CN101622253B - 用于制备基于芳烃-双（二羧酰亚胺）的半导体材料的方法和用于制备它们的相关中间体 - Google Patents
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- CN101622253B CN101622253B CN200880007028.0A CN200880007028A CN101622253B CN 101622253 B CN101622253 B CN 101622253B CN 200880007028 A CN200880007028 A CN 200880007028A CN 101622253 B CN101622253 B CN 101622253B
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title abstract description 18
- WLLGXSLBOPFWQV-UHFFFAOYSA-N MGK 264 Chemical compound C1=CC2CC1C1C2C(=O)N(CC(CC)CCCC)C1=O WLLGXSLBOPFWQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 title 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 50
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 67
- -1 n-octyl Chemical group 0.000 claims description 44
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 15
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 claims description 15
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 claims description 15
- 239000006184 cosolvent Substances 0.000 claims description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 4
- CNPURSDMOWDNOQ-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-7h-pyrrolo[2,3-d]pyrimidin-2-amine Chemical compound COC1=NC(N)=NC2=C1C=CN2 CNPURSDMOWDNOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- MNCMBBIFTVWHIP-UHFFFAOYSA-N 1-anthracen-9-yl-2,2,2-trifluoroethanone Chemical group C1=CC=C2C(C(=O)C(F)(F)F)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 MNCMBBIFTVWHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 11
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 102
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 42
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 39
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 36
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 30
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 27
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 25
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 23
- 239000000047 product Substances 0.000 description 20
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 18
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 125000006376 (C3-C10) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 14
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 14
- 125000006649 (C2-C20) alkynyl group Chemical group 0.000 description 12
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 12
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 12
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 10
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 10
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 9
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 9
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 8
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 125000002769 thiazolinyl group Chemical group 0.000 description 8
- DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N copper(i) cyanide Chemical compound [Cu+].N#[C-] DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 238000000816 matrix-assisted laser desorption--ionisation Methods 0.000 description 7
- 125000004043 oxo group Chemical group O=* 0.000 description 7
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 6
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 5
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N potassium cyanide Chemical compound [K+].N#[C-] NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002521 alkyl halide group Chemical group 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 4
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 4
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 240000004784 Cymbopogon citratus Species 0.000 description 3
- 235000017897 Cymbopogon citratus Nutrition 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N benzyl N-[2-hydroxy-4-(3-oxomorpholin-4-yl)phenyl]carbamate Chemical compound OC1=C(NC(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)N1CCOCC1=O FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001869 matrix assisted laser desorption--ionisation mass spectrum Methods 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QWUWMCYKGHVNAV-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydrostilbene Chemical group C=1C=CC=CC=1CCC1=CC=CC=C1 QWUWMCYKGHVNAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N 2-butyne Chemical compound CC#CC XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXACTUVBBMDKRW-UHFFFAOYSA-M 4-bromobenzenesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=C(Br)C=C1 PXACTUVBBMDKRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N but-1-yne Chemical group CCC#C KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000003306 harvesting Methods 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-M methanesulfonate group Chemical class CS(=O)(=O)[O-] AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013086 organic photovoltaic Methods 0.000 description 2
- 125000001715 oxadiazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000160 oxazolidinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004309 pyranyl group Chemical group O1C(C=CC=C1)* 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- LFAGQMCIGQNPJG-UHFFFAOYSA-N silver cyanide Chemical compound [Ag+].N#[C-] LFAGQMCIGQNPJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- BRNULMACUQOKMR-UHFFFAOYSA-N thiomorpholine Chemical compound C1CSCCN1 BRNULMACUQOKMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N (e)-4-(6-aminopurin-9-yl)but-2-en-1-ol Chemical compound NC1=NC=NC2=C1N=CN2C\C=C\CO DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- CSNIZNHTOVFARY-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2C=NSC2=C1 CSNIZNHTOVFARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZQTRPPVKQPFO-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2C=NOC2=C1 KTZQTRPPVKQPFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMKOFRJSULQZRM-UHFFFAOYSA-N 1-bromooctane Chemical compound CCCCCCCCBr VMKOFRJSULQZRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- SPXOTSHWBDUUMT-UHFFFAOYSA-N 138-42-1 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 SPXOTSHWBDUUMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005955 1H-indazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- JCZAVVUIFWZMQI-UHFFFAOYSA-N 1h-thieno[2,3-d]imidazole Chemical compound N1C=NC2=C1C=CS2 JCZAVVUIFWZMQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQALHCFUHQWZJO-UHFFFAOYSA-N 2-anthracen-9-ylethanamine Chemical compound C1=CC=C2C(CCN)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 QQALHCFUHQWZJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHNHFOGQMKPOV-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-amine Chemical compound CCCCC(CC)CN LTHNHFOGQMKPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- KQBVVLOYXDVATK-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrahydro-1h-indole Chemical compound C1CCCC2=C1C=CN2 KQBVVLOYXDVATK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVEMTTZEBOCJDV-UHFFFAOYSA-N 4-hexylaniline Chemical compound CCCCCCC1=CC=C(N)C=C1 OVEMTTZEBOCJDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OURXRFYZEOUCRM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxymorpholine Chemical compound ON1CCOCC1 OURXRFYZEOUCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 80-82-0 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003026 Acene Polymers 0.000 description 1
- USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N Ammonium acetate Chemical compound N.CC(O)=O USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005695 Ammonium acetate Substances 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000089486 Phragmites australis subsp australis Species 0.000 description 1
- KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N Purine Natural products N1=CNC2=NC=NC2=C1 KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019257 ammonium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229940043376 ammonium acetate Drugs 0.000 description 1
- LHNICELDCMPPDE-UHFFFAOYSA-N anthracen-9-amine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 LHNICELDCMPPDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 150000001492 aromatic hydrocarbon derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000011914 asymmetric synthesis Methods 0.000 description 1
- MXMZCLLIUQEKSN-UHFFFAOYSA-N benzimidazoline Chemical compound C1=CC=C2NCNC2=C1 MXMZCLLIUQEKSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNBQRQQYDMDJAH-UHFFFAOYSA-N benzodioxan Chemical compound C1=CC=C2OCCOC2=C1 BNBQRQQYDMDJAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004618 benzofuryl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000004196 benzothienyl group Chemical group S1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 125000004541 benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- SOEBTSCUOQNNLV-UHFFFAOYSA-N butyl n-(6-aminohexyl)carbamate Chemical compound CCCCOC(=O)NCCCCCCN SOEBTSCUOQNNLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000480 butynyl group Chemical group [*]C#CC([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 125000003016 chromanyl group Chemical group O1C(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 125000004230 chromenyl group Chemical group O1C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000000259 cinnolinyl group Chemical class N1=NC(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- CHVJITGCYZJHLR-UHFFFAOYSA-N cyclohepta-1,3,5-triene Chemical compound C1C=CC=CC=C1 CHVJITGCYZJHLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003678 cyclohexadienyl group Chemical group C1(=CC=CCC1)* 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 150000008056 dicarboxyimides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000002451 electron ionisation mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002636 imidazolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005945 imidazopyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003392 indanyl group Chemical group C1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000003387 indolinyl group Chemical group N1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N indolizine Chemical compound C1=CC=CN2C=CC=C21 HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005956 isoquinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001786 isothiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000842 isoxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- JORQDGTZGKHEEO-UHFFFAOYSA-N lithium cyanide Chemical compound [Li+].N#[C-] JORQDGTZGKHEEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N methanediyl Chemical compound [CH2] HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPHGSKGZRAQSGP-UHFFFAOYSA-N methylenecyclohexane Natural products C1CCCC2CC21 WPHGSKGZRAQSGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 125000002757 morpholinyl group Chemical group 0.000 description 1
- XQMQIMWCQMZJMX-UHFFFAOYSA-N n-methylanthracen-9-amine Chemical compound C1=CC=C2C(NC)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 XQMQIMWCQMZJMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004593 naphthyridinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CN=C12)* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 125000006574 non-aromatic ring group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- 125000005482 norpinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000012038 nucleophile Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 125000005981 pentynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 125000004592 phthalazinyl group Chemical group C1(=NN=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000004193 piperazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- XUWHAWMETYGRKB-UHFFFAOYSA-N piperidin-2-one Chemical compound O=C1CCCCN1 XUWHAWMETYGRKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005936 piperidyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003822 preparative gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002755 pyrazolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002098 pyridazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- TXQWFIVRZNOPCK-UHFFFAOYSA-N pyridin-4-ylmethanamine Chemical compound NCC1=CC=NC=C1 TXQWFIVRZNOPCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILVXOBCQQYKLDS-UHFFFAOYSA-N pyridine N-oxide Chemical class [O-][N+]1=CC=CC=C1 ILVXOBCQQYKLDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEYHFKBVNARCNE-UHFFFAOYSA-N pyrido[2,3-b]pyrazine Chemical compound N1=CC=NC2=CC=CN=C21 YEYHFKBVNARCNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWESROVQGZSBRX-UHFFFAOYSA-N pyrido[3,2-d]pyrimidine Chemical compound C1=NC=NC2=CC=CN=C21 BWESROVQGZSBRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001422 pyrrolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 1
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MNWBNISUBARLIT-UHFFFAOYSA-N sodium cyanide Chemical compound [Na+].N#[C-] MNWBNISUBARLIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002798 spectrophotometry method Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- RVZPDKXEHIRFPM-UHFFFAOYSA-N tert-butyl n-(6-aminohexyl)carbamate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)NCCCCCCN RVZPDKXEHIRFPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005958 tetrahydrothienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000001113 thiadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- DBDCNCCRPKTRSD-UHFFFAOYSA-N thieno[3,2-b]pyridine Chemical compound C1=CC=C2SC=CC2=N1 DBDCNCCRPKTRSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940125670 thienopyridine Drugs 0.000 description 1
- 239000002175 thienopyridine Substances 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- UMHFSEWKWORSLP-UHFFFAOYSA-N thiophene 1,1-dioxide Chemical compound O=S1(=O)C=CC=C1 UMHFSEWKWORSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEIMLDGFXIOXMT-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl cyanide Chemical compound C[Si](C)(C)C#N LEIMLDGFXIOXMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002371 ultraviolet--visible spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D491/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00
- C07D491/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D491/06—Peri-condensed systems
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- C07D471/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00
- C07D471/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains two hetero rings
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- C07D487/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D487/04—Ortho-condensed systems
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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-
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- C09B57/08—Naphthalimide dyes; Phthalimide dyes
Abstract
本发明提供了式I和II的化合物：其中Q、Ra、R1、W和n如本文所定义。本发明还提供了制备式I和II的化合物的方法，其包括由式I化合物制备式II化合物的方法。本文所公开的化合物可用来制备半导体材料和相关的复合物和电子装置。
Description
背景技术
基于芳烃-双(二羧酰亚胺)(QDI)的有机分子可以是高级光学和电子材料的关键要素。QDI的实例包括苝-双(二羧酰亚胺)(PDI)、蔻-双(二羧酰亚胺)(CDI)、萘-双(二羧酰亚胺)(NDI)和蒽-双(二羧酰亚胺)(ADI)，它们的结构在图1中示例。参见例如，Law，Chem.Rev.，93：449(1993)；Langhals等人，Angew.Chem.Int.Ed.，44：2427(2005)；Malenfant等人，Appl.Phys.Lett.，80：2517(2002)；Herrmann等人，Chem.Lett.，35：978(2006)；Ilhan等人，Chem.Mater.，16：2978(2004)；Bhattacharyya等人，Synlett，1361(2003)；Langhals等人，Chemistry，12：2815(2006)；Kelley等人J.Am.Chem.Soc.，128：4779(2006)；Adachi等人，Appl.Phys.Lett.，56：799(1990)；和Katz等人J.Am.Chem.Soc.，122：7787(2000)。这些QDI的性质可通过例如在酰亚胺基团的氮原子和/或在芳烃核上的分子官能化来调节。
官能化QDI的应用已存在于集光阵列(light-harvesting array)、光伏电池(photovoltaic cell)、有机场效应晶体管和有机发光二极管。还报道这些分子是构建超分子或巨大分子系统的结构单元(building block)。在核取代的QDI中，已经证实氰化了的PDI、NDI和ADI是制造许多基于有机半导体的装置(包括场效应晶体管、互补性电路、环振动器(ring oscillator)和D-触发器)和太阳能电池的重要材料。参见例如，Jung等人，Appl.Phys.Lett.，88：183102/1(2006)；和Yoo等人，Appl.Phys.Lett.，88：082104(2006)。
一般而言，N，N′-二取代的核取代的芳烃-双(二羧酰亚胺)的制备依照图2中所示的合成路线。第一步骤通常为酰亚胺氮原子的官能化。例如，适宜的双酐(QDA)可与伯胺(R1-NH2)反应以提供相应的二羧酰亚胺(QDIR1)。 参见例如，Osswald等人，Angew.Chem.，Int.Ed.，44：250(2005)；Segura等人，Org.Lett.，7：2345(2005)；Rohr等人，Angew.Chem.，Int.Ed.， 37：1434(1998)；Qu等人，Angew.Chem.，Int.Ed.，43：1528(2004)；Müller等人，Chem.Commun.，4045(2005)；Rybtchinski等人，J.Phys.Chem.，108：7497(2004)；和Vysotsky等人，Org.Lett.，4：2901(2002)。替代性方法是用氨(NH3)将双酐转化成未取代的二羧酰亚胺(QDIH)，然后用R1-LG将酰亚胺氮官能化。参见例如，Pasaogullari等人，Dyes and Pigments(染料与色素)，69：118(2006)；Patrick等人，Dyes and Pigments(染料与色素)，55：123(2002)；Chernick等人，J.Org.Chem.，70：1486(2005)；Fan等人，Synth.Met.，145：203(2004)。
第二步骤为核位置(QDI-Ra n)通过相应的卤代QDI前体(QDI-Xn)的非催化或金属催化的取代的官能化。例如，QDI-Xn前体的卤基团可被芳基、氰基、苯氧基和/或氨基替换以提供相应的QDI-Ra n。参见例如，Würthner等人，J.Org.Chem.，69：7933(2004)；和第DE 3434059和DE 19547209号德国专利申请。
如图2中所示，这两种合成都需要酰亚胺氮原子在任一个核位置之前的官能化。为了允许具有相同的官能化核但是不同的酰亚胺氮取代的N，N′-二取代的QDI-Ra n衍生物的有效筛选，期望更有效的合成方法。这种方法的实例可包括双酐原材料的核位置上的官能化，随后双酐至二取代的二酰亚胺的转化。实际上，非常少的核取代的双酐(QDA-Ra n)或核取代的二酰亚胺(QDIH-Ra n)是已知的，并且还没有报道其中Ra是吸电子基(EWG)的QDA-Ra n和QDIH-Ra n的实例。此外，大多数QDA和QDIH当其核被吸电子基取代时，有可能在标准反应条件下与强亲核体(如伯胺)反应后是不稳定的。
发明内容
依照前述，本发明提供了用于制备核官能化的QDI和相应的N，N′-二取代的衍生物的新合成路线，其可解决现有技术的各种不足和缺陷(包括上述的那些)。
更特别地，本发明提供了在核中具有各种吸电子取代基的QDA和 QDIH以及将这些核取代的QDA和QDIH转化成N，N′-二取代的QDI的方法。
在一个方面中，本发明提供了式I或II的化合物：
其中Q、Ra、R1、W和n如本文所定义。
在另一个方面中，本发明提供了制备式I和II的化合物的方法，包括由式I化合物制备式II化合物的方法。
根据下列附图、说明书和权利要求，将更完全地理解前述以及本发明的其他特征和优点。
附图说明
技术人员将理解下述的附图仅仅用于说明目的。预期这些附图不以任何方式限制本发明的范围。
图1示出了各种QDI实施例的化学结构。
图2说明了核取代的N，N′-二取代的QDI(QDIR1-Ra n)的已知合成途径。
图3提供了本发明化合物(PDA-CN2)的MS MALDI(质谱法/基质辅助激光解吸/电离)光谱。
图4提供了本发明化合物(NDA-CN2)的MS MALDI光谱。
图5提供了本发明化合物(PDIH-CN2)的MS MALDI光谱。
图6提供了本发明化合物(PDI6NHBoc-CN2)在CDCl3中的1H NMR光谱。
图7提供了本发明化合物(PDI1Py-CN2)的MS MALDI光谱。
图8提供了本发明化合物(PDICytr-CN2)在CDCl3中的1H NMR光谱。
图9提供了本发明化合物(PDIRCytr-CN2)在CDCl3中的1H NMR光谱。
图10提供了本发明化合物(PDI2EH-CN2)在CDCl3中的1H NMR光谱。
具体实施方式
在整个描述中，当组合物被描述成含有、包含或包括特定组分时，或者当工艺被描述成含有、包含或包括特定的工艺步骤时，预期本发明组合物也主要由所述组分组成或由所述组分组成，并且本发明的工艺也主要由所述工艺步骤组成或由所述工艺步骤组成。
除非另有明确说明，术语“包括”、“包含”、“含有”、“具有”的使用通常应该解释为开放式的且非限制性的。
在本申请中，当说到要素或组分包含于和/或选自一列所引用的要素或组分时，应理解，要素或组分可以是所引用的要素或组分中的任何一种并可选自由两种或多种所引用的要素或组分组成的组。
除非另有明确说明，本文单数的使用包括复数(反之亦然)。此外，当术语“约”的使用在数值之前时，本发明还包括具体数值本身，除非另有明确说明。如本文所用，术语“约”是指标称值的±10％偏差。
应理解，步骤的顺序或进行某些操作的顺序是非关键的，只要本发明保持可操作。而且，可同时进行两个或多个步骤或操作。
如本文所用，“芳烃”或“稠环部分”是指含有至少两个环的多环系统，其中所述至少两个环的至少一个为芳香族的且这种芳香环(碳环或杂环)与至少一个其他环(可以是芳香族的或非芳香族的碳环或杂环)具有一个共用键。这些多环系统可高度π共轭且可包括但不限于具有下式的苝(rylene)：
其中a0可以是范围为0-3的整数；具有下式的蔻：
其中b0可以是范围为0-3的整数；和具有下式的线性并苯：
其中c0可以是范围为0-4的整数。本文所公开的化合物通常具有芳烃或稠环部分核，其为四价并可与选自-C(O)-O-C(O)-、-C(O)-NH-C(O)-和-C(O)-NR1-C(O)-的两个部分形成共价键，其中R1如本文所定义。这种芳烃或稠环部分核可被1-8个Ra基团取代，其中Ra如本文所定义。
如本文所用，“二羧酰亚胺”是指-C(O)-NH-C(O)-基团，其中氮原子可被如本文所定义的R1基团取代。
如本文所用，“卤代”或“卤素”是指氟、氯、溴和碘。
如本文所用，“氨基”或“胺”是指-NRR′，其中R和R′可独立地选自H、烷基、芳烷基、芳基、环烷基、杂芳基和环杂烷基，所述烷基、芳烷基、芳基、环烷基、杂芳基和环杂烷基中的每个可如本文所述任选被取代。
如本文所用，“烷氧基”是指-O-烷基。烷氧基的实例包括但不限于甲氧基、乙氧基、丙氧基(例如，正丙氧基和异丙氧基)、叔丁氧基及类似烷氧基。
如本文所用，“烷硫基”是指-S-烷基。烷硫基的实例包括但不限于甲硫基、乙硫基、丙硫基(例如，正丙硫基和异丙硫基)、叔丁硫基及类似烷硫基。
如本文所用，“氧代”是指双键氧(即＝O)。
如本文所用，“烷基”是指直链或支链饱和烃基。烷基的实例包括甲基(Me)、乙基(Et)、丙基(例如正丙基和异丙基)、丁基(例如正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基)、戊基(例如正戊基、异戊基、新戊基)及类似烷基。在各种实施方式中，烷基可含有1个至20个碳原子即C1-20烷基。在一些实施方式中，烷基可含有1个至6个碳原子，且可称为“低级烷基”。低级烷基的实例包括甲基、乙基、丙基(例如正丙基和异丙基)、和丁基(例如正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基)。在一些实施方式中，烷基可如本文所公开被取代。烷基通常不被另一个烷基或烯基或炔基取代。
如本文所用，“卤烷基”是指含有一个或多个卤素取代基的烷基。卤烷基的实例包括但不限于CF3、C2F5、CHF2、CH2F、CCl3、CHCl2、CH2Cl、C2Cl5及类似卤烷基。全卤烷基，即其中所有氢原子被卤素原子替代的烷基(例如CF3和C2F5)，包含于“卤烷基”的定义中。例如，C1-20卤烷基可具有式-CiX2i+1或-CiH2i+1-jXj，其中X为F、Cl、Br或I，i是范围为1至20的整数，并且j是范围为1至41的整数，条件是j小于或等于2i+1。
如本文所用，“芳烷基”是指-烷基-芳基，其中所述芳烷基通过烷基与确定的化学结构共价连接。芳烷基在-L-C6-14芳基或-Y-C6-14芳基的定义内，其中L和Y独立地为二价C1-20烷基。芳烷基的实例为苄基(-CH2-C6H5)。芳烷基可如本文所公开任选地被取代，即芳基和/或烷基可被取代。
如本文所用，“烯基”是指含有一个或多个碳-碳双键的直链或支链烷基。烯基的实例包括但不限于乙烯基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、丁二烯基、戊二烯基、己二烯基及类似烯基。一个或多个碳-碳双键可以是 内部的(如在2-丁烯中)或末端的(如在1-丁烯中)。在各种实施方式中，烯基可含有2个至20个碳原子即C2-20烯基。在一些实施方式中，烯基可如本文所公开被取代。烯基通常不被另一个烯基或烷基或炔基取代。
如本文所用，“炔基”是指含有一个或多个碳-碳三键的直链或支链烷基。炔基的实例包括但不限于乙炔基、丙炔基、丁炔基、戊炔基及类似炔基。一个或多个碳-碳三键可以是内部的(如在2-丁炔中)或末端的(如在1-丁炔中)。在各种实施方式中，炔基可含有2个至20个碳原子，即C2-20炔基。在一些实施方式中，炔基可如本文所公开被取代。炔基通常不被另一个炔基或烷基或烯基取代。
如本文所用，“环烷基”是指非芳香族的碳环基，包括环化烷基、烯基和炔基。环烷基可以是单环(例如环己基)或多环(例如含有稠环、桥接环和/或螺环系统)，其中碳原子位于环系统的内部或外部。环烷基的任何适宜的环位置可与确定的化学结构共价连接。环烷基的实例包括但不限于环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环戊烯基、环己烯基、环己二烯基、环庚三烯基、降冰片基、降蒎烷基(norpinyl)、降蒈烷基(norcaryl)、金刚烷基(adamantyl)与螺[4.5]癸烷基和其同系物、异构体及类似物。在各种实施方式中，环烷基可含有3个至14个碳原子，包括3个至10个碳原子(即C3-10环烷基)。在一些实施方式中，环烷基可如本文所公开被取代。
如本文所用，“杂原子”是指除了碳或氢的任何元素的原子，并且包括例如，氮、氧、硅、硫、磷和硒。
如本文所用，“环杂烷基”是指非芳香族的环烷基，其包含至少一个选自O、N和S的环杂原子并且任选地包含一个或多个双键或三键。在各种实施方式中，环杂烷基可含有3个至20个环原子，包括3个至14个环原子(即3-14元环杂烷基)。环杂烷基环中的一个或多个N或S原子可被氧化(例如吗啉N-氧化物、硫吗啉S-氧化物、硫吗啉S，S-二氧化物)。在一些实施方式中，环杂烷基的氮原子可含有一个取代基，例如氢原子、烷基或如本文所述的其他取代基。环杂烷基还可包含一个或多个氧代基团，诸如氧代哌啶基、氧代噁唑烷基、二氧代-(1H，3H)-嘧啶基、氧代-2(1H)-吡啶基及类似氧代基团。环杂烷基的实例包括(但不限于)吗啉基、硫吗啉基、吡 喃基、咪唑烷基、咪唑啉基、噁唑烷基、吡唑烷基、吡唑啉基、吡咯烷基、吡咯啉基、四氢呋喃基、四氢噻吩基、哌啶基、哌嗪基及类似环杂烷基。在一些实施方式中，环杂烷基可如本文所公开被取代。
如本文所用，“芳基”是指芳香族单环烃环系统或多环系统，其中两个或多个芳香族烃环被稠合(即含有共用键)在一起或者至少一个芳香族单环烃环与一个或多个环烷基和/或环杂烷基环稠合。芳基可在其环系统中含有6个至16个碳原子，其可包括多个稠环。在一些实施方式中，多环芳基可含有7个至16个碳原子。所述芳基可与确定的化学结构在任何适宜的环位置共价连接，这形成了稳定的结构。仅含有芳香族碳环的芳基的实例包括但不限于苯基、1-萘基(二环)、2-萘基(二环)、蒽基(三环)、菲基(三环)及类似芳基。其中至少一个芳香族碳环与一个或多个环烷基和/或环杂烷基环稠合的多环系统的实例包括(但不限于)环戊烷的苯并衍生物(即茚满基，其为5，6-二环的环烷基/芳香族环系统)、环己烷(即四氢萘基，其为6，6-二环环烷基/芳香族环系统)、咪唑啉(即苯并咪唑啉基、其为5，6-二环环杂烷基/芳香族环系统)和吡喃(即色烯基，其为6，6-二环环杂烷基环杂烷基/芳香族环系统)。芳基的其他实例包括但不限于苯并二噁烷基、苯并间二氧杂环戊二烯基、色满基、二氢吲哚基及类似芳基。在一些实施方式中，芳基可如本文所公开被取代。在一些实施方式中，芳基可含有一个或多个卤素取代基，并且可被称为“卤芳基”。全卤芳基即其中所有氢原子被卤素原子替代的芳基(例如-C6F5)包含于“卤芳基”的定义中。在某些实施方式中，芳基被另一个芳基取代并且可被称为联芳基。联芳基中的每一个芳基可如本文所公开被取代。
如本文所用，“杂芳基”是指包含至少1个选自O、N和S的环杂原子的芳香族单环系统或其中存在于环系统中的至少一个环为芳香族且包含至少1个环杂原子的多环系统。多环杂芳基包括两个或多个稠合在一起的杂芳基环和与一个或多个芳香族碳环、非芳香族碳环和/或非芳香族环杂烷基环稠合的单环杂芳基环。就整体而言，杂芳基可含有例如5个至16个环原子并且包含1-5个环杂原子。所述杂芳基可与确定的化学结构在任何杂原子或碳原子连接，形成稳定的结构。一般地，杂芳基环不包含O-O、 S-S或S-O键。然而，杂芳基中的一个或多个N或S原子可被氧化(例如，吡啶N-氧化物、噻吩S-氧化物、噻吩S，S-二氧化物)。杂芳基的实例包括，例如如下所示的5元单环和5-6元二环系统：
其中Z为O、S、NH、N-烷基、N-芳基或N-(芳烷基)(例如N-苄基)。杂芳基的实例包括吡咯基、呋喃基、噻吩基、吡啶基、嘧啶基、哒嗪基、吡嗪基、三唑基、四唑基、吡唑基、咪唑基、异噻唑基、噻唑基、噻二唑基、异噁唑基、噁唑基、噁二唑基、吲哚基、异吲哚基、苯并呋喃基、苯并噻吩基、喹啉基、2-甲基喹啉基、异喹啉基、喹噁啉基、喹唑啉基、苯并三唑基、苯并咪唑基、苯并噻唑基、苯并异噻唑基、苯并异噁唑基、苯并噁二唑基、苯并噁唑基、噌啉基、1H-吲唑基、2H-吲唑基、吲嗪基、异苯并呋喃基(isobenzofuyl)、萘啶基、酞嗪基、喋啶基、嘌呤基、噁唑并吡啶基、噻唑并吡啶基、咪唑并吡啶基、呋喃并吡啶基、噻吩并吡啶基、吡啶并嘧啶基、吡啶并吡嗪基、吡啶并哒嗪基、噻吩并噻唑基、噻吩并噁唑基、噻吩并咪唑基及类似杂芳基。杂芳基的进一步实例包括但不限于4，5，6，7-四氢吲哚基、四氢喹啉基、苯并噻吩并吡啶基、苯并呋喃并吡啶基及类似杂芳基。在一些实施方式中，杂芳基可如本文所公开被取代。
如本文所用，“二价基团”是指能与两个其他部分形成共价键的连接基团(linking group)。例如，本发明化合物可包括二价C1-20烷基，诸如，例如亚甲基。
如本文所用，“离去基团”(“LG”)是指由于例如取代或消除反应可 被取代为稳定物类的带电或不带电原子(或原子的基团)。离去基团的实例包括但不限于卤化物(例如Cl、Br、I)、叠氮化物(N3)、硫氰酸酯(SCN)、硝基(NO2)、氰酸酯(CN)、甲苯磺酸酯(甲苯磺酸酯，OTs)、甲磺酸酯(甲磺酸酯，OMs)、对溴苯磺酸酯(对溴苯磺酸酯，OBs)、硝基苯磺酸酯(4-硝基苯磺酸酯，ONs)、水(H2O)、氨(NH3)和三氟甲磺酸酯(三氟甲烷磺酸酯，OTf)。
已经确定、定量并公布了数百种最常用取代基(反映所有常用的取代基类别)的供电子或吸电子性质。最常用的供电子或吸电子性质的定量化依据Hammettσ值。氢具有零的Hammettσ值，而其他取代基具有与它们的吸电子或供电子特征正相关而正或负增加的Hammettσ值。具有负Hammettσ值的取代基被认为是供电子的，而具有正Hammettσ值的那些被认为是吸电子的。参见Lange′s Handbook of Chemistry(兰氏化学手册)，第12版，McGraw Hill，1979，表3-12，第3-134至3-138页，其列出了大量常见取代基的Hammettσ值并且通过引用并入本文。应理解，术语“接受电子基团”可在本文与“电子受体”和“吸电子基”同义使用。特别地，“吸电子基”(“EWG”)或“接受电子基团”或“电子受体”是指吸引电子超过占据分子的相同位置的氢原子吸引电子的官能团。吸电子基的实例包括但不限于卤素或卤化物(例如F、Cl、Br、I)、-NO2、-CN、-OH、-OR0、-SH、-SR0、-S(R0)2 +、-NH2、-NHR0、-NR0 2、-N(R0)3 +、-SO3H、-SO2R0、-SO3R0、-SO2NHR0、-SO2N(R0)2、-COOH、-COR0、-COOR0、-CONHR0、-CON(R0)2、C1-10卤烷基、C6-14芳基和5-14元杂芳基，其中R0为C1-10烷基、C2-10烯基、C2-10炔基、C1-10卤烷基、C1-10烷氧基、C6-14芳基、C3-14环烷基、3-14元环杂烷基和5-14元杂芳基，所述基团中的每一个可如本文所述任选地取代。
在本说明书的各处，化合物的取代基以组或范围公开。明确地预期这种描述包括这些组和范围的成员的每一个单独的子组合。例如，明确地预期术语“C1-6烷基”单独地公开C1、C2、C3、C4、C5、C6、C1-C6、C1-C5、C1-C4、C1-C3、C1-C2、C2-C6、C2-C5、C2-C4、C2-C3、C3-C6、C3-C5、C3-C4、C4-C6、C4-C5和C5-C6烷基。作为其他实例，明确地预期范围为0至40的整数单独地公开0、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、 15、16、17、18、19、20、21、22、23、24、25、26、27、28、29、30、31、32、33、34、35、36、37、38、39和40，并且明确地预期范围为1至20的整数单独地公开1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19和20。
本文所述的化合物可包含不对称原子(也称为手性中心)并且一些化合物可包括一个或多个不对称原子或中心，因而它们可产生旋光异构体(对映体)和非对映体。本发明包括这些旋光异构体(对映体)和非对映体(几何异构体)，以及消旋体和拆分的对映体纯(+)和(-)立体异构体，和(+)和(-)立体异构体的其他混合物。在一些实施方式中，通过本领域技术人员已知的标准程序可获得对映体富集或纯的形式的旋光异构体，所述标准程序包括，例如手性分离、非对映体盐生成、动力学拆分和不对称合成。本发明还包括含有烯基部分(例如烯烃和亚胺)的化合物的顺式和反式异构体。还应理解的是，本发明涵盖所有可能的纯形式的位置异构体(regioisomer)及其混合物，其可通过使用本领域技术人员已知的标准分离程序来获得，所述标准分离程序包括，例如柱色谱法、薄层色谱法、模拟的移动床色谱法和高效液相色谱法。例如，本发明的苝化合物可包括它们各自纯形式的任何苝衍生物或其混合物，其中苝衍生物可被1、2、3、4、5、6、7或8个Ra基团取代，并且Ra如本文所定义。具体说，所述苝衍生物可包括具有如下部分的化合物：
其中Z0在每次出现时可以是H、吸电子基或离去基团，其中所述吸电子基和离去基团如本文所定义。在各种实施方式中，Z0基团中的两个可以为H而其他两个Z0基团可以独立地是吸电子基或离去基团。因此，在其中Z0基团中的两个为H且其他两个独立地为吸电子基或离去基团的实施方式中，本发明化合物可具有位置异构体，所述位置异构体具有如下部分：
在某些实施方式中，本发明化合物可包括具有如下部分的位置异构体及其混合物：
其中Z0可独立地是吸电子基或离去基团，例如卤素，诸如Br或CN基团。在特定的实施方式中，Z0可以为Ra，其中Ra如本文所定义。进一步，明确地预期一个位置异构体的描述包括其他位置异构体和任何位置异构体混合物，除非另有明确说明。因此，式I化合物的使用包括式II化合物(反之亦然)及式I和II的化合物的混合物。
如本文所用，“p型半导体材料”或“p型半导体”是指具有空穴作为大多数载流子的半导体材料。在一些实施方式中，当p型半导体材料沉积在基底上时，它可提供超过约10-5cm2/Vs的空穴迁移率。就场效应装置而言，p型半导体材料还可显示大于约10的电流开/关比。
如本文所用，“n型半导体材料”或“n型半导体”是指具有电子作为大多数载流子的半导体材料。在一些实施方式中，当n型半导体材料沉积在基底上时，它可提供超过约10-5cm2/Vs的电子迁移率。就场效应装置而言，n型半导体材料还可显示大于约10的电流开/关比。
如本文所用，“场效应迁移率”是指电荷载体、例如就p型半导体材料而言的空穴(或正电荷的单位)和就n型半导体材料而言的电子在电场的影响下穿过所述材料的速度的量度。
在本申请的各处，温度以范围公开。明确地预期这种描述包括在这些范围内的更窄的温度范围、以及这些温度范围的最大和最小温度。
在整个说明书中，结构可以用或可以不用化学名表示。当出现关于命名法的任何问题时，以结构为准。
在一个方面中，本发明提供了各种芳烃衍生物。在各种实施方式中，本发明提供了式I化合物：
其中：
W在每次出现时为O或NH；
Q为稠环部分；
Ra在每次出现时选自a)-CN、b)-NO2、c)-C(O)Rb、d)-C(O)NHRb、e)-C(O)ORb、f)-S(O)Rb、g)-S(O)2Rb、h)-S(O)2OH、i)-(CF2)tRb、j)-[C(CF3)2]tRb、k)氧代基、和l)被1-5个Rc基团取代的5-14元杂芳基；
Rb在每次出现时选自a)H、b)C1-20烷基、c)C3-10环烷基、d)C6-14芳基、e)C7-20芳烷基、f)3-12元环杂烷基和g)5-14元杂芳基，其中所述C1-20烷基、C3-10环烷基、C6-14芳基、C7-20芳烷基、3-12元环杂烷基和5-14元杂芳基中的每一个任选地被1-5个Rc基团取代；
Rc在每次出现时选自a)卤素、b)-CN、c)-NO2、d)-C(O)H、e)-C(O)-C1-20烷基、f)-C(O)NH2、g)-C(O)NH-C1-20烷基、h)-C(O)N(C1-20烷基)2、i)-C(O)OH、j)-C(O)-OC1-20烷基、k)-S(O)H、l)-S(O)-C1-20烷基、m)-S(O)2H、n)-S(O)2-C1-20烷基、和o)-S(O)2OH；
n为1、2、3、4、5、6、7或8；且
t在每次出现时为1、2、3、4、5、6、7、8、9或10。
在一些实施方式中，Q-(Ra)n可以是：
其中a、b、c、d、e、f、g和h在每次出现时独立地为CH、CRa、SiH、SiRa、N或P，且Ra如本文所定义。例如，Ra可以为-CN、-NO2或-C(O)CH3，并且a、b、c、d、e、f、g和h在每次出现时可独立地为CH、C(CN)或C[C(O)CH3]。在一些实施方式中，Q可被2-4个Ra基团取代。在特定的实施方式中，Q可在中央“海湾(bay)”位置被取代，即Q-(Ra)n可以为：
其中Ra如本文所定义。例如，Ra可以为-CN。
在特定的实施方式中，本发明化合物可具有下式：
在各种实施方式中，本发明提供了式II的化合物：
其中：
Q为稠环部分；
Ra在每次出现时选自a)-CN、b)-NO2、c)-C(O)Rb、d)-C(O)NHRb、 e)-C(O)ORb、f)-S(O)Rb、g)-S(O)2Rb、h)-S(O)2OH、i)-(CF2)tRb、j)-[C(CF3)2]tRb、k)氧代基、和l)被1-5个Rc基团取代的5-14元杂芳基；
Rb在每次出现时选自a)H、b)C1-20烷基、c)C3-10环烷基、d)C6-14芳基、e)C7-20芳烷基、f)3-12元环杂烷基、和g)5-14元杂芳基，其中所述C1-20烷基、C3-10环烷基、C6-14芳基、C7-20芳烷基、3-12元环杂烷基和5-14元杂芳基中的每一个任选地被1-5个Rc基团取代；
Rc在每次出现时选自a)卤素、b)-CN、c)-NO2、d)-C(O)H、e)-C(O)-C1-20烷基、f)-C(O)NH2、g)-C(O)NH-C1-20烷基、h)-C(O)N(C1-20烷基)2、i)-C(O)OH、j)-C(O)-OC1-20烷基、k)-S(O)H、l)-S(O)-C1-20烷基、m)-S(O)2H、n)-S(O)2-C1-20烷基、和o)-S(O)2OH；
n为1、2、3、4、5、6、7或8；
t在每次出现时为1、2、3、4、5、6、7、8、9或10；
R1在每次出现时为-L-R2或-L-Ar1-R2；
L在每次出现时为Y或(CH2CH2O)P；
Y在每次出现时为二价C1-20烷基、二价C1-20卤烷基或共价键；
Ar1为C6-14芳基或5-14元杂芳基，每个被1-5个取代基任选地取代，所述取代基独立地选自卤素、-CN、C1-20烷基、C2-20烯基、C1-20烷氧基、和C1-20卤烷基；
R2在每次出现时选自a)-ORd、b)-C(O)ORd、c)-C(O)Re、d)-C(O)NReRf、e)-C(S)ORd、f)-C(S)Re、g)-C(S)NReRf、h)-SRd、i)-S(O)2ORd、j)-S(O)2Re、k)-S(O)2NReRf、l)C1-20烷基、m)C2-20烯基、n)C2-20炔基、o)C3-10环烷基、p)C6-14芳基、q)3-12元环杂烷基、和r)5-14元杂芳基，其中C1-20烷基、C2-20烯基、C2-20炔基、C3-10环烷基、C6-14芳基、3-12元环杂烷基和5-14元杂芳基中的每一个任选地被1-5个-L-R3或-L-Ar2-R3基团取代；
Rd在每次出现时选自a)H、b)-C(O)Re、c)-C(O)NReRf、d)-C(S)Re、e)-C(S)NReRf、f)C1-20烷基、g)C2-20烯基、h)C2-20炔基、i)-Y-C3-10环烷基、j)-Y-C6-14芳基、k)-Y-3-12元环杂烷基、和l)-Y-5-14元杂芳基，其中C1-20 烷基、C2-20烯基、C2-20炔基、C3-10环烷基、C6-14芳基、3-12元环杂烷基和5-14元杂芳基中的每一个任选地被1-5个-L-R3基团取代；
Re和Rf在每次出现时独立地选自a)H、b)-OH、c)-SH、d)-S(O)2OH、e)-C(O)OH、f)-C(O)NH2、g)-C(S)NH2、h)-OC1-20烷基、i)-O-Y-C6-14芳基、j)-C(O)-C1-20烷基、k)-C(O)-OC1-20烷基、l)-C(S)N(C1-20烷基)2、m)-C(S)NH-C1-20烷基、n)-C(O)NH-C1-20烷基、o)-C(O)N(C1-20烷基)2、p)-S(O)m-C1-20烷基、q)-S(O)m-OC1-20烷基、r)-C(O)-Y-C6-14芳基、s)-C(O)-O-Y-C6-14芳基、t)-C(S)N(-Y-C6-14芳基)2、u)-C(S)N(C1-20烷基)-Y-C6-14芳基、v)-C(S)NH-Y-C6-14芳基、w)-C(O)NH-Y-C6-14芳基、x)-C(O)N(C1-20烷基)-Y-C6-14芳基、y)-C(O)N(Y-C6-14芳基)2、z)-S(O)m-Y-C6-14芳基、aa)-S(O)m-O-Y-C6-14芳基、ab)C1-20烷基、ac)C2-20烯基、ad)C2-20炔基、ae)-Y-C3-10环烷基、af)-Y-C6-14芳基、ag)-Y-3-12元环杂烷基、和ah)-Y-5-14元杂芳基，其中C1-20烷基、C2-20烯基、C2-20炔基、C3-10环烷基、C6-14芳基、3-12元环杂烷基和5-14元杂芳基中的每一个任选地被1-5个-L-R3基团取代；
Ar2在每次出现时为C6-14芳基或5-14元杂芳基，每个任选地被1-5个取代基取代，所述取代基独立地选自卤素、-CN、C1-20烷基、C2-20烯基、C1-20卤烷基和C1-20烷氧基；
R3在每次出现时选自a)卤素、b)-CN、c)-NO2、d)氧代基、e)-ORg、f)-SRg、g)-NRgRh、h)-N(O)RgRh、i)-S(O)mRg、j)-S(O)mORg、k)-S(O)mNRgRh、l)-C(O)Rg、m)-C(O)ORg、n)-C(O)NRgRh、o)-C(S)NRgRh、p)-SiH3、q)-SiH(C1-20烷基)2、r)-SiH2(C1-20烷基)、s)-Si(C1-20烷基)3、t)C1-20烷基、u)C2-20烯基、v)C2-20炔基、w)C3-10环烷基、x)C6-14芳基、y)3-12元环杂烷基、或z)5-14元杂芳基，其中C1-20烷基、C2-20烯基、C2-20炔基、C3-10环烷基、C6-14芳基、3-12元环杂烷基和5-14元杂芳基中的每一个任选地被1-5个-L-R4基团取代；
Rg和Rh在每次出现时独立地选自a)H、b)-OH、c)-SH、d)-S(O)2OH、e)-C(O)OH、f)-C(O)NH2、g)-C(S)NH2、h)-OC1-20烷基、i)-O-Y-C6-14芳基、j)-C(O)-C1-20烷基、k)-C(O)-OC1-20烷基、l)-C(S)N(C1-20烷基)2、m)-C(S)NH-C1-20烷基、n)-C(O)NH-C1-20烷基、o)-C(O)N(C1-20烷基)2、p) -S(O)m-C1-20烷基、q)-S(O)m-OC1-20烷基、r)-C(O)-Y-C6-14芳基、s)-C(O)-O-Y-C6-14芳基、t)-C(S)N(-Y-C6-14芳基)2、u)-C(S)N(C1-20烷基)-Y-C6-14芳基、v)-C(S)NH-Y-C6-14芳基、w)-C(O)NH-Y-C6-14芳基、x)-C(O)N(C1-20烷基)-Y-C6-14芳基、y)-C(O)N(Y-C6-14芳基)2、z)-S(O)m-Y-C6-14芳基、aa)-S(O)m-O-Y-C6-14芳基、ab)C1-20烷基、ac)C2-20烯基、ad)C2-20炔基、ae)-Y-C3-10环烷基、af)-Y-C6-14芳基、ag)-Y-3-12元环杂烷基、和ah)-Y-5-14元杂芳基，其中C1-20烷基、C2-20烯基、C2-20炔基、C3-10环烷基、C6-14芳基、3-12元环杂烷基和5-14元杂芳基中的每一个任选地被1-5个-L-R4基团取代；
R4在每次出现时选自a)卤素、b)-CN、c)-NO2、d)氧代基、e)-OH、f)-NH2、g)-NH(C1-20烷基)、h)-N(C1-20烷基)2、i)-N(C1-20烷基)-Y-C6-14芳基、j)-N(-Y-C6-14芳基)2、k)-S(O)mH、l)-S(O)mC1-20烷基、m)-S(O)2OH、n)-S(O)m-OC1-20烷基、o)-S(O)m-O-Y-C6-14芳基、p)-CHO、q)-C(O)-C1-20烷基、r)-C(O)-C6-14芳基、s)-C(O)OH、t)-C(O)-OC1-20烷基、u)-C(O)-O-Y-C6-14芳基、v)-C(O)NH2、w)-C(O)NH-C1-20烷基、x)-C(O)N(C1-20烷基)2、y)-C(O)NH-Y-C6-14芳基、z)-C(O)N(C1-20烷基)-Y-C6-14芳基、aa)-C(O)N(-Y-C6-14芳基)2、ab)-C(S)NH2、ac)-C(S)NH-C1-20烷基、ad)-C(S)N(C1-20烷基)2、ae)-C(S)N(-Y-C6-14芳基)2、af)-C(S)N(C1-20烷基)-Y-C6-14芳基、ag)-C(S)NH-Y-C6-14芳基、ah)-S(O)mNH2、ai)-S(O)mNH(C1-20烷基)、aj)-S(O)mN(C1-20烷基)2、ak)-S(O)mNH(-Y-C6-14芳基)、al)-S(O)mN(C1-20烷基)-Y-C6-14芳基、am)-S(O)mN(-Y-C6-14芳基)2、an)-SiH3、ao)-SiH(C1-20烷基)2、ap)-SiH2(C1-20烷基)、ar)-Si(C1-20烷基)3、as)C1-20烷基、at)C2-20烯基、au)C2-20炔基、av)C1-20烷氧基、aw)C1-20卤烷基、ax)C3-10环烷基、ay)C6-14芳基、az)3-12元环杂烷基、和ba)5-14元杂芳基；
m在每次出现时为0、1或2；且
p在每次出现时为0、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19或20。
在一些实施方式中，Q-(Ra)n可以为：
其中a、b、c、d、e、f、g和h在每次出现时独立地为CH、CRa、SiH、SiRa、N或P，且Ra如本文所定义。例如，Ra可以为-CN、-NO2或-C(O)CH3，并且a、b、c、d、e、f、g和h在每次出现时可独立地为CH、C(CN)或C[C(O)CH3]。在一些实施方式中，Q可被2-4个Ra基团取代。在特定的实施方式中，Q可在“海湾”位置被取代，即Q-(Ra)n可以为：
其中Ra如本文所定义。例如，Ra可以为-CN。
在特定的实施方式中，本发明化合物可具有下式：
其中R1如本文所定义。
在一些实施方式中，R1可选自直链C1-20烷基、支链C1-20烷基、支链C2-20烯基、-Y-C3-10环烷基、-Y-C6-14芳基、-Y-3-12元环杂烷基和-Y-5-14元杂芳基，其中C1-20烷基、C2-20烯基、C3-10环烷基、C6-14芳基、3-12元环杂烷基和5-14元杂芳基中的每一个可任选地被1-5个-L-R3基团取代，且L和R3如本文所定义。
在特定的实施方式中，R1可选自正辛基、(3S)-3，7-二甲基-6-辛烯基、(3S)-3，7-二甲基辛基、4-正己基苯基、4-吡啶甲基、6-叔丁氧基羰基氨基己基、9-蒽基、蒽-9-基甲基和2-(蒽-9-基)-乙基。
在一些实施方式中，R1可以为支链C1-20烷基或支链C2-20烯基。在特 定的实施方式中，R1可以为：
在各种实施方式中，R1可以为-L-R2或-L-Ar1-R2，其中R2可以为C6-14芳基或5-14元杂芳基，每个任选地被1-5个-L-R3或-L-Ar2-R3基团取代；Ar1可以为C6-14芳基或5-14元杂芳基，每个任选地被1-5个取代基取代，所述取代基独立地选自卤素、-CN、C1-6烷基、C1-6烷氧基和C1-6卤烷基；且L、Ar2和R3如本文所定义。例如，R2和Ar1可独立地为如本文所公开任选地被取代的C6-14芳基。在一些实施方式中，R2和Ar1中的每一个可以为任选被1-5个取代基取代的苯基(即R2和Ar1可一起形成联芳基)，所述取代基独立地选自卤素、C1-20烷基、C2-20烯基、C1-20卤烷基和C1-20烷氧基。在一些实施方式中，L可以为二价C1-10烷基、二价C1-10卤烷基或共价键。在某些实施方式中，R1可包括至少一个全卤芳基。例如，R1可以为苄基、联苯基或氟-取代的联苯基，如下示出：
在某些实施方式中，R1可任选地被-L′-C6-14芳基或-L′-二(C6-14芳基)基团取代，其中L′可以为二价C1-10烷基、-C(O)-、-O-、-S-或-S(O)-，且C6-14芳基中的每一个可任选地被1-5个基团取代，所述基团独立地选自R3和R4。在特定的实施方式中，R1可以为：
其中q可以为0、1、2、3、4、5、6、7、8、9或10，r可以为0、1、2、3或4，s可以为0、1、2、3、4或5，且L′、R3和R4如本文所定义。例如，q可以为0、1或2，R3可以为卤素(例如F)，r可以为0、1、2、3或4，s可以为0、1、2、3或4，L′可以为-CH2-、-CH2CH2-、-C(O)-、-O--S-或-S(O)-，且R4可以为卤素(例如F)或甲基。
在另一个方面中，本发明提供了用于制备式II化合物的方法：
所述方法可包括将具有式Ia的化合物
与式R1NH2的胺反应，或者
将具有式Ib的化合物
与具有式R1-LG的化合物反应，其中LG为离去基团并且Q、Ra、R1和n如上所定义。
在一些实施方式中，LG可选自Cl、Br、I、N3、OTs、OMs、NO2、SCN和CN。
在各种实施方式中，式Ib化合物可通过将式Ia化合物与氮源反应来制备。例如，所述氮源可以为NH3。
在各种实施方式中，式Ia化合物可通过将式III化合物
与氰化物反应来制备；
其中LG为离去基团；且
n如本文所定义。
在某些实施方式中，LG可选自卤化物、N3、-OTs、-OMs、-ONs、-OBs和-OTf。在特定的实施方式中，LG可以为Br。
在某些实施方式中，氰化物可以为LiCN、NaCN、KCN、CuCN、AgCN或三甲基腈硅烷(TMSCN)。例如，所述氰化物可以为CuCN或AgCN。在特定的实施方式中，所述氰化物可以为CuCN。
本发明化合物可通过使用本领域技术人员已知的标准合成方法和程序，由商业上可得的原材料、文献中已知的化合物或者易制备的中间体，依照如下流程1中所述的程序来制备。用于制备有机分子的标准合成方法和程序与官能团转化和操作可从相关科学文献或从本领域的标准教科书容易获得。应理解的是，当给出典型或优选的工艺条件(即反应温度、时间、反应物的摩尔比、溶剂、压力等)时，也可使用其他工艺条件，除非另有说明。最适宜的反应条件可随所用的特定反应物或溶剂而改变，但是这些条件可由本领域技术人员通过常规的优化程序来确定。有机合成的本领域技术人员将认识到，为了优化本文所述的化合物的生成的目的，可改变所提出的合成步骤的性质和顺序。
本文所述的工艺可根据本领域已知的任何适宜方法来监控。例如，产物生成可通过光谱手段如核磁共振波谱法(NMR，例如1H或13C)、红外光谱法(IR)、分光光度法(例如UV可见的)、质谱法(MS)或通过色谱法如高效 液相色谱法(HPLC)、气相色谱法(GC)、凝胶渗透色谱法(GPC)或薄层色谱法(TLC)来监控。
本文所述的反应或工艺可在可由有机合成的本领域技术人员容易选择的适宜溶剂中进行。适宜的溶剂通常在进行反应的温度(即范围可为溶剂的冰冻温度至溶剂的沸腾温度的温度)下与反应物、中间体和/或产物基本上无反应性。可在一种溶剂或多于一种溶剂的混合物中进行给定的反应。根据特定反应步骤，可选择用于特定反应步骤的适宜溶剂。
流程1
如在流程1中所示，在一些实施方式中，式II化合物可通过将式Ia化合物与式R1NH2的胺反应来制备。在其他实施方式中，式II化合物可将式Ib化合物与式R1-LG的化合物反应来制备，其中LG为如本文所定义的离去基团。例如，LG可选自Cl、Br、I、N3、-SCN、OTs、OMs、NO2和CN。
在一些实施方式中，式Ia或Ib化合物可在共溶剂系统中分别与R1NH2或R1-LG反应。在某些实施方式中，所述共溶剂系统可包括极性溶剂和低极性/非极性溶剂。例如，所述极性溶剂可以是质子溶剂。在特定的实施方式中，所述共溶剂系统可包括二甲苯和丙酸。
本发明化合物包括但不限于表1和表2中列出的化合物。
表1
表2
式II化合物以及式Ia和Ib的化合物可用来制造半导体材料和相关的电装置，诸如薄膜半导体、场效应装置、有机发光二极管(OLED)、有机光伏电池(organic photovoltaics)、电容器和传感器。在一些实施方式中，式I和II的化合物可在一般溶剂(例如，水和一般有机溶剂)中具有令人满意的溶解度，这可有助于减少制造成本并且提供制造这些装置的加工优势。
下述实施例被提供来进一步说明并且帮助理解本发明，并不旨在以任何方式限制本发明。
除非另有说明，所有试剂购自商业来源且不经进一步纯化而使用。根据已知的程序合成一些试剂。无水四氢呋喃(THF)由钠/二苯甲酮蒸馏得到的。在氮气下进行反应，除非另有说明。在Cary Model 1 UV-可见分光光度计上记录UV-可见光谱。在Varian Unity Plus 500光谱仪(1H，500MHz； 13C，125MHz)记录NMR光谱。在Thermo Finnegan model LCQ Advantage质谱仪上进行电喷雾质谱法。
实施例1：1，7-二氰基苝-3，4：9，10-双酐的制备.将1，7-二溴苝-3，4：9，10-双酐(1.5g，2.73mmol)和氰化亚铜(I)(CuCN，4.43g，49.5mmol)在二甲基甲酰胺(DMF，70mL)中的混合物脱气并在150℃加热6.5小时。冷却至室温后，通过过滤收集沉淀，用甲醇洗涤，并干燥过夜。用氰化钾(KCN，100 mmol)的水溶液和用热水洗涤粗产物以得到为暗红色固体的产物(65％收率)。MS-MALDI(计算值442.34)442.7(图3)。熔点＞300℃。
实施例2：2，6-二氰基萘-1，4：5，8-双酐的制备.将2，6-二溴萘-1，4：5，8-双酐(0.58g，1.40mmol)和CuCN(2.22g，25.0mmol)在DMF(25mL)中的混合物脱气并在150℃加热4小时。冷却至室温后，通过过滤收集沉淀，用甲醇洗涤，并干燥过夜。用氰化钾(50mmol)的水溶液和用热水洗涤粗产物以得到为浅黄色固体的产物(58％收率)。MS-MALDI(计算值317.99)318.1(图4)。熔点＞300℃。
实施例3：9，10-二氰基蒽-2，3：6，7-双酐的制备.将9，10-二溴蒽-2，3：6，7-双酐(0.67g，1.40mmol)和CuCN(2.22g，25.0mmol)在DMF(30mL)中的混合物脱气并在150℃加热5小时。冷却至室温后，通过过滤收集沉淀，用甲醇洗涤，并干燥过夜。用氰化钾(50mmol)的水溶液和用热水洗涤粗产物以得到为浅黄色固体的产物(44.1％收率)。MS-MALDI计算值368.01实测值369.0。熔点＞300℃。
实施例4：1，7-二氰基苝-3，4：9，10-二(二羧酰亚胺)的制备.将醋酸铵(3.62g，47.03mmol)和1，7-二氰基苝-3，4：9，10-双酐(100mg，0.226mmol)在丙酸(25mL)中的混合物在145℃加热1小时。冷却至室温后，通过过滤收集沉淀，用水和MeOH洗涤，并干燥过夜(79％收率)。MS-MALDI(计算值440.37)440.9(图5)。EI-MS：实测值441.0。熔点＞300℃。
实施例5a：N，N′-二(正辛基)-1，7-二氰基苝-3，4：9，10-二(二羧酰亚胺)的制备.(方法A).将正辛胺(117mg，0.9mmol)加至1，7-二氰基苝-3，4：9，10-双酐(200mg，0.45mmol)在二甲苯(3mL)和丙酸(0.7mL)中的混合物。将反应混合物在145℃搅拌5分钟。冷却至室温后，加入MeOH(8mL)，沉淀生成，通过过滤收集沉淀，用MeOH洗涤，并干燥过夜。获得为暗红色固体的产物(218mg，73％收率)。1H NMR(CHCl3，500MHz)：δ9.71(d，2H)，8.99(s，2H)，8.94(d，2H)，4.23(t，4H)，1.77(m，4H)，1.56-1.3(m，20H)，0.90(t，6H)。熔点＞300℃。
实施例5b：N，N′-二(正辛基)-1，7-二氰基苝-3，4：9，10-二(二羧酰亚胺)的制备.(方法B).将t-BuOH(3.6mmol)加至1，7-二氰基苝-3，4：9，10-二(二羧酰 亚胺)(200mg，0.45mmol)在干燥DMF(10mL)中的悬浮液。在室温下搅拌6小时后，加入1-溴辛烷(468mg，3.6mmol)并将反应混合物搅拌16小时。加入MeOH(40mL)并通过过滤板收集沉淀，并用水和MeOH洗涤以提供为红色固体的产物(38％收率)。
实施例6：N，N′-二[(3S)-3，7-二甲基辛烯-6-基]-1，7-二氰基苝-3，4：9，10-二(二羧酰亚胺)的制备.(方法A).将香茅胺(5.00g，31.8mmol)加至1，7-二氰基苝-3，4：9，10-双酐(7.07g，15.9mmol)在二甲苯(45mL)和丙酸(10.5mL)中的混合物。将反应混合物在145℃搅拌10分钟。冷却至室温后，加入MeOH(160mL)并通过过滤收集沉淀，用MeOH洗涤，并干燥过夜以提供为暗红色固体的产物(74％收率)。熔点＝278℃(DMF)。EA：C46H44N4O4计算值：C，77.07；H，6.19；N，7.82；实测值C，77.39；H，6.18；N，7.99； 1H NMR参考图8。
实施例7a：N，N′-二[(3S)-3，7-二甲基辛基]-1，7-二氰基苝-3，4：9，10-二(二羧酰亚胺)的制备.(方法A).将(3S)-3，7-二甲基辛胺(2.37g，15.0mmol)加至1，7-二氰基苝-3，4：9，10-双酐(3.00mg，7.54mmol)在二甲苯(20mL)和丙酸(5mL)中的混合物。将反应混合物在145℃搅拌10分钟。冷却至室温后，加入MeOH(160mL)并通过过滤收集沉淀，用MeOH洗涤，并干燥过夜。获得为暗红色固体的产物(79％收率)。EA：计算值C，76.64；H，6.71；N，7.77；实测值C，76.72；H，6.86；N，7.59；1H NMR参考图9。
实施例7b：N，N′-二[(3S)-3，7-二甲基辛基]-1，7-二氰基苝-3，4：9，10-二(二羧酰亚胺)的制备.(方法B).将t-BuOH(3.6mmol)加至1，7-二氰基苝-3，4：9，10-二(二羧酰亚胺)(200mg，0.45mmol)在干燥DMF(10mL)中的悬浮液。在室温下搅拌6小时后，加入香茅溴(3.6mmol)并将反应混合物搅拌16小时。加入MeOH(50mL)并通过过滤收集沉淀，用水和MeOH洗涤以提供为红色固体的产物(31％收率)。
实施例7c：N，N′-二(2-乙基己基)-1，7-二氰基苝-3，4：9，10-二(二羧酰亚胺)的制备.(方法A).将2-乙基己胺(117mg，0.9mmol)加至1，7-二氰基苝-3，4：9，10-双酐(200mg，0.45mmol)在二甲苯(3mL)和丙酸(0.7mL)中的混合物。将反应混合物在145℃搅拌10分钟。冷却至室温后，加入MeOH(10mL) 并沉淀生成，通过过滤收集沉淀，用MeOH洗涤，并干燥过夜。获得为暗红色固体的产物(198mg，66％收率)。熔点＞319-321℃；1H NMR参考图10。
实施例8：N，N′-二(4-正己基苯基)-1，7-二氰基苝-3，4：9，10-二(二羧酰亚胺)的制备.(方法A).将4-己基苯胺(80.2mg，0.452mmol)和1，7-二氰基苝-3，4：9，10-双酐(100mg，0.226mmol)在二甲苯(1.5mL)和丙酸(0.34mL)中的混合物在145℃加热5分钟。冷却至室温后，加入MeOH(8mL)并通过过滤收集沉淀，用MeOH洗涤，并干燥过夜。获得收率为71％的产物。1H NMR(CHCl3，500MHz)：δ9.77(d，2H)，9.04(s，2H)，9.00(d，2H)，7.42(d，4H)，7.26(d，4H)，2.73(t，4H)，1.72(m，4H)，1.55-1.35(m，12H)，0.93(t，6H).MS-MALDI计算值760.88实测值760.3。熔点＞300℃。
实施例9：N，N′-二(4-吡啶甲基)-1，7-二氰基苝-3，4：9，10-二(二羧酰亚胺)的制备.(方法A).将4-吡啶甲基胺(73mg，0.68mmol)和1，7-二氰基苝-3，4：9，10-双酐(150mg，0.34mmol)在二甲苯(2.2mL)和丙酸(0.5mL)中的混合物在145℃加热5分钟。冷却至室温后，加入MeOH(8mL)并通过过滤收集沉淀，用MeOH洗涤，并干燥过夜。获得收率为81％的产物(171mg)。MS-MALDI计算值622.59实测值622.6；熔点＞300℃；1H NMR参考图7。
实施例10：N，N′-二(6-叔丁氧基羰基氨基己基)-1，7-二氰基苝-3，4：9，10-二(二羧酰亚胺)的制备.(方法A).将N-丁氧基羰基-1，6-二氨基己烷(N-BOC-1，6-二氨基己烷，1.73g，8mmol)在10mL二甲苯中的溶液逐滴加入到1，7-二溴苝-3，4：9，10-双酐(2g，3.64mmol)在二甲苯(30mL)的悬浮液中。将反应混合物在145℃搅拌10分钟。冷却至室温后，加入MeOH并通过过滤收集沉淀，用MeOH洗涤，并干燥过夜。以66％的收率获得产物。熔点210℃；1H NMR参考图6。
实施例11：N，N′-二(9-蒽基)-1，7-二氰基苝-3，4：9，10-二(二羧酰亚胺)的制备.(方法A).将9-氨基蒽(87.4mg，0.452mmol)和1，7-二氰基苝-3，4：9，10-双酐(100mg，0.226mmol)在二甲苯(1.5mL)和丙酸(0.34mL)中的混合物在145℃加热8分钟。冷却至室温后，加入MeOH(8mL)，通过过滤收集沉淀，用MeOH洗涤，并干燥过夜。获得收率为74％的产物。熔点＞300℃。
实施例12：N，N′-二(蒽-9-基甲基)-1，7-二氰基苝-3，4：9，10-二(二羧酰亚胺)的制备.将9-甲基氨基蒽(93.7mg，0.452mmol)和1，7-二氰基苝-3，4：9，10-双酐(100mg，0.226mmol)在二甲苯(1.5mL)和丙酸(0.34mL)的混合物在145℃加热7分钟。冷却至室温后，加入MeOH(8mL)并通过过滤收集沉淀，用MeOH洗涤，并干燥过夜。获得收率为64％的产物。MS-MALDI计算值820.85、实测值820.5。熔点＞300℃。
实施例13：N，N′-二(2-(蒽-9-基)-乙基)-1，7-二氰基苝-3，4：9，10-二(二羧酰亚胺)的制备.(方法A).将9-(2-氨基乙基)蒽(100mg，0.452mmol)和1，7-二氰基苝-3，4：9，10-双酐(100mg，0.226mmol)在二甲苯(1.5mL)和丙酸(0.34mL)中的混合物在145℃加热5分钟。冷却至室温后，加入MeOH(8mL)并通过过滤收集沉淀，用MeOH洗涤，并干燥过夜。获得收率为68％的产物。熔点＞300℃。
实施例14：N，N′-二辛基-2，6-二氰基萘-1，4：5，8-二(二羧酰亚胺)的制备.(方法A).将正辛胺(0.42mg，3.2mmol)加至2，6-二氰基萘-1，4：5，8-双酐(0.51g，1.6mmol)在二甲苯(12mL)和丙酸(2.8mL)中的混合物。将反应混合物在145℃搅拌8分钟。冷却至室温后，加入MeOH(30mL)并通过过滤收集沉淀，用MeOH洗涤，并干燥过夜。获得为浅黄色固体的产物(69％收率)。
实施例15：N，N′-{4-[(3S)-3，7-二甲基-6-辛烯基]苯基}-2，6-二氰基萘-1，4：5，8-二(二羧酰亚胺)的制备.(方法A).将香茅胺(0.5g，3.2mmol)加至2，6-二氰基萘-1，4：5，8-双酐(0.51g，1.6mmol)在二甲苯(4.5mL)和丙酸(1mL)中的混合物。将反应混合物在145℃搅拌10分钟。冷却至室温后，加入MeOH(15mL)并通过过滤收集沉淀，用MeOH洗涤，并干燥过夜。获得为黄色固体的产物(76％收率)。1H NMR(CDCl3)：δ9.12(s，2H)，7.45(d，4H，J＝8.1Hz)，7.22(d，4H，J＝8.1Hz)，5.18(t，2H，J＝7.1Hz)，2.72(t，4H，J＝7.8Hz)，2.16-1.96(m，4H)，1.82-1.40(m，6H)，1.66(s，6H)，1.64(s，6H)，1.40-1.20(m，4H)，1.01(d，6H，J＝6.6Hz)。C48H48N4O4的EA计算值：C，77.39；H，6.49；N，7.52；实测值C，77.81；H，6.12；N，7.09。
实施例16：N，N′-二辛基-9，10-二氰基蒽-2，3：6，7-二(二羧酰亚胺)的制备.(方法A).将正辛胺(0.84mg，6.4mmol)加至9，10-二氰基蒽-2，3：6，7-双酐(1.2 g，3.2mmol)在二甲苯(23mL)和丙酸(6mL)中的混合物。将反应混合物在145℃搅拌10分钟。冷却至室温后，加入MeOH(60mL)并形成沉淀，通过过滤收集沉淀，用MeOH洗涤，并最终干燥过夜。获得为浅黄色固体的产物(73％收率)。
本发明在不背离本发明的精神或本质特征下包括其他特定形式的实施方式。因此，前述的实施方式被认为在所有方面是说明性的，而不是限制本文所述的本发明。因而本发明的范围由所附权利要求、而不是由前文的描述表示，并且预期本发明包括在权利要求的等同的含义和范围之内的所有变化。
Claims (4)
1.一种用如下式I(a)或I(b)的化合物制备如下式II(a)或II(b)的化合物的方法：
所述方法包括在共溶剂系统中将式I(a)或I(b)的化合物：
与式R1NH2的胺反应，
其中：
R1选自直链或支链C1-20烷基，支链C2-20烯基，和-Y-C6-14芳基，其中Y在每次出现时为二价C1-20烷基或共价键，其中所述C6-14芳基任选地被1-5个-L-R3基团取代，其中L在每次出现时为Y，并且R3在每次出现时独立地选自卤素、C1-20烷基、C2-20烯基；
其中，所述共溶剂系统为二甲苯和丙酸。
2.根据权利要求1所述的方法，其中R1选自正辛基、(3S)-3,7-二甲基-6-辛烯基、(3S)-3,7-二甲基辛基、4-正己基苯基、9-蒽基、蒽-9-基甲基和2-(蒽-9-基)-乙基。
3.根据权利要求1所述的方法，其中所述式II(a)或II(b)的化合物选自：
N,N'-二[正辛基]-1,7-二氰基苝-3,4:9,10-二(二羧酰亚胺)、
N,N'-二[(3S)-3,7-二甲基-6-辛烯基]-1,7-二氰基苝-3,4:9,10-二(二羧酰亚胺)、
N,N'-二[(3S)-3,7-二甲基辛基]-1,7-二氰基苝-3,4:9,10-二(二羧酰亚胺)、
N,N'-二(2-乙基己基)-1,7-二氰基苝-3,4:9,10-二(二羧酰亚胺)、
N,N'-二(4-正己基苯基)-1,7-二氰基苝-3,4:9,10-二(二羧酰亚胺)、
N,N'-二(9-蒽基)-1,7-二氰基苝-3,4:9,10-二(二羧酰亚胺)、
N,N'-二(蒽-9-基甲基)-1,7-二氰基苝-3,4:9,10-二(二羧酰亚胺)、
N,N'-二(2-(蒽-9-基)-乙基)-1,7-二氰基苝-3,4:9,10-二(二羧酰亚胺)、
N,N'-二辛基-2,6-二氰基萘-1,4:5,8-二(二羧酰亚胺)、和
N,N'-{4-[(3S)-3,7-二甲基-6-辛烯基]苯基}-2,6-二氰基萘-1,4:5,8-二(二羧酰亚胺)。
4.根据权利要求1所述的方法，其中R1选自直链或支链C1-20烷基、支链C2-20烯基。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US87914507P | 2007-01-08 | 2007-01-08 | |
| US60/879,145 | 2007-01-08 | ||
| PCT/US2008/000194 WO2008085942A2 (en) | 2007-01-08 | 2008-01-07 | Methods for preparing arene-bis(dicarboximide)-based semiconducting materials and related intermediates for preparing same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101622253A CN101622253A (zh) | 2010-01-06 |
| CN101622253B true CN101622253B (zh) | 2015-04-29 |
Family
ID=39609276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN200880007028.0A Active CN101622253B (zh) | 2007-01-08 | 2008-01-07 | 用于制备基于芳烃-双（二羧酰亚胺）的半导体材料的方法和用于制备它们的相关中间体 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7893265B2 (zh) |
| EP (1) | EP2104676A2 (zh) |
| JP (1) | JP2010515684A (zh) |
| KR (1) | KR20090117730A (zh) |
| CN (1) | CN101622253B (zh) |
| WO (1) | WO2008085942A2 (zh) |
Families Citing this family (75)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7671202B2 (en) | 2004-01-26 | 2010-03-02 | Northwestern University | Perylene n-type semiconductors and related devices |
| WO2007146250A2 (en) * | 2006-06-12 | 2007-12-21 | Northwestern University | Naphthalene-based semiconductor materials and methods of preparing and use thereof |
| GB0618955D0 (en) * | 2006-09-26 | 2006-11-08 | Cryscade Solar Ltd | Organic compound and organic photovoltaic device |
| EP2089398A2 (en) * | 2006-10-25 | 2009-08-19 | Polyera Corporation | Organic semiconductor materials and methods of preparing and use thereof |
| US7892454B2 (en) * | 2006-11-17 | 2011-02-22 | Polyera Corporation | Acene-based organic semiconductor materials and methods of preparing and using the same |
| JP5380296B2 (ja) | 2006-11-17 | 2014-01-08 | ポリエラ コーポレイション | ジイミド系半導体材料ならびにジイミド系半導体材料を調製および使用する方法 |
| US8022214B2 (en) | 2007-01-24 | 2011-09-20 | Polyera Corporation | Organic semiconductor materials and precursors thereof |
| US8963126B2 (en) | 2008-01-07 | 2015-02-24 | The Johns Hopkins University | Low-voltage, N-channel transistors including a hybrid semiconductor-dielectric material |
| EP2240528B1 (en) * | 2008-02-05 | 2017-04-12 | Basf Se | Semiconductor materials prepared from rylene-( -acceptor) copolymers |
| TWI439461B (zh) * | 2008-02-05 | 2014-06-01 | Basf Se | 苝半導體及其製備方法與用途 |
| WO2009144205A1 (en) * | 2008-05-30 | 2009-12-03 | Basf Se | Rylene-based semiconductor materials and methods of preparation and use thereof |
| US8269215B2 (en) | 2008-07-21 | 2012-09-18 | The Johns Hopkins University | Pyromellitic diimide organic semiconductors and devices |
| EP2660889A3 (en) | 2008-11-24 | 2014-11-12 | Basf Se | Photocurable polymeric dielectrics and methods of preparation and use thereof |
| US8853820B2 (en) | 2009-05-25 | 2014-10-07 | Basf Se | Crosslinkable dielectrics and methods of preparation and use thereof |
| WO2011088343A2 (en) | 2010-01-17 | 2011-07-21 | Polyera Corporation | Dielectric materials and methods of preparation and use thereof |
| EP2390253A1 (en) * | 2010-05-28 | 2011-11-30 | Universität des Saarlandes | Morylenes, a new class of modified rylenes |
| WO2012013508A1 (en) | 2010-07-30 | 2012-02-02 | Basf Se | Amphiphilic protein in printed electronics |
| WO2012088266A2 (en) | 2010-12-22 | 2012-06-28 | Incyte Corporation | Substituted imidazopyridazines and benzimidazoles as inhibitors of fgfr3 |
| KR101430945B1 (ko) * | 2010-12-30 | 2014-08-18 | 바스프 에스이 | 퍼릴렌 기재 반도체 및 그의 제조 방법 및 용도 |
| KR20130128468A (ko) * | 2011-03-03 | 2013-11-26 | 바스프 에스이 | 페릴렌-기재 반도체 물질 |
| US8471020B2 (en) | 2011-03-03 | 2013-06-25 | Basf Se | Perylene-based semiconducting materials |
| JP5733612B2 (ja) * | 2011-03-08 | 2015-06-10 | 国立大学法人信州大学 | 有機半導体薄膜用材料、該材料を用いた有機半導体薄膜の形成方法および有機薄膜トランジスタ |
| JP6108329B2 (ja) * | 2011-08-15 | 2017-04-05 | 国立大学法人東京工業大学 | 有機半導体材料 |
| CN104221177B (zh) | 2012-02-07 | 2017-03-29 | 飞利斯有限公司 | 可光固化聚合材料及相关电子装置 |
| DK3176170T3 (en) | 2012-06-13 | 2019-01-28 | Incyte Holdings Corp | SUBSTITUTED TRICYCLIC RELATIONS AS FGFR INHIBITORS |
| WO2014026125A1 (en) | 2012-08-10 | 2014-02-13 | Incyte Corporation | Pyrazine derivatives as fgfr inhibitors |
| US9266892B2 (en) | 2012-12-19 | 2016-02-23 | Incyte Holdings Corporation | Fused pyrazoles as FGFR inhibitors |
| ES2893725T3 (es) | 2013-04-19 | 2022-02-09 | Incyte Holdings Corp | Heterocíclicos bicíclicos como inhibidores del FGFR |
| TWI688850B (zh) | 2013-08-13 | 2020-03-21 | 飛利斯有限公司 | 具有電子顯示器之物品 |
| WO2015031426A1 (en) | 2013-08-27 | 2015-03-05 | Polyera Corporation | Flexible display and detection of flex state |
| WO2015031501A1 (en) | 2013-08-27 | 2015-03-05 | Polyera Corporation | Attachable device having a flexible electronic component |
| WO2015038684A1 (en) | 2013-09-10 | 2015-03-19 | Polyera Corporation | Attachable article with signaling, split display and messaging features |
| JP6639400B2 (ja) | 2013-12-24 | 2020-02-05 | フレックステラ， インコーポレイテッドＦｌｅｘｔｅｒｒａ， Ｉｎｃ． | 取り付け可能な二次元可撓性電子デバイスのための支持構造 |
| WO2015100224A1 (en) | 2013-12-24 | 2015-07-02 | Polyera Corporation | Flexible electronic display with user interface based on sensed movements |
| CN106030687B (zh) | 2013-12-24 | 2020-08-14 | 飞利斯有限公司 | 动态可挠物品 |
| CN106030688B (zh) | 2013-12-24 | 2020-01-24 | 飞利斯有限公司 | 可挠性电子物品 |
| US20150227245A1 (en) | 2014-02-10 | 2015-08-13 | Polyera Corporation | Attachable Device with Flexible Electronic Display Orientation Detection |
| US10261634B2 (en) | 2014-03-27 | 2019-04-16 | Flexterra, Inc. | Infrared touch system for flexible displays |
| US10340082B2 (en) | 2015-05-12 | 2019-07-02 | Capacitor Sciences Incorporated | Capacitor and method of production thereof |
| JP6953306B2 (ja) | 2014-05-12 | 2021-10-27 | キャパシター サイエンシズ インコーポレイテッドＣａｐａｃｉｔｏｒ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | エネルギー蓄積装置及びその製造方法 |
| US10347423B2 (en) | 2014-05-12 | 2019-07-09 | Capacitor Sciences Incorporated | Solid multilayer structure as semiproduct for meta-capacitor |
| US20170301477A1 (en) | 2016-04-04 | 2017-10-19 | Capacitor Sciences Incorporated | Electro-polarizable compound and capacitor |
| TWI692272B (zh) | 2014-05-28 | 2020-04-21 | 美商飛利斯有限公司 | 在多數表面上具有可撓性電子組件之裝置 |
| WO2015183567A1 (en) | 2014-05-28 | 2015-12-03 | Polyera Corporation | Low power display updates |
| US10851105B2 (en) | 2014-10-22 | 2020-12-01 | Incyte Corporation | Bicyclic heterocycles as FGFR4 inhibitors |
| US9916931B2 (en) | 2014-11-04 | 2018-03-13 | Capacitor Science Incorporated | Energy storage devices and methods of production thereof |
| WO2016134294A1 (en) | 2015-02-20 | 2016-08-25 | Incyte Corporation | Bicyclic heterocycles as fgfr4 inhibitors |
| CN107438607B (zh) | 2015-02-20 | 2021-02-05 | 因赛特公司 | 作为fgfr抑制剂的双环杂环 |
| MA41551A (fr) | 2015-02-20 | 2017-12-26 | Incyte Corp | Hétérocycles bicycliques utilisés en tant qu'inhibiteurs de fgfr4 |
| WO2016138356A1 (en) | 2015-02-26 | 2016-09-01 | Polyera Corporation | Attachable device having a flexible electronic component |
| RU2017128756A (ru) | 2015-02-26 | 2019-03-27 | Кэпэситор Сайенсиз Инкорпорейтед | Самовосстанавливающийся конденсатор и способы его получения |
| US10254795B2 (en) | 2015-05-06 | 2019-04-09 | Flexterra, Inc. | Attachable, flexible display device with flexible tail |
| US9932358B2 (en) | 2015-05-21 | 2018-04-03 | Capacitor Science Incorporated | Energy storage molecular material, crystal dielectric layer and capacitor |
| US9941051B2 (en) | 2015-06-26 | 2018-04-10 | Capactor Sciences Incorporated | Coiled capacitor |
| US10600574B2 (en) | 2015-10-21 | 2020-03-24 | Capacitor Sciences Incorporated | Organic compound, crystal dielectric layer and capacitor |
| US10026553B2 (en) * | 2015-10-21 | 2018-07-17 | Capacitor Sciences Incorporated | Organic compound, crystal dielectric layer and capacitor |
| US20170233528A1 (en) * | 2016-02-12 | 2017-08-17 | Capacitor Sciences Incorporated | Sharp polymer and capacitor |
| US10305295B2 (en) | 2016-02-12 | 2019-05-28 | Capacitor Sciences Incorporated | Energy storage cell, capacitive energy storage module, and capacitive energy storage system |
| US10153087B2 (en) | 2016-04-04 | 2018-12-11 | Capacitor Sciences Incorporated | Electro-polarizable compound and capacitor |
| US9978517B2 (en) | 2016-04-04 | 2018-05-22 | Capacitor Sciences Incorporated | Electro-polarizable compound and capacitor |
| US10395841B2 (en) | 2016-12-02 | 2019-08-27 | Capacitor Sciences Incorporated | Multilayered electrode and film energy storage device |
| AR111960A1 (es) | 2017-05-26 | 2019-09-04 | Incyte Corp | Formas cristalinas de un inhibidor de fgfr y procesos para su preparación |
| US10513515B2 (en) | 2017-08-25 | 2019-12-24 | Biotheryx, Inc. | Ether compounds and uses thereof |
| US11345778B2 (en) | 2018-01-19 | 2022-05-31 | Flexterra, Inc. | Organic dielectric materials and devices including them |
| BR112020022392A2 (pt) | 2018-05-04 | 2021-02-02 | Incyte Corporation | formas sólidas de um inibidor de fgfr e processos para preparação das mesmas |
| MA52493A (fr) | 2018-05-04 | 2021-03-10 | Incyte Corp | Sels d'un inhibiteur de fgfr |
| CA3106239A1 (en) | 2018-07-27 | 2020-01-30 | Biotheryx, Inc. | Bifunctional compounds as cdk modulators |
| WO2020185532A1 (en) | 2019-03-08 | 2020-09-17 | Incyte Corporation | Methods of treating cancer with an fgfr inhibitor |
| US11591329B2 (en) | 2019-07-09 | 2023-02-28 | Incyte Corporation | Bicyclic heterocycles as FGFR inhibitors |
| CR20220169A (es) | 2019-10-14 | 2022-10-27 | Incyte Corp | Heterociclos bicíclicos como inhibidores de fgfr |
| US11566028B2 (en) | 2019-10-16 | 2023-01-31 | Incyte Corporation | Bicyclic heterocycles as FGFR inhibitors |
| WO2021113462A1 (en) | 2019-12-04 | 2021-06-10 | Incyte Corporation | Derivatives of an fgfr inhibitor |
| JP2023505258A (ja) | 2019-12-04 | 2023-02-08 | インサイト・コーポレイション | Ｆｇｆｒ阻害剤としての三環式複素環 |
| US11897930B2 (en) | 2020-04-28 | 2024-02-13 | Anwita Biosciences, Inc. | Interleukin-2 polypeptides and fusion proteins thereof, and their pharmaceutical compositions and therapeutic applications |
| WO2022261160A1 (en) | 2021-06-09 | 2022-12-15 | Incyte Corporation | Tricyclic heterocycles as fgfr inhibitors |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006093965A2 (en) * | 2005-03-01 | 2006-09-08 | Georgia Tech Research Corporation | Coronene charge-transport materials, methods of fabrication thereof, and methods of use thereof |
Family Cites Families (106)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2087133A (en) * | 1933-04-15 | 1937-07-13 | Gen Aniline Works Inc | Dyestuffs of the naphthalene-1.4.5.8-tetracarboxylic acid dhmide series |
| DE1522385C3 (de) | 1966-06-08 | 1973-09-20 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Lichtempflindliche Materialien |
| FR2237922A1 (en) | 1973-06-29 | 1975-02-14 | Ugine Kuhlmann | Coloured polyurethane prepd. in presence of dye - contg. terminal reactive gps. |
| DE2951349A1 (de) | 1979-12-20 | 1981-07-02 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Naphthalintetracarbonsaeurediimide als elektrische halbleiter und photoleiter |
| US4378302A (en) * | 1980-12-16 | 1983-03-29 | General Electric Company | Red perylene dichroic dye containing liquid crystal formulations |
| JPS58124790A (ja) * | 1982-01-21 | 1983-07-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | アントラセンテトラカルボン酸二無水物誘導体 |
| US4611385A (en) * | 1982-06-18 | 1986-09-16 | At&T Bell Laboratories | Devices formed utilizing organic materials |
| US4667036A (en) | 1983-08-27 | 1987-05-19 | Basf Aktiengesellschaft | Concentration of light over a particular area, and novel perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic acid diimides |
| DE3535496A1 (de) | 1985-10-04 | 1987-04-16 | Bayer Ag | Verfahren zur fluoreszenzloeschung und neue kationische naphthalin-peri-dicarbonsaeureimid-derivate |
| DE3620332A1 (de) | 1986-06-18 | 1987-12-23 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von tetrachlornaphthalintetracarbonsaeuredianhydrid und -diimid, sowie die neue verbindung 2.3.6.7-tetrachlornaphthalin-1.4.5.8.- tetracarbonsaeurediimid |
| DE3631678A1 (de) * | 1986-09-18 | 1988-03-24 | Basf Ag | Tetrachlorperylen-3,4,9,10-tetracarbonsaeurediimidpigment und dessen verwendung |
| DE3703131A1 (de) | 1987-02-03 | 1988-08-11 | Bayer Ag | 2.3.6.7-tetrafluornaphthalintetracarbonsaeurebisimide, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
| DE3934329A1 (de) | 1989-10-13 | 1991-04-18 | Basf Ag | Polymerisierbare perylen-3,4,9,10-tetracarbonsaeurebisimide sowie deren polymerisate |
| DE4018830A1 (de) | 1990-06-12 | 1991-12-19 | Langhals Heinz | Synthese und verwendung von nicht-symmetrisch substituierten perylen-fluoreszenzfarbstoffen |
| JPH0525174A (ja) | 1991-07-16 | 1993-02-02 | Kao Corp | 新規ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物 |
| JPH0527459A (ja) | 1991-07-19 | 1993-02-05 | Kao Corp | 電子写真感光体 |
| DE4236885A1 (de) * | 1992-10-31 | 1994-05-05 | Basf Ag | Quaterrylentetracarbonsäureimide |
| US5677417A (en) * | 1993-05-04 | 1997-10-14 | Max-Planck-Gesellschaft Zur Foerderung | Tetraaroxyperylene-3,4,9,10-tetracarboxylic polyimides |
| US5539100A (en) * | 1993-07-01 | 1996-07-23 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Organic solid state switches incorporating porphyrin compounds and method for producing organic solid state optical switches |
| DE4325247A1 (de) * | 1993-07-28 | 1995-02-02 | Basf Ag | Pigmentzubereitungen mit Perylenderivaten als Dispergiermitteln |
| DE4338784A1 (de) | 1993-11-12 | 1995-05-18 | Langhals Heinz | Perylen-3,4-dicarbonsäureimide - neue hoch lichtechte Fluoreszenzfarbstoffe |
| DE4440242A1 (de) | 1994-11-10 | 1996-05-15 | Langhals Heinz | Verfahren zur Darstellung von Perylenfarbstoffen aus Formamiden und neue di- und trichromophore Perylenfarbstoffe |
| DE19501737A1 (de) * | 1995-01-20 | 1996-07-25 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung und Reinigung von Perylen-3,4-dicarbonsäureimiden |
| DE59601770D1 (de) * | 1995-01-20 | 1999-06-02 | Basf Ag | Substituierte quaterrylentetracarbonsäurediimide |
| DE19547210A1 (de) * | 1995-12-18 | 1997-06-19 | Basf Ag | 1,7-Disubstituierte Perylen-3,4,9-10-tetracarbonsäuren, deren Dianhydride und Diimide |
| DE19547209A1 (de) * | 1995-12-18 | 1997-06-19 | Basf Ag | 1,7-Diaroxy-oder -arylthiosubstituierte Perylen-3,4,9,10-tetracarbonsäuren, deren Dianhydride und Diimide |
| DE19601752A1 (de) * | 1996-01-19 | 1997-07-24 | Basf Ag | Für Wasserbasislacke geeignetes N,N'-Dimethylperylen-3,4,9,10-tetracarbonsäurediimidpigment |
| DE19622673A1 (de) | 1996-06-05 | 1997-12-11 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Perylen-3,4-dicarbonsäureimiden |
| DE69706646T2 (de) * | 1996-07-09 | 2002-07-04 | Koninkl Philips Electronics Nv | Halbleitfähiges polymer |
| US5645965A (en) | 1996-08-08 | 1997-07-08 | Xerox Corporation | Symmetrical perylene dimers |
| DE19632204A1 (de) * | 1996-08-09 | 1998-02-12 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von N,N'-Dialkylperylen-3,4,9,10-tetracarbonsäurediimiden |
| DE19651712A1 (de) | 1996-12-12 | 1998-06-18 | Langhals Heinz | Pyrrolo- und Thiophenoperylenimide - stark fluoreszierende Heterocylen |
| US5683842A (en) | 1997-02-26 | 1997-11-04 | Xerox Corporation | Unsymmetrical perylene dimers in electrophotography |
| DE19709008A1 (de) | 1997-03-05 | 1998-09-10 | Langhals Heinz | Perylenfarbstoff-Kronenether: Fluoreszenz-Komplexbildner für Metallionen |
| EP0896964B1 (de) | 1997-07-24 | 2006-03-08 | Ciba SC Holding AG | Perylenhydrazidimide als Carbonylderivatisierungsreagenzien |
| JP3695095B2 (ja) | 1997-10-17 | 2005-09-14 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体 |
| DE19805121A1 (de) * | 1998-02-09 | 1999-08-12 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung farbstoffenthaltender, wässriger Polymerisatdispersionen |
| US6162571A (en) | 1998-10-02 | 2000-12-19 | Xerox Corporation | Unsymmetrical perylene dimers |
| US6348595B1 (en) * | 1999-10-27 | 2002-02-19 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Process for preparing |
| US6265243B1 (en) * | 1999-03-29 | 2001-07-24 | Lucent Technologies Inc. | Process for fabricating organic circuits |
| US6252245B1 (en) * | 1999-03-29 | 2001-06-26 | Howard Edan Katz | Device comprising n-channel semiconductor material |
| US6165661A (en) * | 1999-05-21 | 2000-12-26 | Xerox Corporation | Perylene compositions |
| DE19940708A1 (de) * | 1999-08-27 | 2001-03-01 | Basf Ag | Thermochrome Rylenfarbstoffe |
| DE19941253A1 (de) * | 1999-08-31 | 2001-03-08 | Basf Ag | Glanzpigmente mit absorbierender, niedrigbrechender Beschichtung |
| DE10013188A1 (de) * | 2000-03-17 | 2001-09-20 | Basf Ag | Kristallisationsmodifikatoren auf der Basis von Perylenderivaten |
| US6287738B1 (en) * | 2000-05-25 | 2001-09-11 | Xerox Corporation | Photoconductive imaging members |
| US6194110B1 (en) | 2000-07-13 | 2001-02-27 | Xerox Corporation | Imaging members |
| AU2001281343A1 (en) * | 2000-07-24 | 2002-02-05 | Northwestern University | N-type thiophene semiconductors |
| US6585914B2 (en) * | 2000-07-24 | 2003-07-01 | Northwestern University | N-type thiophene semiconductors |
| DE10038672A1 (de) | 2000-08-08 | 2002-05-29 | Heinz Langhals | Neue Fluoreszenzlabels: die Synthese von Perylen-3:4,9-tricarbonsäureimiden |
| DE10039232A1 (de) * | 2000-08-11 | 2002-02-21 | Basf Ag | Flüssigkristalline Perylen-3,4:9,10-tetracarbonsäurediimide |
| DE10039643A1 (de) * | 2000-08-14 | 2002-02-28 | Max Planck Gesellschaft | Funktionalisierte Perylentetracarbonsäurediimide |
| GB0028317D0 (en) * | 2000-11-21 | 2001-01-03 | South Bank Univ Entpr Ltd | Electroluminescent device incorporating polyaniline |
| DE10108156A1 (de) * | 2001-02-20 | 2002-08-29 | Basf Ag | Rylenderivate |
| DE10108601A1 (de) * | 2001-02-22 | 2002-09-05 | Basf Ag | Thermochrome Rylenfarbstoffe |
| JP4315609B2 (ja) | 2001-04-05 | 2009-08-19 | 富士フイルム株式会社 | 液晶組成物、それを用いた液晶素子およびアゾ化合物 |
| JP2003041144A (ja) * | 2001-07-27 | 2003-02-13 | Yokohama Tlo Co Ltd | 黒色ペリレン系顔料およびその製造方法 |
| JP2003041145A (ja) * | 2001-07-27 | 2003-02-13 | Yokohama Tlo Co Ltd | 黒色ペリレン系顔料およびその製造方法 |
| DE10148172B4 (de) | 2001-09-28 | 2007-11-15 | Qimonda Ag | Fluoreszierende Naphthalin-1,4,5,8-tetracarbonsäurebisimide mit elektronenschiebendem Substituenten am Kern |
| WO2003090502A2 (en) * | 2002-04-19 | 2003-10-30 | 3M Innovative Properties Company | Materials for organic electronic devices |
| DE10218618A1 (de) * | 2002-04-25 | 2003-11-06 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Perylen-3,4:9,10-tetracarbonsäuredimiden und Perylen-3,4:9,10-tetracarbonsäuredianhydrid sowie von Naphthalin-1,8-dicarbonsäureimiden |
| JP4078113B2 (ja) | 2002-05-10 | 2008-04-23 | キヤノン株式会社 | ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物の製造方法 |
| US6656651B1 (en) * | 2002-05-22 | 2003-12-02 | Xerox Corporation | Photoconductive members |
| DE10225595A1 (de) * | 2002-06-07 | 2003-12-18 | Basf Ag | 1,6,9,14-Tetrasubstituierte Terrylentetracarbonsäurediimide |
| DE10226181A1 (de) * | 2002-06-12 | 2003-12-24 | Basf Ag | Verfahren zur Überführung von Perylen-3,4:9,10-tetracarbonsäurediimide in eine für die Anwendung als Fluoreszenzfarbmittel geeignete Form |
| US6794102B2 (en) * | 2002-07-17 | 2004-09-21 | Xerox Corporation | Naphthalene tetracarboxylic diimide dimers |
| DE10238994A1 (de) * | 2002-08-20 | 2004-02-26 | Basf Ag | Rylenfarbstoffe |
| JP3977207B2 (ja) | 2002-08-30 | 2007-09-19 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体の製造方法 |
| JP2004093802A (ja) | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Canon Inc | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
| DE10243906A1 (de) | 2002-09-20 | 2004-04-01 | Basf Ag | 9-Cyanosubstituierte Perylen-3,4-dicarbonsäuremonoimide |
| JP4189199B2 (ja) | 2002-10-29 | 2008-12-03 | 三井化学株式会社 | 有機太陽電池 |
| US6986811B2 (en) * | 2003-01-31 | 2006-01-17 | Basf Aktiengesellschaft | Perylene derivatives and their application as dispersants |
| JP4547201B2 (ja) | 2003-07-16 | 2010-09-22 | 三井化学株式会社 | 新規なナフタレンカルボン酸誘導体、および該化合物を用いた電子写真感光体、電子写真装置 |
| US7175922B2 (en) * | 2003-10-22 | 2007-02-13 | Eastman Kodak Company | Aggregate organic light emitting diode devices with improved operational stability |
| US7119360B2 (en) * | 2003-10-29 | 2006-10-10 | Max-Plank-Society | Light-emitting polymers and electronic devices using such polymers |
| KR101136321B1 (ko) | 2003-11-14 | 2012-04-24 | 바스프 에스이 | 4-시아노-나프탈렌-1,8-디카르복스이미드 유도체 및 관련화합물의 광 손상 효과로부터 유기 물질을 보호하기 위한용도 |
| US20050171252A1 (en) * | 2004-02-04 | 2005-08-04 | Basf Aktiengesellschaft | Use of naphthalin-1,8-dicarboxylic acid monoimides |
| WO2005066718A1 (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-21 | Canon Kabushiki Kaisha | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
| JP4227514B2 (ja) | 2003-12-26 | 2009-02-18 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
| JP4723812B2 (ja) | 2004-01-22 | 2011-07-13 | 三井化学株式会社 | ナフタレンカルボン酸誘導体を用いた有機薄膜トランジスタ |
| DE102004003734A1 (de) | 2004-01-23 | 2005-08-11 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Terrylen-3,4:11,12-tetracarbonsäurediimiden durch Di-rektsynthese |
| DE102004003735A1 (de) | 2004-01-23 | 2005-08-11 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Terrylen-3,4:11,12-tetracarbonsäurediimiden |
| US7671202B2 (en) * | 2004-01-26 | 2010-03-02 | Northwestern University | Perylene n-type semiconductors and related devices |
| JP4980727B2 (ja) | 2004-02-11 | 2012-07-18 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 黒いペリレン顔料 |
| KR100861434B1 (ko) | 2004-03-29 | 2008-10-02 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 신규 화합물 및 그 화합물을 사용한 유기 엘렉트로닉스소자 |
| JP2006028027A (ja) | 2004-07-12 | 2006-02-02 | Mitsui Chemicals Inc | テトラカルボン酸誘導体、および該化合物を用いた電子写真感光体、電子写真装置 |
| US20060141287A1 (en) * | 2004-08-19 | 2006-06-29 | Eastman Kodak Company | OLEDs with improved operational lifetime |
| DE102004041604A1 (de) | 2004-08-26 | 2006-03-02 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Quaterrylen-3,4:13,14-tetracarbonsäurediimiden durch Direktsynthese |
| DE102004048729A1 (de) | 2004-10-05 | 2006-04-06 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von halogenierten Rylencarbonsäureimiden |
| DE102004054303A1 (de) | 2004-11-09 | 2006-05-11 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Perylen-3,4-dicarbonsäureimiden |
| DE102004060033A1 (de) | 2004-12-14 | 2006-06-29 | Wella Ag | Verwendung von fluoreszierenden Polymeren zur Behandlung menschlicher Haare |
| US7326956B2 (en) * | 2004-12-17 | 2008-02-05 | Eastman Kodak Company | Fluorine-containing N,N′-diaryl perylene-based tetracarboxylic diimide compounds as N-type semiconductor materials for thin film transistors |
| US7198977B2 (en) * | 2004-12-21 | 2007-04-03 | Eastman Kodak Company | N,N′-di(phenylalky)-substituted perylene-based tetracarboxylic diimide compounds as n-type semiconductor materials for thin film transistors |
| US20060210898A1 (en) * | 2005-03-16 | 2006-09-21 | Nusrallah Jubran | Charge transport materials having at least a 1,3,6,8-tetraoxo-1,3,6,8-tetrahydrobenzo[lmn][3,8]phenanthroline-2,7-diyl group |
| US7579619B2 (en) * | 2005-04-20 | 2009-08-25 | Eastman Kodak Company | N,N′-di(arylalkyl)-substituted naphthalene-based tetracarboxylic diimide compounds as n-type semiconductor materials for thin film transistors |
| US7371492B2 (en) * | 2005-07-28 | 2008-05-13 | Eastman Kodak Company | Vinyl polymer photoconductive elements |
| US7629605B2 (en) * | 2005-10-31 | 2009-12-08 | Eastman Kodak Company | N-type semiconductor materials for thin film transistors |
| US7422777B2 (en) * | 2005-11-22 | 2008-09-09 | Eastman Kodak Company | N,N′-dicycloalkyl-substituted naphthalene-based tetracarboxylic diimide compounds as n-type semiconductor materials for thin film transistors |
| DE102005061997A1 (de) * | 2005-12-23 | 2007-07-05 | Basf Ag | Naphthalintetracarbonsäurederivate und deren Verwendung |
| WO2007093643A1 (de) | 2006-02-17 | 2007-08-23 | Basf Se | Fluorierte rylentetracarbonsäurederivate und deren verwendung |
| WO2007146250A2 (en) * | 2006-06-12 | 2007-12-21 | Northwestern University | Naphthalene-based semiconductor materials and methods of preparing and use thereof |
| EP2089398A2 (en) * | 2006-10-25 | 2009-08-19 | Polyera Corporation | Organic semiconductor materials and methods of preparing and use thereof |
| US7892454B2 (en) * | 2006-11-17 | 2011-02-22 | Polyera Corporation | Acene-based organic semiconductor materials and methods of preparing and using the same |
| JP5380296B2 (ja) * | 2006-11-17 | 2014-01-08 | ポリエラ コーポレイション | ジイミド系半導体材料ならびにジイミド系半導体材料を調製および使用する方法 |
| US7804087B2 (en) * | 2006-12-07 | 2010-09-28 | Eastman Kodak Company | Configurationally controlled N,N'-Dicycloalkyl-substituted naphthalene-based tetracarboxylic diimide compounds as N-type semiconductor materials for thin film transistors |
| US8022214B2 (en) * | 2007-01-24 | 2011-09-20 | Polyera Corporation | Organic semiconductor materials and precursors thereof |
-
2008
- 2008-01-07 KR KR1020097016581A patent/KR20090117730A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-01-07 JP JP2009544945A patent/JP2010515684A/ja active Pending
- 2008-01-07 WO PCT/US2008/000194 patent/WO2008085942A2/en active Application Filing
- 2008-01-07 CN CN200880007028.0A patent/CN101622253B/zh active Active
- 2008-01-07 EP EP08724424A patent/EP2104676A2/en not_active Withdrawn
- 2008-01-07 US US12/006,934 patent/US7893265B2/en active Active
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006093965A2 (en) * | 2005-03-01 | 2006-09-08 | Georgia Tech Research Corporation | Coronene charge-transport materials, methods of fabrication thereof, and methods of use thereof |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Philippe Becamel.2008800070280.《PCT373表》.2009, * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2104676A2 (en) | 2009-09-30 |
| KR20090117730A (ko) | 2009-11-12 |
| JP2010515684A (ja) | 2010-05-13 |
| US20080177073A1 (en) | 2008-07-24 |
| US7893265B2 (en) | 2011-02-22 |
| WO2008085942A2 (en) | 2008-07-17 |
| CN101622253A (zh) | 2010-01-06 |
| WO2008085942A3 (en) | 2008-10-30 |
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant |