. System for controlling flow into chromatographic column using transfer line impedance
US9921089B2 (en) 2005-06-27 2018-03-20 Fujikin Incorporated Flow rate range variable type flow rate control apparatus
JP4856905B2 (ja) * 2005-06-27 2012-01-18 国立大学法人東北大学 流量レンジ可変型流量制御装置
US9383758B2 (en) 2005-06-27 2016-07-05 Fujikin Incorporated Flow rate range variable type flow rate control apparatus
JP2007034667A (ja) * 2005-07-27 2007-02-08 Surpass Kogyo Kk 流量コントローラ、これに用いるレギュレータユニット、バルブユニット
JP4690827B2 (ja) * 2005-08-26 2011-06-01 株式会社フジキン ガスケット型オリフィス及びこれを用いた圧力式流量制御装置
US7287432B2 (en) * 2005-11-17 2007-10-30 Rosemount Inc. Process transmitter with overpressure vent
CN100444310C (zh) * 2005-12-07 2008-12-17 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种质量流量控制器在线校验的方法
US7753066B2 (en) * 2006-05-02 2010-07-13 Thermojet Do Brasil Ltda. Single system for low or high pressure gases control and high or low pressure gases control valve
US20070290382A1 (en) * 2006-06-14 2007-12-20 Marc Laverdiere Systems and methods for managing heat transfer in a fluid handling device
US7726186B2 (en) * 2006-07-19 2010-06-01 Degree Controls, Inc. Airflow sensor for filter blockage detection
WO2008016657A2 (en) * 2006-08-02 2008-02-07 Borgwarner Inc. Egr system and egr valve with integrated pressure sensor
JP5029303B2 (ja) * 2006-11-13 2012-09-19 東京エレクトロン株式会社 処理ガスの供給方法、処理ガスの供給システム及び被処理体の処理システム
US7896045B2 (en) 2006-11-13 2011-03-01 The Board Of Regents For Oklahoma State University Apparatus for delivering air through powered axle assemblies
US7875109B1 (en) * 2007-03-08 2011-01-25 A+ Manufacturing, Llc Integral flow restrictor valve
US8006571B2 (en) 2007-09-19 2011-08-30 Siemens Industry, Inc. Air flow measurement
US9297150B2 (en) 2007-10-24 2016-03-29 Michael Edward Klicpera Water use monitoring apparatus and water damage prevention system
US7693606B2 (en) * 2007-12-21 2010-04-06 Rosemount Inc. Diagnostics for mass flow control
EP2297377B1 (en) * 2008-05-30 2017-12-27 Colorado State University Research Foundation Plasma-based chemical source device and method of use thereof
JP5408916B2 (ja) * 2008-07-08 2014-02-05 サーパス工業株式会社 差圧式流量計及び流量コントローラ
JP5220642B2 (ja) * 2009-02-05 2013-06-26 サーパス工業株式会社 差圧式流量計および流量コントローラ
US9605985B2 (en) * 2009-10-01 2017-03-28 Horiba Stec, Co., Ltd. Flow rate measuring mechanism, mass flow controller, and pressure sensor
WO2011040409A1 (ja) * 2009-10-01 2011-04-07 株式会社堀場エステック 流量測定機構及びマスフローコントローラ
TWI435196B (zh) 2009-10-15 2014-04-21 Pivotal Systems Corp 氣體流量控制方法及裝置
US8632512B2 (en) * 2010-04-09 2014-01-21 Kci Licensing, Inc. Apparatuses, methods, and compositions for the treatment and prophylaxis of chronic wounds
SE534897C2 (sv) * 2010-05-17 2012-02-07 Mindray Medical Sweden Ab Piezoelektriskt styrd högtrycksventil samt förfarande för styrning av en högtrycksventil
US20110284779A1 (en) * 2010-05-18 2011-11-24 Mindray Medical Sweden Ab Method and apparatus for controlling a high-pressure valve
KR101599343B1 (ko) 2011-05-10 2016-03-03 가부시키가이샤 후지킨 유량 모니터 부착 압력식 유량 제어 장치
US9976887B1 (en) * 2011-06-22 2018-05-22 Daniel T. Mudd Wider dynamic accuracy range for gas delivery devices
