CN101180581A - 微光刻投影曝光设备的光学系统 - Google Patents

Abstract

一种微光刻投影曝光设备(10)的光学系统包括模块(50；150)，所述模块作为一个单元能够适配入所述光学系统并从中移出。所述模块包括能够完全填充液体(34；134)并被密封的腔(42；142)，以及在所述投影曝光设备(10)工作期间在顶部限定所述腔的凹面弯曲的光学表面(S)。这使得在光学系统之外填充模块成为可能。所述模块能够在那里倾斜使得在所述凹面弯曲的光学表面的下方不会形成阻碍完全填充的气泡。

Description

微光刻投影曝光设备的光学系统

技术领域

本发明涉及一种微光刻投影曝光设备，诸如用于制造大规模集成电路和其他微结构元件的设备的光学系统。本发明尤其涉及这种系统的投影物镜，其包括与液体相邻的向上凹面弯曲的光学表面。

背景技术

集成电路和其他微结构元件通常通过在合适的基底上施加多个结构层来制造，所述基底例如可以是硅晶片。为了构成结构层，首先用对特定波长范围的光，例如深紫外(DUV)谱线范围的光，敏感的光致抗蚀剂覆盖它们。然后使以这种方式涂覆了的晶片在投影曝光设备中进行曝光。在曝光期间，借助于投影物镜，包括在掩模中的衍射结构图形被成像到光致抗蚀剂上。由于成像比例通常小于1，因此这种投影物镜通常也被称作减小物镜。

在使光致抗蚀剂显影之后，对晶片进行刻蚀加工，以便根据掩模上的图形使所述层结构化。然后从层的其他部分上去除剩余的光致抗蚀剂。重复所述过程直到所有的层都被施加到晶片上。

在用于制造的投影曝光设备的显影过程中的必要目标之一是能够在晶片上用光刻的方法限定越来越小尺寸的结构。小结构导致高集成密度，并且这对借助于这种设备制造的微结构元件的性能具有有益的效果。

能够被限定的结构的尺寸主要依赖于所使用的投影物镜的分辨率。由于投影物镜的分辨率与投影光的波长成反比，因此提高分辨率的一种方式是使用具有越来越短波长的投影光。当前使用的最短的波长在深紫外(DUV)谱线范围内，即193nm或者有时甚至为157nm。

提高分辨率的另一种方式是基于在存在于投影物镜的像侧上的最后一个透镜与光致抗蚀剂或者将要被曝光的另一光敏层之间的中间空间内引入具有高折射率的浸渍液的想法。被设计为进行浸没操作并因此也被称作浸没物镜的投影物镜可以实现大于1，例如为1.3或1.4的数值孔径。

浸没不仅能够得到高的数值孔径，并因此得到更好的分辨率，另外，而且对焦深也有有益的影响。焦深越大，将晶片准确定位在投影物镜的像平面内的要求就越低。

PCT/EP2004/014727提出了其与浸渍液相邻的像侧表面是凹面弯曲的透镜可以用作像侧的最后光学元件。以这种方式，使入射在像侧上的最后光学元件和浸渍液之间的界面上的光的入射角保持较小，以便能够避免全反射。类似的透镜披露于WO2005/106589A1、WO2005/059654A1、US2006/0066962A1以及所述美国申请要求其权益的美国临时申请中。

由于投影物镜不得不总是被设置在光敏层上方以便从上方将掩模投影到层上，因此这导致了形成在凹面弯曲表面下的腔，在投影曝光设备投入工作之前所述腔需要填充浸渍液。然而，由于流入的液体捕获了凹表面下方不能向上逸出的气泡，因此难以完全填充所述腔。在本文中，术语“空气”也包括任何其他气体(混合物)，并且，特别是围绕投影物镜的保护气体。这种气泡会使投影物镜的成像特性削弱到不能接受的程度。当然，原则上可以简化为将投影物镜的上侧向下反转以填充浸渍液，然后将腔密封并将投影物镜转回到正常操作位置。然而，投影物镜的这种倾斜是投影物镜通常需要的高要求调节精度所严格禁止的。

由WO2004/090956可知，其与迄今所知道的使投影物镜位于光敏层上方的投影曝光设备的非常常规的设置相反。因此，掩模不是从上面而是从下面被投影到光敏层上。然后像侧上的凹面弯曲表面同样向下突，使得在填充所述腔时没有空气能够在所述凹面弯曲表面下方被捕获。然而此处所述的投影曝光设备的设置由于其他原因是不利的，并且还要求对实际上所包括的所有的系统元件进行非常实质性的改造。

另外，怎样能够用液体填满向上突起的光学表面下方的腔的问题不仅在与浸没物镜相关联时会碰到。其在设置与投影物镜或照明系统内的液体相邻的透镜或反射镜的平面或曲面时也被多次提出。例如，在透镜的情况下，可以以这种方式很好地校正色差。如果在顶部限定腔的表面是凹面弯曲的，那么在用液体填充腔时原则上也会遇到与上面所解释的浸没物镜有关的相同的问题。

发明内容

因此，本发明的一个目的是改进光学系统，即微光刻投影曝光设备的投影物镜或照明系统，以便使其在顶部被凹面弯曲的光学表面所限定的腔更易于填充液体。

基于本发明的第一方面，该目的是通过具有模块的光学系统实现的，所述模块能够作为一个单元适配在所述光学系统内以及从其中移出。所述模块包括：构造为完全填充有液体并被密封的腔；以及在投影曝光设备工作期间在顶部限定所述腔的凹面弯曲的光学表面。

这种模块结构使其能够在光学系统之外填充所述模块。在那里，可以使所述模块倾斜，以便能够在所述凹面弯曲的光学表面下方不形成阻碍完全填充的气泡，其可以是折射的或反射的。

这种模块适合于上述用于填充诸如那些位于光学系统内部的腔。由于这种模块的安装和移出在组装和调节上通常需要相当大的费用，因此，为了在制造这种光学系统时第一次用液体填充腔，这种填充选择在根本上是合适的。在将模块安装到光学系统中之后，由于另一方面不得不移出所述模块、使所述模块倾斜、填充并将所述模块重新安装到原始位置，因此应当试图避免空气进入腔内。

在投影曝光设备工作期间，模块所容纳的腔通常由透镜在底部所限定，所述透镜也可以是光学系统的最后光学元件，在投影曝光设备工作期间，光从所述透镜射出。此处，希望使术语“透镜”非常普遍地表示任何透明光学元件，其光学作用表面也可以是平面平行的。尽管如此，(偏移)反射镜也可以取代这种下方的透镜。

