CN100408902C - 密封一处理室一开口的方法与装置 - Google Patents

密封一处理室一开口的方法与装置 Download PDF

Info

Publication number
CN100408902C
CN100408902C CNB2004800128207A CN200480012820A CN100408902C CN 100408902 C CN100408902 C CN 100408902C CN B2004800128207 A CNB2004800128207 A CN B2004800128207A CN 200480012820 A CN200480012820 A CN 200480012820A CN 100408902 C CN100408902 C CN 100408902C
Authority
CN
China
Prior art keywords
wall
reinforcer
chamber
hermetic unit
isolation valve
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CNB2004800128207A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1788175A (zh
Inventor
栗田四日
李可龄
温德尔·T·布伦尼格
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Applied Materials Inc
Original Assignee
Applied Materials Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Applied Materials Inc filed Critical Applied Materials Inc
Publication of CN1788175A publication Critical patent/CN1788175A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100408902C publication Critical patent/CN100408902C/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67126Apparatus for sealing, encapsulating, glassing, decapsulating or the like
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K3/00Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing
    • F16K3/02Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor
    • F16K3/16Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor with special arrangements for separating the sealing faces or for pressing them together
    • F16K3/18Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor with special arrangements for separating the sealing faces or for pressing them together by movement of the closure members
    • F16K3/188Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor with special arrangements for separating the sealing faces or for pressing them together by movement of the closure members by means of hydraulic forces
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K51/00Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus
    • F16K51/02Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus specially adapted for high-vacuum installations

Abstract

在一实施例中,一室绝缘阀被提供用以密封一开口,该室绝缘阀包含一阀壳,其具有一第一壁、一形成在该第一壁中的第一开口、一第二壁及一形成在该第二壁中的第二开口。该室绝缘阀同时也包含一封闭件,具有一密封部分,用以接触第二壁及密封第二开口,及一加强件,可相对于该密封部分移动并用以接触第一壁。该室绝缘阀还包含至少一致动机制,用以(1)将密封部分移向第二壁并与第二壁接触;及(2)移动该加强件离开该密封部分,并与第一壁接触,以加强该密封部分靠向第二壁。本案也提供多种其它情况。

Description

密封一处理室一开口的方法与装置
技术领域
本发明有关于半导体制造,尤其是有关于用以密封一处理室开口的方法与设备。
背景技术
一基材处理室典型与一基材传送室经由一可密封开口相通,该开口为宽及相当短,以容许水平方向的基材插入与移除。已知使用一室绝缘阀,以密封一开口。例如,室绝缘阀的一密封板可以延伸以密封该开口,并缩回,以允许基材通过该开口。室绝缘阀较佳被设计以避免(1)经由磨擦所产生的微粒,及(2)弹性封闭件的不均匀压缩的问题。
在某些类型的基材处理步骤中,一压力差动器可以存在于处理室与传送室之间,使得在处理室内的高压向外推挤室绝缘阀的密封板。因而,使得室绝缘阀受到应力并疲乏,其量随着压力差增加而增加。当涉及例如用于平面显示器的大基材时,压力差影响加剧(例如,因为较大的基材需要在处理室与传送室间有一较大开口,及较大的密封板以密封此一开口)。传统室绝缘阀典型并未被设计以容许大压力差动器。因此,有需要改良的密封一处理室的开口的方法与设备,特别是当使用大压力差动器时。
发明内容
在本发明的第一实施例中,一室绝缘阀被提供用以密封一开口。该室绝缘阀包含一阀壳,其具有(1)一第一壁;(2)一第一开口,形成在第一壁中;(3)一第二壁;及(4)一第二开口,形成在第二壁中。该室绝缘阀同时包含一封闭件,具有一密封部分,适用以接触第二壁及密封第二开口,及一加强件,可相对于密封部分作移动,并适用以接触第一壁。该室绝缘阀更包含至少一致动机制,适用以(1)使该密封部分移向第二壁并与第二壁接触;及(2)使该加强件移动离开密封部分并与第一壁接触,以加强该密封部分靠向第二壁。
在本发明第二实施例中,提供了一种用以密封一开口的方法。该方法包含提供一阀壳,其具有(1)一第一壁;(2)一第一开口,形成在第一壁中;(3)一第二壁;及(4)一第二开口,形成在第二壁中。该方法更包含一封闭件,具有一密封部分,适用以接触第二壁并密封第二开口,及一加强件,可相对于该密封部分移动及适用以接触第一壁。该方法同时包含(1)将该密封部分移动向第二壁并与第二壁接触;及(2)将加强件由该密封部分移开并与第一壁接触,以加强密封部分靠向第二壁。本案也提供多种其它情况。
本发明的其它特性及情况也可以由以下的详细说明,随附的权利要求范围及附图加以完全了解。
附图说明
图1A-1C为包含一室隔绝阀的依据本发明设备的一实施例。
图2为代表图1A-1C的室隔绝阀的例示实施例的本发明室隔绝阀的立体分解图。
图3A-3F为图2的室隔绝阀的剖面侧视图,其是在沿着室隔绝阀的长度所取的各种位置。
图4为一流程图,其例示用以密封图2的室隔绝阀的第一开口的程序。
图5为一流程图,其例示用以放置图2的室隔绝阀的封闭件在图3F所示的封闭件的纵向缩回位置中。
图6为一室绝缘阀系统的代表图,其包含图2的室绝缘阀及适用以操作及/或协调室隔绝室的功能。
图7为图6的室绝缘阀系统的特定实施例的代表图。
附图标记说明:
101室绝缘阀            101a  室绝缘阀
102处理室开口          103封闭件
105阀壳                107密封部分
109加强件              111延伸部分
113密封体              115第一开口
117第二开口            119背板
121前板                123间隙
125间隙                127上部分
129下部分              130弹性组件
133第二端口            134展开机制
135致动器              137风箱
141第二致动器          143第一支撑板
145托架                147支撑板
149支撑件              151轨
155轴承                157导槽
159滚子部分            161加强板
163第一侧              165轮毂
167腔体                169非密封侧
171驱动板              173加强致动器
175驱动板风箱          177安装凸缘
179壁部分              181压力槽
183导管                185套筒
187压力端口            189导管
191密封部分接口        193延伸部分接口
195弹性组件            197导管
198弹性件              199弹性件
600狭缝系统            601控制模块
603输入/输出模块       605信号导体
607信号导体            609信号导体
611信号导体            613信号导体
615真空源导管          617加压气体源导管
619排出导管            621加强致动导管
623夹持致动导管        625封闭件下降导管
627封闭件上升导管            629位置开关
631指示器灯                  635位置开关
637指示器灯                  641压力开关
643小孔                      651真空开关
653压力源阀                  655气力导管
657调整器                    659真空源阀
661气力导管                  663调整器
665开关连接器                667开关连接器
669开关连接器                671致动机制
673高压侧导体                675高压侧导体
677高压侧导体                679接地导体
681接地导体                  683接地导体
685接地导体                  687位置开关
具体实施方式
图1A-1C为依据本发明的一设备实施例,其包含一室绝缘阀101。同时,当考虑上述说明时,图1A-1C例示使用室绝缘阀101以密封一至邻近处理室P(如图1A的虚线所示)的开口102的本发明方法的实施例,以允许处理室P的加压,用以处理包含在其中的基材。
室绝缘阀101可以包含一封闭件103,用以密封该处理室开口102。另外,该室绝缘阀101也可以包含一阀壳105,其中,至少封闭件103的一部分可以移动安排于其中。为了允许室绝缘阀101被用于配合一处理室的开口,室绝缘阀101的阀壳105可以放置靠着处理室,例如,使得一密封(未示出)被形成在阀壳105与处理室之间,在予以密封的处理室开口旁。
封闭件103可以包含一密封部分107,用以密封处理室开口102。例如,密封部分107可以用以间接密封处理室开口102,例如通过密封对准处理室开口102的阀壳105的开口。或者,该密封部分107被放置于直接接触处理室P(未示出),使得密封部分107密封该处理室开口102。
所述封闭件103可以还包含一加强件109,其可相对于密封部分107作移动。例如,加强件109可以适用以延伸离开或接近密封部分107。再者,加强件109也可以适用以加强或支撑密封部分107,例如,当密封部分107如上述在密封处理室开口102的位置时。此配置有效于其可以降低或最小化需要以对抗在处理室P内的正压力量的大小,特别是其相较于常用的悬臂配置(未示出)。
为了提供相对于处理室开口102的封闭件103的方便移动,封闭件103可以包含一延伸部分111,其由密封部分107延伸。在此一实施例中,延伸部分111与密封部分107分隔开的一端可以适用以抓住及/或操控,例如通过安排在阀壳105内或外的致动器(见图2),以完成封闭件103可以移动成一单元(例如经由延伸部分111,移动密封部分107及加强件109)。例如,封闭件103也可以经由延伸部分111移动向及/或离开处理室开口102(横向地于示于图1B及1C的室绝缘阀101的个别架构间或者纵向地于图1A及1B所示的室绝缘阀101的个别架构间)。
较佳地,封闭件103的延伸部分111相对于封闭件103的密封部分107是固定的。例如,密封部分107及延伸部分111可以为单体结构,如图1A所示。或者,延伸部分111也可以固定地连接至密封部分107。
阀壳105可以定义一密封体113、一至密封体113的第一开口115、及一至密封体113的第二开口117。较佳地,第一开口115及密封体113是对准处理室开口102的共同轴并大小作成允许基材通过该阀壳105并进出处理室P。例如,第一开口115可以与处理室开口102分开,及第二开口117可以安排于密封体113的另一侧上,邻近处理室开口102及在共同轴上。在一或数个实施例中,第二开口117可以放置于与处理室开口102呈气力相通,使得第二开口117基本上包含一处理室开口102的延伸。
阀壳105可以还包含一背板119,其内形成有第一开口115。该背板119可以转接及适当地定位,以允许加强件109接触背板119并抵靠背板119,用以加强于密封时的封闭件103的密封部分107(如下所述)。
所述阀壳105还包含一前板121,其中形成第二开口117。该前板121可以转接及适当地定位,以允许封闭件103的密封部分107接触前板121并密封第二开口117。或者,如上所述,密封部分107也可以直接接触处理室P,以密封开口102。
如图1A所示,在操作中,室绝缘阀101的封闭件103适用以占用相对于第一及第二开口115、117的缩回位置,其中,该封闭件103是远离开第一开口115、第二开口117(如在其下方)。此一架构允许基材被通过阀壳105并进出处理室P。
如图1A所示,在至少一实施例中,阀壳105的密封体113可以包围封闭件103的密封部分107,同时,允许基材通过阀壳105。如图1A所示,阀壳105的密封体113可以以具有空出空间的方式,包含密封部分107及加强件109,例如,在加强件109及背板119间提供一第一间隙123及在密封部分107及前板121间提供一第二间隙125。
封闭件103可以相对于阀壳105作移动,以占用相对于第一开口115、第二开口117的展开位置,如图1B所示,其中,密封部分107安排于第一开口115及第二开口117之间。较佳地,在此展开时,第一及第二间隙123、125被维持,以降低及/或免除在封闭件103及阀壳105间可能造成的粒子产生磨擦及/或擦拭。明显地,基材(未示出)不再通过阀壳105,因为封闭件103阻挡其间的路径。
如图1B所示的相对于阀壳105的第二开口117的缩回位置的封闭件103可以被移入相对如图1C所示的第二开口117的展开位置。如图1C所示,封闭件103的密封部分107是与前板121接触,并可以造成阀壳105的第二开口117的密封。较佳地,如图1B及1C的室绝缘阀101所示,在封闭件103的密封部分107及阀壳105的前板121间的造成第二开口117的密封的相对移动被限制为对前板121的垂直方向,以降低及/或免除粒子经磨擦产生的可能。
可以相较于图1C与1B看出,室绝缘阀101可以适用以产生一分离力,其将加强件109作相对于密封部分107的移动,以造成加强件109远离开处理室开口102(图1)并与阀壳105的背板背119接触。或者,加强件109也可以使得接触传送室(未示出)的一部分,或者,另一结构件的一部分。室绝缘阀101也可以然后产生一加强力,也倾向于迫使加强件109离开密封部分107,以加强或支撑封闭件103的密封部分107抵靠阀壳105的前板121,或如可能地靠着处理室P(图1)。此一加强力可以以若干方式及位置加以相对于封闭件103产生。例如,加强力可以产生并直接施加于加强件109及密封部分107之间,例如通过安排或形成在其间的气压致动器(见图2)。注意,本发明的至少一实施例中,加强件109并未密封第一开口115。
图2为代表图1A-1C的室绝缘阀101的例示实施例的本发明室绝缘阀101a的分解组装图。图3A-3F为沿着室绝缘阀101a的长度方向不同位置所取的室绝缘阀101a的剖面组件图,其描述室绝缘阀101a的结构及操作状况。因此,参考室绝缘阀101的结构及功能说明也同样适用于室绝缘阀101a,以相同参考数来指示于这些图中(例如结构)的相关情况。
参考图2及3A,阀壳105可以包含一上部分127及一连接至上部分127的下部分129。上部分127可以包含一弹性组件130(图3A),以允许阀壳105的背板119被封密在相关外部对应结构,例如一传送室的一阀接口部分。下部分129可以包含单性组件131(图3A),用以密封阀壳105的下部分129至阀壳105的上部分。下部分129还包含一第一及第二端口133(图2及3D),适用以允封闭件103的延伸部分111向外延伸出阀壳105并允许封闭件103相对于阀壳105作纵向(例如垂直)及横向(例如水平)移动。可以依必要或想要方式指定较多或较少的端口133。
参考图2,封闭件103可以包含两延伸部分111,每一延伸部分111连接至密封部分107,及室绝缘阀101a被架构以使得每一延伸部分111延伸穿过一端口133。可以依必要或想要方式指定较多或较少的延伸部分111。
参考图2及3A-3F,室绝缘阀101a可以包含一展开机制134,用以例如相对于阀壳105及或处理室开口102(图1A)移动封闭件103。例如,展开机制134可以包含一或数个第一致动器135(图2及3A),用以移动封闭件103在纵向缩回及纵向展开位置之间,如图3F及3D所分别显示。第一致动器135可以是很多不同类型适当装置之一。例如,如图2及3A的第一致动器135所示的气力驱动线性致动器将可以适用的,如同为一皮带或螺杆驱动致动器。
展开机制134还包含一或数个外部风箱137(图2),用以保护阀壳105的密封体113对抗污染物由端口133入侵。每一外部风箱137对应并适用以包含封闭件103的分离延伸部分111。当有更多或较少的延伸部分111出现时,外部风箱137的数量可以对应地增加或减少。每一137可以包含一第一安装凸缘139,安装在阀壳105上,在端口133旁,该对应延伸部分111延伸穿过该端口133。
展开机制134可以还包含一或数个第二致动器141(图2及3C),用以移动封闭件103在封闭件103的横向缩回及横向展开位置之间,如图3D及3E所示。每一第二致动器141可以被安装至第一支撑板143,其随后可移动经由第一致动器135安装至阀壳105。每一第二致动器141可以为很多不同适当装置之一。例如,一例如图2及3C所实施的气力驱动线性致动器将可以适用,并将会是一皮带或螺杆驱动致动器。
当第一致动器135纵向地相对于阀壳105移动第一支撑板143时,展开机制134可以适用以导引第一支撑板143。例如,一第一及第二支撑件149可以被固定至阀壳105并由阀壳105延伸,及第一支撑板143可以滑动地连接至每一安撑件149,例如,经由一轨道151及一第一及第二对车架153,轨道151较佳固定至每一支撑件149。每一对车架153可以固定连接至第一支撑板143并可移动地连接至一轨道151,以允许第一支撑板143的纵向移动。
参考图2、3C及3D,展开机制134可以还包含一或数个托架145,每一托架145被固定至延伸部分111的一端,该端与封闭件103的密封部分107分开的。展开机制134可以还包含一第二支撑板147,第二支撑板147可移动地经由第二致动器141安装至第一支撑板143(及/或阀壳105)。每一托架145可以连接至第二支撑板147,以提供一机构,使得展开机制134可以操纵及/或移动封闭件103(例如纵向或横向或其组合)。
当第二致动器141相对于第一支撑板143及阀壳105横向移动第二支撑板147时,展开机制134可以适用以导引第二支撑板147,并且,将第二致动器141与由封闭件103、第二支撑板147及托架145的组合重量所代表的垂直力隔离开(例如,促成封闭件103相对于阀壳105的平顺横向平移)。例如,如图2及3B所示,展开机制134可以还包含轴承155,其由第一支撑板143的侧延伸,及每一托架145可以包含一导槽157,适用以收纳轴承155之一的滚子部分159。因此,当第二支撑板147相对于第一支撑板143横向移动时,轴承155及第一支撑板143可以承受封闭件103、托架145及第二支撑板147的实质所有重量,同时,允许该组件平顺地经由在轴承滚子部分159及托架导槽157间的翻转(滚动)信道平移。
例如,阀壳105的第一开口115可以相当地长,如同图2的室绝缘阀101a,加强件109可以包含一加强板161,其为长形。该加强板161可以包含一第一侧163(图3C),其面向密封部分107,该密封部分107上提供有数个安装轮毂165(图3B)。每一安装轮毂165可以适用以延伸入数个腔体167的个别一个(见图2及3B),这些袋体167形成在密封部分107的非密封侧169中(图2)。个别驱动板171(图2)可以安排在每一腔体167(见图3D)内,并较佳地固定至延伸在其中的加强板161的安装轮毂165中。一次组件可以形成,其包含加强板161及每一驱动板171经由安装轮毂165连接至加强板161。
封闭件103也可以前后移动加强件109在图3D所示的缩回位置(横向)及图3E所示的展开或延伸位置之间。例如,一致动装置可以展开于加强件109及/或封闭件103的密封部分107之内(例如,用以最小放大封闭件103的整体尺寸)。例如,该封闭件103可以包含至少一如以下参考图2及3B-3F所述的加强致动器173(图2及3E)。
当第一开口115相当长时,如同图2的室绝缘阀101a般,封闭件103可以(例如取决所需以经由加强件109施加至密封部分107的加强力大小及/或形成腔体167的密封部分107的非密封侧169的可用空间)包含数个加强致动器173。每一加强致动器173可以建入及/或整合入封闭件103内,以包含上述封闭件103的部分组件的一部分(例如密封部分107的腔体167及加强件109的驱动板171)。另外,每一加强致动器173可以包含一驱动板风箱175(图3D),其包含一安装凸缘177,连接至密封部分107的非密封侧169(例如在密封部分107的腔体167旁);及一可延伸壁部分179附着至安装凸缘177并延伸入腔体167,该可延伸壁部分179是在腔体167内附着至一驱动板171。
参考图3E,每一加强致动器173可以包含一压力槽181,其包含密封部分107的一腔体167(也见图3B)、加强件109的驱动板171、驱动板风箱175的可延伸壁部分179及驱动板风箱175的安装凸缘177(图3D)。压力槽181可以经由外部来源的加压气体(未示出)膨胀,以强迫加强件109靠向背板119。例如,图3E例示室绝缘阀101a的架构,其中封闭件103的密封部分107被展开靠着阀壳105的前板121,封闭件103的加强件109被展开靠向阀壳105的背板119,每一驱动板风箱175的可延伸壁部分179是相关地压缩,及压力槽181的体积相当地大。
或者,压力槽181可以经由一外部来源真空压力加以收缩。例如,图3D例示室绝缘阀101a的架构,其中加强件109是缩回于密封部分107的腔体167(图3B)内,驱动板风箱175相当地膨胀,及压力槽181(图3)的体积相当地小。可以如下所解释,每一加强致动器173可以包含一此压力槽181并可以通过在压力槽181体积的变化及/或压力槽181的压力(例如空气压力或流体压力)的变化,而致动(例如移动/定位/压迫加强件109)。
每一加强致动器173可以被气力激励。例如,每一腔体167可以经由一导管183(图3B)气力连接,该导管穿透每一腔体167的壁。因此,当封闭件103的一加强致动器173的压力槽181受到增加空气或流体压力而膨胀,或受到真空压力而收缩时,每一加强致动器173的压力槽181将倾向于类似地激励。因此,依据存在于导管183中的压力,为加强致动器173所施加的集合力量可以(例如接近或离开)相对于密封部分107移动加强件109。
封闭件103可以适用以将导管183曝露至一真空压力源(未示出),用以缩回加强件109在密封部分107之内,例如,当封闭件103在图3F的纵向缩回位置时,或移动进出封闭件103时,防止于加强件109及阀壳105间的接触。(封闭件103的密封部分107可以类似地由前板121缩回)。封闭件103可以适用以曝露导管183至加压气源(未示出),用以延伸加强件109离开密封部分107及/或使得当完全延伸时,加强件109推向阀壳105的背板119,以加强密封部分107靠向阀壳105的前板121,如图3E所示。
导管183曝露至真空压力或加压气体源可以以若干方式加以完成。例如,一或两个托架145可以包含一套筒185(图2),适用以接收一压力配件(未示出),例如一压力软管的端配置。压力配件(未示出)可以适用以配合形成在封闭件103的延伸部分111内的压力端口187(图3E),其同时与形成在延伸部分111内的延伸导管189(图3C)相通,并导引至延伸部分111的密封部分接口191(图3C)。密封部分接口191可以作成密封住密封部分107的延伸部分接口193。一弹性件195可以提供于两接口间的密封。一在密封部分107内的馈送导管197可以由延伸部分界面193进行至密封部分107的导管183。此一配置提供一方便机构,用以气力致动封闭件103的加强致动器173并用以相对于密封部分107的加强件109的位置进行正控制(例如如所需地施加真空或加压气体)(例如所有时间)。其它用以施加真空或加压气体至加强致动器173的架构也可以使用。
应注意的是,每一驱动板风箱175的可延伸壁部分179在压力槽181膨胀时被压缩。此一配置可以使得可延伸壁部分179较当压力槽膨胀时该可延伸壁部分179受到较少应力及疲劳,因而,增加驱动板风箱175的有效寿命。相反配置也可以使用。
更应注意的是,在一实施例中,当封闭件103的密封部分107接触阀壳105的前板121时,封闭件103的每一延伸部分111可以(见图3E)接触外部风箱137的第一安装凸缘139的内表面154(图3D)。此一配置可以对封闭件103移动向阀壳105的前板121,协助提供一正自对准限制(如下所述)。例如,当在延伸部分111及第一安装凸缘139间建立接触时,在阀壳105内的封闭件103的位置可以对应于在封闭件103的密封部分107及前板121间的弹性密封组件(未示出)的压力的想要启始程度,使得可能需要的其它压力可以为加强件109所提供,该加强件109加强密封部分107靠向前板121。在其它实施例中,当封闭件103的密封部分107接触前板121时,延伸部分111可以不与风箱137的内表面154接触。
图4为一流程图,其例示用以密封室绝缘阀101a的第一开口115的例示程序400。参考图4,程序400可以开始于步骤401。在步骤402,程序400可以取决于封闭件103的纵向位置(图2)而进行至一步骤403或一步骤404。若封闭件103是在如图3F所示的纵向缩回位置,则程序400将进行至步骤403。
在步骤403,10被由图3F的纵向缩回位置移动向如图3D所示的封闭件103的纵向展开位置。例如,展开机制134的第一致动器135可以用以将封闭件103由图3F的纵向缩回位置升高至图3D的纵向展开位置。在本发明方法的一或数个实施例中,在封闭件103的上述位置之前、之间及/或之后,展开机制134维持第二间隙125(图1A)及一或数个加强致动器173维持在封闭件103及阀壳105间的第一间隙(图1A),以保护于封闭件103移动时,对抗磨擦及/或微粒产生。因此,在部分实施例中,展开机制134的第二致动器141被致动,以维持封闭件103在一离开阀壳105的前板121的横向回缩位置中。
在结束步骤403时,封闭件103将会在图3D的垂直展开位置。因此,程序400进行至步骤404。
在步骤404,封闭件103横向展开,例如,被由图3D的封闭件103的横向缩回位置移动至图3E所示的封闭件103的横向展开位置。例如,展开机制134的一或数个第二致动器141(及/或一数个加强致动器173)可以使得封闭件103由图3D的封闭件103的横向缩回位置移动至图3E的横向展开位置。通过去化(例如减压)第二致动器141,延伸部分111可以横向移动,及一或数个加强致动器173的膨胀、延伸部分111或封闭件103等的弹簧偏压可以将密封部分107移动向前板121。在本方法的一或数个实施例中,封闭件103的上述横向展开造成封闭件103的密封部分107被移动与阀壳105的前板121接触。在部分实施例及/或其它实施例中,上述封闭件103的横向展开造成封闭件103的延伸部分111接触外部风箱137的第一安装凸缘139的对应内表面154。
进行至程序400的步骤405,封闭件103的加强件109被横向展开,例如被移动至如图3E所示的加强件109的横向展开位置。例如,封闭件103的一或数个加强致动器173(图2)可以使加强件109移动开加强件109的横向缩回位置及/或在密封部分107之内(如图3D所示),至图3E的横向布置。
在本方法的一或数个实施例中,步骤405只开始在步骤404完成之后。在其它实施例中,步骤405及步骤404同时执行及/或两步骤在任一者完成前开始。在其它实施例中,步骤404只在步骤405开始后开始。另外,在本方法的一或数个实施例中,在封闭件103的上述横向展开及封闭件103的加强件109的上述横向展开之前、之间及/或之后,展开机制134被用以维持封闭件103在封闭件103的纵向展开位置(图3E)。例如,第一致动器135可以在升高封闭件103后维持动作(见步骤402)。
进行至程序400的步骤406时,该密封部分107被加强靠着前板121,以密封形成在其中的第一开口115。例如,在每一加强致动器173的压力槽181的压力可以由足够移动加强件109至靠着背板119的相当低压力增加至一相当高压力(见步骤405),该压力是成比例于为压力室P所施加的压力的期待大小。或者,若一用以在步骤405中,膨胀压力槽181的压力是足够地高以抵抗期待压力,或者,若压力在步骤405中逐渐增加或步阶式增加至一适当高压力,则只要需要加强力量,则相同压力可以维持。
随着封闭件103被纵向及横向地展开,加强件109被横向展开及密封部分107被加强靠向前板121,以密封住第一开口115,则程序400结束于步骤407。
程序400也可以以一或数个步骤开始,以确保在封闭件103为展开机制134的第一致动器135所纵向展开(例如升高)前,在封闭件103及阀壳105间存在有第一及第二间隙123、125。例如,一或数个加强致动器173的可以展开于相反加强方向的方向,例如,通过真空压力的施加,以确保在封闭件103的纵向展开时,加强件109仍保持缩回靠着及/或在密封部分107之内(及离开阀壳105的背板119)。再者,一或数个第二致动器141可以展开于相反密封方向的一方向中,例如,经由正压力的施加(发生密封方向中的移动,例如通过一偏压组件的力量,如线圈弹簧(未示出)或压力槽181的膨胀),以确保在封闭件103的纵向展开时,封闭件103的密封部分107保持离开阀壳105的前板121。
图5为一流程图,例如,用以放置室绝缘阀101a的封闭件103在如图3F所示的封闭件103的纵向缩回位置的例示程序500。参考图5,程序500可以开始于步骤501。在步骤502,取决于加强件109的横向位置(图2),程序500进行至步骤503或步骤504。若加强件109并未在横向缩回位置,则程序500进行至步骤503。
在步骤503,加强件109被横向缩回,例如移动至一如图3D所示的横向缩回位置。例如,一或数个加强致动器173可以使得加强件109移动离开加强件109的如图3E所示的横向展开位置至一如图3D所示的横向缩回位置。
进行至步骤504,程序500取决于1103的横向位置(图2),而进行至步骤505或步骤506。若封闭件103并未在一横向缩回位置,则程序500进行至步骤505。
在步骤505,封闭件103横向缩回,例如被移动至一如图3D所示的横向缩回位置。例如,一或数个第二致动器141可以移动封闭件103由如图3E所示的封闭件103的横向展开位置至如图3D所示的横向缩回位置。
在程序500的一或数个实施例中,两或数个步骤502、503、504及505可以同时或不同顺序进行。另外,步骤505并不需要在步骤503完成后开始。同时,在本程序500的一或数个实施例中,在加强件109及/或封闭件103的缩回之前、之间及之后,展开机制134可以用以主动地保持在封闭件103的垂直展开位置中(图3E)。例如,展开机制134的135可以为此目的连续动作。
进行至步骤506,封闭件103被移动至如图3F所示的封闭件103的纵向缩回位置。例如,展开机制134的135可以移动封闭件103由图3D所示的纵向展开位置移动至如图3F所示的纵向缩回位置。在程序500的一或数个实施例中,在封闭件103的上述缩回之前、之间及/或之后,展开机制134及一或数个加强致动器173可以在封闭件103及阀壳105之间维持第一及第二间隙123、125(图1A),以保护对抗在封闭件103的纵向移动时的磨擦及/或微粒产生。例如,在部分实施例中,第二致动器141可以防止封闭件103横向移动向阀壳105的前板121。另外,在一或数个实施例中,加强致动器173可以防止加强件109横向移动向阀壳105的背板119。同时,在一或数个实施例中,一或数个加强致动器173可以例如经由真空压力的施加而动作,以在封闭件103的纵向缩回时,维持在密封部分107内的加强件109的缩回位置。
封闭件103被纵向及横向地缩回,室绝缘阀101a现在被架构以允许基材的通过进出室绝缘阀101a的阀壳105,及程序500结束于步骤507。当有利及想要时,也可以采行其它步骤,以确保封闭件103维持离开阀壳105的空间,即使在缩回及不移动时。例如,一或数个加强致动器173及一或数个第二致动器141可以连续动作,以维持第一及/或第二间隙123、125(图1A)。
至于,有关于图4及5的程序400、500,在室绝缘阀101a的部分实施例中,135适用以经由正压力的施加,在封闭件103的纵向展开及纵向缩回时加以动作。在室绝缘阀101a的其它实施例中,第一致动器135可以适用以在纵向展开时经由正压力加以动作,以重力作为垂直缩回。在室绝缘阀101a的其它实施例中,每一加强致动器173可以适用以在封闭件103的横向展开时,经由弹簧预设加以动作,及在部分实施例中,每一第二致动器141可以适用以在封闭件103横向缩回时,经由正压力加以动作(例如,在封闭件103的纵向移动时,维持封闭件103的横向缩回)。在室绝缘阀101a的其它实施例中,每一加强致动器173可以适用以在加强件109的横向展开经由正压力及在加强件109的横向缩回时经由真空压力(例如没有弹簧预设)动作(例如避免使用加强件109时,必须克服弹簧预设的力量)。也可以使用其它架构。
图6为一室绝缘阀系统600的示意图,其包含图2的室绝缘阀101a及适用以操作及/或协调室绝缘阀101a功能的一室绝缘阀控制模块601。例如,室绝缘阀601可以适用以与室绝缘阀101a互动,以执行如图4的流程图所示的程序400及/或由图5流程图所示的程序500。
室绝缘阀控制模块601可以包含一输入/输出模块603,适用以产生及/或接收信号。例如,该输入/输出模块603可以适用以:
(1)决定是否封闭件103在如图3F所示的纵向缩回位置;
(2)沿着一第一信号导体605,产生及发射一电信号至在图3F的纵向缩回位置的封闭件103;
(3)发出一对应于封闭件103在图3F的纵向缩回位置的指示器灯光(例如绿LED);
(4)决定是否封闭件103在图3D所示的纵向展开位置中;
(5)沿着一第二信号导体607产生及发射一电气信号,其对应于封闭件103的在图3D的纵向展开位置;
(6)发出对应于封闭件103在图3D的纵向展开位置的指示器灯光(例如红LED);
(7)决定是否加强件109是在如图3E所示的横向展开位置;
(8)对应加强件109在图3E的横向展开位置,沿着第三信号导体609而产生及发射一电信号;
(9)防止上述信号(5)被产生及发射,及上述(6)的指示器灯光被发出,直到加强件109被决定为在上述(7)的横向展开位置为止;
(10)沿着第四信号导体611接收一电信号,例如,使得室绝缘阀控制模块601操作室绝缘阀101a,以执行上述参考图4的程序400(例如密封如图3E所示的室绝缘阀101a的第一开口115);
(11)沿着第五信号导体613接收一电信号,例如,使得室绝缘阀控制模块601操作室绝缘阀101a,以执行上述参考图5的程序500(例如放置封闭件103在如图3F所示的封闭件103的纵向缩回位置);
(12)控制及导引功率,至室绝缘阀控制模块601的一或数个气力开关(未示出),其适用以选择在数个气力导管间的重组连接,以连接至室绝缘阀控制模块601,例如:
(a)一真空源导管615;
(b)一加压源气体导管617;
(c)一环境(大气)排出导管619;
(d)一加强致动导管621;
(e)一夹持致动导管623;
(f)一封闭件下降导管625;
(g)一封闭件升高导管627;
(13)检测在加强致动导管621中的升高压力(例如加压化)的出现;
(14)执行上述(7)的功能,至少部分经由上述(13)的功能;及/或
(15)检测在加强致动导管621中,减压压力(例如真空)的出现。
该室绝缘阀控制模块601也可以适用以执行以下功能:
(16)选择地连接加压气体源617至加强致动导管621,例如,以致动每一加强致动器173,及移动加强件109进入图3E所示的横向展开位置中;
(17)选择地连接真空源导管615至加强致动导管621,例如,以致动每一加强致动器173,借以移动加强件109进入图3D所示的横向缩回位置中;
(18)当上述(16)的气力连接存在时,正面防止上述(17)的功能发生;
(19)当上述(17)的气力连接存在时,正面防止上述(16)的功能发生;
(20)选择地连接加压气体源导管617至夹持致动导管623,例如,以致动展开机制134的每一第二致动器141,并借以移动封闭件103进入图3D所示的横向缩回位置(例如通过打败倾向于展开封闭件103的弹簧预设);
(21)选择地连接大气排气导管619至夹持致动导管623,例如停止展开机制134的每一第二致动器141并允许一弹簧预设(例如建立在每一展开机制134)或加强致动器173的动作以管理,借以将封闭件103移动至如图3E所示的横向展开位置;
(22)选择地连接加压气体源导管617至封闭件下降导管625,例如,以致动第一致动器135(图3A),借以移动封闭件103至图3F所示的纵向缩回位置中;
(23)选择地连接大气排气导管619至封闭件升高导管627,例如完成上述(22)的功能;
(24)选择地连接加压气体源导管617至封闭件升高导管627,例如,借以致动第一致动器135(图3A)及借以移动封闭件103进入图3D所示的纵向展开位置;
(25)选择地连接大气排气导管619至封闭件下降导管615,例如,完成上述(24)的功能;
(26)同时执行上述的(22)及(23);
(27)同时执行上述的(24)及(25);
(28)选择地由上述(26)切换至上述(27);
(29)选择地由上述(27)切换至上述(26);
(30)同时执行上述的(17)及(20);
(31)同时执行上述的(16)及(21);
(32)选择地由上述(30)切换至上述(31);
(33)选择地由上述(31)切换至上述(30);
(34)在(22)的气力连接存在时,正面防止(16)及(21)发生;
(35)除非封闭件103是在如图3D所示的垂直展开位置中,正面防止(16)及(21)发生;
(36)除非上述(17)的气力连接存在,否则正面防止(28)及(29)发生;
(37)在室绝缘阀控制模块601没有电力时,预设至(31);
(38)通过执行上述的(28)、(27)、(35)、(16)、(21)及(36),而执行图4的程序400;
(39)通过执行上述的(28)、(27)、(35)、(16)、(21)、(36)、(32)及(31),而执行图4的程序400;
(40)通过执行上述的(36)、(20)、(17)、(29)、(22)、(23)、(26)及(34),而执行图5的程序500;及/或
(41)通过执行上述的(36)、(33)、(20)、(17)、(29)、(23)、(26)、(34)及(30),而执行图5的程序500。
各种其它功能也可以加以执行。
图7为图6的室绝缘阀系统600的一特定实施例600a的示意图,其包含图2的室绝缘阀101a及室绝缘阀控制模块601的特定实施例601a,其中室绝缘阀控制模块601a被详细显示。参考图7,室绝缘阀控制模块601a被适用以执行上述的功能1-41。适用以执行这些功能的室绝缘阀控制模块601a的情况及结构将以功能的大致顺序加以介绍及解释。
功能1至3有关第一位置开关629、一第一指示器灯631及一第一信号导体605中。该第一位置开关629可以架构为常开,并可以安装在室绝缘阀101a内或附近,使得当封闭件103到达图3F纵向缩回位置时,其被致动或关闭。该第一指示器灯631可以为至人类操作员的信号。第一信号导体605可以承载一信号至遥控器(未示出)。第一指示器灯631及/或第一信号导体605的其它用途也有可能。
功能4至6类似地有关一第二位置开关635、一第二指示器光637及该第二信号导体607。该第二位置开关635可以架构为常开,并可以安装在室绝缘阀101a内或附近,使得当封闭件103到达图3D的纵向展开位置时,其可以动作或关闭。第二指示器灯637及第二信号导体607可以类似于第一指示器灯631及第一信号导体605般地动作。
功能7可以有关压力开关641。压力开关641可以架构为常开,并可以气力地连接至加强致动导管621(例如经由一适用以缓慢地等化在小孔643任一侧上的压力的小孔643),以当加强作用导管621相较于室压为正压力时,被动作或闭合。因为在加强动作导管621中的正压经由每一加强致动器173的动作,而造成加强件109的横向展开,及小孔643可以被动作,以在加强件109展开后,等化压力,及压力开关641可以执行功能7。
功能8及9有关第三信号导体609及压力开关641必须闭合,用以使第二指示器灯637发光或用以第三信号导体609,以接收电力。
功能10及11分别有关第四信号导体611及第五信号导体613。
功能12有关第四信号导体611及第五信号导体613,其可以适用以接收一信号(例如呈+24伏或另一功率标准信号)。
功能13有关于压力开关641,及功能14为自行说明。
功能15有关于真空开关651。真空开关651可以架构为常开,及可以气力连接至加强导管621(例如经由小孔643),以当加强致动导管621被相较于环气时为真空压力时,被动作或关闭。
功能16有关于主功力源阀653。该主压力源阀653可以被架构为常闭,及可以连接加强动作导管621与加压气体源导管617。主压力源阀653可以更架构以当经由一气力导管655曝露一致动端口至一正压力时,被动作或开启。气力导管655可以选择地经由一第一流调整器657(及经由如下所述的一对气力开关连接器)连接至加压气体源导管617或大气排气导管619。
功能17可以有关于主真空源阀659。主真空源阀659可以架构为常闭,并可以连接加强致动导管621与真空源导管615。主真空源阀659可以进一步架构以当曝露至动作端口,以经由一气力导管661进行正压力。该气力导管661可以选择地经由一第二流调整器663(及经由如下所述的一对气力开关连接器)连接至加压气体源导管617或大气排气导管619。
室绝缘阀控制模块601a可以包含一第一气力开关连接器665、一第二气力开关连接器667及一第二气力开关连接器669,这些均适用以加入上述的功能12的接口中。该第一气力开关连接器665及第二气力开关连接器667适用以在五个分离气力导管(其两者一直与大气排气导管619相通,及其中之一是一直与加压气体源导管617相通)间建立及选择地变化气力连接架构,及该第二气力开关连接器667适用以建立及选择地变化在三个分离气力导管(其一是一直与大气排气导管619相通)间的气力连接架构。
第二气力开关连接器667适用以通过预定来假设气力架构A,其中预设机制可以为例如一弹簧并适用以选择地假设气力架构B,例如经由被施加至致动线圈上的高侧电压,该致动线圈适用以移位气力架构B进入为图7所示的架构A所占用的位置。第三气力开关连接器669适用以预定来呈现气力架构C,其中预设机制可以为例如弹簧,并适用以选择地假设气力构架D,如图7所示,例如,通过施加至气力致动机制671的正压力,因此,气力致动机制671动作,以移位气力架构D进入所示位置(例如,将架构C移出及将架构D移入)。第一气力开关连接器665适用以选择地假设如图7所示的气力架构E或者气力架构F,例如通过两不同高侧导体(例如+24伏)被施加至个别致动线圈,其适用以将第一气力开关连接器665由架构E移动至架构F,或由架构F移动至架构E。
该室绝缘阀601a可以包含其它高侧电压导体673、675及677,返回或接地导体679、781、683及685,及一第三位置开关687。该第三位置开关687可以架构为常闭,并可以安装在室绝缘阀101a的内或附近,使得当封闭件103到达图3D纵向展开位置时,其被动作或关闭。
可以为熟悉于本技术者读取本案及本案的附图,特别是图7了解,通过选择地经由第四信号导线611或第五信号导线615,接收一高侧电压信号,并允许室绝缘阀控制模块601a的其它组件动作以依据图7所示的功能,该室绝缘阀控制模块601a适用以执行上述功能16-41。例如,主真空源阀659及主压力源阀653适用以相互排斥方式开启,防止真空压力及正压力同时施加至加强动作导管621及每一加强致动器173。同时,第四信号导体611及返回或接地导体683间及第五信号导体613与返回及接地导体683间的电路并不会闭合,除非经由主真空源阀659,加强动作导管621被曝露至真空压力,因此,真空开关651闭合(此允许于第一气力开关连接器665中,由架构E切换至架构F,反之亦然)。另外,第三气力开关连接器669可以不假设架构D,除非正压力被接收在气力作用机制671上,及后者并不可能,除非第一气力开关连接器665是如所示的架构E。再者,如图7所示的开启的第三位置开关687,使得第二气力开关连接器667以维持在架构B(造成真空压力被施加至加强作用导管621及加强件109,以维持在图3F的横向缩回位置中),直到封闭件103到达图3D的纵向展开位置,在此时,第三位置开关开启;触发第二气力开关连接器667的弹簧预设;及使得第二气力开关连接器667切换至架构A。其它用以控制本发明的阀101、101a的架构/系统也可以使用。
前述说明只揭示本发明的例示实施例。上述揭示设备与方法的修改可以为熟悉于本技术者所知仍落在本发明的范围内。例如,依据一或数个实施例,在处理室P的功力倾向于将密封部分107推进开处理室P,并只可能为加强致动器173所产生的加强力所反抗。在其它实施例中,加强力的大小可能低于需要反抗在处理室P内的压力者,来自其它来源的力量也可以加入其中,以维持对处理室开口102的密封。
在本发明的至少一实施例中,密封部分107的主体可以由一金属,例如铝等所形成。在此等实施例中,密封部分107可以包含一弹性件198(图3E),其接触前板121并防止密封部分107的金属部分接触前板121(例如防止金属至金属接触产生微粒)。弹性件198可以包含例如聚芳醚酮(PEEK)或其它适当材料(例如形状呈○型环或类似封闭件)。同样地,在至少一实施例中,加强件109的主体可以由一金属形成,例如铝或其它适当材料,并包含一弹性件199(图3E),其接触背板119(以防止金属至金属接触产生微粒)。弹性件199可以包含例如聚芳醚酮(PEE K)或其它适当材料(例如形状呈○型环或类似封闭件)。可以了解的是,若弹性件198或密封部分107的其它部分接触前板121,则密封部分107可以被说成接触前板121。同样地,若其弹性件199或加强件109的其它部分接触背板119,则加强件109可以被说成接触背板119。
在本发明的至少一实施例中,风箱137及/或可延伸壁部分179可以由不锈钢形成。也可以使用其它类似材料。
因此,虽然本发明以其例示实施例加以公开,但可以了解的是,本发明其它实施例仍在随附权利要求所界定的本案精神及范围内。

Claims (43)

1. 一种用以密封一开口的室绝缘阀,其至少包含:
一阀壳,具有:
一第一壁;
一第一开口,形成在第一壁中;
一第二壁;及
一第二开口,形成在第二壁中;
一封闭件,其具有:
一密封部分,用以接触第二壁并密封第二开口;及
一加强件,可相对该密封部分移动并用以接触第一壁;及至少一致动机制,用以:
将该密封部分移向第二壁并与第二壁接触;及
将该加强件移动离开该密封部分并与第一壁接触,以加强密封部分靠向第二壁;
其中该至少一制动机制包括一风箱,该风箱在加强件移动离开该密封部分是会产生压缩。
2. 如权利要求1所述的室绝缘阀,其特征在于,上述的至少一致动机制包含一致动器,其包含所述封闭件的一部分并安排于加强件与密封部分之间。
3. 如权利要求1所述的室绝缘阀,其特征在于,所述密封部分包含一弹性组件,用以接触并密封所述第二壁。
4. 如权利要求1所述的室绝缘阀,其特征在于,所述加强件包含一弹性组件,用以接触所述第一壁。
5. 如权利要求1所述的室绝缘阀,其特征在于,所述加强件用以在所述密封部分内呈现一缩回横向位置。
6. 如权利要求1所述的室绝缘阀,其特征在于,所述至少一致动机制包含一气力致动器,用以经由正压力及真空压力选择地致动。
7. 如权利要求6所述的室绝缘阀,其特征在于,所述气力致动器适用以采用正压力,以将该加强件由靠着密封部分的缩回横向位置移动向靠着第一壁的展开横向位置。
8. 如权利要求6所述的室绝缘阀,其特征在于,所述气力致动器适用以采用真空压力,以将该加强件由靠着第一壁的展开横向位置移动向靠着密封部分的缩回横向位置。
9. 如权利要求1所述的室绝缘阀,其特征在于,所述至少一致动机制包含一气力致动器,其包含一压力槽。
10. 如权利要求9所述的室绝缘阀,其特征在于,所述加强件的一部分定义所述压力槽的边界。
11. 如权利要求9所述的室绝缘阀,其特征在于,所述密封部分的一部分定义所述压力槽的边界。
12. 如权利要求10所述的室绝缘阀,其特征在于,所述风箱也定义所述压力槽的一边界。
13. 如权利要求12所述的室绝缘阀,其特征在于,所述加强件经由风箱耦接至密封部分。
14. 如权利要求13所述的室绝缘阀,其特征在于,除了经由风箱外,在加强件与密封部分之间并没有耦接。
15. 如权利要求12所述的室绝缘阀,其特征在于,所述风箱被定位为使得所述压力槽的膨胀产生风箱的收缩。
16. 如权利要求12所述的室绝缘阀,其特征在于,所述加强件包含一板,及其中所述板也定义所述压力槽的一边界。
17. 如权利要求16所述的室绝缘阀,其特征在于,所述加强件用以呈现一缩回横向位置远离第一壁,使得加强件的板在所述密封部分内。
18. 如权利要求16所述的室绝缘阀,其特征在于,所述加强件用以靠着第一壁呈现一展开横向位置,使得加强件的板保持在所述密封部分内。
19. 如权利要求1所述的室绝缘阀,其特征在于,所述至少一致动机制包含一第一致动机制,其是在所述室绝缘阀壳外。
20. 如权利要求19所述的室绝缘阀,其特征在于,所述第一致动机制包含一气力致动器,适用以经由正压力而被致动。
21. 如权利要求20所述的室绝缘阀,其特征在于,所述气力致动器用以利用正压力以移动封闭件,进而移动所述密封部分离开靠着第二壁的展开横向位置至所述第一及第二壁间的缩回横向位置。
22. 如权利要求1所述的室绝缘阀,还包含另一致动机制,用以移动封闭件,使得密封部分移动于一缩回纵向位置与一展开纵向位置之间,所述缩回纵向位置是离开第一及第二开口,及所述展开纵向位置是在第一及第二开口之间。
23. 如权利要求22所述的室绝缘阀,其特征在于,所述另一致动机制在所述阀壳外。
24. 如权利要求22所述的室绝缘阀,其特征在于,所述另一致动机制包含一气力致动器,适用以经由正压力而被致动。
25. 如权利要求24所述的室绝缘阀,其特征在于,所述气力致动器用以利用正压力以移动封闭件,以将密封部分移动离开缩回纵向位置至密封部分的展开纵向位置。
26. 如权利要求25所述的室绝缘阀,其特征在于,所述气力致动器还用以利用正压力,以移动封闭件,以将密封部分移动离开展开纵向位置至密封部分的缩回纵向位置。
27. 一种密封一室绝缘阀壳的一开口的方法,至少包含步骤:
提供一阀壳,其具有:
一第一壁;
一第一开口,形成在第一壁内;
一第二壁;及
一第二开口,形成在第二壁内;
提供一封闭件,其具有:
一密封部分,用以接触第二壁并密封第二开口;及
一加强件,可相对于该密封部分移动并用以接触第一壁;
将该密封部分移动向第二壁并与第二壁接触;及
将该加强件移动离开密封部分,并与第一壁接触,以加强密封部分靠向第二壁,其中将该加强件移动以来密封部分包括压缩一风箱。
28. 如权利要求27所述的方法,其特征在于,上述的第一及第二开口为横向对准。
29. 如权利要求28所述的方法,其特征在于,上述的移动该密封部分包含横向移动所述封闭件。
30. 如权利要求28所述的方法,其特征在于,上述的移动该加强件离开密封部分包含横向地移动加强件。
31. 如权利要求28所述的方法,还包含纵向地移动封闭件,以使得加强件与密封部分移动而横向对准这些开口。
32. 如权利要求31所述的方法,其特征在于,上述的纵向地移动所述封闭件包含:
防止密封部分接触第二壁;及
防止加强件接触第一壁。
33. 一种用以密封一开口的室绝缘阀的部件,其至少包含:
一封闭件,具有:
一密封部分,用以接触一阀壳的第二壁,及密封一形成在第二壁的一第二开口;以及
一加强件,用以可移动地接触阀壳的一第一壁。
34. 如权利要求33所述的部件,其特征在于,所述封闭件包含一致动器,其安排于加强件与密封部分之间。
35. 如权利要求33所述的部件,其特征在于,所述封闭件包含一弹性组件,用以接触并密封第二壁。
36. 如权利要求33所述的部件,其特征在于,所述加强件包含一弹性组件,用以接触并密封第一壁。
37. 如权利要求33所述的部件,其特征在于,所述加强件用以呈现在密封部分内的一缩回横向位置。
38. 如权利要求33所述的部件,其特征在于,所述加强件经由风箱耦接至密封部分。
39. 如权利要求38所述的部件,其特征在于,除了经由风箱外,在加强件与密封部分之间并没有耦接。
40. 如权利要求33所述的部件,其特征在于,所述加强件用以呈现一缩回横向位置远离第一壁,使得加强件的一板是在密封部分内。
41. 如权利要求33所述的部件,其特征在于,所述加强件用以靠着第一壁呈现一展开横向位置,使得加强件的一板保持在密封部分内。
42. 一种用以密封一开口的系统,包含:
一处理室,具有一处理室开口;以及
一室绝缘阀,耦接至所述处理室并用以密封处理室开口;
其中所述室绝缘阀包含:
一阀壳,具有:
一第一壁;
一第一开口,形成在第一壁中;
一第二壁;以及
一第二开口,形成在第二壁中;
一封闭件,具有:
一密封部分,用以接触第二壁并密封第二开口;以及
一加强件,可相对密封部分移动并用以接触第一壁;及至少一致动机制,适用以:
将该密封部分移动向第二壁并与第二壁接触;及
将该加强件移动离开密封部分并与第一壁接触,以加强该密封部分靠向第二壁。
43. 如权利要求42所述的系统,其特征在于,所述至少一致动机制包含一致动器,其包含封闭件的一部分并安排于加强件与密封部分之间。
CNB2004800128207A 2003-05-13 2004-05-12 密封一处理室一开口的方法与装置 Active CN100408902C (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US47014003P 2003-05-13 2003-05-13
US60/470,140 2003-05-13

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1788175A CN1788175A (zh) 2006-06-14
CN100408902C true CN100408902C (zh) 2008-08-06

Family

ID=33452371

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2004800128207A Active CN100408902C (zh) 2003-05-13 2004-05-12 密封一处理室一开口的方法与装置

Country Status (6)

Country Link
US (2) US7086638B2 (zh)
JP (2) JP2006526125A (zh)
KR (1) KR100914087B1 (zh)
CN (1) CN100408902C (zh)
TW (1) TWI283428B (zh)
WO (1) WO2004102055A1 (zh)

Families Citing this family (58)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100408902C (zh) 2003-05-13 2008-08-06 应用材料股份有限公司 密封一处理室一开口的方法与装置
KR100960030B1 (ko) * 2004-03-12 2010-05-28 배트 홀딩 아게 진공 게이트 밸브
DE502004003533D1 (de) * 2004-03-15 2007-05-31 Applied Materials Gmbh & Co Kg Vakuumbehandlungsanlage mit Umsetzbarem Wartungsventil
US8648977B2 (en) 2004-06-02 2014-02-11 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for providing a floating seal having an isolated sealing surface for chamber doors
CN1778986B (zh) * 2004-06-02 2015-08-19 应用材料公司 用于密封腔室的方法和装置
US20060102282A1 (en) * 2004-11-15 2006-05-18 Supercritical Systems, Inc. Method and apparatus for selectively filtering residue from a processing chamber
US7767145B2 (en) 2005-03-28 2010-08-03 Toyko Electron Limited High pressure fourier transform infrared cell
US20060226117A1 (en) * 2005-03-29 2006-10-12 Bertram Ronald T Phase change based heating element system and method
US20060225769A1 (en) * 2005-03-30 2006-10-12 Gentaro Goshi Isothermal control of a process chamber
US7494107B2 (en) * 2005-03-30 2009-02-24 Supercritical Systems, Inc. Gate valve for plus-atmospheric pressure semiconductor process vessels
US7469715B2 (en) 2005-07-01 2008-12-30 Applied Materials, Inc. Chamber isolation valve RF grounding
US7771150B2 (en) 2005-08-26 2010-08-10 Jusung Engineering Co., Ltd. Gate valve and substrate-treating apparatus including the same
DE102005040741B4 (de) * 2005-08-26 2007-06-14 Asys Automatic Systems Gmbh & Co. Kg Bearbeitungsanlage modularen Aufbaus für flächige Substrate
JP4979429B2 (ja) * 2006-03-31 2012-07-18 バット ホールディング アーゲー 真空バルブ
CN101627148B (zh) * 2007-03-01 2012-05-30 应用材料公司 传送腔室接口用的浮动狭缝阀
EP2126436A2 (en) * 2007-03-01 2009-12-02 Applied Materials, Inc. Control of slit valve door seal pressure
US8082741B2 (en) * 2007-05-15 2011-12-27 Brooks Automation, Inc. Integral facet cryopump, water vapor pump, or high vacuum pump
WO2009058562A1 (en) * 2007-11-01 2009-05-07 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for sealing an opening of a processing chamber
US8377213B2 (en) * 2008-05-05 2013-02-19 Applied Materials, Inc. Slit valve having increased flow uniformity
US8567756B2 (en) 2008-08-28 2013-10-29 Applied Materials, Inc. Slit valve door able to compensate for chamber deflection
US8297591B2 (en) * 2008-08-29 2012-10-30 Applied Materials, Inc. Slit valve control
US20100098518A1 (en) * 2008-10-20 2010-04-22 Applied Materials, Inc. In/out door for a vacuum chamber
EP2287501A1 (de) * 2009-08-19 2011-02-23 VAT Holding AG Ventil zum im Wesentlichen gasdichten Unterbrechen eines Fliesswegs
CN102713388B (zh) * 2010-01-29 2014-05-07 Vat控股公司 用于封闭开口的门
US8641014B2 (en) 2010-09-10 2014-02-04 Applied Materials, Inc. Gate valve
EP2551564A1 (de) * 2011-07-28 2013-01-30 VAT Holding AG Ventil zum im Wesentlichen gasdichten Unterbrechen eines Fliesswegs
US9086173B2 (en) * 2012-07-19 2015-07-21 Vat Holding Ag Vacuum valve
US9086172B2 (en) * 2012-07-19 2015-07-21 Vat Holding Ag Vacuum valve
KR101528458B1 (ko) * 2013-01-18 2015-06-18 (주) 유앤아이솔루션 슬라이딩 역압 차단 밸브
JP6178845B2 (ja) * 2013-04-22 2017-08-09 Ckd株式会社 ゲートバルブ
CN104421437B (zh) * 2013-08-20 2017-10-17 中微半导体设备(上海)有限公司 活动阀门、活动屏蔽门及真空处理系统
TWI656293B (zh) * 2014-04-25 2019-04-11 瑞士商Vat控股股份有限公司
MY190405A (en) * 2014-12-19 2022-04-21 Vat Holding Ag Door for closing a chamber opening in a chamber wall of a vacuum chamber
US9638335B2 (en) 2015-01-08 2017-05-02 King Lai Hygienic Materials Co., Ltd. Double sealing valve
DE102015106916A1 (de) * 2015-05-04 2016-11-10 M. Braun Inertgas-Systeme Gmbh Transferventil
JP6797177B2 (ja) * 2015-08-06 2020-12-09 バット ホールディング アーゲー バルブ
CN107923418B (zh) * 2015-08-10 2021-02-26 Vat控股公司 气动的阀驱动装置
EP3211281A1 (de) * 2016-02-24 2017-08-30 VAT Holding AG Vakuumventil zum schliessen eines fliesswegs mit zweiteiligem ventilteller
US10224224B2 (en) * 2017-03-10 2019-03-05 Micromaterials, LLC High pressure wafer processing systems and related methods
US10622214B2 (en) 2017-05-25 2020-04-14 Applied Materials, Inc. Tungsten defluorination by high pressure treatment
JP6902409B2 (ja) * 2017-06-23 2021-07-14 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置
KR102405723B1 (ko) 2017-08-18 2022-06-07 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 고압 및 고온 어닐링 챔버
US10276411B2 (en) 2017-08-18 2019-04-30 Applied Materials, Inc. High pressure and high temperature anneal chamber
CN111095524B (zh) 2017-09-12 2023-10-03 应用材料公司 用于使用保护阻挡物层制造半导体结构的设备和方法
KR102392753B1 (ko) * 2017-09-25 2022-05-03 주식회사 만도 브레이크 시스템용 솔레노이드 밸브
US10636629B2 (en) 2017-10-05 2020-04-28 Applied Materials, Inc. Split slit liner door
KR102396319B1 (ko) 2017-11-11 2022-05-09 마이크로머티어리얼즈 엘엘씨 고압 프로세싱 챔버를 위한 가스 전달 시스템
JP2021503714A (ja) 2017-11-17 2021-02-12 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated 高圧処理システムのためのコンデンサシステム
KR20230079236A (ko) 2018-03-09 2023-06-05 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 금속 함유 재료들을 위한 고압 어닐링 프로세스
US10950429B2 (en) 2018-05-08 2021-03-16 Applied Materials, Inc. Methods of forming amorphous carbon hard mask layers and hard mask layers formed therefrom
US10748783B2 (en) 2018-07-25 2020-08-18 Applied Materials, Inc. Gas delivery module
US10675581B2 (en) 2018-08-06 2020-06-09 Applied Materials, Inc. Gas abatement apparatus
JP2022507390A (ja) 2018-11-16 2022-01-18 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 強化拡散プロセスを使用する膜の堆積
WO2020117462A1 (en) 2018-12-07 2020-06-11 Applied Materials, Inc. Semiconductor processing system
US11901222B2 (en) 2020-02-17 2024-02-13 Applied Materials, Inc. Multi-step process for flowable gap-fill film
US11328943B2 (en) * 2020-04-03 2022-05-10 Applied Materials, Inc. Dual gate and single actuator system
TWI730808B (zh) * 2020-06-11 2021-06-11 新萊應材科技有限公司 二向移動之閥件驅動裝置
CN112392978A (zh) * 2020-11-11 2021-02-23 上海华力集成电路制造有限公司 狭缝阀装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5975492A (en) * 1997-07-14 1999-11-02 Brenes; Arthur Bellows driver slot valve
US6079693A (en) * 1998-05-20 2000-06-27 Applied Komatsu Technology, Inc. Isolation valves
US6302372B1 (en) * 1998-12-11 2001-10-16 Beybold Systems Gmbh Gate valve
US20020074534A1 (en) * 2000-12-14 2002-06-20 Irie Koken Co., Ltd. Gate valve

Family Cites Families (78)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US597549A (en) * 1898-01-18 Horseshoe-pad
US2184892A (en) * 1938-01-14 1939-12-26 Dickinson John Arthur Valve
US2476711A (en) * 1943-11-12 1949-07-19 Samuel H Edwards Valve
GB851444A (en) 1956-06-05 1960-10-19 Commissariat Energie Atomique Improvements in or relating to vacuum control valves
US3040773A (en) 1959-09-04 1962-06-26 Crane Co Combined valve actuating and indicator mechanism
US3152786A (en) * 1961-03-01 1964-10-13 Gray Tool Co Bifaced gate valve having tapered seat sealing surfaces
FR1538390A (fr) * 1967-06-27 1968-09-06 Alcatel Sa Vanne de grand diamètre pour ultravide
US3524467A (en) 1967-10-13 1970-08-18 Exxon Research Engineering Co Fluid expanded disk valve
US3717322A (en) 1970-10-27 1973-02-20 Verreries Appliquees Shutter valves for high-vacuum applications
CH546912A (de) 1971-10-25 1974-03-15 Vat Ag Schnellschlussventil.
US4359203A (en) * 1974-02-08 1982-11-16 Electro Nucleonics, Inc. Valve assembly
US3931953A (en) * 1974-05-09 1976-01-13 Communications Satellite Corporation (Comsat) Ultra high vacuum valve
CH582842A5 (zh) 1974-07-15 1976-12-15 Vat Ag
US4075787A (en) 1975-07-07 1978-02-28 American Sterilizer Company Inflatable pouch to seal
US4070001A (en) 1976-07-06 1978-01-24 Musgrove Ronald R Vacuum safety valve
DE2639198C3 (de) 1976-08-31 1981-11-26 Messerschmitt-Bölkow-Blohm GmbH, 8000 München Absperrschieber
US4131131A (en) 1977-06-22 1978-12-26 Dayco Corporation Valve construction
US4164211A (en) 1977-10-03 1979-08-14 American Air Filter Company, Inc. Damper assembly
US4157169A (en) 1977-10-12 1979-06-05 Torr Vacuum Products Fluid operated gate valve for use with vacuum equipment
US4238111A (en) 1978-08-04 1980-12-09 Torr Vacuum Products, Inc. Gate valve for use with vacuum equipment
CH636422A5 (de) 1979-02-26 1983-05-31 Balzers Hochvakuum Hochvakuumventil.
CH649359A5 (de) 1980-11-26 1985-05-15 Sulzer Ag Plattenschieber.
US4381100A (en) 1981-01-02 1983-04-26 Fairchild Industries, Inc. Valve and valving apparatus
JPS58195158U (ja) * 1982-12-27 1983-12-26 株式会社大阪真空機器製作所 ゲ−トバルブ
JPS60136671A (ja) 1983-12-26 1985-07-20 Fuji Seikou Kk ゲ−トバルブのシ−ル構造
US5110249A (en) 1986-10-23 1992-05-05 Innotec Group, Inc. Transport system for inline vacuum processing
US4721282A (en) 1986-12-16 1988-01-26 Lam Research Corporation Vacuum chamber gate valve
US4763602A (en) 1987-02-25 1988-08-16 Glasstech Solar, Inc. Thin film deposition apparatus including a vacuum transport mechanism
US4785962A (en) 1987-04-20 1988-11-22 Applied Materials, Inc. Vacuum chamber slit valve
JPH01261573A (ja) * 1988-04-08 1989-10-18 Kokusai Electric Co Ltd 真空仕切弁
DE3831249A1 (de) 1988-09-14 1990-03-22 Schertler Siegfried Ventilschieber
JPH02186172A (ja) 1989-01-10 1990-07-20 Irie Koken Kk 無しゅう動ゲートバルブ用弁体
US5002255A (en) 1989-03-03 1991-03-26 Irie Koken Kabushiki Kaisha Non-sliding gate valve for high vacuum use
FR2648533B1 (fr) * 1989-06-14 1991-09-06 Coureau Ets Jc Dispositif de commande de vanne et vanne comportant un tel dispositif de commande
US5120019A (en) 1989-08-03 1992-06-09 Brooks Automation, Inc. Valve
GB2240157A (en) 1990-01-12 1991-07-24 Colin Badham Flow control valve for fluid materials
JPH03234979A (ja) 1990-02-09 1991-10-18 Canon Inc 仕切り弁
DE4011274C1 (zh) * 1990-04-06 1991-08-01 Zimmermann & Jansen Gmbh, 5160 Dueren, De
US5226632A (en) 1990-04-20 1993-07-13 Applied Materials, Inc. Slit valve apparatus and method
DE4027610C2 (de) 1990-08-31 1996-06-13 Festo Kg Ventil
US5169125A (en) 1991-03-05 1992-12-08 Baker Hughes Incorporated Self-aligning gate valve
US5116023A (en) 1991-05-14 1992-05-26 Mdc Vacuum Products Corporation Low vibration high vacuum gate valve
US5275303A (en) 1992-02-03 1994-01-04 Applied Materials, Inc. Valve closure mechanism for semiconductor deposition apparatus
JP2655576B2 (ja) * 1992-09-30 1997-09-24 信越半導体株式会社 単結晶引上装置におけるアイソレーションバルブ
US5363872A (en) 1993-03-16 1994-11-15 Applied Materials, Inc. Low particulate slit valve system and method for controlling same
US5511799A (en) 1993-06-07 1996-04-30 Applied Materials, Inc. Sealing device useful in semiconductor processing apparatus for bridging materials having a thermal expansion differential
US5379983A (en) 1993-12-21 1995-01-10 Vat Holding Ag Shut-off valves for pipelines
DE4414176A1 (de) 1994-04-22 1995-10-26 Zimmermann & Jansen Gmbh Plattenschieber
DE4418019A1 (de) 1994-05-24 1995-11-30 Vse Vakuumtechn Gmbh Ventilmechanik für ein Vakuumventil
US5560586A (en) 1994-05-25 1996-10-01 Anelva Corporation Main valve
JP2766190B2 (ja) 1994-07-28 1998-06-18 入江工研株式会社 無しゅう動真空ゲートバルブ
TW295677B (zh) 1994-08-19 1997-01-11 Tokyo Electron Co Ltd
US5597184A (en) 1994-09-30 1997-01-28 High Vacuum Apparatus Mfg., Inc. Quick release clamp for bonnet and flange of gate valves
DE19601541A1 (de) 1995-01-27 1996-08-01 Seiko Seiki Kk In einer Vakuumumgebung einsetzbares Vertikaltransfersystem sowie dazugehöriges Absperrventilsystem
JPH08303630A (ja) * 1995-05-10 1996-11-22 Fujikin:Kk 制御器
US5577707A (en) 1995-12-18 1996-11-26 Vat Holding Ag Slide valve
US5980194A (en) 1996-07-15 1999-11-09 Applied Materials, Inc. Wafer position error detection and correction system
US6032419A (en) 1997-04-08 2000-03-07 Tokyo Electron Limited Vacuum processing apparatus with low particle generating vacuum seal
US6045620A (en) 1997-07-11 2000-04-04 Applied Materials, Inc. Two-piece slit valve insert for vacuum processing system
US6089543A (en) 1997-07-11 2000-07-18 Applied Materials, Inc. Two-piece slit valve door with molded-in-place seal for a vacuum processing system
US5791632A (en) 1997-07-14 1998-08-11 Brenes; Arthur Quick release slide lock for vacuum valve
US5881998A (en) 1997-07-14 1999-03-16 Brenes; Arthur Half profile slot valve
US5884899A (en) 1997-07-14 1999-03-23 Brenes; Arthur Half profile gate valve
US6105435A (en) 1997-10-24 2000-08-22 Cypress Semiconductor Corp. Circuit and apparatus for verifying a chamber seal, and method of depositing a material onto a substrate using the same
JP2002504744A (ja) 1997-11-28 2002-02-12 マットソン テクノロジイ インコーポレイテッド 真空処理を行う非加工物を、低汚染かつ高処理能力で取扱うためのシステムおよび方法
CH692821A5 (de) 1998-02-04 2002-11-15 Unaxis Trading Ag Vakuumventilplatte und Vakuumkammeranordnung mit einer solchen.
US5971358A (en) 1998-06-11 1999-10-26 Penn Troy Machine Co., Inc. Gate assembly for a double disk gate valve
US6192827B1 (en) 1998-07-03 2001-02-27 Applied Materials, Inc. Double slit-valve doors for plasma processing
US6173938B1 (en) 1998-09-22 2001-01-16 Applied Materials, Inc. Two speed air cylinder for slit valve motion control
US6347918B1 (en) 1999-01-27 2002-02-19 Applied Materials, Inc. Inflatable slit/gate valve
US6443426B1 (en) 1999-07-07 2002-09-03 Arthur Brenes Slide lock for vacuum valve
US6293306B1 (en) 1999-07-09 2001-09-25 Arthur Brenes Throttle gate valve
JP3388439B2 (ja) * 2000-03-21 2003-03-24 株式会社ブイテックス ゲートバルブ
US6390448B1 (en) 2000-03-30 2002-05-21 Lam Research Corporation Single shaft dual cradle vacuum slot valve
EA003148B1 (ru) 2000-07-05 2003-02-27 Владимир Яковлевич ШИРИПОВ Вакуумный модуль (его варианты) и система модулей для нанесения покрытий на подложку
JP3425937B2 (ja) * 2000-12-04 2003-07-14 入江工研株式会社 ゲート弁
AU2003254050A1 (en) * 2002-07-22 2004-02-09 Mdc Vacuum Products Corporation High-vacuum valve with retractable valve plate to eliminate abrasion
CN100408902C (zh) 2003-05-13 2008-08-06 应用材料股份有限公司 密封一处理室一开口的方法与装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5975492A (en) * 1997-07-14 1999-11-02 Brenes; Arthur Bellows driver slot valve
US6079693A (en) * 1998-05-20 2000-06-27 Applied Komatsu Technology, Inc. Isolation valves
US6302372B1 (en) * 1998-12-11 2001-10-16 Beybold Systems Gmbh Gate valve
US20020074534A1 (en) * 2000-12-14 2002-06-20 Irie Koken Co., Ltd. Gate valve

Also Published As

Publication number Publication date
TWI283428B (en) 2007-07-01
JP5592166B2 (ja) 2014-09-17
WO2004102055A1 (en) 2004-11-25
KR20050121750A (ko) 2005-12-27
KR100914087B1 (ko) 2009-08-27
US20060249701A1 (en) 2006-11-09
CN1788175A (zh) 2006-06-14
JP2010281446A (ja) 2010-12-16
US20040245489A1 (en) 2004-12-09
JP2006526125A (ja) 2006-11-16
US7086638B2 (en) 2006-08-08
TW200507021A (en) 2005-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100408902C (zh) 密封一处理室一开口的方法与装置
CN1246561C (zh) 用于移动家具部件的阻尼装置
US20110120499A1 (en) Method and System for an Injectable Foam Pig
JPH05294373A (ja) 2つのコンテナを気密的に接続するための弁形成装置、及び、かかる装置に接続されるように設計されたコンテナ
NL2021603B1 (en) Airlock arrangement for a transportation system
CN102138199A (zh) 狭缝阀门的控制
JP7084150B2 (ja) 真空バルブ
KR20200084797A (ko) 비결합형 브레이크 시스템의 퍼지 방법 및 그 방법을 적용하는 브레이크 시스템
JP5658877B2 (ja) 核燃料キャニスタを輸送コンテナと貯蔵装置との間で移送する移送装置及び移送方法
CN2614542Y (zh) 抽屉滑轨的收合缓冲器装置
CN111119637A (zh) 气动式舱体门盖开启机构
CN217707351U (zh) 垃圾压缩站换位门的快速换位机构
EP2648202A1 (en) Circuit breaker
CN110451387B (zh) 一种带逃生梯的电梯轿壁结构
KR910005944Y1 (ko) 가스분리 추출장치
CN207019850U (zh) 一种自动化气密性测试装备
KR20160024905A (ko) 충전폼의 충전방법 및 충전폼 압착 포장장치
CN114264779B (zh) 一种基于物联网的封闭空间气体检测设备
CN109501791A (zh) 集成式epb阀总成及epb电子驻车制动系统
US11644101B2 (en) Seal inflation/deflation apparatus and method of use thereof
CN220391216U (zh) 一种密封性强的汽车刹车助力泵泵体
US20070256742A1 (en) Dispensing tool assembly for evacuating and/or charging a fluid system
CN204020675U (zh) 伸缩杆及使用该伸缩杆的车辆
US20240026979A1 (en) Vacuum valve for a vacuum conveying system
CN101539221A (zh) 阀门组

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C56 Change in the name or address of the patentee
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: American California

Patentee after: Applied Materials Inc.

Address before: American California

Patentee before: Applied Materials Inc.