CN101344712A - 光源装置、图像显示装置及监视装置 - Google Patents
光源装置、图像显示装置及监视装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101344712A CN101344712A CNA2008101303400A CN200810130340A CN101344712A CN 101344712 A CN101344712 A CN 101344712A CN A2008101303400 A CNA2008101303400 A CN A2008101303400A CN 200810130340 A CN200810130340 A CN 200810130340A CN 101344712 A CN101344712 A CN 101344712A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- light
- wavelength
- mentioned
- select
- zone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 137
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 134
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 46
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 39
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 15
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 9
- 230000008520 organization Effects 0.000 claims description 5
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000009466 transformation Effects 0.000 claims description 2
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 abstract 1
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 15
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 6
- 206010047571 Visual impairment Diseases 0.000 description 5
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 4
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- KPHWPUGNDIVLNH-UHFFFAOYSA-M diclofenac sodium Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)CC1=CC=CC=C1NC1=C(Cl)C=CC=C1Cl KPHWPUGNDIVLNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 239000012774 insulation material Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 2
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000005465 channeling Effects 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000011514 reflex Effects 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/02—Details
- G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/02—Details
- G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
- G01J1/0407—Optical elements not provided otherwise, e.g. manifolds, windows, holograms, gratings
- G01J1/0414—Optical elements not provided otherwise, e.g. manifolds, windows, holograms, gratings using plane or convex mirrors, parallel phase plates, or plane beam-splitters
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/02—Details
- G01J1/08—Arrangements of light sources specially adapted for photometry standard sources, also using luminescent or radioactive material
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
- G03B21/14—Details
- G03B21/20—Lamp housings
- G03B21/2006—Lamp housings characterised by the light source
- G03B21/2013—Plural light sources
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
- G03B21/14—Details
- G03B21/20—Lamp housings
- G03B21/2006—Lamp housings characterised by the light source
- G03B21/2033—LED or laser light sources
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
- G03B21/14—Details
- G03B21/20—Lamp housings
- G03B21/208—Homogenising, shaping of the illumination light
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B33/00—Colour photography, other than mere exposure or projection of a colour film
- G03B33/10—Simultaneous recording or projection
- G03B33/12—Simultaneous recording or projection using beam-splitting or beam-combining systems, e.g. dichroic mirrors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N9/00—Details of colour television systems
- H04N9/12—Picture reproducers
- H04N9/31—Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM]
- H04N9/3102—Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM] using two-dimensional electronic spatial light modulators
- H04N9/3105—Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM] using two-dimensional electronic spatial light modulators for displaying all colours simultaneously, e.g. by using two or more electronic spatial light modulators
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N9/00—Details of colour television systems
- H04N9/12—Picture reproducers
- H04N9/31—Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM]
- H04N9/3129—Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM] scanning a light beam on the display screen
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N9/00—Details of colour television systems
- H04N9/12—Picture reproducers
- H04N9/31—Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM]
- H04N9/3141—Constructional details thereof
- H04N9/315—Modulator illumination systems
- H04N9/3161—Modulator illumination systems using laser light sources
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/02—Details
- G01J1/0252—Constructional arrangements for compensating for fluctuations caused by, e.g. temperature, or using cooling or temperature stabilization of parts of the device; Controlling the atmosphere inside a photometer; Purge systems, cleaning devices
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/02—Details
- G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
- G01J1/0488—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts with spectral filtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/068—Stabilisation of laser output parameters
- H01S5/0683—Stabilisation of laser output parameters by monitoring the optical output parameters
- H01S5/0687—Stabilising the frequency of the laser
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/14—External cavity lasers