模块可以包括其他腔，在使模块倾斜之后，同样也可以使其填充液体。特别是，可以通过透镜使两腔彼此分离。

模块可以包括供应通道，以便将液体引入腔内。当对腔进行填充时，独立于此的排气通道允许容纳在腔内的空气逸出。在填充之后，还可以将排气通道用于将腔内的液体连接到液体回路，通过液体回路可以清洁液体、对液体进行热调节或者以其他方式进行处理。

一个或两个腔例如可以设置在限定所述腔的光学元件的支架内或设置于这些支架之间的中间元件内。

如果光学系统是浸没物镜并且在投影曝光设备工作期间凹面弯曲的光学表面是浸没物镜的最后光学表面，那么所述腔可以通过沿浸没物镜的像平面方向可释放地紧固的封闭元件来密封。

具有这种密封元件的模块使得在浸没物镜之外填充所述腔并在浸没物镜的其他部件上紧固和调节所述模块成为可能。如果随后使密封元件浸没在浸渍液中然后移出，那么周围的浸渍液避免了空气进入腔内。

开始时也可以用不同的液体填充腔，所述不同的液体随后被浸渍液所取代。还可以将具有填满了的腔的模块浸没于不同的液体中，然后用浸渍液将其取代。

例如可以包括透明的平面平行板的密封元件优选连接到模块的连接部件，以便不必从外部插入投影物镜和晶片或者替代板之间的狭窄间隙中，以移出浸没在液体中的密封元件。由于此原因，有利的是密封元件与模块的连接部件之间的连接应当是电、磁或液压机械式可释放的。然后可以借助于合适的控制信号释放密封元件，而不需要在投影物镜上工作的机构，其有时可能包括在先执行的投影物镜的调节。

当密封元件紧固到模块的连接部件时，液压机械连接例如可以通过能够在腔内进行设置的减小的压力来产生。为此目的，可以通过可关闭的管路将腔连接到真空泵。当减小的压力放松时，在其自身的重力作用下密封元件能够降落到模块之外并且被从一方面为投影物镜与晶片、取代板或用于保持浸渍液的凹陷之间的间隙横向取出。在这种情况下有时可能需要增大间隙的高度，例如通过相对于固定的投影物镜使晶片降低。

基于本发明的第二方面，在介绍中所提到的目的通过具有能够被液体完全填充并密封的腔的光学系统来实现，其中在投影曝光设备工作期间凹面弯曲的光学表面在顶部对腔进行了限定。将位移元件设置在腔内并能够移动到位移位置，在位移位置位移元件实质上无缝地挤压在凹面弯曲的光学表面上。

因此位移元件的目的是将位于凹表面下方的气泡排出腔外。在这种情况下位移元件和凹面弯曲的光学表面之间的完全接触不是绝对必须的，因为如果间隙足够窄，对液体起作用的毛细管力将强到将液体吸入间隙内，同时排出仍然残留在那里的空气。在这种情况下间隙的宽度优选不超过0.5mm，并且更优选不超过0.1mm。特别是，位移元件可以具有大于凹面弯曲的表面的曲率数量级的曲率。

位移元件例如可以是薄的可变形膜。这种膜的优点是当产生压降时其发生变形并因此而精确的挤压在弯曲表面上。

为了设置这种压降，膜可以将腔分为与凹面弯曲的光学表面相邻的第一子空间和不与凹面弯曲的光学表面相邻的第二子空间，相对于第一子空间在第二子空间内设置正压力是可能的。

如果膜挤压在凹面弯曲的光学表面上并因此使在那里积累的气泡转移，那么在移除或取出膜时，需要确保一方的膜与另一方的凹面弯曲的光学表面之间的空间填充有液体，以便空气不能再次进入所述中间空间也是必需的。为此目的，例如，可以将液体输送管路设置在凹面弯曲的光学表面下方以便流出输送管路的液体填充膜和凹面弯曲表面之间的空间。

作为这种方式的替换方式，膜也可以部分渗透液体。在已经将膜施加到凹面弯曲光学表面上之后，液体逐渐穿过膜。为了促进液体穿过膜进入，可以在凹面弯曲的光学表面和膜之间的中间空间内设置减小的压力，这一方面带走了仍然剩余的空气残留，另一方面有助于液体穿过膜进入。

作为可替换的方式，位移元件也可以是固体主体，其具有至少实质上与凹面弯曲的光学表面相反形状的表面。利用这种位移元件可以实现特别完全地去除位于凹面弯曲的光学表面下方的空气残留。将液体供应到凹面弯曲的光学表面和位移元件之间的中间空间内可以从外侧或者通过位移元件进行。

由于在位移位置的位移元件通常位于光学系统的光路上，因此在已经使腔填充了液体之后需要确保位移元件的移出。原则上横向移动到光学系统的光路之外是可能的，尽管这可能需要克服不是微不足道的设计问题。

当位移元件由可溶解于液体的材料构成时，这些问题是可以避免的。然后可以将位移元件用液体冲洗到腔外。当位移元件是膜时，这是特别容易做到的。然而，仅当不想要将位移元件重复用于腔的液体填充时，溶解位移元件才是切实可行的。

当在像侧具有向上凹面弯曲的表面的透镜是浸没物镜像侧上的最后光学元件时，也可以使用位移元件。并且在这种情况下，位移元件可以是可变形的膜，其例如通过在面向远离透镜的一侧上产生正压力来发生变形，并由此使存在与凹面弯曲的光学表面下方的空气转移。为此目的可以存在压力空间，所述空间可以填充有气体或液体，并与面向远离透镜一侧上的膜相邻。

原则上，在浸没物镜的末端提供压力空间也是可能的。然而，为此的设计费用是非常大的。因此最简单的是使膜和压力空间保持在用于使基底移动的可移动基底工作台上，所述基底承载有将要被曝光的层。这样绝对不需要对浸没物镜进行结构改进以使膜变形。

使用具有与凹面弯曲的光学表面相反形状的表面的固体主体作为位移元件取代膜也是切实可行的。这种位移元件例如可以通过垂直运动转换到位移位置。

位移元件同样可以保持在可移动基底工作台内的静止位置。

基于本发明的第三方面，在介绍中所提到的目的实现为光学系统包括具有开口的通道，其在投影曝光设备工作之前能够紧邻弯曲表面的顶点设置。由于凹面弯曲的光学表面下方的空气总是积累在顶点下方，因此如果对称轴垂直延伸，那么可以通过通道从那里将空气共同取出腔外。如果通道的开口足够靠近顶点，那么即使非常小的气泡也可以以这种方式有效地去除。