JP5755958B2 (ja) 2011-07-08 2015-07-29 株式会社フジキン 半導体製造装置の原料ガス供給装置
JP5739261B2 (ja) * 2011-07-28 2015-06-24 株式会社堀場エステック ガス供給システム
US9188989B1 (en) * 2011-08-20 2015-11-17 Daniel T. Mudd Flow node to deliver process gas using a remote pressure measurement device
US9690301B2 (en) * 2012-09-10 2017-06-27 Reno Technologies, Inc. Pressure based mass flow controller
US9448564B2 (en) * 2013-02-15 2016-09-20 Reno Technologies, Inc. Gas delivery system for outputting fast square waves of process gas during semiconductor processing
US9958302B2 (en) 2011-08-20 2018-05-01 Reno Technologies, Inc. Flow control system, method, and apparatus
JP5647083B2 (ja) 2011-09-06 2014-12-24 株式会社フジキン 原料濃度検出機構を備えた原料気化供給装置
US11022985B2 (en) 2011-12-16 2021-06-01 Fluid Handling Llc Discrete valve flow rate converter
CN102873747A (zh) * 2012-09-18 2013-01-16 张家港市盛港绿色防火建材有限公司 一种用于制板机的放料控制装置
CN102873007A (zh) * 2012-09-18 2013-01-16 张家港市盛港绿色防火建材有限公司 一种用于制板机的放料装置
US9857805B2 (en) 2013-02-18 2018-01-02 Flo Technologies, Inc. Fluid monitoring and control system
US10962993B2 (en) 2013-02-18 2021-03-30 Flo Technologies, Inc. Manual control for actuated fluid monitoring and control device
US11237574B2 (en) 2013-02-18 2022-02-01 Flo Technologies, Inc. Fluid monitoring and control system
US9454158B2 (en) 2013-03-15 2016-09-27 Bhushan Somani Real time diagnostics for flow controller systems and methods
KR101455928B1 (ko) * 2013-04-05 2014-10-31 배정이 모터 구동회로를 갖는 유체 정밀 질량 유량 제어장치
CN104678985B (zh) * 2013-12-03 2018-10-09 无锡华润华晶微电子有限公司 一种校验质量流量控制器的装置及方法
JP2015155845A (ja) * 2014-02-20 2015-08-27 サーパス工業株式会社 差圧式流量計およびそれを備えた流量コントローラ
WO2015148988A1 (en) * 2014-03-28 2015-10-01 Bray Internatal, Inc. Pressure independent control valve for small diameter flow, energy use and/or transfer
CN103859574B (zh) * 2014-03-31 2016-02-10 西南大学 一种烤烟房
TWI736124B (zh) 2014-04-17 2021-08-11 新加坡商肯發系統私人有限公司 用於密封地結合相對流體導管端口之環形襯墊及形成一高純度流體接頭之方法
CN107250939B (zh) * 2014-12-15 2020-12-08 流体处理有限责任公司 离散阀流率转换器
US9717455B2 (en) * 2015-03-31 2017-08-01 Empire Technology Development Llc Portable flow meter for low volume applications
US9904299B2 (en) * 2015-04-08 2018-02-27 Tokyo Electron Limited Gas supply control method
US9980672B2 (en) 2015-07-16 2018-05-29 Empire Technology Development Llc Single-chambered sweat rate monitoring sensor
JP6651323B2 (ja) * 2015-10-02 2020-02-19 サーパス工業株式会社 流量調整装置
CN105333207B (zh) * 2015-12-11 2018-08-24 中国航空工业集团公司西安飞机设计研究所 一种基于流量调节的引气活门
US11549837B2 (en) 2016-02-04 2023-01-10 Michael Edward Klicpera Water meter and leak detection system
JP6923939B2 (ja) * 2016-02-29 2021-08-25 株式会社フジキン 流量制御装置
GB2549286B (en) 2016-04-11 2019-07-24 Perkins Engines Co Ltd EGR valve with integrated sensor
JP6910652B2 (ja) * 2016-04-28 2021-07-28 株式会社フジキン 流体制御システムおよび流体制御装置の制御方法
US10838437B2 (en) 2018-02-22 2020-11-17 Ichor Systems, Inc. Apparatus for splitting flow of process gas and method of operating same
US10303189B2 (en) 2016-06-30 2019-05-28 Reno Technologies, Inc. Flow control system, method, and apparatus
US10679880B2 (en) 2016-09-27 2020-06-09 Ichor Systems, Inc. Method of achieving improved transient response in apparatus for controlling flow and system for accomplishing same