- H01S5/141—External cavity lasers using a wavelength selective device, e.g. a grating or etalon
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
- H01S5/4087—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar emitting more than one wavelength
Abstract
本发明提供使多个激光之间的相干性减低、抑制了斑点噪声的光源装置、图像显示装置及监视装置。其具备:多个发光元件(11a~11f),发出光;波长选择元件(12),具有对从该多个发光元件(11a~11f)所射出的光分别进行选择的多个光选择区域(A~F),使从多个发光元件(11a~11f)所射出的光有选择地反射;状态检测机构(21),检测该波长选择元件(12)的多个光选择区域(A~F)的状态;以及状态变化机构(22),相应于由该状态检测机构(21)检测到的多个光选择区域(A~F)的状态,使波长选择元件(12)的光选择区域(A~F)的状态发生变化,以便由多个光选择区域(A~F)选择的光的波长相互不同。
Description
技术领域
本发明涉及光源装置、图像显示装置及监视装置。
背景技术
在近年的投影型图像显示装置中,一般情况下作为光源使用超高压水银灯等的放电灯。但是,这种放电灯存在:有时寿命比较短、难以瞬间点亮、色再现性范围窄以及从灯放射出的紫外线使液晶光阀劣化等的问题。因此,人们提出了一种取代这种放电灯,而使用照射单色光的激光光源的投影型图像显示装置。但是,激光光源虽不存在上述的问题,另一方面其缺点为具有干涉性。据此,由于在被投影激光的被投影面上干涉条纹作为斑点噪声而表现出来,使图像劣化,因而为了使之显示高清晰的图像,需要采用斑点噪声的应对方法。
作为去除斑点噪声的方法,存在下述方法:通过具备多个发光元件,将具有设计上依次稍微不同的中心波长的发光元件阵列化,获得与使用1个发光元件的情形相比、较宽的光谱频带,而能够使斑点噪声减低。
专利文献1:特表2004-503923号公报
另外,专利文献1所述的去除斑点噪声的方法其前提为,使用不需要外部谐振器结构的光源,也就是直接输出激光的光源。确切地说,在不需要外部谐振器结构的光源的场合,有抑制斑点噪声的效果。
这里,在具备外部谐振器的光源的情况下,基本构成要件是发光元件和波长选择元件(谐振器镜体)。另外,即便在使用多个发光元件时,也要考虑成本和组装的容易程度,一般使用选择单一波长的波长选择元件。在该波长选择元件中,为了使之进行激光激发,需要将要进行选择的波长频带变窄。其结果为,像专利文献1所述的那样,即使从阵列光源射出的光各自的波长具有不一致,也通过波长选择元件来选择单一的波长,包括波长选择元件在内的光源整体的相干性没有下降。
发明内容
本发明是为了解决上述问题而做出的,其目的为,提供使多个激光彼此之间的相干性减低、抑制了斑点噪声的光源装置、图像显示装置及监视装置。
为了达到上述目的,本发明提供下面的方法。
本发明的光源装置其特征为,具备:多个发光元件,发出光;波长选择元件,具有对从该多个发光元件所射出的光分别进行选择的多个光选择区域,使从上述多个发光元件所射出的光的一部分有选择地反射;状态检测机构,检测该波长选择元件的多个光选择区域的状态;以及状态变化机构,相应于由该状态检测机构检测到的上述多个光选择区域的状态,使上述波长选择元件的光选择区域的状态发生变化,而使得由上述多个光选择区域选择的光的波长相互不同。
在本发明所涉及的光源装置中,从多个发光元件所射出的光在波长选择元件中,预定的选择波长的一部分的光进行反射,在发光元件和波长选择元件之间产生谐振而被放大,剩余的光以不被放大的状态透射。另外,状态检测机构检测波长选择元件的多个光选择区域的状态,相应于该检测到的状态,状态变化机构使波长选择元件的光选择区域的状态发生变化,以使得由多个光选择区域选择的光的波长相互不同。据此,按每个光选择区域被选择的光的波长不同。从而,即使从多个发光元件射出的光的峰值波长相同,也由于从发光元件射出的光具有某种程度的频带宽度,因而在频带宽度内不同波长的光被放大并被取出。也就是说,从发光元件所射出的各光若在波长选择元件的各个光选择区域产生了谐振,则在光源和波长选择元件之间的谐振器镜体结构中被放大,致使从各区域射出的光的波长不同。从而,本发明因为不像以往那样由波长选择元件射出单一波长的光,所以透射波长选择元件后的光的波长频带在整体上得到扩大。据此,因为从波长选择元件的各区域所射出的放大光彼此之间的相干性得以减低,所以能够抑制斑点噪声。
另外,因为相应于由状态检测机构检测到的状态,由状态变化机构使波长选择元件的光选择区域的状态发生变化,所以能够可靠地使从多个光选择区域射出的光的波长不同。
另外,本发明的光源装置优选的是,上述状态检测机构及上述状态变化机构分别按上述波长选择元件的每个光选择区域设置。
在本发明所涉及的光源装置中,在波长选择元件中,按多个光选择区域的每个分别设置状态检测机构及状态变化机构。此时,由状态检测机构检测波长选择元件的各个光选择区域的状态,相应于该检测到的状态,使波长选择元件的多个光选择区域各自的状态发生变化,以便由各个光选择区域选择的光的波长相互不同。也就是说,因为可以按每个光选择区域使状态发生变化,所以从波长选择元件射出的输出波长分布变化的自由度增高。从而,能够使从发光元件所射出的光的波长和相对应的波长选择元件的各光选择区域所选择的光的波长一致。据此,即使发光元件因制造误差等而在输出波长中存在不一致,也能够减低斑点噪声,并且使从波长选择元件射出的光的利用效率得到提高。
还有,也可以设置多个状态变化机构,并且状态变化机构按多个光选择区域的每个设置。该结构的情况下,使状态发生变化以便由多个光选择区域选择的光的波长相互不同即可。
另外,本发明的光源装置优选的是,通过上述状态变化机构使上述多个光选择区域的状态随时间发生变化。
在本发明所涉及的光源装置中,由状态变化机构使多个光选择区域的状态随时间发生变化。据此,从各光选择区域射出的光的斑点图形随时间复杂地变化。因为随着其变化,被视觉辨认的斑点(因干涉产生的斑点图样)进行移动,所以在人的眼睛残留图像时间内斑点的图形得以积分平均化,能够减少斑点的发生。
另外,本发明的光源装置优选的是,具备光强度检测机构,分别检测从上述多个光选择区域射出的光的强度;根据由该光强度检测机构检测到的光的强度,来分别调整从上述多个发光元件射出的光的强度。
在本发明所涉及的光源装置中,通过根据由光强度检测机构检测到的光的强度,分别调整从多个发光元件射出的光的强度,可以使从多个光选择区域射出的光的强度变得均匀。与从波长选择元件的各区域射出的光的强度不均匀的情形相比,像本发明那样的光的强度均匀的情况下,将增大使波长不同时的斑点减少的效果。也就是说,能够使从波长选择元件射出的光的相干性进一步有效下降。
另外,本发明的光源装置优选的是,上述状态检测机构是温度检测机构,检测上述波长选择元件的光选择区域的温度;上述状态变化机构是温度变化机构,相应于由上述温度检测机构检测到的温度,使上述波长选择元件的光选择区域的温度相互不同。
在本发明所涉及的光源装置中,因为由温度变化机构使波长选择元件的每个光选择区域的温度不同,所以相应于各光选择区域的温度,波长选择元件内部晶格的间隔进行变化。据此,波长选择元件在各光选择区域选择的光的波长不同。从而,从多个发光元件射出并且从波长选择元件的各光选择区域所射出的各光,成为波长不同的光。这样,不用对波长选择元件施加外力,只是改变各光选择区域的温度,就使波长选择元件内部的周期晶格的间隔变化。据此,因为利用更为简单的结构使在波长选择元件的各区域反射并被放大后的光彼此之间的相干性减低,所以能够抑制斑点噪声。
另外,本发明的光源装置优选的是,上述状态检测机构是应变检测机构,检测上述波长选择元件的光选择区域的应变大小;上述状态变化机构是应变施加机构,相应于由上述应变检测机构检测到的应变大小,使上述波长选择元件的光选择区域的应变大小相互不同。
在本发明所涉及的光源装置中,作为应变施加机构,例如使用压电元件来施加应变,以便按波长选择元件的每个区域而使应变不同。据此,因为波长选择元件内部晶格的间隔发生变化,所以波长选择元件在每个区域中使之反射的波长不同。从而,从多个发光元件所射出的光,若由波长选择元件反射,发生了谐振,则当从各区域射出时,被放大后的光成为不同的波长。从而,因为利用简单的结构,使透射波长选择元件各区域后的光之间的相干性减低,所以能够谋求低成本化,并抑制斑点噪声。
还有,也可以设置多个应变施加机构,并且应变施加机构按多个光选择区域的每个分别设置。该结构的情况下,施加应变以便由多个光选择区域选择的光的波长相互不同即可。
本发明的光源装置其特征为,具备:多个发光元件,发出光;波长变换元件,具有从该多个发光元件所射出的光分别通过的多个光通过区域,将从上述多个发光元件所射出的光之中的至少一部分波长的光分别变换为预定波长的光;波长选择元件,具有分别选择从该波长变换元件的多个光通过区域所射出的光的多个光选择区域,使从上述波长变换元件射出的光的一部分朝向上述发光元件有选择地反射;变换侧状态检测机构,检测上述波长变换元件的多个光通过区域的状态;变换侧状态变化机构,相应于由该变换侧状态检测机构检测到的上述多个光通过区域的状态,使上述波长变换元件的光通过区域的状态发生变化,以便由上述多个光通过区域变换的光的波长相互不同;选择侧状态检测机构,检测上述波长选择元件的多个光选择区域的状态;以及选择侧状态变化机构,相应于由上述选择侧状态检测机构检测到的上述多个光选择区域的状态,使上述波长选择元件的光选择区域的状态发生变化,以便由上述多个光选择区域选择的光的波长相互不同。
在本发明所涉及的光源装置中,例如在使之射出绿色光时,作为发光元件使用1060nm波长的光源,在由波长变换元件将从发光元件所射出的光的波长减半之后,作为波长选择元件使用使绿色光透射的元件。据此,从发光元件所射出的光透射波长变换元件,在发光元件和波长选择元件之间反复反射。随后,变换成绿色的光从波长选择元件射出。
另外,此时,相应于由变换侧状态检测机构检测到的状态,由变换侧状态变化机构使波长变换元件的光通过区域的状态发生变化,并且相应于由选择侧状态检测机构检测到的状态,由选择侧状态变化机构使波长选择元件的光选择区域的状态发生变化。据此,能够可靠地使从多个光通过区域及光选择区域射出的光的波长不同。
从而,可以通过波长变换元件得到预期的波长的光,能够射出抑制了斑点噪声的光。
另外,本发明的光源装置优选的是,上述变换侧状态检测机构及上述变换侧状态变化机构按上述波长变换元件的每个光通过区域分别设置,上述选择侧状态检测机构及上述选择侧状态变化机构按上述波长选择元件的每个光选择区域分别设置,由上述变换侧状态变化机构及上述选择侧状态变化机构,使各个区域的状态发生变化,以便上述波长变换元件的各光通过区域的变换波长和上述波长选择元件的各光选择区域的选择波长大致一致地进行变化。
在本发明所涉及的光源装置中,在波长变换元件的各光通过区域被变换的光的波长(变换波长)和在对应的波长选择元件的各光选择区域所选择的光的波长大致相同。据此,在波长变换元件的各光通过区域上变换后的各光在透射对应的波长选择元件的各光选择区域时,被有效取出。
还有,也可以设置多个选择侧状态变化机构,并且选择侧状态变化机构按多个光选择区域的每个设置。该结构的情况下,使温度发生变化以便由多个光选择区域选择的光的波长相互不同即可。同样,变换侧状态变化机构也可以按多个光通过区域的每个设置。
另外,本发明的光源装置优选的是,使上述多个光通过区域的状态及上述多个光选择区域的状态之中至少一方的状态随时间发生变化。
在本发明所涉及的光源装置中,使多个光通过区域的状态及多个光选择区域的状态之中至少一方的状态随时间发生变化。据此,从波长选择元件的光选择区域射出的光的斑点图形随时间复杂地变化。因为随着其变化,被视觉辨认的斑点(因干涉产生的斑点图样)进行移动,所以在人的眼睛残留图像时间内斑点的图形被积分平均化,能够减少斑点的发生。
另外,本发明的光源装置优选的是,具备:光强度检测机构,分别检测从上述多个光选择区域射出的光的强度;根据由该光强度检测机构检测到的光的强度,来分别调整从上述多个发光元件射出的光的强度。
在本发明所涉及的光源装置中,可以获得和具备上述光强度检测机构的情形相同的效果。
另外,本发明的光源装置优选的是,上述波长变换元件具有:沿着从上述多个发光元件所射出的光的中心轴、极化相互反相的畴域的重复结构;上述变换侧状态检测机构是电压检测机构,检测上述波长变换元件的光通过区域的电压;上述变换侧状态变化机构是电压施加机构,相应于由上述电压检测机构检测到的电压,使对上述波长变换元件的光通过区域施加的电压相互不同。
在本发明所涉及的光源装置中,通过相应于由电压检测机构检测到的电压,在波长变换元件的各光通过区域的电压施加机构中使施加的施加电压不同,按波长变换元件的每个光通过区域,可靠地使折射率不同。这样,通过改变对波长变换元件的每个光通过区域施加的电压,就可以使从多个发光元件射出的光的输出波长和在与各发光元件对应的波长变换元件的各光通过区域透射的光的波长相同。进而,可以使在波长变换元件的各光通过区域被变换的光的波长和在与该各区域对应的波长选择元件的各光选择区域被选择的光的波长相同。据此,可以改变在波长变换元件的各光通过区域被变换的光的波长。从而,能够获得一种采用更为简单的结构使从多个发光元件射出的光的利用效率得到提高并且抑制了斑点噪声的光源装置。
另外,本发明的光源装置优选的是,上述选择侧状态检测机构是温度检测机构,检测上述波长选择元件的光选择区域的温度;上述选择侧状态变化机构是温度变化机构,相应于由上述温度检测机构检测到的温度,使上述波长选择元件的光选择区域的温度相互不同。
另外,在本发明的光源装置中,可以获得和上述状态检测机构是温度检测机构并且状态变化机构是温度变化机构的情形相同的效果。
另外,本发明的光源装置优选的是,上述选择侧状态检测机构是应变检测机构,检测上述波长选择元件的光选择区域的应变大小;上述选择侧状态变化机构是应变施加机构,相应于由上述应变检测机构检测到的应变大小,使上述波长选择元件的光选择区域的应变大小相互不同。
另外,在本发明的光源装置中,可以获得和上述状态检测机构是应变检测机构并且状态变化机构是应变施加机构的情形相同的效果。
本发明的图像显示装置其特征为,具备:上述的光源装置;光调制装置,相应于图像信号调制从该光源装置所射出的光;以及投影装置,投影由该光调制装置所形成的图像。
在本发明所涉及的图像显示装置中,从光源装置所射出的光入射于光调制装置中。然后,由光调制装置所形成的图像由投影装置进行投影。此时,由于从光源装置射出的光如上所述,成为减低相干性后的光,因而由投影装置投影的光被抑制了斑点噪声。从而,可以显示优质的图像。
本发明的图像显示装置其特征为,具备:上述的光源装置;和扫描机构,在被投影面上扫描从该光源装置所射出的光。
在本发明所涉及的图像显示装置中,从光源装置所射出的光由扫描机构进行扫描。然后,由扫描机构扫描后的光被投影于被投影面上。此时,由于从光源装置射出的光如上所述,成为减低相干性后的光,因而照射于被投影面上的光被抑制了斑点噪声。从而,能够显示没有亮度不匀的优质的图像。
本发明的监视装置其特征为,具备:上述的光源装置;和拍摄机构,拍摄由该光源装置所照射的被拍摄体。
在本发明所涉及的监视装置中,从光源装置所射出的光照射被拍摄体,由拍摄机构拍摄被拍摄体。此时,如上所述因为光源装置射出减低相干性后的光,所以利用没有亮度不均的明亮的光来照射被拍摄体。从而,能够由拍摄机构清楚地拍摄被拍摄体。
附图说明
图1是表示本发明第1实施方式所涉及的光源装置的俯视图。
图2是图1的光源装置所使用的流程图。
图3是表示图1的光源装置变形例的俯视图。
图4是表示图1的光源装置变形例的流程图。
图5是表示本发明第2实施方式所涉及的光源装置的俯视图。
图6是表示图5的光源装置变形例的立体图。
图7是表示本发明第3实施方式所涉及的光源装置的俯视图。
图8是表示图7的光源装置变形例的俯视图。
图9是表示图8的光源装置变形例的流程图。
图10是表示本发明第4实施方式所涉及的光源装置的俯视图。
图11是图10的光源装置所使用的流程图。
图12是表示本发明的第5实施方式所涉及的图像显示装置的俯视图。
图13是表示本发明的图像显示装置变形例的俯视图。
图14是表示本发明的第6实施方式所涉及的监视装置的俯视图。
符号说明
10、30、40、50、65、80…光源装置,11a~11f、51a~51f…发光元件,12、52…波长选择元件,21…温度传感器(状态检测部),22…珀耳帖元件(状态变化机构),41…光强度传感器(光强度检测机构),53、81…波长变换元件,61…温度传感器(状态检测机构),62…珀耳帖元件(状态变化机构),100、200…图像显示装置,300…监视装置,311…相机(拍摄机构)
具体实施方式
下面,参照附图,对于本发明所涉及的光源装置、图像显示装置及监视装置的实施方式进行说明。还有,在下面的附图中,为了使各部件为可辨认的大小,适当变更了各部件的比例尺。
[第1实施方式]
下面,对于本发明的第1实施方式,参照图1进行说明。
本实施方式所涉及的光源装置10如图1所示,具备发光部11、波长选择元件12及控制部20。
发光部11具备射出激光的6个发光元件(半导体激光器,LD)11a、11b、11c、11d、11e、11f。这些发光元件11a~11f全都由支持部13支持。从发光元件11a~11f射出的光的峰值波长因发光元件11a~11f的制造误差,而相差几nm左右。这里,假设从发光元件11a~11f射出的光的波长为λ1、λ2、λ3、λ4、λ5、λ6,则λ1>λ4>λ5>λ3>λ2>λ6。还有,也可以使用射出下述波长的光的发光元件,该波长并不是因制造误差而偶然不同,而是从设计时就有意使之不同。
波长选择元件12用来通过选择所入射的激光之中的预定选择波长的光(图1所示的虚线)W1的一部分(98%~99%左右),使之朝向发光部11进行反射,作为发光元件11a~11f的谐振器镜体来发挥作用,并且使剩余的激光(图1的双点划线)W2透射。作为波长选择元件12,例如可以使用具有周期晶格的全息器件那样的光学元件。
从发光部11所射出的基波的光(图1所示的实线)W3在发光部11和波长选择元件12之间反复反射并被放大之后,作为激光W2从波长选择元件12射出。波长选择元件12虽然使某种程度的范围的波长的光透射,但是其中只有预定波长的光才被放大。放大后的光的强度和其他波长的光的强度相比,非常高。因而,透射波长选择元件12后的光W2可以大致看作单一波长的光。该光W2的波长和波长选择元件12的选择波长,也就是与波长选择元件12反射的光W1的波长,基本上相同。波长选择元件12由于反射预定的选择波长的光的一部分(98%~99%左右),因而其剩余(1%~2%左右)的光作为输出光被利用。
这里,在构成波长选择元件12的1个基体中,将选择从发光元件11a~11f所射出的光的区域(光选择区域)分别设为A、B、C、D、E、F。但是,因为区域A~F实际上是选择波长的大小不同且连续的区域,所以在它们之间不存在物理上的边界。
控制部20如图1所示,具备温度传感器(状态检测机构)21、珀耳帖元件(状态变化机构)22及温度调整部23。
温度传感器21和珀耳帖元件22分别粘接在波长选择元件12的各区域A~F的表面12a。另外,在各区域A~F所设置的温度传感器21及珀耳帖元件22连接到温度调整部23。
温度传感器21用来测定波长选择元件12的各区域A~F的温度。另外,珀耳帖元件22因为设置在各区域A~F的表面12a,所以波长选择元件12被从各区域A~F的表面12a朝向背面(纸面背侧的面)进行加热或冷却。波长选择元件12因加热而膨胀,因冷却而收缩,折射率进行变化。与该折射率对应,波长选择元件12的选择波长,也就是由波长选择元件12反射的光W1的波长不同。
另外,珀耳帖元件22空出预定的间隔,设置在表面12a上的区域A~F的各自内。还有,在相邻的珀耳帖元件22之间也可以设置绝热材料,以便在相邻的区域A~F间不传导热。
再者,珀耳帖元件22相应于由温度传感器21检测到的区域A~F的温度,使波长选择元件12的区域A~F的状态发生变化,以便由区域A~F选择的光的波长相互不同。
温度调整部23按区域A~F的每个,根据由温度传感器21检测到的温度,控制对各个珀耳帖元件22供给的电流。然后,使区域A~F每个的温度不同,使选择波长不同。这样,在本实施方式中,通过分别控制各区域A~F的温度,使各区域A~F的温度不同,就能够使由波长选择元件12反射的光W1的波长按每个区域不同。具体而言,越是因高温而热膨胀大的区域,选择波长越是向长波长一侧转变。也就是说,假设由波长选择元件12的区域A~F反射的光W1的波长分别为λ1、λ2、λ3、λ4、λ5、λ6,则由温度调整部23控制珀耳帖元件22,调整各区域A~F的温度,以便相应于发光元件11a~11f的波长的长短,成为λ1>λ4>λ5>λ3>λ2>λ6。
而且,由于这样由波长选择元件12反射的光W1的波长按区域A~F的每个都不同,因而在发光部11和波长选择元件12之间反复反射并被放大之后从波长选择元件12射出的光W2,也成为按区域A~F的每个都不同的光。
下面,对于本实施方式所涉及的光源装置10的具体例,进行说明。
首先,发光元件11a~11f是一种红色的半导体激光器,射出的光的峰值波长λ1、λ2、λ3、λ4、λ5、λ6分别为630nm、626nm、627nm、629nm、628nm、625nm。
然后,若由温度调整部23控制了珀耳帖元件22,以便波长选择元件12的区域A、B、C、D、E、F中的选择波长λ1、λ2、λ3、λ4、λ5、λ6分别为630nm、626nm、627nm、629nm、628nm、625nm(选择波长之差最大是5nm),则从波长选择元件12的区域A、B、C、D、E、F射出的光W2的波长也分别为630nm、626nm、627nm、629nm、628nm、625nm。
对于温度调整部23的具体控制,使用图2所示的流程图进行说明。
这里,波长选择元件12的区域A在温度为T1时选择波长为630nm,区域B在温度为T2时选择波长为626nm,波长选择元件12的区域C在温度为T3时选择波长为627nm,波长选择元件12的区域D在温度为T4时选择波长为629nm,波长选择元件12的区域E在温度为T5时选择波长为628nm,波长选择元件12的区域F在温度为T6时选择波长为625nm。
首先,在温度调整部23中,设定各区域A~F的波长分布(步骤S0)。这里,用区域A作为代表进行说明,就是若确定了波长分布,则根据波长和温度之间的关系设定区域A的温度为T1(步骤S1),由温度调整部23控制珀耳帖元件22以使区域A的温度为T1(步骤S2)。然后,由温度传感器21测定区域A的温度(步骤S3),判断由温度传感器21测定出的温度和设定温度T1是否一致(步骤S4)。在由温度传感器21测定出的温度和设定温度T1不一致时(步骤S4“否”),也就是说在实际的区域A的温度比设定温度T1低时,通过温度调整部23的控制,由珀耳帖元件22对区域A进行加热,在实际的区域A的温度比设定温度T1高时,通过温度调整部23的控制,由珀耳帖元件22对区域A进行冷却。在通过反复进行这种操作使由温度传感器21测定出的温度和设定温度T1一致时(步骤S4“是”),不利用珀耳帖元件22使区域A的温度发生变化,而维持该温度(步骤S5)。此时,在温度传感器21中一直或者间断地测定区域A的温度,进行其和设定温度T1之间的比较。然后,若由温度传感器21测定出的区域A的温度偏离了设定温度T1,则温度调整部23进行珀耳帖元件22的控制。
另外,在区域B~F中,也由温度调整部23进行同样的控制。
在本实施方式所涉及的光源装置10中,通过珀耳帖元件22使各区域A~F的温度相互不同,由此使得从波长选择元件12射出的光的频带与从全部区域A~F射出同一波长的情形相比,有所扩大。另外,因为珀耳帖元件22相应于由温度传感器21测定出的温度,使波长选择元件12的区域A~F的状态发生变化,所以能够可靠地使从区域A~F射出的光的波长不同。因此,能够获得一种激光之间的相干性得到减低并且其结果是抑制了斑点噪声的光源装置10。
另外,因为可以按区域A~F的每个使温度发生变化,所以从波长选择元件12射出的输出波长分布的自由度增高。从而,能够使从发光元件11a~11f所射出的光的波长和相对应的波长选择元件12的各区域A~F的选择的光的波长一致。据此,即使发光元件11a~11f因制造误差等而在输出波长方面存在不一致,也可以使从波长选择元件12射出的光的利用效率得到提高。
也就是说,本实施方式的光源装置10能够既维持较高的光利用效率又减低多个激光之间的相干性,抑制斑点噪声。
还有,也可以没有制造误差、从发光元件11a~11f射出的光的峰值波长相同。在该构成中,虽然光的利用效率稍微下降,但是也能够减低斑点噪声。