通常，当腔被填满时，在腔内上升的液体会将位于液平面上方的空气排出。然而，通道也可以连接到气泵，用于将在光学表面下方积累的气体泵离。

与使顶点下方的空气通过通道逸出相反，也可以借助于液体泵通过通道将液体引入到光学表面下方。然后引入到顶点下方的液体转移并带走存在于那里的空气。带走气泡的这种方法最好在液体具有高粘度时进行。在这种情况下，气泡通过液体流带走，即使其具有相对低的流速。当将液体通过通道提供到顶点下方并且同时将液体吸出到透镜边缘之外时，气泡将被液体带到透镜边缘之外。

为了在投影曝光设备工作之前将通道定位在透镜下方，以便使开口紧邻顶点设置，通道可以包括第一子部分和通过铰链连接到第一子部分的第二子部分，这些子部分通过铰链可相对于彼此倾斜。然后例如通过透镜支架内的开口将通道推入腔内。然后借助于铰链使外部子部分对准，使得开口紧邻表面的顶点定位。在填充了腔之后，将外部子部分替换使得通道能够再次从腔内移出。

铰链的使用通常需要额外的机构以便能够从外部使两子部分相对于彼此倾斜。因此在可替换实施例中，通道包括具有形状记忆的材料。以这种方式，通过温度改变来改变通道的形状，以实现通道在腔内的对准是可能的。

也可以将通道设计为刚性弯曲管道，其例如能够通过透镜支架内的开口插入到腔内或在浸渍腔的情况下插入到透镜下边缘下方。如果管道的曲率和长度合适，那么在插入运动期间由于其曲率，管道的开口将移动到靠近顶点。

与前述的位移元件类似，通道同样可以溶解于液体，在填充了液体之后这有时更容易将通道移除。

与外部通道相反，提供在透镜内延伸并具有第一开口和第二开口的通道也是可能的，第一开口定位在光学表面的顶点处。这确保了空气能够经过它从腔内逸出或液体能够经过它引入腔内的开口不是恰恰紧邻而是直接位于凹面弯曲表面的顶点处定位。以这种方式能够特别好地释放在那里积累的空气，或者可以特别有利地通过第一开口引入排出或带走在顶点处积累的空气的液体。

当光学系统的光路并不相对于光轴对称延伸时，例如可以是具有离轴场的投影物镜的情况，这种解决方案在根本上是切实可行的。在这种情况下，确保没有光线穿过通道区域内的透镜有时是可能的。

可以将通道的第二开口设置在透镜相对面的顶点处，或者设置在透镜边缘处的外部。在后一情况下，通道沿径向方向延伸穿过透镜。这种构造的优点是收集从第二开口出来的空气或者通过第二开口引入液体的装置不需要设置在透镜上方的空间内。

附图说明

参考下面结合附图的详细描述，可以更容易地理解本发明的各种特征和优点，其中：

图1示出了具有照明系统和投影物镜的投影曝光设备的子午截面的示意性表示；

图2示出了图1所示的投影物镜的像侧端；

图3示出了基于本发明的第一示范性实施例，具有图1所示的投影物镜的像侧端上的最后透镜以及由此限定的腔的模块；

图4示出了图3所示的模块，但是倾斜了90°，并且具有部分填充了浸渍液的腔；

图5示出了在投影物镜的像侧端上的安装状态下的图3的模块；

图6示出了图5的模块，但是具有释放了的封闭元件；

图7示出了在准备工作状态下的图5的模块；

图8示出了在图3所示的模块投入工作之前的必要步骤；

图9示出了基于本发明的第二示范性实施例，具有两个透镜的模块，所述两透镜封闭一腔；

图10示出了图9所示的模块，但是倾斜了90°，并且具有部分填充了液体的腔；

图11示出了在光学系统中处于安装状态的图3的模块；

图12至14示出了图9所示的模块的变型；

图15示出了基于本发明的第三示范性实施例，具有作为封闭元件的膜的浸没物镜的像侧端；

图16示出了基于本发明的第四示范性实施例，具有作为封闭元件的固体主体的浸没物镜的像侧端；

图17和18示出了将液体引入图16所示的凹面弯曲的透镜和所述主体之间的空隙内的位移；

图19至21示出了图16所示的示范性实施例在填充浸渍腔期间各种状态下的变化；

图22至25示出了基于第五示范性实施例在填充液体期间在四种不同状态下被透镜所限定的腔；

图26和27示出了基于第六示范性实施例在填充液体期间在两种不同状态下具有可对准的排气通道的被透镜所限定的腔；

图28和29示出了基于第七示范性实施例在填充液体期间在两种不同状态下具有不同排气通道的被透镜所限定的腔；

图30至32示出了具有排气通道的凹面弯曲透镜的三种不同变型。

具体实施方式

图1以高度简化的示意性表示形式示出了整体用10表示的微光刻投影曝光设备的子午截面。投影曝光设备10具有用于产生投影光的照明装置12，其尤其包括光源14，用16表示的照明光学元件和场平面18。在所表示的示范性实施例中，投影光13具有193nm的波长。使用其他波长，例如157nm或248nm当然也是可能的。

投影曝光设备10还包括包括多种光学元件，诸如透镜、反射镜或滤光元件的投影物镜20。在图1中用三个透镜L1、L2和L3来总体代表它们。将投影物镜20用于对掩模24成像，将所述掩模24设置到投影物镜20的物平面22内的光敏层26上，光敏层26例如可以由光致抗蚀剂构成。光敏层26设置在投影物镜20的像平面28内并施加在支撑体30上。

支撑体30紧固在凹槽形式的顶部开口容器32的底部，其借助于传动装置(其未详细示出)可以平行于像平面28移动。容器32充分填充有浸渍液34，以便使得在投影曝光设备10工作期间，所述投影物镜20在像侧上的最后透镜L3被浸没在浸渍液34中。

通过输送管路36和排出管路38，使容器32以实质上已知并因此不进行详细说明的方式连接到包括循环泵、用于清洁浸渍液34的过滤器以及温度调节装置的处理单元40。

在所表示的示范性实施例中，透镜L3是在像平面28的方向上具有凹面弯曲表面S的厚的新月形透镜。因此在表面S和光敏层26之间形成腔42。

由于最后表面S的凹曲率，在像侧上的最后透镜L3和浸渍液34之间的界面上仅产生相对小的光线入射角。因此在所述界面上的反射损耗相应地小。由此相对于投影物镜20的光轴OA具有大的孔径角的光线也可以对成像作出贡献，由此投影物镜20可以实现达到浸渍液34的折射率n_L的数值孔径。