US11144075B2 (en) 2016-06-30 2021-10-12 Ichor Systems, Inc. Flow control system, method, and apparatus
WO2018047644A1 (ja) * 2016-09-12 2018-03-15 株式会社堀場エステック 流量比率制御装置、流量比率制御装置用プログラム、及び、流量比率制御方法
US10663337B2 (en) 2016-12-30 2020-05-26 Ichor Systems, Inc. Apparatus for controlling flow and method of calibrating same
US9785154B2 (en) * 2017-02-13 2017-10-10 Robert M. McMillan Reconfigurable modular fluid flow control system for liquids or gases
US10983537B2 (en) 2017-02-27 2021-04-20 Flow Devices And Systems Inc. Systems and methods for flow sensor back pressure adjustment for mass flow controller
CN111164341A (zh) * 2017-09-25 2020-05-15 株式会社富士金 阀装置、调整信息生成方法、流量调整方法、流体控制装置、流量控制方法、半导体制造装置和半导体制造方法
US10527516B2 (en) 2017-11-20 2020-01-07 Phyn Llc Passive leak detection for building water supply
US11095960B2 (en) 2018-03-07 2021-08-17 Michael Edward Klicpera Water meter and leak detection system having communication with a intelligent central hub listening and speaking apparatus, wireless thermostat and/or home automation system
US11105512B2 (en) 2018-03-30 2021-08-31 Midea Group Co., Ltd Method and system for controlling a flow curve of an electromechanical gas valve
US10890474B2 (en) * 2018-09-18 2021-01-12 Swagelok Company Fluid monitoring module arrangements
WO2020061127A1 (en) 2018-09-19 2020-03-26 Swagelok Company Flow restricting fluid component
US11280651B2 (en) 2019-03-25 2022-03-22 Flo Technologies, Inc. Thin film thermal mass flow sensor in fluid applications
WO2020214616A1 (en) * 2019-04-15 2020-10-22 Lam Research Corporation Modular-component system for gas delivery
JPWO2020218138A1 (zh) * 2019-04-25 2020-10-29
US11624636B2 (en) 2019-05-07 2023-04-11 Fortune Brands Water Innovations LLC Turbine design for flow meter
US11841036B2 (en) 2019-08-05 2023-12-12 Ichor Systems, Inc. Laminar flow restrictor and seal for same
WO2021026222A1 (en) * 2019-08-05 2021-02-11 Ichor Systems, Inc. Seal for a flow restrictor
CN110500443B (zh) * 2019-08-26 2020-11-06 赵国栋 可对阀前及阀后的流体速度进行监测的比例式减压阀
US11262069B2 (en) 2020-06-25 2022-03-01 Midea Group Co., Ltd. Method and system for auto-adjusting an active range of a gas cooking appliance
JP2024512898A (ja) 2021-03-03 2024-03-21 アイコール・システムズ・インク マニホールドアセンブリを備える流体流れ制御システム
US20230175608A1 (en) * 2021-12-03 2023-06-08 Goodrich Corporation Smart pressure regulator for emergency evacuation inflation system

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2243092Y (zh) * 1996-05-10 1996-12-18 北京圣业科技发展有限公司 气体质量流量控制器
US5970801A (en) * 1997-12-30 1999-10-26 Bear Medical Systems, Inc. Variable orifice flow sensor

Family Cites Families (85)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2666297A (en) 1950-03-14 1954-01-19 Elmer C Skousgaard Container and discharge valve therefor
US3335748A (en) 1964-09-15 1967-08-15 Henry B Peter Adjustable control for metered flow
US3271994A (en) 1965-04-19 1966-09-13 Jered Ind Inc Fluid flow comparator for use in calibrating fluid flow orifices
US3559482A (en) 1968-11-27 1971-02-02 Teledyne Inc Fluid flow measuring apparatus
US3570807A (en) 1969-01-14 1971-03-16 Bell Aerospace Corp Electromechanical control valve
US3841520A (en) 1969-04-04 1974-10-15 Airco Inc Flame arresting vent valve
US3807456A (en) 1970-06-25 1974-04-30 Trw Inc Hydraulic controller including rotary valve
US3814541A (en) 1971-11-24 1974-06-04 Delta Controls Ltd Fluid supply apparatus
US3910113A (en) 1972-11-20 1975-10-07 William R Brown Method of selectively varying the differential output and overall performance characteristics of a proportional differential pressure producing fluid flow device
US4026657A (en) 1974-09-05 1977-05-31 Textron, Inc. Sintered spherical articles
US4014626A (en) 1975-09-08 1977-03-29 Grenn James F Centrifugal pump means
US4015626A (en) 1976-01-22 1977-04-05 Thordarson, Inc. Constant flow valve for low flow rates
US4096746A (en) 1977-02-25 1978-06-27 The Perkin-Elmer Corporation Flow controller-flow sensor assembly for gas chromatographs and the like
US4275752A (en) 1978-09-22 1981-06-30 Collier Nigel A Fluid flow apparatus and method
US4203465A (en) 1979-03-27 1980-05-20 General Motors Corporation Precision pressure control valve
US4253156A (en) 1979-06-22 1981-02-24 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Automatic flowmeter calibration system
DE2929389C2 (de) 1979-07-20 1984-05-17 Machinefabriek Mokveld B.V., 2800 Gouda Regelventil
US4315523A (en) 1980-03-06 1982-02-16 American Flow Systems, Inc. Electronically controlled flow meter and flow control system
EP0061856B1 (en) * 1981-04-01 1987-08-26 LUCAS INDUSTRIES public limited company Measurement of air mass flow into an internal combustion engine
US4462915A (en) 1981-09-23 1984-07-31 Oil Process Systems, Inc. Method and system for filtering cooking oil
AT381571B (de) 1982-11-15 1986-11-10 Oemv Ag Einrichtung zum stufenweisen druckabbau bei der entspannung von insbesondere heissen gasen
FR2543321B1 (fr) 1983-03-22 1985-08-16 Electricite De France Dispositif de commande d'un debit de fluide, notamment de fluide radioactif
US4576043A (en) 1984-05-17 1986-03-18 Chevron Research Company Methods for metering two-phase flow
US4687020A (en) 1985-05-17 1987-08-18 Doyle James H Fluid mass flow controller
US4669052A (en) 1985-07-02 1987-05-26 Motorola, Inc. Apparatus and method for calibrating a sensor
DE3538828A1 (de) 1985-10-31 1987-05-07 Druva Gmbh Armaturengrundkoerper, insbesondere als teil eines druckminderers
US4718443A (en) 1987-02-06 1988-01-12 Conoco Inc. Mass flowmeter apparatus
US5100551A (en) 1987-03-27 1992-03-31 Pall Corporation Segmented filter disc with slotted support and drainage plate
GB8711931D0 (en) 1987-05-20 1987-06-24 British Petroleum Co Plc Filtration/coalescence
CA1309954C (en) 1987-07-29 1992-11-10 Yasuo Yamada Deaerator for particulates
GB8720356D0 (en) 1987-08-28 1987-10-07 Thorn Emi Flow Measurement Ltd Fluid meter
US4918995A (en) 1988-01-04 1990-04-24 Gas Research Institute Electronic gas meter
US4858643A (en) 1988-03-14 1989-08-22 Unit Instruments, Inc. Fluid flow stabilizing apparatus
US4796651A (en) 1988-03-30 1989-01-10 LeRoy D. Ginn Variable gas volume flow measuring and control methods and apparatus
NL9000339A (nl) 1990-02-13 1991-09-02 System Engineering & Component Drukvalreductie-inrichting, en klep voorzien van een drukvalreductie-inrichting.
US5419133A (en) 1989-09-05 1995-05-30 Schneider; Edward T. High speed thermochemical actuator
US5080131A (en) 1989-09-26 1992-01-14 Lintec Co., Ltd. Mass flow controller
DE3936619A1 (de) 1989-11-03 1991-05-08 Man Nutzfahrzeuge Ag Verfahren zum einspritzen eines brennstoffes in einen brennraum einer luftverdichtenden, selbstzuendenden brennkraftmaschine, sowie vorrichtungen zur durchfuehrung dieses verfahrens
JPH03156509A (ja) 1989-11-14 1991-07-04 Stec Kk マスフローコントローラ
US5142483A (en) 1990-04-24 1992-08-25 Caltechnix Corporation Pressure regulating system for positive shut-off pressure controller
US5237523A (en) 1990-07-25 1993-08-17 Honeywell Inc. Flowmeter fluid composition and temperature correction
US5100100A (en) 1990-09-12 1992-03-31 Mks Instruments, Inc. Fluid control and shut off valve
US5052363A (en) 1990-10-22 1991-10-01 Ford Motor Company EGR control valve having ceramic elements
US5138869A (en) 1990-12-14 1992-08-18 Novapure Corporation In-line detector system for real-time determination of impurity concentration in a flowing gas stream
US5583282A (en) 1990-12-14 1996-12-10 Millipore Investment Holdings Limited Differential gas sensing in-line monitoring system
US5062446A (en) 1991-01-07 1991-11-05 Sematech, Inc. Intelligent mass flow controller
US5359878A (en) 1991-02-26 1994-11-01 Dxl International, Inc. Apparatus and method for in-line calibration verification of mass flow meters
JPH07111367B2 (ja) 1991-02-26 1995-11-29 ディーエクスエル・インターナショナル・インコーポレーテッド 流量センサおよびその検査方法
US5114447A (en) 1991-03-12 1992-05-19 Mott Metallurgical Corporation Ultra-high efficiency porous metal filter
ATE135459T1 (de) 1991-05-17 1996-03-15 Unit Instr Inc Einrichtung zur kalibrierung eines durchflusssteuereinrichtung
US5146941A (en) * 1991-09-12 1992-09-15 Unitech Development Corp. High turndown mass flow control system for regulating gas flow to a variable pressure system
JP3182807B2 (ja) * 1991-09-20 2001-07-03 株式会社日立製作所 多機能流体計測伝送装置及びそれを用いた流体量計測制御システム
US5311762A (en) 1991-12-16 1994-05-17 Dxl Usa Flow sensor calibration
EP0547617B1 (en) 1991-12-18 1996-07-10 Pierre Delajoud Mass flow meter and method
US5187972A (en) 1992-01-17 1993-02-23 Clean Air Engineering, Inc. Gas monitor
US5190068A (en) 1992-07-02 1993-03-02 Brian Philbin Control apparatus and method for controlling fluid flows and pressures
US5297427A (en) 1992-09-03 1994-03-29 Alicat Scientific, Inc. Wide-range laminar flowmeter
JPH06138951A (ja) * 1992-10-26 1994-05-20 Toyota Central Res & Dev Lab Inc ガス質量流量制御器
US5329966A (en) 1993-03-08 1994-07-19 Vici Metronics Incorporated Gas flow controller
DE69401031T2 (de) 1993-06-04 1997-04-30 Millipore Corp Filterelement aus Metall mit hohem Wirkungsgrad und Verfahren zu dessen Herstellung
WO1995017651A1 (en) * 1993-12-23 1995-06-29 Honeywell Inc. Flow sensor package having dual integrated restrictors
US5511585A (en) 1994-03-31 1996-04-30 The Lee Company Method and device for providing fluid resistance within a flow passageway
US5624409A (en) 1994-06-10 1997-04-29 Fluidsense Corporation Variable-pulse dynamic fluid flow controller
US5730181A (en) 1994-07-15 1998-03-24 Unit Instruments, Inc. Mass flow controller with vertical purifier
US5549272A (en) 1994-08-11 1996-08-27 Johnson Service Company Combination pressure pulsation damper and check valve depressor
JPH0863235A (ja) * 1994-08-24 1996-03-08 Burutsukusu Instr Kk 差圧式質量流量コントロール装置
US5542284A (en) 1994-10-18 1996-08-06 Queen's University At Kingston Method and instrument for measuring differential oxygen concentration between two flowing gas streams
US5660207A (en) 1994-12-29 1997-08-26 Tylan General, Inc. Flow controller, parts of flow controller, and related method
JP2837112B2 (ja) * 1995-06-09 1998-12-14 株式会社平井 音速ノズルを用いた質量流量制御方法および装置
JPH0961208A (ja) * 1995-08-29 1997-03-07 Oval Corp 層流流量計
US6026847A (en) 1995-10-11 2000-02-22 Reinicke; Robert H. Magnetostrictively actuated valve
US5804717A (en) 1996-04-05 1998-09-08 Mks Instruments, Inc. Mass flow transducer having extended flow rate measurement range
US5868159A (en) 1996-07-12 1999-02-09 Mks Instruments, Inc. Pressure-based mass flow controller
JP3580645B2 (ja) 1996-08-12 2004-10-27 忠弘 大見 圧力式流量制御装置
US5944048A (en) 1996-10-04 1999-08-31 Emerson Electric Co. Method and apparatus for detecting and controlling mass flow
US5911238A (en) 1996-10-04 1999-06-15 Emerson Electric Co. Thermal mass flowmeter and mass flow controller, flowmetering system and method
US5918616A (en) 1996-11-15 1999-07-06 Sanfilippo; James J. Apparatus and method of controlling gas flow
US5865205A (en) 1997-04-17 1999-02-02 Applied Materials, Inc. Dynamic gas flow controller
US5904170A (en) 1997-05-14 1999-05-18 Applied Materials, Inc. Pressure flow and concentration control of oxygen/ozone gas mixtures
US5917066A (en) 1997-07-16 1999-06-29 Mott Metallurgical Corporation Inline ultra-high efficiency filter
US6080219A (en) 1998-05-08 2000-06-27 Mott Metallurgical Corporation Composite porous media
US5988211A (en) 1998-07-06 1999-11-23 Randolph W. Cornell I.V. flow controller
JP2000163134A (ja) * 1998-09-24 2000-06-16 Aisin Seiki Co Ltd 流量制御バルブ及び燃料電池システム
US6152162A (en) 1998-10-08 2000-11-28 Mott Metallurgical Corporation Fluid flow controlling
US6119710A (en) 1999-05-26 2000-09-19 Cyber Instrument Technologies Llc Method for wide range gas flow system with real time flow measurement and correction

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2243092Y (zh) * 1996-05-10 1996-12-18 北京圣业科技发展有限公司 气体质量流量控制器
US5970801A (en) * 1997-12-30 1999-10-26 Bear Medical Systems, Inc. Variable orifice flow sensor

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102984928A (zh) * 2012-12-31 2013-03-20 西安飞豹科技发展公司 机载小型液冷装置
CN102984928B (zh) * 2012-12-31 2015-11-11 西安飞豹科技发展公司 机载小型液冷装置
CN107924199A (zh) * 2015-07-10 2018-04-17 关键系统公司 用于气体流量控制的方法和设备
TWI723489B (zh) * 2019-08-12 2021-04-01 鐳鋌科技有限公司 滌氣節能控制裝置

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