另外,也可以取代珀耳帖元件22,使用发热元件、压电元件(应变施加机构)。压电元件若被施加了电压,则进行移位,因该移位而使波长选择元件12产生应变。波长选择元件12其应变越大,选择波长变得越短。从而,通过具备检测各区域A~F的应变的其他压电元件(应变检测机构),相应于由其他压电元件检测到的应变,由压电元件调整各区域A~F的应变的量,就可以使从各区域A~F射出的光的波长不同。还有,作为应变施加机构,例如也可以使用应变仪、磁致伸缩元件。
另外,在上面的例子中,虽然针对多个发光元件11a~11f设置1个波长选择元件12,将一个基体分为多个区域,但是也可以是按每个发光元件分别设置波长选择元件的构成。
再者,也可以按每多个区域A~F,也就是集中2个或3个区域,由1个珀耳帖元件22来控制温度。该构成的情况下,施加温度以便由多个区域A~F选择的光的波长相互不同即可。
[第1实施方式的变形例1]
在图1所示的第1实施方式中,为了使各区域A~F的温度发生变化,使用了珀耳帖元件22,但是光源装置30也可以取代珀耳帖元件22,如图3所示使用温度变化部(温度变化机构)35。
光源装置30所使用的温度变化部(温度变化机构)35具备热发生用激光光源32、镜体33、热吸收膜31以及和第1实施方式相同的温度传感器21。
热吸收膜31和珀耳帖元件22相同,空出预定的间隔设置到表面12a上的区域A~F各自内。还有,也可以在各区域A~F的热吸收膜31间设置绝热材料,以便在相邻的区域A~F间不传导热。另外,热吸收膜31的膜厚度在各区域A~F相同。
另外,镜体33用来朝向热吸收膜31扫描从热发生用激光光源32所射出的激光。而且,通过控制镜体33的倾斜角度,来控制对哪个区域A~F的热吸收膜31照射光,通过确定按某个倾斜角度保持的时间,来控制对热吸收膜31的光照射时间。
调整对热吸收膜31照射的激光的时间。据此,照射的激光时间越长,热吸收膜31的温度越是上升,区域A~F的温度上升。而且,控制对热吸收膜31照射的激光时间,以便区域A~F的温度分别不同。也就是说,在本变形例中,也相应于由设置于各区域A~F的温度传感器21检测到的温度,由温度调整部23调整热发生用激光光源32的输出。
在本变形例的光源装置30中,也和第1实施方式的光源装置相同,可以减低斑点噪声,并且能够使光的利用效率得到提高。
还有,在本变形例中,虽然使热吸收膜31的膜厚度相同,但是也可以将热吸收膜31的膜厚度替换成不规则。也就是说,因为热吸收膜31的膜厚度越厚,热的吸收量越多,造成高温,所以在本变形例中,不用改变镜体33的扫描速度(对1个热吸收膜31的光照射时间),就可以使波长选择元件12的各区域A~F具有温度分布。也就是说,因为并不是按区域A~F的每个改变激光的照射时间,而是可以使镜体33偏向到区域A~F的每1次扫描的扫描速度为一定,所以镜体33的控制较为容易。
还有,虽然将热吸收膜31按区域A~F的每个设置,但是也可以设置于波长选择元件12的表面12a整个面。
另外,作为镜体33,也可以使用MEMS镜。
[第1实施方式的变形例2]
在图1所示的第1实施方式中,在各区域A~F为设定温度时,总是维持温度(各区域A~F的选择波长随时间为一定),但是也可以使各区域A~F的温度随时间发生变化。
也就是说,如图4的流程图所示,首先在温度调整部23中设定各区域A~F随着时间经过的温度变化图形,来作为时间表(波长分布设定)(步骤S0)。然后,和第1实施方式相同,调整各区域A~F的温度,在由温度传感器21测定出的温度和设定温度T1一致之后,维持该温度(步骤S5)。随后,等待下次的温度设定(步骤S6),再次返回步骤S0,设定各区域A~F的随时间的温度(步骤S0)。此时,各区域A~F的温度要设定为和前1个设定温度不同的温度。这样,通过随时间改变各区域A~F的温度,区域A~F的每个的热膨胀程度发生改变,折射率进行变化,并且选择波长随时间而不同。从而,从各区域A~F射出的光的波长随时间进行变化。
在本变形例中,通过使区域A~F的温度随时间发生变化,从区域A~F射出的光的斑点图形随时间复杂地变化。因为随着该变化,被视觉辨认的斑点(因干涉产生的斑点图样)进行移动,所以在人的眼睛的残留图像时间内,斑点的图形得以积分平均化,能够减少斑点的发生。
[第2实施方式]
下面,对于本发明所涉及的第2实施方式,参照图5进行说明。还有,在下面说明的各实施方式的附图中,对结构和上述第1实施方式所涉及的光源装置10相同的部位附上相同的符号,省略其说明。
在本实施方式所涉及的光源装置40中,和第1实施方式的不同之处为,具备光强度调整部45,调整从区域A~F射出的光的强度。在其他的构成中,则和第1实施方式相同。
光强度调整部45如图5所示,具备光强度传感器(光强度检测机构)41、镜体42及发光元件控制部43。还有,在本实施方式中,虽然具备和第1实施方式相同的温度调整部23,但是在图5中为了简化附图,省略了温度调整部23进行表示。
光强度传感器41设置在波长选择元件12的射出端面12b的、相对于从发光元件11a~11f所射出的光的中心轴O偏离的位置。
镜体42对应于波长选择元件12的射出端面12b侧的各区域A~F分别设置,能够以轴K为中心进行旋转。而且,镜体42通过轴K的旋转,使从各区域A~F所射出的光分别反射,使之入射于在射出端面12b所设置的光强度传感器41。
另外,发光元件控制部43根据由光强度传感器41检测到的光强度,调整从各发光元件11a~11f射出的光的输出。
下面,对于光强度调整部45的作用进行说明。
若从发光元件11a~11f射出了光,则镜体42按一定时间以轴K为中心并以光的中心轴O为基准向左旋转大致80°,在镜体42所反射的光的强度由光强度传感器41来检测。然后,发光元件控制部43在由光强度传感器41检测到的光强度比预定值小时,提高向该区域射出光的发光元件11a~11f的光输出,在比预定值大时,降低向该区域射出光的发光元件11a~11f的光输出。这样一来,就使从波长选择元件12的各区域A~F射出的光的强度变得均匀。
在本实施方式所涉及的光源装置40中,可以使从波长选择元件12的各区域A~F射出的光的强度变得均匀。据此,与从波长选择元件12的各区域A~F射出的光的强度不均匀的情形相比,像本实施方式那样光的强度均匀时,将增大使波长不同时的斑点减少的效果。也就是说,能够使从波长选择元件12射出的光的相干性得到进一步有效下降。
还有,在本实施方式中,虽然设置镜体42,测定从波长选择元件12射出的光的强度,但是也可以不设置镜体42。也就是说,如图6所示,也可以使对设置于发光元件11a~11f及波长选择元件12外侧的罩盖46所嵌入的玻璃47产生倾斜,利用该玻璃47来反射通过波长选择元件12后的光的一部分,由光强度传感器来检测光强度。该构成的情况下,光强度传感器事先配置于能检测由罩盖所反射的光的位置即可。
另外,设置光强度传感器41的位置并不限于射出端面12b。
另外,虽然根据由光强度传感器41检测到的光强度,来调整从各发光元件11a~11f射出的光的输出,但是也可以通过向设置于波长选择元件12的珀耳帖元件22进行反馈,调整波长选择元件12的各区域A~F的温度,改变输出波长,来调整输出强度。在该构成中,虽然光利用效率稍微下降,但是因为不需要设置发光元件控制部43,所以能够谋求成本的减低。
[第3实施方式]
下面,对于本发明所涉及的第3实施方式,参照图7进行说明。
本实施方式所涉及的光源装置50如图7所示,具备:发光部51;波长变换元件53,变换从发光部51所射出的光的波长;以及波长选择元件52,选择要由波长变换元件53变换的波长使之进行反射。
还有,在图7中为了简化附图,省略了波长选择元件52侧的温度调整部23进行表示。
发光部51具备:射出激光的6个发光元件(半导体激光器,LD)51a、51b、51c、51d、51e、51f。这些发光元件51a~51f全都由支持部54支持。从发光元件51a~51f射出的光的峰值波长因发光元件51a~51f的制造误差,而相差几nm左右。这里,假设从发光元件51a~51f射出的光的波长为λ01、λ02、λ03、λ04、λ05、λ06,则λ01>λ04>λ05>λ03>λ02>λ06。还有,也可以使用有意射出波长不同的光的发光元件。
波长变换元件(二次谐波发生元件,SHG:Second HarmonicGeneration)53是一种非线性光学元件,将入射光变换为大致一半的波长。从发光部51所射出并且朝向波长选择元件52的光W3因通过波长变换元件,而被变换为大致一半的波长的光。波长变换元件53的波长变换效率具有非线性的特性,例如,入射于波长变换元件53的激光强度越强,变换效率越是得到提高。其中,波长变换元件53的变换效率是40~50%左右。也就是说,并不是从发光部51所射出的激光全部都被变换为预定波长的激光。
作为波长变换元件53,一般使用板形状的元件。波长变换元件53对应于多个发光元件51a~51e被分为5个区域P、Q、R、S、T、U。也就是说,将从发光元件51a、51b、51c、51d、51e、51f所射出的光通过的区域,分别设为区域(光通过区域)P、Q、R、S、T、U。
另外,波长变换元件53按区域P~U的每个具有极化周期结构,也就是极化相互反相的畴域的重复结构。通过在该极化周期结构内透射光,变换所入射的光的波长。该波长变换元件53的区域P、Q、R、S、T、U各畴域的激光的中心轴O方向的宽度(下面,称为“间距”)Λ1相同。
这种极化周期结构,首先在包含非线性铁电体材料(例如,LiTaO3)的基板,沿激光的中心轴O方向形成有电极的区域和没有电极的区域交替排列的条带状电极图形。接着,通过对这些电极图形施加脉冲状的电压,获得图7所示的那种极化周期结构。在这样形成极化周期结构之后,通常电极图形要去除,但是也可以按原状保留。
这样,波长变换元件53就在区域P~U,分别具有周期(间距)相同的极化反相结构。
控制部60如图7所示,具备温度传感器(状态检测机构)61、珀耳帖元件(状态变化机构)62及温度调整部63。
温度传感器61及珀耳帖元件62分别粘接在波长变换元件53的各区域A~F的表面53a。另外,设置于各区域P~U的温度传感器61及珀耳帖元件62连接到温度调整部63。
温度传感器61用来测定波长变换元件53的各区域P~U的温度。另外,珀耳帖元件62因为设置在各区域P~U的表面53a,所以波长变换元件53被从各区域P~U的表面53a朝向背面(未图示)进行加热或冷却。波长变换元件53也和波长选择元件52相同,因加热而膨胀,因冷却而收缩,畴域间距进行变化。与该畴域间距对应,波长变换元件53的变换波长,也就是由波长变换元件53变换的光W1的波长不同。
另外,珀耳帖元件62相应于由温度传感器61检测到的区域P~U的温度,使波长变换元件53的区域P~U的状态发生变化,以便由区域P~U变换的光的波长相互不同。
下面,举出蓝色光源装置时的波长为例进行说明,就是从发光元件51a~51f分别射出的光的峰值波长是λ01=920nm、λ02=914nm、λ03=912nm、λ04=916nm、λ05=918nm、λ06=910nm。但是,这里举出的波长只不过是一例。
然后,在区域P,由珀耳帖元件62按将920nm波长的光变换为半波长的温度T2a来设定温度。另外,通过珀耳帖元件62,在区域Q,按将914nm波长的光变换为半波长的温度T2b来设定温度,在区域R,按将912nm波长的光变换为半波长的温度T2c来设定温度,在区域S,按将916nm波长的光变换为半波长的温度T2d来设定温度,在区域T,按将918nm波长的光变换为半波长的温度T2e来设定温度,在区域U,按将910nm波长的光变换为半波长的温度T2f来设定温度。然后,由温度调整部63控制珀耳帖元件62,以便各区域P~U为温度T2a~T2f。据此,从波长变换元件53的各区域P~U射出的光的波长成为λ1=460nm、λ2=457nm、λ3=456nm、λ4=458nm、λ5=459nm、λ6=455nm。
波长选择元件52和第1实施方式相同,具备温度传感器21、珀耳帖元件22及温度调整部23。
另外,波长选择元件52用来只选择要由波长变换元件53变换为预定波长λ1~λ6的波长(也就是,波长λ01~λ06)的激光W1(也就是,未通过波长变换元件53变换而透射的部分的光),使之朝向发光部51进行反射,并使除此以外的激光透射。珀耳帖元件22进行控制,以便在区域P~U被变换的光的波长λ01~λ06和在波长选择元件52的区域A~E被选择的光的波长分别为相同的值。
也就是说,在蓝色光源装置的场合,温度调整部23通过珀耳帖元件22控制各区域A~F的温度,以便在区域A~F被反射的光的波长分别不同。
由波长选择元件52所反射的光W1(图7所示的双点划线)再次通过波长变换元件53,返回到发光元件51a~51e。返回到发光元件51a~51e后的光虽然一部分在此被吸收变为热,但是大部分通过作为发光的能量来使用、在发光元件51a~51e内进行反射而再次从发光元件51a~51e射出,而被有效利用。