如果在投影曝光设备10第一次投入工作之前将填充有浸渍液34的容器32从下方拿到投影物镜20跟前，那么浸渍液34将仅填充腔42内相对小的容积。这是由于这样的事实，即包围投影曝光设备10并且同样位于表面S下方的空气在投影曝光设备10投入工作之前没有机会从腔42中逸出。

如果在图1中用44表示浸渍液34的液平面，那么腔42内的空气将稍微被压缩并在凹表面S的顶点的正下方形成气泡，这用V表示。由于其严重削弱了成像质量，因此即使其尺寸非常小，在投影曝光设备10工作期间这种气泡也是无法忍受的。相反，如果将投影物镜20从上面浸入填充有浸渍液34的容器32，会产生同样的结果。

如果仅从一侧填充腔42，那么表面S下方的气泡是不可避免的。这在图2中示意性地示出，其中最后透镜L3和光敏层26用放大的尺寸表示。如果从左侧通过透镜L3和光敏层26之间的间隙沿箭头46所示的方向引入浸渍液34，那么由于毛细作用力，浸渍液会上升到凹表面S，如图2所示，并且界面48用虚线表示。

当进一步填充腔42时，界面48从引入的地方向相对侧移动，如第二界面48′所示。然而，在更晚一些时间，浸渍液封闭了最后透镜L3和光敏层26之间的间隙，使得剩余的空气被捕获在腔42内。因此，仍然剩余在腔42内的空气不能再逸出，但是由于向上推，其积聚在腔的最高点下方，即靠近表面S的顶点V，在这里形成在图2中用48″表示其界面的气泡。

通过开始时使整个投影物镜20上侧向下翻转，然后用浸渍液34填充腔42，通过板或类似物使腔42密封，将投影物镜20翻转回到其工作位置，并在投影物镜20浸入容器34时将板移除，原则上这种气泡的包括是可以避免的。然而，这对投影物镜20的调节精度提出了如此苛刻的要求，使得倾斜的投影物镜20必须完全重新经过调节。由于成本和时间的原因，这是完全不可行的。

下面描述在填充液体时避免在凹面弯曲表面下方包括空气的各种可能方式。

1.可倾斜的模块

图3示出了模块50的示意性轴截面，其形成独立的结构单元，并且能够作为一个整体连接到投影物镜20的其他部件上。模块50包括在像侧上的最后透镜L3、固定透镜L3的环形支架52、中间环54和封闭元件56。封闭元件56包括管座66，平面平行玻璃板57从中心插入管座66。

透镜L3、支架52、中间环54和封闭元件56包围腔42′，所述腔用于保持浸渍液。为了使腔42′密封，提供密封元件58和60，其分别在支架52和中间环54之间以及中间环54和封闭元件56之间延伸。支架52借助于螺钉62、64连接到中间环54。

将封闭元件56和中间环54之间的连接设计为使其能够或者借助于致动器，例如液压机械式、电或磁开关，或者从该侧被释放。在图3中，封闭元件56和中间环54之间的连接用连接销64表示，其可以通过在管座66内的孔径而插入到中间环54内。在最简单的情况下，可以从该侧通过合适的工具将连接销64拔出，以便释放中间环54和封闭元件56之间的连接。如果想要借助于致动器释放连接，那么这种致动器例如可以以实质上已知的方式起连接销64的作用。

中间环54包括具有第一关闭阀70的第一通道68和位于相对侧，具有第二关闭阀的第二通道72，以便通向腔42′的通道68、70的两开口大致上彼此直接相对。然而，原则上，通道68、72的其他设置也是可以想到的。原则上，甚至使两通道68、72开口到腔42′内直接彼此相邻也是可能的。

下面将参考图4至8解释模块50的功能：

首先安装模块50并进行完全调节，使得仅通过第一和第二通道68和72可到达腔42′。

然后使整个模块50倾斜过大致90°，并因此进入使第二通道72的开口至少大致位于腔42′的最高点处的位置，如图4所示。在所述位置中，第一通道68连接到浸渍液34的储蓄池。

然后将两关闭阀70、74打开。借助于泵(图4中未示出)，浸渍液34通过第一通道68泵送到储蓄池之外从下方进入腔42′。在泵送过程中在腔42′内上升的浸渍液34由此取代位于浸渍液34上方的空气。由于大致垂直的设置，积累的空气能够通过第二通道72逸出。

腔42′持续被浸渍液34填充直到浸渍液34上升通过第二通道72，并且在穿过第二关闭阀74之后在第二通道72的末端溢出。这例如可以通过使用合适的检测器来进行检测。然后将两关闭阀70、74关闭。这样，包括通道部分以及关闭阀70、74的整个腔42′没有气泡地被浸渍液34填充。

现在使整个模块50倾斜回到起原始水平位置，如图4的箭头76所示。在所述水平位置，将具有填满的腔42′的模块50紧固并在投影物镜20下端处的连接部件77上进行调节。在图5的示意性表示中，紧固用螺钉连接79、81表示。由于封闭元件56包括透明板57，因此借助于光学测量仪器相对于投影物镜20的其他部件对模块50进行调节也是可能的。

在投影曝光设备10投入工作之前，使模块50和光敏层或可移动基底工作台之间的中间空间填充有浸渍液34。在这种情况下，容器32应当填充有浸渍液34，以便浸渍液34延伸超过中间环的下缘，如图5所看到的那样。

在随后的步骤中，然后将封闭元件56从中间环54手工或借助于可选择提供的致动器释放。封闭元件56由于其更高的密度而从周围的浸渍液34降下，并且能够从投影物镜20和可移动基底工作台之间的中间空间横向取出。这在图6中用箭头78表示。

实际上当移除封闭元件56时，腔42′内的液体34可能向下流出到达均匀填充的高度。然而，由于没有能够取代流出的浸渍液34的空气能够进入腔42′，因此避免了流出。因此只要两关闭阀70、74保持关闭，腔42′就保持完全填充浸渍液34。

在图1所示的示范性实施例中，假设投影物镜20浸渍在填充有浸渍液34的容器32中。然而，为了进行浸渍操作，仅对于像侧上的最后透镜L3和光敏层26之间的狭窄中间空间填充浸渍液34是足够的。如果这是想要的，那么周围的浸渍液34可以从图6所示的状态开始排出，以便达到图7所示的状态。由于没有空气能够从上面流回的事实，此处同样避免了浸渍液34从腔42的完全流出。

投影曝光设备10现在可以开始投影工作了。

图8再次示出了在总体表示上参考图5至7解释的步骤，其中为了简便的目的对于所有方法步骤示出了简单的可移动基底工作台80。

图8的最左边示出了模块50，其旋紧在连接部件77上并且其腔42′填充有浸渍液34。在这点上，假设降低了可移动基底工作台80以避免与封闭元件56的接触。

从左边开始的第二局部表示示出了可移动基底工作台80已经上升并且可移动基底工作台80和投影物镜20之间的中间空间已经填充了浸渍液34之后的状态。可移动基底工作台80具有凹陷28，其用于容纳封闭元件56。

接下来在右侧的局部表示示出了封闭元件56已经从中间环54释放并且下降经过浸渍液34进入到凹陷82内之后的状态。

现在使可移动基底工作台80横向移动，使得具有被保持于其中的封闭元件56的凹陷82横向移出到投影物镜20的工作区域之外。然后进一步移动可移动基底工作台80，使得具有施加到其上的光敏层46的支撑体30进入投影物镜20的工作区域。所述状态示于图8的最右边。

上面参考图3至8所示的示范性实施例解释的原理也可以应用于与液体接触的凹面弯曲表面不是光学系统的最后表面时的情况。这一示范性实施例将在下面参考图9至14进行解释：

在对应于图3的表示中，图9示出了包括具有凹表面S的第一新月形透镜L103和第二新月形透镜L104的模块150。模块150安装在照明系统10或投影物镜20内以便凹表面S向上弯曲。

第一透镜L103保持在支架152内，其经过中间环154连接到用于第二透镜L104的第二支架166上。在图9中，螺钉162、164示出为用于支架152、166和中间环154的普通连接元件。透镜L103、L104、中间元件154和两支架152和166包围腔142，其用于保持液体。为此目的，腔被密封元件158、160密封。中间环154包括具有第一关闭阀170的第一通道168和位于相对面的具有第二关闭阀174的第二通道172。

因此模块150不同于图3所示的模块50实质上在于，可释放地连接到中间环54的封闭元件56被保持在支架166内的透镜L104所取代。

为了用液体填充腔142，使模块150倾斜到图10所示的垂直位置。液体的填充此处仍然优选通过打开两关闭阀170、174并从下面泵送液体134进入腔142内来进行。然后位于液平面上面的空气经过第二通道172逸出。

在进行了填充之后，使模块150倾斜回到图9所示的水平位置，如图10中的箭头176所示。然后将以这种方式填充的模块150以实质上已知的方式安装到光学系统中，并在那里进行调节。模块150的安装状态示于图11中。螺钉连接179、181表示模块150与光学系统的相邻部件177a、177b可调节的连接。

在安装状态的底部限定了腔142的透镜L104也可以是不具备折射光焦度的平面平行板L104′，如图12所示。这种平面平行L104′常常用作浸没物镜的最后光学元件。因此板L104′同时与腔142′内的液体和浸渍液34相邻。

也可以存在与板L104′相邻的可替换的端接板TP，如图13所示。当浸渍液34化学腐蚀使得其损害光学元件的表面时，这种端接板TP是特别有利的。如图12所示，由于取代板L104′要求移除整个模块150，因此通常更简单的是使端接板TP以其他方式接触地结合或紧固在板L104′上。那么一旦端接板TP由于与浸渍液34的接触而显示出初始的劣化现象，就可以非常容易地替换端接板TP。

图14示出了端接板TP并不与平面平行板L104′直接相邻，而是与其间隔以相同的液体填充中间空间142″的示范性实施例。因此，在本实施例中，模块150′增加端接板TP以及中间环154″，所述中间环154″使端接板TP与板L104′相分离，并横向包围第二腔142″。在安装到投影物镜20之前，可以以前述方式将整个模块150转换为垂直位置，在所述位置两腔142′、142″可以被填充而不捕获空气。然而，由于第二腔142″在顶部没有被凹表面限定，因此只要存在用于使紧邻板L104′下缘的空气排出的通道，那么其也能够在图14所示的水平位置被填充。

2.位移元件

在类似于图8的表示中，图15示出了基于本发明的第二方面的进一步示范性实施例。

图15示出了浸没物镜220的物侧截面，其原则上与图1所示的浸没物镜20相类似地构造。像侧上的最后透镜L203具有在像侧上的凹表面S，其与透镜支架252和可移动基底工作台280一起限定了腔242。在投影物镜220工作期间希望使腔242填充浸渍液。

可移动基底工作台280包括压力腔288，其通过压力通道290连接到压力泵(图15中未示出)。沿投影物镜220的方向，压力腔228通过可变形膜292密封地封闭。

为了致动压力泵，在压力腔288内设置正压力。在图15中，用从左边的第二局部表示内的箭头294表示将气体提供到压力腔288内。膜292由于在压力腔288内占优势的正压力而变形，将其几乎无缝地挤到像侧最后透镜L203的表面S上。由此包括在腔242内的空气在膜292的作用下转移。转移的空气经过透镜支架252和膜292之间的环绕间隙逸出。作为其替换，包括在透镜支架252内的通道也可以打开，以便使空气经过所述通道逸出。第一通道268和第二通道272在图15的示范性实施例中提供，两者均可用于此目的。然后使浸渍液在压力的作用下经过第一通道268进入到透镜支架252和膜292之间的狭窄间隙内。同时打开第二通道272。当浸渍液流入第一通道268时，其取代仍然剩余在通道开口的水平处的空气残余，其能够通过第二通道272逸出。然后逐渐减小压力腔288内的正压力，使得经过第一通道268流入的浸渍液将膜292再次压回，直到其大致到达图15中从左边起第三局部表示中所示的位置。现在整个腔242都填充了浸渍液34。

然后横向移动可移动基底工作台280，使得具有位于其上的膜292的压力腔288被光敏层26的支撑体30取代。现在投影曝光设备准备好了投影工作。

图16示出了另一个的示范性实施例，其同样利用了位移元件的原理。其不同于图15所示的示范性实施例主要在于，在正压力的作用下能够变形的膜292被固体位移体K取代。面对透镜L203，位移体K具有实质上以与透镜L203的凹面弯曲表面S互补的方式设计的凹表面292′。位移体K如图16中的双箭头296所示可以借助于致动器沿垂直方向移动，所述致动器用弹簧驱动器288′表示。

透镜L203下方的腔242的填充以与上面参考图15所示的示范性实施例所解释的相同的方式进行：

首先，借助于致动器288′将位移体K移出可移动基底工作台280之外，直到凸表面292′直接挤在透镜L203的凹表面S上。这一状态在图16从左边的第二局部表示中示出。在使位移体K上升的同时，位于腔242内的空气如上面详细描述的那样被转移。

现在在压力作用下经过第一通道268引入浸渍液34。因此，任何仍然存在的剩余空气将经过第二通道272被转移并释放。然后或者通过使用致动器288′的驱动，或者仅由于在压力下流入的浸渍液，使位移体K移回到其初始较下方的行进位置，如图16的第三局部表示所示。然后横向移动可移动基底工作台280′，使得光敏层26的支撑体30与浸渍液34相接触。

对于位于凹面的弯曲表面S下方的空气的完全转移，位移体K必须不接触表面S。就凹面弯曲表面S以高精度制造而言，这是非常重要的，由此在与位移体K接触时可能造成破坏。

图17示出了在从侧面引入浸渍液34而在透镜L203和位移体K的两相互相对的表面S和292′之间不存在接触时，在最后透镜L203和位移体K之间发生的情况。如果进一步引入浸渍液34超过图17所示的填充阶段，那么浸渍液34和相邻表面S、292′之间的毛细管力的作用使浸渍液34被牵引进入表面S、292′之间剩余的间隙内，并且尽管那里存在的残余空气向上推，仍然使其转移。然后例如通过第二通道272(见图16)可以从腔242释放残余的空气。在取出位移体K之前，由此如图18所示，在两表面S和292′之间的整个间隙填充有浸渍液34。

图19至21示出了图16所示的示范性实施例的一个变型的非常示意性的截面表示，其中浸渍液34并不通过多个通道提供到透镜支架252内，而是通过包括在位移体K′内的通道268′。位移体K′开始位于较下方的行进位置，在那里位移体可以相对于透镜L203对准。这一状态示于图19。

现在将位移体带到较上方的行进位置，如图20所示。因此在正压力的作用下经过通道268′流入到透镜L203和位移体K′之间的中间空间内的浸渍液使仍然剩余的残留空气从表面S的顶点转移。

与图16所示的示范性实施例不同，在填充之后，中间空间242可以通过封闭板298关闭。为此目的，在填充之后位移体K′已经转换回到较下方的行进位置之后，使封闭板298从该侧在透镜L203下方移动。用封闭板298关闭腔242使将周围的液体完全移除成为可能，并使可选择地进行浸没物镜220的传输成为可能。

对于进一步的示范性实施例，图22至25示出了各个方法步骤，其与两透镜L303、L304之间的腔342能够借助于可变形膜392填充液体334，而在透镜L303的凹表面S下方没有形成气泡的方式相关。

为此目的，将膜392紧固在中间环354上，并由此将腔342分为上腔342a和下腔342b。

经过下透镜L304的支架366内的第一通道368，现在首先将液体334引入下腔342b中直到其完全填满。膜392对空气是可渗透的，由此由于填充而从下腔342b移动的空气能够穿过膜392并经过第二通道372从上腔342a出来。

当下腔342b已经填充了液体334时，如图22所示，在压力作用下经过第一通道368引入更多的液体334。由于下腔342b内的正压力，膜392变形并因此使上腔342a内的空气转移，其经过第二通道372逸出。这一过程持续到膜392与透镜L303的凹面S接触，如图23所表示的。

在随后的步骤中更多的液体334经过容纳在透镜L303的透镜支架352内的第三通道368′被引入到保留在现在的凹面弯曲膜392、透镜L303、中间环354和透镜支架352之间的环形空间398内。当环形通道398被填充时，液体334使空气从环形通道398转移，其经过第二通道372排出(见图24)。一旦液体进入第二通道372，化学损害膜392的液体经过第三通道368′被引入，使得膜溶解于所述液体并能够通过第二通道372利用所述液体被冲洗出现在不再是分隔的腔342。然后可以用其他液体取代用于破坏膜392的液体，其在投影曝光设备(参考图25)工作期间用于保持在两透镜L303和L304之间。

3.可对准的通道

图26和27示出了基于本发明第三方面的示范性实施例，其中当腔填充有液体时，通道的开口直接位于凹面弯曲的表面的顶点下方。

与第二透镜L404和中间环454一起，具有凹面弯曲的表面S的第一透镜L403包围了用于填充液体434的腔442。支架环454包括第一通道468和第二通道472，两者均开口在腔442内。第二通道472被分为两部分472a、472b，其通过铰链473彼此连接。第二部分472b通过致动机构(未在图26中详细示出)对准，如图26中的箭头475所示。在对准状态下，如在图27中所看到的，第二部分472b的开口477位于表面S的顶点V的正下方。

如果现在通过第一通道468将液体434引入腔442内，那么其将转移表面S下方存在的空气。然而，这可能通过位于顶点V下方的对准部分472b的开口477逸出。一旦腔442完全填充了液体434，那么借助于致动机构，对准部分472b回到其水平位置，如图26所示。现在将整个第二通道472从中间环454内的孔中取出，直到可倾斜部分472b不再位于光束路径上。在投影曝光设备工作期间，第二通道472可以连接到处理单元，以便液体434能够渐进地循环，同时被清洁并进行热调节。

在对应于图26和27的表示中，图28和29示出了变型，其中用于排气的通道的开口并不通过对准铰链上的部分来定位。在图中用472′表示的这种通道改为弯曲的，并在中间环454中以同样弯曲导引的方式保持。如果现在沿箭头479的方向将通道472′插入到腔442内，那么通道472′的开口477′可以设置在透镜L403的顶点V的正下方。在其他方面，图28和29的示范性实施例对应于图26和27的示范性实施例的功能。

在图26至29所示的示范性实施例的变型中，通道也可以包括具有形状记忆的材料。所述术语表示当温度改变时以预定的方式改变其形状的材料。特别是，在这种情况下，将通道直地引入腔内，然后通过改变温度使通道弯曲，使得其开口到达凹面弯曲透镜的顶点正下方是切实可行的。

4.透镜内的通道

图30至32示出了基于本发明的第四方面的另一个示范性实施例，其中用于排气的通道提供在包括向上凹面弯曲的表面S的透镜内。

在图30所示的示范性实施例中，排气通道572沿透镜L503的对称轴延伸。如果浸渍液534经过通道568从下方引入表面S下面的腔542内，那么存在于液体平面上方的空气可以经过透镜L503内的排气通道572逸出。特别是当光路的细节表明没有光线或者至多非常少的光线穿过排气通道572的区域内的透镜L503时，这是切实可行的。

在图31所示的示范性实施例中，尽管此处用572′表示的排气通道开口在凹面弯曲的表面S的顶点V处，但是仍然将排气通道572′设计为从透镜L503′的周围在其相对端逸出。例如，当空气不应当进入透镜L503上方的区域时，横向释放是有利的。

图32示出了一种变型，其类似于图30所示的透镜L503，用572″表示的排气通道沿透镜L503″的对称轴延伸。然而，此处，通道572″不仅用于排气，还用于填充腔542，并因此继续作为透镜L503″外部的管。通过通道572″引入的浸渍液534在表面S的顶点V处流出并开始将其打湿。然而，在这种情况下，仅使浸渍液534缓慢流动，使得存在于表面S下方的空气能够同时经过通道572″排出。

通过实例的方式已经给出了优选实施例的上述描述。根据所给出的公开内容，本领域技术人员不仅理解本发明及其所具有的优点，而且也清楚地发现了对所披露的结构和方法的各种改变和改进。因此，申请人旨在覆盖所有落入所附权利要求及其等效物所限定的本发明的精神和范围内的改变和改进。

Claims (56)

1.一种微光刻投影曝光设备(10)的光学系统，其包括模块(50；150)，所述模块(50；150)作为一个单元可以适配在所述光学系统内以及从其中移出，所述模块包括：

a)构造为完全填充有液体(34；134)并被密封的腔(42；142)；以及

b)在投影曝光设备(10)工作期间在顶部限定所述腔的凹面弯曲的光学表面(S)。

2.根据权利要求1的光学系统，其中在投影曝光设备工作期间所述腔(142)在底部被透镜(L104；L104′)限定。

3.根据权利要求2的光学系统，其中所述透镜是平面平行的板(L104′)。

4.根据权利要求2或3的光学系统，其中所述透镜(L104′)是所述光学系统的最后光学元件，在投影曝光设备工作期间光从所述透镜射出。

5.根据权利要求2或3的光学系统，其中所述透镜(L104′)的面向远离所述腔的表面与另一腔(142″)相邻，所述另一腔在投影曝光设备工作期间被设置在所述腔的下方，并被构造为在投影曝光设备工作期间完全填充有液体。

6.根据权利要求5的光学系统，其中所述另一腔(142″)在底部被所述光学系统(20)的最后光学元件(TP)所限定，在所述投影曝光设备(10)工作期间光从所述最后光学元件(TP)射出。

7.根据权利要求2至6之一的光学系统，其中

a)凹面弯曲的光学表面(S)是被保持在第一透镜支架(152)内的第一透镜(L103)的一部分；

b)在所述投影曝光设备(10)工作期间在底部限定所述腔(142)的第二透镜(L104)被保持在第二支架(166)内，以及其中

c)所述第一支架(152)和所述第二支架(166)彼此密封地连接。

8.根据权利要求7的光学系统，其中中间元件(154)被设置在所述第一支架(152)和第二支架(166)之间。

9.根据权利要求8的光学系统，其中所述中间元件(154)是环形的。

10.根据前述权利要求中一项的光学系统，其中所述模块(150)包括用于将液体引入所述腔(142)内的供应通道(168)。

11.根据前述权利要求中一项的光学系统，其中所述模块(150)包括用于将空气从所述腔(142)排放的排气通道(172)。

12.根据权利要求7至9之一以及根据权利要求10和11的光学系统，其中所述供应通道(168)和排气通道(172)被形成在所述中间元件(154)内。

13.根据前述权利要求中一项的光学系统，其被构造作为用于将掩模(24)内所包含的结构成像到像平面(21)上的投影物镜(20)。

14.根据权利要求1的光学系统，其中

a)所述光学系统是所述投影曝光设备(10)的浸没物镜(20)，

b)在所述投影曝光设备(10)工作期间，所述凹面弯曲的光学表面(S)是所述浸没物镜(20)的最后光学表面，以及其中

c)所述腔(42)沿所述浸没物镜(20)的像平面(28)的方向被可释放地紧固的封闭元件(56)所密封。

15.根据权利要求14的光学系统，其中所述液体是浸渍液(34)。

16.根据权利要求14或15的光学系统，其中所述封闭元件(56)至少部分透明。

17.根据权利要求14至16之一的光学系统，其中所述封闭元件(56)包括平面平行的板。

18.根据权利要求14至17之一的光学系统，其中所述封闭元件(56)与所述模块(50)的连接部件(77)的连接是电、磁或液压机械式可释放的。

19.根据权利要求14至18之一的光学系统，其中所述封闭元件(56)构造为通过能够在所述腔(42)内设置的减小的压力紧固到所述连接部件(77)上。

20.根据权利要求14至19之一的光学系统，其中所述腔(42)通过可关闭的管道(68)可连接到储液池。

21.一种微光刻投影曝光设备的浸没物镜，其包括：

a)透镜(L3)，其在像侧上具有凹面弯曲表面(S)、并且为在所述像侧上的最后光学元件，

b)用于保持所述透镜(L3)的透镜保持器(52)，

c)封闭元件(56)，可释放地直接或经过中间元件(54)可连接到所述透镜保持器(52)，以便形成用于在所述透镜(L3)和所述封闭元件(56)之间保持液体(34)的可密封腔(42′)，

其中所述透镜保持器(52)和连接到它的所述封闭元件(56)一起形成模块(50)，所述模块(50)构造为作为一个单元适配入所述浸没物镜以及从其中移出。

22.根据权利要求21的浸没物镜，其中所述封闭元件(56)与所述模块(50)的连接部件(77)的连接是电、磁或液压机械式可释放的。

23.一种微光刻投影曝光设备(10)的光学系统(12，20)，包括：

a)腔(242；342)，其被构造为完全填充有液体(34)并被密封，

b)凹面弯曲的光学表面(S)，其在所述投影曝光设备(10)工作期间在顶部限定所述腔(242；342)，以及

c)位移元件(292；K；K′；392)，其被设置在所述腔(242；342)内并可移动到位移位置，在所述位移位置，所述位移元件(292；K；K′；392)实质上无缝地挤压在所述凹面弯曲的光学表面(S)上。

24.根据权利要求23的光学系统，其中当所述位移元件在所述位移位置时，在所述凹面弯曲的光学表面(S)和所述位移元件(292；K；K′；392)之间保留了具有小于0.5mm的宽度的间隙。

25.根据权利要求24的光学系统，其中所述间隙的宽度小于0.1mm。

26.根据权利要求23至25之一的光学系统，其中所述位移元件(292；K；K′；392)具有大于所述凹面弯曲表面的曲率数量级的曲率。

27.根据权利要求23至26之一的光学系统，其中所述位移元件(292；392)是可变形的膜。

28.根据权利要求27的光学系统，其中所述膜(392)将所述腔分为与所述凹面弯曲的光学表面(S)相邻的第一子空间(342a)和不与所述凹面弯曲的光学表面(S)相邻的第二子空间(342b)，并且其中所述光学系统构造为相对于所述第一子空间(342a)在所述第二子空间(342b)内设置为正压力。

29.根据权利要求27或28的光学系统，其中所述膜(392)至少部分对气体可渗透。

30.根据权利要求27至29之一的光学系统，其中所述膜(392)至少部分对所述液体可渗透。

31.根据权利要求23至26之一的光学系统，其中所述位移元件(K；K′)是具有与所述凹面弯曲的光学表面相反的形状的表面的固体主体。

32.根据权利要求31的光学系统，其中所述位移元件(292；K；K′；392)构造为用于通过横向运动移到所述光学系统(12；20)的光路之外。

33.根据权利要求23至32之一的光学系统，其中所述位移元件(292；K；K′；392)是可溶于液体的。

34.一种微光刻投影曝光设备，包括：

a)具有透镜(L203)的浸没物镜(20)，所述透镜(L203)具有在像侧向上凹面弯曲的表面(S)并且是在所述像侧上的最后光学元件，

b)可移动到位移位置的位移元件(292；K；K′)，在所述位移位置所述位移元件(292；K；K′)实质上无缝地挤压在所述凹面弯曲的光学表面(S)上。

35.根据权利要求34的投影曝光设备，其中当所述位移元件在位移位置时，在所述凹面弯曲的光学表面(S)和所述位移元件(292；K；K′)之间保留了具有小于0.5mm宽度的间隙。

36.根据权利要求35的投影曝光设备，其中所述间隙的宽度小于0.1mm。

37.根据权利要求34至36之一的投影曝光设备，其中所述位移元件(292；K；K′)具有大于所述凹面弯曲表面的曲率数量级的曲率。

38.根据权利要求34至37之一的投影曝光设备，其中所述位移元件是可变形的膜。

39.根据权利要求38的投影曝光设备，其中可以将正压力施加到所述膜(292)的面向远离所述透镜(L203)的一侧上。

40.根据权利要求39的投影曝光设备，其包括适于以液体填充的压力空间(288)，所述压力空间与所述膜(292)的朝向远离所述透镜(L203)的一侧相邻设置。

41.根据权利要求40的投影曝光设备，其中所述膜(292)和所述压力空间(288)被容纳在可移动基底工作台(280)中，所述可移动基底工作台(280)用于使带有将要被曝光的层(26)的基底(30)移动。

42.根据权利要求40或权利要求41的投影曝光设备，其中所述液体是可从所述膜(292)部分渗透的浸渍液(34)。

43.根据权利要求34至37之一的投影曝光设备，其中所述位移元件是具有与所述凹面弯曲的光学表面(S)相反的形状的表面(292′)的固体主体(K；K′)。

44.根据权利要求43的投影曝光设备，其中所述位移元件(K；K′)通过垂直运动可移动到所述位移位置。

45.根据权利要求43或44的投影曝光设备，其中所述位移元件(K)被保持在可移动基底工作台(280)内的静止位置，所述可移动基底工作台(280)用于使带有将要被曝光的层(26)的基底(30)移动。

46.一种微光刻投影曝光设备的光学系统，其包括：

a)光学表面(S)，其在所述投影曝光设备工作期间凹面向上弯曲并具有顶点(V)，

b)具有开口(477；477′)的通道(472；472′)，所述开口适用于在所述投影曝光设备工作之前紧邻所述顶点(V)定位。

47.根据权利要求46的光学系统，其中所述通道(472；472′)连接到气泵，用于将在所述光学表面(S)下方积累的气体泵出。

48.根据权利要求46或47的光学系统，其中所述通道(472；472′)连接到液体泵用于将液体(434)引入到所述光学表面(S)下方。

49.根据权利要求46至48之一的光学系统，其中所述通道(472)包括第一子部分(472a)和通过铰链(473)连接到所述第一子部分的第二子部分(472b)，所述子部分(472a，472b)通过所述铰链(473)可相对于彼此倾斜。

50.根据权利要求46至48之一的光学系统，其中所述通道包括具有形状记忆的材料。

51.根据权利要求46至48之一的光学系统，其中所述通道(472′)是刚性弯曲管。

52.根据权利要求46至51之一的光学系统，其中所述通道(472′)可溶解于液体。

53.一种微光刻投影曝光设备的光学系统，其包括透镜(L503；L503′，L503″)，所述透镜(L503；L503′；L503″)具有

a)光学表面(S)，其在所述投影曝光设备工作期间凹面向上弯曲，并具有顶点(V)，

b)通道(572；572′；572″)，其在所述透镜内延伸并具有第一开口和第二开口，所述第一开口位于在所述光学表面(S)的所述顶点(V)处。

54.根据权利要求53的光学系统，其中所述通道(572)与所述透镜(L503)的对称轴共轴延伸。

55.根据权利要求53或54的光学系统，其中所述第二开口被设置在所述透镜(L503′)的边缘处。

56.用于以液体(34)完全填充密封腔(42；142)的方法，其中所述腔是模块(50；150)的一部分，所述模块(50；150)被构造作为微光刻投影曝光设备(10)的光学系统(12，20)的设计单元，并且其中所述模块具有凹面弯曲的光学表面(S)和用于释放在所述腔内包含的气体的排气开口，所述方法包括如下步骤：

a)在所述光学系统之外使所述模块(50；150)倾斜，使得所述排气开口朝上；

b)用所述液体(34)填充所述腔；

c)将所述模块(50；150)适配入所述光学系统，使得所述凹面弯曲的光学表面(S)朝上。

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