另一方面,由波长变换元件53变换成要通过波长选择元件52的波长λ1~λ6后的光W2(图7所示的单点划线)透射波长选择元件52。
如同上面所说明的那样,从发光部51所射出的光W3在发光部51和波长选择元件52之间反复反射,使变换成预定波长的变换光W2(图7所示的单点划线)从波长选择元件52射出。也就是说,虽然波长选择元件52的作用和第1实施方式的波长选择元件12稍微不同,但是具有作为发光元件51a~51e的谐振器镜体的功能。
在本实施方式所涉及的光源装置50中,利用珀耳帖元件62改变各区域P~U的畴域间距,由此通过组合能进行向不同波长λ1~λ6变换的波长变换元件53和按区域A~F的每个使选择波长不同的波长选择元件52,就可以使从波长选择元件52射出的光的波长相互不同。从而,因为从波长选择元件52射出的光的频带与从全部区域射出同一波长的情形相比,有所扩大,所以激光之间的相干性得到减低。其结果为,能够获得抑制了斑点噪声的光源装置50。
另外,因为按区域P~T的每个设置珀耳帖元件62,所以从波长变换元件53射出的输出波长分布的自由度增高。从而,能够使从发光元件51a~51e所射出的光的波长和相对应的波长变换元件53的各区域P~U要变换的光的波长一致。据此,即便发光元件51a~51e因制造误差等而在输出波长中存在不一致,也可以使从波长变换元件53射出的光的利用效率得到提高。
再者,因为按区域P~U的每个设置珀耳帖元件62,所以能够将区域P~T每个的变换波长之差不限于2nm地增大或减小,因此能够更为有效地减低斑点噪声。
还有,也可以取代珀耳帖元件62,使用发热元件、压电元件(应变施加机构)。压电元件,若被施加了电压,则进行移位,因该移位而使波长变换元件53发生应变。波长变换元件53,应变越大,选择波长变得越短,所以通过调整各区域P~U的应变的量,就能够使从各区域P~U射出的光的波长不同。还有,作为应变施加机构,例如也可以使用应变仪或磁致伸缩元件。
另外,也可以使用第1实施方式的变形例1的图3所示的温度变化部35,使从各区域P~U射出的光的波长不同。
另外,也可以是图8所示的光源装置65,该光源装置65具备第2实施方式的图5所示的光强度调整部45。该构成的情况下,也和第2实施方式相同,因为可以使从波长选择元件52的各区域A~F射出的光的强度变得均匀,所以能够更为有效地降低从波长选择元件52射出的光的相干性。
[第3实施方式的变形例]
在图7所示的第3实施方式中,在各区域P~U为设定温度时,总是维持温度(各区域P~U的选择波长随时间而一定),但是也可以是使各区域P~U的温度随时间发生变化的光源装置。
再者,在本变形例的光源装置中,进行控制以便波长变换元件53的各区域P~U的温度和相对应的波长选择元件52的各区域A~F的温度同步。还有,整体构成和第3实施方式的光源装置50相同。
本变形例的光源装置如图9的流程图所示,在温度调整部23中设定各区域A~F的随时间的温度的时间表(波长分布设定),在温度调整部63中设定各区域P~U的与随时间的温度相关的波长分布(步骤S0)。
这里,因为各区域P~U的流程图相同,所以对于图9左侧所示的与发光元件51a对应的区域P及区域A的控制,进行说明。
首先,设定某个时间的从波长选择元件52射出的波长(步骤S1),设定射出该波长的光的波长选择元件52的温度T1a(步骤S2a)。然后,和第1实施方式相同,由珀耳帖元件22控制各区域A的温度(步骤S3a),由温度传感器21测定各区域A的温度(步骤S4a)。然后,比较由温度传感器21测定出的温度和设定温度T1a(步骤S5a),在一致之后,维持该温度(步骤S6)。
另外,执行波长选择元件52的步骤S1a~S5a的流程的同时,在波长变换元件53中也相同,设定波长变换元件53的温度T2a(步骤S2b),该波长变换元件53用于变换所设定的波长的光。然后,由珀耳帖元件62控制各区域P的温度(步骤S3b),由温度传感器61测定各区域P的温度(步骤S4b)。随后,比较由温度传感器61测定出的温度和设定温度T2a(步骤S5b),在一致之后,维持该温度(步骤S6)。
随后,等待下次的温度设定(步骤S7),再次返回步骤S0,设定各区域A及区域P的随时间的温度(步骤S0)。此时,各区域A的温度要设定为和前1个设定温度不同的温度,各区域P的温度也要设定为和前1个设定温度不同的温度。
此时,由波长选择元件52的珀耳帖元件22进行各区域A~F的温度控制,并且由波长变换元件53的珀耳帖元件62进行各区域P~U的温度控制,以便波长选择元件52的温度和波长变换元件53的温度同步进行变化。
也就是说,例如在将波长变换元件53的区域P设定成使918nm波长的光变换为半波长的温度T2a时,将波长选择元件52的区域A设定为使918nm波长的光反射的温度T1a。这样,通过使波长选择元件52的温度和波长变换元件53的温度同步进行变化,就能够使波长选择元件52中光的利用效率得到提高。
在本变形例中,通过使波长选择元件52的区域A~F及波长变换元件53的区域P~U的温度随时间发生变化,使得从区域A~F射出的光的斑点图形复杂地变化。因为随着该变化,被视觉辨认的斑点(因干涉产生的斑点图样)进行移动,所以在人的眼睛的残留图像时间内斑点的图形得以积分平均化,能够减少斑点的发生。
再者,因为波长选择元件52的温度和波长变换元件53的温度同步进行变化,所以在波长变换元件53的各区域P~U变换的光的波长和在相对应的波长选择元件52的各区域A~U被选择的光的波长相同。据此,在波长变换元件53的各区域P~U被变换后的各光在透射对应的波长选择元件52的各区域P~U时,被有效取出。
还有,也可以使波长选择元件52及波长变换元件53之中至少一方的区域的温度随时间发生变化。
另外,在本变形例的光源装置中如图5所示,也可以具备第2实施方式所示的光强度调整部45。通过在本变形例中设置光强度调整部45,来降低从波长选择元件12射出的光的相干性,并且在人的眼睛的残留图像时间内斑点的图形得以积分平均化。从而,能够更为有效减少斑点噪声。
[第4实施方式]
下面,对于本发明所涉及的第4实施方式,参照图10及图11进行说明。
本实施方式所涉及的光源装置80和第3实施方式的不同之处为,取代珀耳帖元件62,在波长变换元件81的包括区域P~U在内的表面81a设置电极(状态变化机构:电压施加机构)85。
在本实施方式的波长变换元件81中,在表面81a上的区域P~U各自以和相邻的电极保持预定的间隔的方式分别设置片状的电极85。
控制部90如图10所示,具备电压测定元件(状态检测机构)91、电源(状态变化机构)V及电压调整部93。
电压测定元件91及电极85分别粘接在波长变换元件81的各区域P~U的表面81a。另外,在各区域P~U所设置的电压测定元件91连接于电压调整部93,电极85通过电源V连接在电压调整部93。
电压测定元件91用来测定波长变换元件81的各区域P~U的温度。另外,波长变换元件81若被施加了电压,则折射率进行变化。与该折射率对应,波长变换元件81的变换波长,也就是由波长变换元件81变换的光W1的波长不同。
另外,对电极85,通过电源V施加按各个电极85不同的电压。然后,相应于所施加的电压,各区域P~T成为不同的温度。由于该温度的不同,在波长变换元件81的区域P~U,各自的温度进行变化,并且发生因热膨胀引起的畴域间距的变化。然后,对电极85分别施加不同的电压地进行控制。
还有,在图10中只表示出形成于表面81a上的电极85,但是在和表面81a相反侧的表面上也分别形成与电极85分别成对的6个电极。其构成为,通过由该成对的电极夹着区域P~U,对区域P~U分别施加预定的电压。
另外,和第3实施方式的变形例相同,使各区域P~U的温度随时间发生变化,并进行控制,以便波长变换元件的各区域P~U的折射率和对应的波长选择元件52的各区域A~F的温度同步。
也就是说,如图11的流程图所示,首先在温度调整部23中设定各区域A~F的随时间的温度的时间表(波长分布设定),在温度调整部63中设定各区域P~U的随时间的波长分布(步骤S0)。
这里,因为波长选择元件52的流程图和图9所示的流程相同,所以对于波长变换元件53的控制进行说明。
首先,设定某个时间的从波长变换元件53射出的波长(步骤S1),设定射出该波长的光的波长变换元件53的电压值V2a(步骤S2b)。然后,由电源V控制对各区域P~U施加的电压值(步骤S3b),由电压测定元件91测定各区域P~U的电压(步骤S4b)。随后,比较由电压测定元件91测定出的电压值和设定电压值V2a(步骤S5b),在一致之后,维持该电压值(步骤S6)。
随后,波长选择元件52等待下次的温度设定,波长变换元件53等待下次的电压设定(步骤S7),再次返回到步骤S0,设定各区域A~F的随时间的温度及各区域P~U的随时间的电压(步骤S0)。此时,各区域A~F的温度要设定为和前1个设定温度不同的温度,各区域P~U的电压值要设定为和前1个设定电压值不同的电压值。
此时,由波长选择元件52的珀耳帖元件22进行各区域A~F的温度控制,并且由波长变换元件81的电压测定元件91进行各区域P~U的电压控制,以便波长选择元件52的温度和波长变换元件53的电压值同步进行变化。
也就是说,在将波长变换元件81的区域P设定成使918nm波长的光变换为半波长的电压值V2a时,在波长选择元件52的区域A中设定为使918nm波长的光反射的温度T1a。这样,通过使波长选择元件52的温度和波长变换元件81的电压值同步进行变化,就能够使波长选择元件52中光的利用效率得到提高。
在本实施方式的光源装置80中,也可以获得和第3实施方式相同的效果。另外,光源装置80通过改变对各区域P~U施加的电压,使从各区域P~U射出的光的波长不同,所以波长变换元件81的控制较为容易。
[第5实施方式]
下面,对于本发明所涉及的第5实施方式,参照图12进行说明。
在本实施方式中,对于具备上述第1实施方式的光源装置10的图像显示装置100进行说明。还有,在图12中为了简化,省略了构成图像显示装置100的壳体。
在图像显示装置100中,作为射出红色光的红色激光光源(光源装置)101R使用上述第1实施方式的光源装置10,作为射出绿色光、蓝色光的绿色激光光源(光源装置)101G、蓝色激光光源(光源装置)101B使用上述第3实施方式的光源装置50。
另外,图像显示装置100具备:液晶光阀(光调制装置)104R、104G、104B,分别调制从激光光源101R、101G、101B所射出的激光;十字分色棱镜(色光合成机构)106,合成从液晶光阀104R、104G、104B所射出的光,将其向投影透镜107进行引导;以及投影透镜(投影装置)107,放大由液晶光阀104R、104G、104B所形成的像,将其投影于屏幕110上。
再者,图像显示装置100为了使从激光光源101R、101G、101B所射出的激光照度分布均匀化,在与各激光光源101R、101G、101B相比靠光路下游侧,设置均匀光学系统102R、102G、102B,利用由它们使照度分布均匀化后的光,对液晶光阀104R、104G、104B进行照明。例如,均匀光学系统102R、102G、102B例如由全息器件102a及场透镜103b来构成。
由各液晶光阀104R、104G、104B调制后的3种色光入射于十字分色棱镜106。该棱镜粘贴4个直角棱镜来形成,在其内面,反射红色光的多层电介质膜和反射蓝色光的多层电介质膜配置成十字状。由这些多层电介质膜来合成3种色光,形成表现彩色图像的光。然后,合成后的光通过作为投影光学系统的投影透镜107投影于屏幕110上,显示放大后的图像。
上述本实施方式的图像显示装置100,由于从红色激光光源101R、绿色激光光源101G、蓝色激光光源101B射出的光为减低相干性后的光,因而由投影透镜107投影的光成为抑制了斑点噪声的光。从而,可以在屏幕110上显示优质的图像。
还有,在本实施方式的图像显示装置中,虽然对于绿色及蓝色的激光光源101G、101B,说明了使用第3实施方式的光源装置50的方式,但是也可以使用其他实施方式的光源装置。此时,既可以在光源装置101R、101G、101B的各自中采用不同实施方式的光源装置,也可以采用同一实施方式的光源装置。
另外,虽然作为光调制装置使用了透射型的液晶光阀,但是既可以使用除液晶之外的光阀,也可以使用反射型的光阀。作为这种光阀,例如可举出反射型的液晶光阀、数字镜器件(Digital Mirror Device)。投影光学系统的构成要根据所使用的光阀的种类,适当变更。
另外,第1~第4实施方式(包括变形例)的光源装置还适用于扫描型的图像显示装置。图13表示这种图像显示装置的例。图13所示的图像显示装置200具备:第1实施方式的光源装置10;MEMS镜体(扫描机构)202,朝向屏幕210扫描从光源装置10所射出的光;以及聚光透镜203,使从光源装置10所射出的光在MEMS镜体202聚光。从光源装置10所射出的光通过转动MEMS镜体,被引导为在屏幕210上按横向、纵向扫描。在显示彩色的图像时,利用具备红、绿、蓝的峰值波长的发光元件的组合来构成多个发光元件即可,该多个发光元件构成发光部11。
[第6实施方式]
下面,对于应用第3实施方式所涉及的光源装置50的监视装置300的构成例,进行说明。图14是表示监视装置的概略的模式图。监视装置300具备装置主体310和光传输部320。装置主体310具备上述第1实施方式的光源装置10。
光传输部320具备传送和接收光的2根光导管(light guide)321、322。各光导管321、322束集多根光纤,可以将激光向远处传送。在传送光一侧的光导管321的入射侧配设光源装置10,在其出射侧配设漫射板323。从光源装置10所出射的激光在光导管321中传播,被送向在光传输部320的前端所设置的漫射板323,通过由漫射板323进行漫射,照射被拍摄体。
在光传输部320的前端,还设置成像透镜324,可以由成像透镜324接收来自被拍摄体的反射光。该接收的反射光在接收侧的光导管322中传播,被送向设置于装置主体310内的作为拍摄机构的相机311。其结果为,可以由相机311拍摄基于下述反射光的图像,该反射光是通过由激光照射被拍摄体得到的,该激光是由激光光源装置10所出射的。
根据如上所构成的监视装置300,因为光源装置50射出抑制了斑点噪声的光,所以能够由相机311清晰地拍摄被拍摄体。
还有,作为本实施方式的监视装置,虽然说明了使用第3实施方式的光源装置50的方式,但是也可以使用其他实施方式(包括变形例)的光源装置。
还有,本发明的技术范围并不限定为上述实施方式,可以在不脱离本发明宗旨的范围内加以各种变更。
例如,作为色光合成机构,虽然使用了十字分色棱镜,但是并不限于此。作为色光合成机构,例如可以使用将分色镜交叉配置来合成色光的机构、平行配置分色镜来合成色光的机构。
Claims (19)
1.一种光源装置,其特征为,
具备:
多个发光元件,其发出光;
波长选择元件,其具有对从该多个发光元件所射出的光分别进行选择的多个光选择区域,使从上述多个发光元件所射出的光的一部分有选择地反射;
状态检测机构,其检测该波长选择元件的多个光选择区域的状态;以及
状态变化机构,其相应于由该状态检测机构检测到的上述多个光选择区域的状态,使上述波长选择元件的光选择区域的状态发生变化,从而使得由上述多个光选择区域所选择的光的波长相互不同。
2.根据权利要求1所述的光源装置,其特征为:
上述状态检测机构及上述状态变化机构按上述波长选择元件的每个光选择区域分别设置。
3.根据权利要求1或2所述的光源装置,其特征为:
通过上述状态变化机构使上述多个光选择区域的状态随时间发生变化。
4.根据权利要求1到3中任一项所述的光源装置,其特征为:
具备光强度检测机构,该光强度检测机构分别检测从上述多个光选择区域射出的光的强度;
基于由该光强度检测机构检测到的光的强度,来分别调整从上述多个发光元件射出的光的强度。
5.根据权利要求1到4中任一项所述的光源装置,其特征为:
上述状态检测机构是温度检测机构,其检测上述波长选择元件的光选择区域的温度;
上述状态变化机构是温度变化机构,其相应于由上述温度检测机构检测到的温度,使上述波长选择元件的光选择区域的温度相互不同。
6.根据权利要求1到4中任一项所述的光源装置,其特征为:
上述状态检测机构是应变检测机构,其检测上述波长选择元件的光选择区域的应变大小;
上述状态变化机构是应变施加机构,其相应于由上述应变检测机构检测到的应变的大小,使上述波长选择元件的光选择区域的应变大小相互不同。
7.一种图像显示装置,其特征为,
具备:
权利要求1到6中任一项所述的光源装置;
光调制装置,其相应于图像信号调制从该光源装置所射出的光;以及
投影装置,其投影由该光调制装置所形成的图像。
8.一种图像显示装置,其特征为,
具备:
权利要求1到6中任一项所述的光源装置;和
扫描机构,其在被投影面上扫描从该光源装置所射出的光。
9.一种监视装置,其特征为,
具备:
权利要求1到6中任一项所述的光源装置;和
拍摄机构,其拍摄由该光源装置所照射的被拍摄体。
10.一种光源装置,其特征为,
具备:
多个发光元件,其发出光;
波长变换元件,其具有从该多个发光元件所射出的光分别通过的多个光通过区域,将从上述多个发光元件所射出的光之中的至少一部分波长的光分别变换为预定波长的光;
波长选择元件,其具有分别选择从该波长变换元件的多个光通过区域所射出的光的多个光选择区域,使从上述波长变换元件射出的光的一部分朝向上述发光元件有选择地反射;
变换侧状态检测机构,其检测上述波长变换元件的多个光通过区域的状态;
变换侧状态变化机构,其相应于由该变换侧状态检测机构检测到的上述多个光通过区域的状态,使上述波长变换元件的光通过区域的状态发生变化,从而使得由上述多个光通过区域变换的光的波长相互不同;
选择侧状态检测机构,其检测上述波长选择元件的多个光选择区域的状态;以及
选择侧状态变化机构,其相应于由上述选择侧状态检测机构检测到的上述多个光选择区域的状态,使上述波长选择元件的光选择区域的状态发生变化,从而使得由上述多个光选择区域选择的光的波长相互不同。
11.根据权利要求10所述的光源装置,其特征为:
上述变换侧状态检测机构及上述变换侧状态变化机构按上述波长变换元件的每个光通过区域分别设置,
上述选择侧状态检测机构及上述选择侧状态变化机构按上述波长选择元件的每个光选择区域分别设置,
由上述变换侧状态变化机构及上述选择侧状态变化机构使各个区域的状态发生变化,从而使得上述波长变换元件的各光通过区域的变换波长和上述波长选择元件的各光选择区域的选择波长大致一致地变化。
12.根据权利要求10或11所述的光源装置,其特征为:
使上述多个光通过区域的状态及上述多个光选择区域的状态之中至少一方的状态随时间发生变化。
13.根据权利要求10到12中任一项所述的光源装置,其特征为:
具备光强度检测机构,该光强度检测机构分别检测从上述多个光选择区域射出的光的强度;
基于由该光强度检测机构检测到的光的强度,来分别调整从上述多个发光元件射出的光的强度。
14.根据权利要求10到13中任一项所述的光源装置,其特征为:
上述波长变换元件具有:沿着从上述多个发光元件所射出的光的中心轴、极化相互反相的畴域的重复结构;
上述变换侧状态检测机构是电压检测机构,其检测上述波长变换元件的光通过区域的电压;
上述变换侧状态变化机构是电压施加机构,其相应于由上述电压检测机构检测到的电压,使对上述波长变换元件的光通过区域施加的电压相互不同。
15.根据权利要求10到13中任一项所述的光源装置,其特征为:
上述选择侧状态检测机构是温度检测机构,其检测上述波长选择元件的光选择区域的温度;
上述选择侧状态变化机构是温度变化机构,其相应于由上述温度检测机构检测到的温度,使上述波长选择元件的光选择区域的温度相互不同。
16.根据权利要求10到13中任一项所述的光源装置,其特征为:
上述选择侧状态检测机构是应变检测机构,其检测上述波长选择元件的光选择区域的应变大小;
上述选择侧状态变化机构是应变施加机构,其相应于由上述应变检测机构检测到的应变大小,使上述波长选择元件的光选择区域的应变大小相互不同。
17.一种图像显示装置,其特征为,
具备:
权利要求10到16中任一项所述的光源装置;
光调制装置,其相应于图像信号调制从该光源装置所射出的光;以及
投影装置,其投影由该光调制装置所形成的图像。
18.一种图像显示装置,其特征为,
具备:
权利要求10到16中任一项所述的光源装置;和
扫描机构,其在被投影面上扫描从该光源装置所射出的光。
19.一种监视装置,其特征为,
具备:
权利要求10到16中任一项所述的光源装置;和
拍摄机构,其拍摄由该光源装置所照射的被拍摄体。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007183345A JP4888261B2 (ja) | 2007-07-12 | 2007-07-12 | 光源装置、画像表示装置及びモニタ装置 |
JP183345/2007 | 2007-07-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101344712A true CN101344712A (zh) | 2009-01-14 |
CN101344712B CN101344712B (zh) | 2010-08-18 |
Family
ID=40246733
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2008101303400A Expired - Fee Related CN101344712B (zh) | 2007-07-12 | 2008-07-11 | 光源装置、图像显示装置及监视装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8047659B2 (zh) |
JP (1) | JP4888261B2 (zh) |
CN (1) | CN101344712B (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102804784A (zh) * | 2009-06-25 | 2012-11-28 | 伊斯曼柯达公司 | 光投影机中的分级光强度控制 |
CN102844697A (zh) * | 2010-04-28 | 2012-12-26 | 德尔菲技术公司 | 光斑消减器及包括光斑消减器的投影单元 |
CN107806838A (zh) * | 2017-11-27 | 2018-03-16 | 罗琪 | 基于节结构导光管的曲率检测装置及其应用 |
Families Citing this family (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8139130B2 (en) | 2005-07-28 | 2012-03-20 | Omnivision Technologies, Inc. | Image sensor with improved light sensitivity |
US8274715B2 (en) * | 2005-07-28 | 2012-09-25 | Omnivision Technologies, Inc. | Processing color and panchromatic pixels |
US7916362B2 (en) * | 2006-05-22 | 2011-03-29 | Eastman Kodak Company | Image sensor with improved light sensitivity |
US8031258B2 (en) | 2006-10-04 | 2011-10-04 | Omnivision Technologies, Inc. | Providing multiple video signals from single sensor |
US7915067B2 (en) * | 2008-07-09 | 2011-03-29 | Eastman Kodak Company | Backside illuminated image sensor with reduced dark current |
US7859033B2 (en) | 2008-07-09 | 2010-12-28 | Eastman Kodak Company | Wafer level processing for backside illuminated sensors |
US8224082B2 (en) * | 2009-03-10 | 2012-07-17 | Omnivision Technologies, Inc. | CFA image with synthetic panchromatic image |
US8068153B2 (en) * | 2009-03-27 | 2011-11-29 | Omnivision Technologies, Inc. | Producing full-color image using CFA image |
US8045024B2 (en) * | 2009-04-15 | 2011-10-25 | Omnivision Technologies, Inc. | Producing full-color image with reduced motion blur |
US8203633B2 (en) * | 2009-05-27 | 2012-06-19 | Omnivision Technologies, Inc. | Four-channel color filter array pattern |
US8237831B2 (en) * | 2009-05-28 | 2012-08-07 | Omnivision Technologies, Inc. | Four-channel color filter array interpolation |
US8125546B2 (en) * | 2009-06-05 | 2012-02-28 | Omnivision Technologies, Inc. | Color filter array pattern having four-channels |
US8253832B2 (en) * | 2009-06-09 | 2012-08-28 | Omnivision Technologies, Inc. | Interpolation for four-channel color filter array |
US8142021B2 (en) * | 2009-06-25 | 2012-03-27 | Eastman Kodak Company | Dump path light intensity sensing in light projector |
US8237777B2 (en) * | 2009-06-25 | 2012-08-07 | Eastman Kodak Company | Stereoscopic image intensity balancing in light projector |
US8220938B2 (en) * | 2009-06-25 | 2012-07-17 | Eastman Kodak Company | Image path light intensity sensing during a blanking period between a left-eye light beam and a right-eye light beam in a stereoscopic light projector |
US20100328611A1 (en) * | 2009-06-25 | 2010-12-30 | Silverstein Barry D | Leakage light intensity sensing in light projector |
US9046753B2 (en) * | 2010-05-28 | 2015-06-02 | Nec Display Solutions, Ltd. | Projector having plural light source boxes each having associated solid-state light source, photodetector, and drive unit |
US10610127B2 (en) * | 2012-04-23 | 2020-04-07 | St. Jude Medical, Atrial Fibrilation Division, Inc. | Electrophysiology laboratory system for use with magnetic resonance imaging systems |
DE102013104728A1 (de) * | 2013-05-07 | 2014-11-13 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Laserdiodenvorrichtung |
US9578724B1 (en) | 2013-08-20 | 2017-02-21 | Ketra, Inc. | Illumination device and method for avoiding flicker |
USRE48955E1 (en) | 2013-08-20 | 2022-03-01 | Lutron Technology Company Llc | Interference-resistant compensation for illumination devices having multiple emitter modules |
USRE48956E1 (en) | 2013-08-20 | 2022-03-01 | Lutron Technology Company Llc | Interference-resistant compensation for illumination devices using multiple series of measurement intervals |
JP2015173213A (ja) * | 2014-03-12 | 2015-10-01 | 三菱電機株式会社 | 赤色レーザ光源モジュール |
US9557214B2 (en) | 2014-06-25 | 2017-01-31 | Ketra, Inc. | Illumination device and method for calibrating an illumination device over changes in temperature, drive current, and time |
US9510416B2 (en) | 2014-08-28 | 2016-11-29 | Ketra, Inc. | LED illumination device and method for accurately controlling the intensity and color point of the illumination device over time |
US9392660B2 (en) | 2014-08-28 | 2016-07-12 | Ketra, Inc. | LED illumination device and calibration method for accurately characterizing the emission LEDs and photodetector(s) included within the LED illumination device |
US11272599B1 (en) | 2018-06-22 | 2022-03-08 | Lutron Technology Company Llc | Calibration procedure for a light-emitting diode light source |
JP7228111B2 (ja) * | 2018-10-02 | 2023-02-24 | 日亜化学工業株式会社 | 紫外線照射装置及び紫外線硬化樹脂の硬化方法 |
US11472069B2 (en) * | 2018-10-02 | 2022-10-18 | Nichia Corporation | Ultraviolet irradiation device and method for curing ultraviolet-curing resin |
JP2020092256A (ja) * | 2018-11-27 | 2020-06-11 | 株式会社リコー | 光源、光源装置、光学装置、計測装置、ロボット、電子機器、移動体、および造形装置 |
US11531208B2 (en) * | 2018-11-27 | 2022-12-20 | Ricoh Company, Ltd. | Light source, optical device, measuring device, robot, electronic apparatus, movable structure, and manufacturing apparatus |
Family Cites Families (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63137493A (ja) | 1986-11-28 | 1988-06-09 | Fujitsu Ltd | 半導体レ−ザの狭線幅化装置 |
EP0409104B1 (en) * | 1989-05-18 | 1996-05-01 | Sony Corporation | Method of controlling the domain of a nonlinear ferroelectric optics substrate |
JP2969787B2 (ja) | 1990-05-15 | 1999-11-02 | ソニー株式会社 | 非線形強誘電体光学材料に対するドメイン制御方法 |
JPH0513862A (ja) | 1991-07-02 | 1993-01-22 | Mitsubishi Electric Corp | レーザー装置 |
US5526145A (en) * | 1994-06-10 | 1996-06-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Color tuned holographic optical elements and methods of making and using the elements |
JPH08190111A (ja) | 1995-01-12 | 1996-07-23 | Asahi Glass Co Ltd | 高調波発生装置 |
US5859945A (en) * | 1996-04-01 | 1999-01-12 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Array type light emitting element module and manufacturing method therefor |
JPH0949948A (ja) | 1995-06-01 | 1997-02-18 | Sumitomo Electric Ind Ltd | アレイ型発光素子モジュールとその製造方法 |
JPH1187826A (ja) | 1997-09-04 | 1999-03-30 | Asahi Glass Co Ltd | 高調波発振装置の制御方法 |
US6317170B1 (en) * | 1997-09-13 | 2001-11-13 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Large screen compact image projection apparatus using a hybrid video laser color mixer |
JPH11233894A (ja) | 1998-02-18 | 1999-08-27 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 波長可変外部共振器型レーザ |
JP2000174397A (ja) * | 1998-12-02 | 2000-06-23 | Nec Corp | 多波長光源装置及びその発振周波数制御方法 |
US6330388B1 (en) * | 1999-01-27 | 2001-12-11 | Northstar Photonics, Inc. | Method and apparatus for waveguide optics and devices |
US6323987B1 (en) | 1999-05-14 | 2001-11-27 | Agere Systems Optoelectronics Guardian Corp. | Controlled multi-wavelength etalon |
JP2001066718A (ja) | 1999-08-30 | 2001-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像情報読取方法および装置 |
JP2001189520A (ja) | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Sony Corp | 光源装置およびそれを用いた投射型表示装置 |
JP3931545B2 (ja) | 2000-03-22 | 2007-06-20 | 住友電気工業株式会社 | 発光モジュール |
US6975294B2 (en) | 2000-07-10 | 2005-12-13 | Corporation For Laser Optics Research | Systems and methods for speckle reduction through bandwidth enhancement |
JP3690587B2 (ja) | 2001-02-02 | 2005-08-31 | 日本電信電話株式会社 | 波長可変光フィルタ、レーザ装置及びレーザ波長安定化方法 |
JP2002303904A (ja) * | 2001-04-06 | 2002-10-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光波長変換装置およびその調整方法 |
US6985163B2 (en) * | 2001-08-14 | 2006-01-10 | Sarnoff Corporation | Color display device |
JP3820942B2 (ja) * | 2001-08-30 | 2006-09-13 | ヤマハ株式会社 | 熱電モジュール実装装置及びその温度制御方法 |
JP4336091B2 (ja) * | 2001-10-09 | 2009-09-30 | 古河電気工業株式会社 | 光モジュール、光送信器及びwdm光送信装置 |
US7106920B2 (en) * | 2001-11-13 | 2006-09-12 | Zhongshan Liu | Laser array for generating stable multi-wavelength laser outputs |
JP2003158318A (ja) | 2001-11-22 | 2003-05-30 | Shimadzu Corp | 固体レーザ装置 |
US7075656B2 (en) * | 2001-12-11 | 2006-07-11 | Adc Telecommunications, Inc. | Method and algorithm for continuous wavelength locking |
WO2004021525A2 (de) * | 2002-09-02 | 2004-03-11 | Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co. Kg | Halbleiterlaservorrichtung mit externem resonator und konkavem spiegel |
KR101048982B1 (ko) * | 2002-09-02 | 2011-07-12 | 리모 파텐트페어발퉁 게엠베하 운트 코. 카게 | 반도체 레이저 장치 |
JP4165179B2 (ja) | 2002-10-21 | 2008-10-15 | ソニー株式会社 | 照明装置及び画像表示装置 |
JP2004144936A (ja) | 2002-10-23 | 2004-05-20 | Sony Corp | 照明装置及び画像表示装置 |
US6947459B2 (en) * | 2002-11-25 | 2005-09-20 | Eastman Kodak Company | Organic vertical cavity laser and imaging system |
US7322704B2 (en) * | 2004-07-30 | 2008-01-29 | Novalux, Inc. | Frequency stabilized vertical extended cavity surface emitting lasers |
US7296897B2 (en) * | 2004-07-30 | 2007-11-20 | Novalux, Inc. | Projection display apparatus, system, and method |
US7357513B2 (en) * | 2004-07-30 | 2008-04-15 | Novalux, Inc. | System and method for driving semiconductor laser sources for displays |
KR20070047292A (ko) * | 2004-07-30 | 2007-05-04 | 노바룩스 인코포레이티드 | 모드-락된 외부 공동 표면 발산 반도체 레이저의 파장 변환장치, 시스템 및 방법 |
US7679672B2 (en) * | 2004-10-14 | 2010-03-16 | Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Electronic flash, imaging device and method for producing a flash of light having a wavelength spectrum in the visible range and the infrared range using a fluorescent material |
CN101180778A (zh) | 2005-03-30 | 2008-05-14 | 诺瓦光电技术公司 | 稳频竖直扩展腔表面发射激光器 |
EP1869526B1 (en) * | 2005-03-30 | 2019-11-06 | Necsel Intellectual Property, Inc. | Manufacturable vertical extended cavity surface emitting laser arrays |
US7627013B2 (en) | 2006-02-03 | 2009-12-01 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Light source module |
JP4441918B2 (ja) * | 2006-08-31 | 2010-03-31 | セイコーエプソン株式会社 | 光源装置及び画像表示装置 |
JP4591489B2 (ja) * | 2007-08-30 | 2010-12-01 | セイコーエプソン株式会社 | 光源装置、画像表示装置及びモニタ装置 |
-
2007
- 2007-07-12 JP JP2007183345A patent/JP4888261B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-06-10 US US12/136,445 patent/US8047659B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-07-11 CN CN2008101303400A patent/CN101344712B/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102804784A (zh) * | 2009-06-25 | 2012-11-28 | 伊斯曼柯达公司 | 光投影机中的分级光强度控制 |
CN102804784B (zh) * | 2009-06-25 | 2015-08-12 | 伊斯曼柯达公司 | 光投影系统和用于校正图像形成系统产生的光强度的方法 |
CN102844697A (zh) * | 2010-04-28 | 2012-12-26 | 德尔菲技术公司 | 光斑消减器及包括光斑消减器的投影单元 |
CN102844697B (zh) * | 2010-04-28 | 2015-06-17 | 德尔菲技术公司 | 光斑消减器及包括光斑消减器的投影单元 |
CN107806838A (zh) * | 2017-11-27 | 2018-03-16 | 罗琪 | 基于节结构导光管的曲率检测装置及其应用 |
CN107806838B (zh) * | 2017-11-27 | 2023-10-20 | 浙江中能工程检测有限公司 | 基于节结构导光管的曲率检测装置及其应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009021427A (ja) | 2009-01-29 |
US8047659B2 (en) | 2011-11-01 |
US20090016390A1 (en) | 2009-01-15 |
JP4888261B2 (ja) | 2012-02-29 |
CN101344712B (zh) | 2010-08-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101344712B (zh) | 光源装置、图像显示装置及监视装置 | |
US6795249B2 (en) | Reflective time-division image projector having a transmission color wheel | |
US7733927B2 (en) | Laser light source device and image display device | |
US6773116B2 (en) | Projection display device | |
US8070297B2 (en) | Projector that projects an image signal on a display surface | |
CN106164770B (zh) | 光源设备和投影仪 | |
US20100118535A1 (en) | Light source device, lighting device and image display device | |
EP1274256A1 (en) | Method and device for providing crolling illumination | |
CN101761828A (zh) | 光源装置和图像显示装置 | |
CN107077050A (zh) | 照明装置、轮劣化检测方法和投影仪 | |
WO2010132623A2 (en) | Image projector employing a speckle-reducing laser source | |
JP2999259B2 (ja) | 偏光された光を用いた照明装置 | |
JP4790228B2 (ja) | 照明方法および表示装置 | |
WO2010125562A1 (en) | Laser projector with reduced speckle effect | |
JP5262231B2 (ja) | 光源装置及び画像表示装置 | |
JP5299485B2 (ja) | 光源装置、画像表示装置及びモニタ装置 | |
JP3301951B2 (ja) | 照明装置 | |
JP2002508092A (ja) | 増強された輝度を有する画像投射装置 | |
JPH05150209A (ja) | 画像表示装置およびその表示方法 | |
JPS63123018A (ja) | 投射型液晶表示装置 | |
JP2004334055A (ja) | 投写型表示装置 | |
CN100582910C (zh) | 光源装置及图像显示装置 | |
JP5299486B2 (ja) | 光源装置、画像表示装置及びモニタ装置 | |
JP2000171770A (ja) | 投射型表示装置 | |
JP2008186888A (ja) | 光源装置、画像表示装置、プロジェクタ、モニタ装置及び光源装置の駆動方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20100818 Termination date: 20200711 |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |