CN102411168B - 低损耗光纤的设计及其制造方法 - Google Patents

低损耗光纤的设计及其制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102411168B
CN102411168B CN201110319912.1A CN201110319912A CN102411168B CN 102411168 B CN102411168 B CN 102411168B CN 201110319912 A CN201110319912 A CN 201110319912A CN 102411168 B CN102411168 B CN 102411168B
Authority
CN
China
Prior art keywords
optical fiber
fibre core
less
core
loss
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201110319912.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102411168A (zh
Inventor
兰斯·吉布森
大卫·贝克翰姆
小罗伯特·林格尔
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
OFS Fitel LLC
Original Assignee
OFS Fitel LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by OFS Fitel LLC filed Critical OFS Fitel LLC
Publication of CN102411168A publication Critical patent/CN102411168A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102411168B publication Critical patent/CN102411168B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
    • G02B6/03616—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference
    • G02B6/03661—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 4 layers only
    • G02B6/03683—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 4 layers only arranged - - + +
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/01205—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
    • C03B37/01211—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments by inserting one or more rods or tubes into a tube
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/01205—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
    • C03B37/01225—Means for changing or stabilising the shape, e.g. diameter, of tubes or rods in general, e.g. collapsing
    • C03B37/01228—Removal of preform material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
    • C03B2201/03—Impurity concentration specified
    • C03B2201/04—Hydroxyl ion (OH)
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03B2201/07—Impurity concentration specified
    • C03B2201/075—Hydroxyl ion (OH)
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
    • C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
    • C03B2201/31—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
    • C03B2203/10—Internal structure or shape details
    • C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point

Abstract

本公开涉及低损耗光纤的设计及其制造方法。说明了一种借助混合VAD/MCVD处理过程生产的改进的光纤。光纤的纤芯用VAD生产，而内包层有凹陷的折射率并用MCVD生产。在优选的实施例中，光功率包络基本上全部包含在VAD生产的纤芯材料和MCVD生产的凹陷折射率包层材料中。借助把绝大部分光功率限制在低OH的VAD纤芯，以及借助使无掺杂石英区中的光功率最大化，使光损耗达到最小。MCVD衬底管材料中基本上没有光功率。

Description

低损耗光纤的设计及其制造方法
本申请是申请日为2006年3月28日、发明名称为“低损耗光纤的设计及其制造方法”的中国专利申请No.200610071692.4的分案申请。
技术领域
本发明涉及一系列光纤的设计，及采用这些改进光传输特性的设计来生产光纤的方法。更具体说，本发明涉及一种混合的生产方法，其中，光纤预制棒用组合的MCVD和VAD技术制作，其中的VAD-MCVD界面，在折射率分布设计的波导形成区之内。
背景技术
已经为光纤的生产提出并开发了广泛的各种方法。随着光纤技术的成熟，已经出现三种主要的生产方法，即MCVD、VAD、和OVD。所有这些方法都要把玻璃微粒(常常称为“微粉(soot)”)沉积在起始的衬底上，然后使这些微粒固结成固态的玻璃体。这些技术要用到现场汽相反应来生产微粒。用喷灯引起汽相反应，并把喷灯的火焰引到起始的衬底。在MCVD方法中，喷灯被引到玻璃起始管的外侧，而玻璃的原始气体被引进玻璃管内部。微粒沉积在管的内表面。在VAD和OVD方法中，喷灯和原始气体被引到起始棒的外表面，微粒分别沉积在棒的一端或侧面。各技术效率是高的，且已广泛应用，各有各熟知的优点。
要生产非常高质量的中心纤芯和内包层材料，MCVD处理过程似乎是理想的。在MCVD技术中，微粒层沿径向递增地生长。由于该递增的径向生长，MCVD比VAD方法能生产更复杂的折射率分布。复杂的折射率分布，是通过对每种分布特性，改变微粒层的径向组分生产的。此外，复杂的折射率分布，常常有一种或多种凹陷折射率(相对于纯石英)的特性。凹陷折射率区一般是对微粒掺杂氟形成的。下面还要更详细说明，管内沉积方法(MCVD)比棒外两种方法(VAD或OVD)中任一种更适合氟的沉积。
但是，在MCVD方法中，必需使用起始管是个限制因素。对大的最新技术的预制棒，一种限制是MCVD起始管中的玻璃质量不良和没有低的损耗(因为光功率的某些部分将由起始管材料传送)。如果要避免起始管质量的限制，使用超纯(通常也是昂贵的)材料制作起始管，则暴露在MCVD通常用作热源的氢氧焰喷灯中的管，由于羟基离子添加至颇深的深度，可能损害有效的起始管质量。最后，要求的折射率分布，可能在起始管玻璃提供的区中，需要一定的掺杂物浓度，但该起始管玻璃与结果良好的MCVD处理(从粘滞性、管的稳定性、或热传导考虑)不相容。
在VAD方法中，石英微粉沿起始饵棒的轴向沉积和生长。VAD技术的显著优点，是它能作为连续的处理过程实施。这样能实现一列式的沉积、纯化、干燥、和烧缩。沉积完成后，把起始棒与沉积体分离，因此与常规的MCVD法不同，整个预制棒可以用CVD沉积的材料制作。作为一般的建议，VAD方法是有效的并被广泛运用，但它们仍然比不上MCVD精确控制折射率变化的掺杂物沿径向沉积的能力，从而精确控制径向折射率分布的能力。由于这一原因，VAD方法，和其他的微粉沉积/随后烧缩方法，诸如Outside Vapor Deposition(OVD)(外部汽相沉积)，在高效地生产复杂的光纤设计方面，受到限制。此外，VAD方法不十分适合用于氟掺杂。特别是在一列式VAD处理过程的情形。
现有技术认识到，在单模光纤中，纤芯和内包层共同传输的光功率，大于95％，但包括的光纤质量，通常却小于5％，现有技术的这一认识，导致在制作过程中对该区的制作给予特别的关注。已经发展的方法，是用相对先进和昂贵的方法，生产预制棒的纤芯和内包层区，而外包层、预制棒整体，则用较少要求、较不昂贵的处理过程生产。纤芯棒和包层的整合，则在外包层技术过程中完成。外包层技术过程，在美国专利No.6,105,396(Glodis等人)及PCT/EPT00/02651(2000年3月25日)中有一般的说明，本文引用这些文献，作为一般技术细节供参考。
外包层技术(overcladding)过程，克服了用VAD技术生产预制棒复杂性方面受到的一些限制。外包层技术过程，可能牵涉到多个外包层管，每一个添加性质不同的包层区，以获得需要的光纤折射率分布的复杂性。
普通使用的该种过程，是所谓的管内棒方法，纤芯棒用非常高质量的通用掺杂物的处理过程制成，而包层管由较不昂贵、纯度较低的玻璃制成。在一些情形下，有单一组分的玻璃提供低成本的选择。在管内棒的外包层技术过程中，把纤芯棒插入包层管中，然后，使管包围棒收缩，形成统一体。可以再次使用多个外包层技术步骤，并在一些情形下，一个或多个最后外包层技术步骤可以与光纤拉制操作组合。
如果使用管外包层技术过程，合适的包层管可以用微粉沉积或熔融石英挤出生产。基于微粉合成玻璃的过程制作这些大的包层体，导致高质量的玻璃，但要求扩展处理并相对昂贵。大的熔融石英体较不昂贵，但一般纯度不高。
总之，VAD方法当与管内棒外包层技术组合，提供快速和经济的方法，用于形成有相对简单折射率分布的大玻璃纤芯棒。但是，对包括凹陷折射率特性的包层，市场上可购得的现有技术凹陷折射率的包层管，不能提供整个预制棒体需要的光学质量。
发明内容
我们设计了一组光纤折射率分布，可以降低与附加的散射损耗有关的掺杂物浓度，并发展了用MCVD及VAD组合生产光纤的混合方法，在损耗及高出产率方面极大地提升现有技术。本混合方法组合每种处理技术的特性。我们也已经注意到用这些方法生产的光纤的损耗特征。认识了这些损耗特征的不同，我们组合了MCVD及VAD技术，使合成的损耗特征优化。能够优化分配光功率的折射率分布设计，以降低Rayleigh散射，同时获得近于零水峰(zero water peak)的1385nm损耗性能，并保持良好的宏弯曲性能。在本发明的优选实施例中，用VAD方法生产的纤芯棒，有上掺杂(up-doped)的内纤芯和较不重掺杂或无掺杂的外纤芯。用MCVD方法生产的包层，有一个或多个凹陷折射率区。使用该基本预制棒制作方法，我们改变该分布和光功率包络，使所有光功率基本上不是包含在VAD材料中就是包含在MCVD材料中，并且使大部分功率包络包含在VAD材料中，例如通常有60％的功率包含在VAD内纤芯中，其中该VAD内纤芯的Ge掺杂浓度，通常小于标准单模光纤纤芯浓度的60％，又例如有20-40％的功率包含在无掺杂或轻掺杂的VAD外纤芯中。
本方法的一种变化，是以超高纯度的OVD管取代MCVD包层管来生产类似的预制棒。
根据本公开的一个方面，提供一种通过光纤发送1550nm波长区中的光信号的方法，该光纤包括：内纤芯；最小半径为5微米的外纤芯；以及最大半径为25微米的凹槽；其中功率包络按如下分布：(i)50-80％的光功率在内纤芯中，(ii)20-40％的光功率在外纤芯中，并且(iii)少于5％的光功率在凹槽中。
根据一个实施例，内纤芯的半径在2-8微米之间；内纤芯和外纤芯的组合半径在5-12微米之间；并且凹槽的半径在5-25微米之间。
根据一个实施例，内纤芯的折射率Δ在0.001与0.003之间；外纤芯的折射率Δ在0.000与0.001之间；并且凹槽的折射率Δ在-0.0035与-0.0007之间。
根据一个实施例，1550nm的衰减小于0.175dB/km。
根据一个实施例，1383nm的衰减小于0.31dB/km。
根据一个实施例，光缆的截止波长小于1260nm。
根据一个实施例，光缆的截止波长小于约1530nm。
根据一个实施例，20mm直径的宏弯曲损耗小于2dB/m。
根据一个实施例，外纤芯区的折射率，如果不计VAD或OVD微粉处理自然出现的锗扩散尾的话，基本上等于无掺杂石英的折射率。
根据本公开的另一个方面，提供一种用于发送1550nm波长区中的光信号的光纤，该光纤包括：内纤芯；最小半径为5微米的外纤芯；以及最大半径为25微米的凹槽；其中功率包络按如下分布：(i)50-80％的光功率在内纤芯中，(ii)20-40％的光功率在外纤芯中，并且(iii)少于5％的光功率在凹槽中。
根据一个实施例，内纤芯的半径在2-8微米之间；内纤芯和外纤芯的组合半径在5-12微米之间；并且凹槽的半径在5-25微米之间。
根据一个实施例，内纤芯的折射率Δ在0.001与0.003之间；外纤芯的折射率Δ在0.000与0.001之间；并且凹槽的折射率Δ在-0.0035与-0.0007之间。
根据一个实施例，1550nm的衰减小于0.175dB/km。
根据一个实施例，1383nm的衰减小于0.31dB/km。
根据一个实施例，光缆的截止波长小于1260nm。
根据一个实施例，光缆的截止波长小于约1530nm。
根据一个实施例，20mm直径的宏弯曲损耗小于2dB/m。
附图说明
图1是光纤的示意截面图，画出可以用本发明方法制作的折射率分布的例子；
图2是图1的分布的曲线；
图3和4是管内棒处理过程的示意表示；
图5是光纤拉制设备的示意图；
图6是各种例子的衰减对功率加权Ge和F浓度的曲线；
图7对图6中以63表示的光纤，画出衰减对波长的曲线，该曲线常被称为衰减谱；
图8是损耗对功率百分比曲线，表明管内棒界面不同特征的影响。
具体实施方式
具有低的或零水峰的低损耗光纤，可以通过VAD或OVD方法有效地生产大的经济的预制棒尺寸(大于90mm的OD)。最低的1385nm损耗(指定低于0.31dB/km，通常是0.275dB/km)，几乎与用VAD方法生产的纤芯棒获得的一致，预制棒的大小可达150mm。MCVD方法通常用于生产较小的预制棒(60到90mm)，比VAD有较不严格的水峰值指标。这种商业化的实地应用，是因为VAD或OVD沉积的纤芯材料，由于烧缩前微粉的脱水，常常本性上更加干燥([OH]＜1ppb)。第二个成因是，用VAD或OVD能制作有大D/d比值的大的纤芯体；这意味着在大的纤芯体中(大大地大于90mm)，第一外包层界面能够远离纤芯(即低的光功率)。除非预制棒的尺寸小(＜70mm)，否则MCVD处理过程通常生产较低的D/d比值，使它在大预制棒中更难获得经济的、低或零水峰光纤。
商业化生产的光纤，在1550nm有近似17到20ps/nm/km的色散，而零色散在1310nm波长附近，这种光纤一般能够分成两类：有石英包层的Ge掺杂纤芯与有F掺杂包层的石英纤芯光纤。在这两类的任一类中，波导总的相对Δ，接近0.35％。前一类光纤一般亦称匹配包层或标准单模光纤，并有量级为0.185到0.195dB/km的光损耗。后一类光纤亦称纯石英纤芯光纤，并因纯的比掺杂的石英有更低的Rayleigh散射，所以有非常低的接近0.168dB/km的商品化光学损耗值。
虽然已经表明，石英纤芯光纤有优良的损耗特征，但遗憾的是，要获得这种水平的性能，要求拉制速度比匹配包层光纤慢5到10倍。对拉制速度的这种限制，影响制造厂的生产能力和生产量，使石英纤芯光纤的制造更为昂贵。这一点已经在实际上阻止它广泛的商业化采用，使它处于适量生产的状态，供海底或长距离无中继的单跨接应用。
下面将要讨论本发明的一类折射率分布，该折射率分布针对现有技术两个受限制的方面。在现有技术中，要么1)，光纤损耗更低的极限，如同常规Ge掺杂的SSMF那样，由重Ge掺杂纤芯的附加的Rayleigh散射水平确定，要么2)，如同纯石英纤芯光纤那样，该种光纤的实际应用范围，受与非常低速度的光纤拉制必然的特别成本限制。当前公开的一类折射率分布，提供一种获得损耗值接近纯石英光纤的手段，同时保持以标准单模光纤的正常速度拉制这些光纤的能力。此外，本文公开的混合VAD-MCVD处理过程，是制造该类折射率分布的优选方法。
现在参考图1，图上画出有掺杂区12-16的光纤预制棒11的截面。这些区代表在各自的层中5种不同的折射率，这些层从光纤中心沿径向伸延。该种分布以上面讨论的复杂的折射率分布为代表。区13和10代表纯石英折射率，而区14和15是下掺杂(down-doped)的。
光纤的纤芯区12有较重的掺杂，典型的是用GeO2。第二纤芯区13是较轻的掺杂区，且在优选的例子中，是本征的。(在这里的讨论中，假定玻璃是石英基玻璃，术语“本征”是指无掺杂石英。)包层区14是凹陷(下掺杂)区。包层区15是稍为不重的掺杂凹陷区，而本实施例画出的区16，是本征区，但也可以是区15的伸延。
由于本分布中存在凹陷的折射率区，制备光纤的整个预制棒的方法，通常选择MCVD。这是因为，在MCVD方法中，用氟掺杂凹陷区14是比较直接了当的。氟的掺杂通常是把微粉微粒暴露在SiF4(通过引入SiF4、SF6、C2F6等等，本领域是公知的)中获得的。在样能使氟扩散进多孔的玻璃结构和扩散进微粒的表面。因为MCVD微粉是以逐层的方式沉积并烧结，所以F不会因扩散而消失。因此，可以获得相对高浓度的F掺杂以及对浓度分布的精确控制。关于氟掺杂更详细的信息，请见共同待决的申请，该申请的序列号是09/755,914，申请日期01/05/01。
这种处理过程可能与某些优选的VAD处理过程不相容，特别是微粉沉积后在整个毛坯上采取的那些纯化和固结步骤。因此，MCVD常常是制作分布中有凹陷折射率特性的优先选择。上述的分布对低色散斜率光纤和其他最新技术的光纤产品，是至关重要的。
虽然这些因素都指出，要使用全MCVD制作有凹陷折射率区的预制棒，但我们发现，用VAD制作的预制棒和用MCVD制作的预制棒，OH污染本征浓度存在的重要差别，改变了上述结论。OH含量与相应的传输或Raman泵浦频带中，特别是1460与1530nm间的S波长频带中和在1385nm窗口中的损耗有关。GeO浓度和其他产生的缺陷的损耗，VAD材料比MCVD材料也可以更低。在两种情形中，我们已经从VAD制作的预制棒拉制的光纤中，测量到更佳的损耗结果。因此，我们已经指出用VAD制作光纤预制棒纤芯区，例如图1的区12和13，和用MCVD制作包层区14和15的效果。
图2画出从图1表示预制棒拉制的光纤的折射率分布21。请注意，图1表示预制棒的设计分布(预制棒OD通常为63mm)，而图2中特定的分布是光纤的折射率分布。一般说，从预制棒生产的光纤，基本上复制预制棒的分布，只是有更小的尺寸。
图2光纤是由图1预制棒中的区12-16得到的，在图2的顶部标出区12-16。内纤芯区12以Ge掺杂，在纤芯中心产生折射率Δ≈+0.002。Δ是偏离石英本征折射率的折射率。图2中的坐标以绝对折射率的差画出，但常常以百分比表示，需要用100乘以图示值。本领域熟练人员当能识别，内纤芯区12的折射率高度，与常规单模光纤比较是较低的，且能用小于2wt％的Ge获得。在典型的单模纤芯中，纤芯中心的掺杂浓度为3.5wt％或更大。在本发明的光纤中，纤芯较低的掺杂浓度，降低了光纤中的光损耗。在本例中，内纤芯的宽度接近4微米。在本例中，外纤芯区13是本征石英。或者，外纤芯可以是轻掺杂的。例如，它可以用Ge掺杂到小于+0.001的标称浓度。在又一个另外的实施例中，它可以用氟稍稍下掺杂。一个目的是生产有相对低掺杂的外纤芯层，从而得到非常低损耗的纤芯材料。从-0.001到+0.0005的Δ范围是合适的。图上画出的外纤芯区宽度，与内纤芯区宽度相同，即接近4微米。下一个区是凹陷折射率区14，折射率Δ约-0.002，宽度约8微米。该区用MCVD生产。该区的折射率作为半径的函数，通常是接近恒定的，但不要求平坦。凹陷折射率区一般包括用合适量的氟掺杂的SiO2，以获得需要的折射率。在本例中，区15是用MCVD起始管形成的。该起始管稍稍下掺杂到接近0.008的折射率。该区的宽度由起始管的厚度确定，接近16微米。图2所示最后一层，是无掺杂区16。用无掺杂外包层管形成该层是方便的。但是，为降低光纤对弯曲损耗的敏感度，它可以改为包括与区15相同的稍稍下掺杂的材料，但仍然保持本发明的低的损耗、高的拉制生产率特性。因为基本上没有光功率在该区传播，所以该区的光传输性质是较不重要的。
代表图2例子光纤中光功率分布的光功率包络，以22表示。竖直尺度是任意的。光功率大部分在内纤芯12的中心区中引导，并呈基本的Gauss形状，按指数下降通过内纤芯外部和通过外纤芯。在纤芯和凹陷包层区14之间的界面，功率衰减到低的值。本发明的一个目的，是把整个功率包络基本上限制于低损耗的VAD和MCVD区。在MCVD起始管开始的界面，即区14与15间的界面，基本上没有光功率。因此，区15的光损耗及其他的光特征，不如那些基本包含整个标称功率包络的内层那样重要。在某些情形下，例如当光纤被弯曲时，外面的区起作用，并帮助防止损耗。因此，MCVD凹槽层14以外的区的设计，可以比图示那些设计，有不同的组分和性质。例如，区16可以是下掺杂的，以控制弯曲损耗。或者，MCVD起始管可以掺杂到与区14相当浓度。其他区可以包括例如上掺杂材料的一个或多个环形区。
现在回头参考图2中的功率包络22，该光纤有关性质的测量值，在下表给出。功率包络的这些数据，是在1550nm上测量的。
表1
Figure GDA00002994751900091
在1385nm上功率包络的测量，得到的纤芯功率容量值为97.8％，和MCVD层功率包络接近2.2％。众所周知，光功率在整个结构中是指数下降的，所以包含在VAD/MCVD组合区中的功率包络，将不会是100％，但对本发明的设计，至少应是99％。
对有下表说明的结构的光纤，本发明的目的一般都能满足：
表2
Figure GDA00002994751900101
在优选实施例中，组合的内纤芯和外纤芯半径，等于5-12微米。
具有这些一般设计分布的特性是，除了把基本上所有功率包络限制于VAD/MCVD区外，主要份额，即＞90％，最好＞96％，包含在VAD区内，在该VAD区中，OH含量和可能的OH界面污染，两者都是小的。本征石英的使用，对设计的整个有效性有显著贡献，因为纤芯的基本部分，在理论上有优化的低损耗和能传送光功率的主要份额。
由VAD纤芯棒和MCVD包层管制成的预制棒，可以用管内棒方法组装。典型的管内棒方法结合图3和4说明。应当指出，所指的图不一定按比例画出。表示实际商品化使用尺寸特征的包层管，有代表性的10-15的长度对直径比值。画出的纤芯棒32，是插入包层管31中的。管31可以代表单根管或几根同心的管。此时的棒通常已经固结。棒可以是已经固结的或仍然是多孔的。正常情况下，纤芯棒的构成有若干常见的选择。它可以仅是中心纤芯，它也可以包括一层或多层另外的层。本发明的主要实施例中，在纤芯棒用VAD制作的情形下，纤芯包括层12和13。以非常高质量的玻璃形成技术制作的包层管，可以用作层14。但是，有鉴于可在市场上购到的超高纯管，有受限制的可用性，层14最好用MCVD生产。下掺杂的层14，由衬底管15内表面上的下掺杂的MCVD层形成。
现在参考图4，在棒32和管31组装之后，通过收缩把它们组合，生产最后的预制棒，在最后的预制棒上，棒的外表面和管的内表面之间的界面，基本上是不能察觉的。这一步骤可以在拉制处理过程之前或之中进行。
对添加的包层的操作，例如对生产层16而添加的包层管，可以基本上遵从与刚说明的管内棒方法相同的过程。或者，可以通过使外包层管、MCVD管、及纤芯棒，在一次操作中收缩，完成该预制棒的组装。
然后，如上所述，是用光纤预制棒拉制光纤。图5画出的光纤拉制设备，有预制棒51和代表加热炉(未画出)的接受器52，后者用于使玻璃预制棒软化并开始光纤的拉制。已拉制的光纤在53画出。然后，使初生的光纤表面通过一般以54表示的涂覆杯，涂覆杯有室55，内含要涂覆的预聚合物56。被液体涂覆的光纤，通过模具61从涂覆室离开。模具61与预聚合物的流体动力学组合，控制涂层的厚度。然后，被预聚合物涂覆的光纤62暴露在UV灯63下，使预聚合物固化并完成涂覆的处理过程。只要合适，也可以用其他的固化辐射。然后，涂层已经固化的光纤，用卷线盘64卷取。卷线盘控制光纤的拉制速度。通常用1-30m/sec范围的拉制速度。重要的是，光纤应在涂覆杯的中心，特别是在出口模具61的中心，以保持光纤与涂层的同心度。市场上的设备通常有控制光纤对准的滑轮。模具自身中的水动压力，可以帮助光纤的对心。由微步分度器(micro-step indexer)(未画出)控制的步进电机，控制卷线盘。
光纤的涂覆材料，通常是氨基甲酸乙酯、丙烯酸酯、或氨基甲酸乙酯-丙烯酸酯，有添加的UV光引发剂。图5的设备画出单个涂覆杯，但常常使用有两个涂覆杯的双涂覆设备。在双涂覆光纤中，典型的最初的或内涂层材料，是软的、低模量材料，诸如硅酮、热熔石蜡、或其他许多有相对低模量的聚合物材料。第二或外涂层常用的材料，是高模量聚合物，典型的是氨基甲酸乙酯或丙烯酸酯。在商业化的实地应用中，两种材料可以是低和高模量的丙烯酸酯。沿直径的涂层厚度，通常在150-300μm范围，以接近245μm为标准。
本发明的积极作用，表现在已知光纤损耗的机制方面。制造和设计基于石英的光纤的目前技术水平，已经推进到这样的地步，使在1550nm区中，来自例如OH或微量(trace)金属污染、或玻璃结构中存在的电子缺陷等的吸收作用，或来自例如弯曲损耗的波导作用，这些作用产生的附加的损耗，已经基本上被消除。因此，先进技术的光纤的更低损耗极限，由纯石英的Rayleigh散射损耗决定。使折射率变化以形成波导结构的掺杂物，如典型的Ge或F的存在，其不利的作用，是使被掺杂玻璃的Rayleigh散射损耗，附加在纯石英的Rayleigh散射损耗之上。Ohashi(“Optical Loss Property of Silica-BasedSingle-Mode Fibers”，JLT Vol10，No.5May1992)确定，Ge掺杂的石英光纤的Rayleigh散射系数是：
AGe＝A0(1+0.44＊ΔGe)，
而对F掺杂的石英光纤的Rayleigh散射系数是：
AF＝A0(1+0.41＊ΔF)，
这里A0是无掺杂石英的Rayleigh散射系数，ΔGe和ΔF分别是与Ge及F掺杂关联的归一化折射率的差。这些公式清楚表明，以锗和氟掺杂的石英，相对于纯石英有升高的Rayleigh散射系数，导致附加的散射损耗。本文公开的折射率分布种类，是在传播光功率绝大部分的光纤区中的设计，与匹配包层光纤的设计相比，有降低浓度的锗和氟掺杂，从而通过降低Rayleigh散射系数，提供一种降低光纤损耗的手段。
为定量表示附加Rayleigh散射损耗对光纤损耗的作用，该额外Rayleigh散射损耗是波导掺杂区的Rayleigh散射损耗，超出本征石英Rayleigh散射损耗的部分，为此，我们把额外散射损耗的度量，定义为光纤截面上被光功率密度加权的Ge及F掺杂浓度的积分。
额外散射损耗度量
Figure GDA00002994751900121
这里Ge(r)和F(r)是作为径向位置r函数的Ge和F掺杂浓度，以重量百分比为单位，E(r)是电场，它作为基模的r的函数。
图6按无色散位移光纤对额外散射损耗度量，画出各种大的有效面积上观察到的损耗曲线。以61和62标记的点，分别代表市场上购得的纯石英纤芯光纤和Ge掺杂纤芯光纤的观察结果。假定光纤损耗主要由Rayleigh散射支配，那么，在这两例光纤值之间有额外散射损耗度量的光纤，其光纤损耗近似落在沿连接该两点的线65上。以63和64标记的点，代表本发明两例光纤的结果。这两例光纤的额外散射损耗度量值，稍稍小于2.0，而测量的损耗值约为0.180dB/km。本发明具有图2所示折射率分布的优选实施例，其额外散射损耗度量值约1.0和期望的光纤损耗为0.174dB/km。本发明的功率加权掺杂浓度的积分值范围，通常落在约1到2的范围内。
图7画出图6中点63代表用18m/s牵引速度拉制的光纤的衰减谱。该光纤在1550nm和1385nm上的衰减，是0.180和0.284dB/km，表明优良的低损耗性能。
另一根光纤的损耗性能涉及光纤折射率分布设计的问题，而光纤制造方法在于使光纤满足零水峰(Zero Water Peak，ZWP)特性。ZWP特性要求，在围绕1385nm波长区的OH吸收峰上，有非常低的初始损耗，并在光纤工作的使用期内把它暴露在分子氢中，能有非常低的稳定的长期老化损耗。
提供ZWP特性的一个重要方面，是VAD沉积过程形成的内和外纤芯区，有极其“干燥”的性质(通常＜0.5ppb[OH])。在本发明一个优选实施例中，通常＞95％的光功率在光纤的VAD形成区内传播。提供ZWP特性的再一个重要方面，是与外纤芯区比邻的凹陷折射率区非常干燥的本质。用标准的MCVD处理可获得的干燥度，[OH]浓度通常＜3.0ppb，这样的[OH]浓度为该区提供充足的性能，因为通常只有很小百分比的功率在该区内传播。可以预见，通过用超高纯的、[OH]污染浓度与MCVD处理形成的材料相当的F掺杂管，形成与纤芯棒相邻的整个凹陷折射率凹槽区，可以实现这些有ZWP特性的光纤设计。但是，因为市场上可购得的用合成石英管材的目前技术水平，[OH]污染浓度约为200ppb，所以这些管目前市场上不能购到。本发明在ZWP性能方面的另一个贡献是，大于99％的功率在VAD、MCVD或超高纯管材形成的区内传播。本发明在这方面的第四个贡献是，环绕VAD纤芯棒与第一包层管之间界面1微米厚的区内，包含的光功率百分比小于约2％，最好小于0.5％。最好是，在外包层及外包层步骤之前，纤芯棒的处理，要与环绕该界面的1微米区上的处理一致，就是说，保持平均[OH]污染在20ppb或更小。这一要求可能需要下面的技术，诸如加热炉在干燥环境中持续一段时间、棒和管表面在外包层前进行等离子体和/或化学蚀刻、和外包层过程中在界面空隙采用诸如氯干燥剂来维持干燥环境。图8表明在1385nm上对额外损耗的计算结果，该额外损耗是因界面区的OH污染产生的，并作为围绕界面1μm厚的环中传播的功率百分比的函数。两条曲线表明，当使用上述干燥的外包层处理，又当使用更有代表性的外包层处理时，在典型的OH污染浓度上观察到的额外损耗。要有良好的ZWP性质，优先使用干燥处理技术，并当适当地实施时，将得到小于约2％的“界面”功率。
本文公开的本发明，使级别最好的标准匹配包层光纤的损耗，从0.185降低到～0.175dB，这一点表示，100km的陆上系统，跨距损耗降低1dB，而50-70km的海底系统，跨距损耗降低～0.5到0.7dB。陆上系统中的这一1dB，表示可以用增加的dB余额延伸总的系统长度，或降低其他部件的费用或指标。零(可忽略的)水峰损耗扩展了置于1385nm附近的Raman泵浦的能力，而低Rayleigh散射损耗与低水峰的组合，可使Raman泵浦在从1350到1450nm的整个区上更有效。在海底的情形，增加的0.5到0.7dB，可以用于延伸极其昂贵的深海中继器之间的距离，从而降低跨接给定系统长度需要的中继器总数。这一点表明极大地节省了费用。
按照本发明的光纤，可以结合色散补偿组件使用，色散补偿组件以负色散光纤或高阶模光纤为基础。按照本发明的光纤还可以配置成色散管理跨距单元，在该单元中，具有正色散(如本发明)的成缆光纤与具有负色散及负色散斜率的成缆光纤配成对。色散管理跨距的设计，通常把一段有大有效面积的正色散光纤，紧接发射器之后放置，使当入射功率为最大时的非线性最小。一段较小有效面积的负色散光纤，在光功率已经被正色散光纤中的光损耗衰减之后，接续进跨距内，以便使非线性最小。对Raman放大系统，顺序可以修改为：一段大有效面积的正色散光纤；接着是一段较小有效面积的负色散光纤；接着是第二段大有效面积的正色散光纤。
在偏僻地区，诸如边境或岛屿之间，常常需要无中继(无放大)的系统。在这些系统中，高的入射功率与分布Raman放大的组合，有助于不用一个一列式的光放大器，实现200-300km的传输。这种系统的传输波长，应接近光纤的损耗极小，通常在1570到1580nm。本文公开的这类光纤，有降低的信号频带衰减，比纯石英纤芯光纤制造更为经济。它有可忽略的水峰损耗，能在～1375nm上安排效果良好的二阶Raman泵浦，该波长极其接近水峰。它还能有大于100平方微米的有效面积，可以缓解与更高入射功率关联的非线性。
本文公开的新的一类光纤，对正在浮现的一类10Gbps(和更快)传输系统，也是理想的，这类10Gbps传输系统将利用信号处理的一些形式，减轻由于色散产生的符号间干扰。在这些系统中，光学色散的补偿，要么在发射器上用预加重补充，要么在发射器上用预加重全部更换，和/或在接收器上均衡，所有信号处理都在电域中完成。这些电子色散减轻方案，对线性的、确定性的减损，有最佳的响应。在本范例中，传输系统的性能和费用，将极小依赖于色散减损的减轻，但更多依赖于降低衰减损耗和非线性。本文公开的一类光纤，例如有效面积为110μm2和信号频带损耗为0.175dB/km的光纤，当与该类系统一起使用时，能够计算出比标准匹配包层光纤有2dB的性能改进。
本发明各种另外的修变化，将出现在本领域熟练人员面前。通过本说明书的具体教导，本领域技术已经得到推进，所有偏离本说明书具体教导，但基本上依靠本说明书具体教导的原理和它们的等价叙述，都应恰当地认为在已经说明和要求的本发明范围之内。

Claims (17)

1.一种通过光纤发送1550nm波长区中的光信号的方法，该光纤包括：
内纤芯；
最小半径为5微米的外纤芯；以及
最大半径为25微米的凹槽；
其中功率包络按如下分布：
(i)50-80％的光功率在内纤芯中，
(ii)20-40％的光功率在外纤芯中，并且
(iii)少于5％的光功率在凹槽中。
2.如权利要求1所述的方法，其中：
内纤芯的半径在2-8微米之间；
内纤芯和外纤芯的组合半径在5-12微米之间；并且
凹槽的半径在5-25微米之间。
3.如权利要求1所述的方法，其中内纤芯的折射率Δ在0.001与0.003之间；外纤芯的折射率Δ在0.000与0.001之间；并且凹槽的折射率Δ在-0.0035与-0.0007之间。
4.如权利要求1所述的方法，其中1550nm的衰减小于0.175dB/km。
5.如权利要求1所述的方法，其中1383nm的衰减小于0.31dB/km。
6.如权利要求1所述的方法，其中光缆的截止波长小于1260nm。
7.如权利要求1所述的方法，其中光缆的截止波长小于约1530nm。
8.如权利要求6所述的方法，其中20mm直径的宏弯曲损耗小于2dB/m。
9.如权利要求1所述的方法，其中外纤芯区的折射率，如果不计VAD或OVD微粉处理自然出现的锗扩散尾的话，基本上等于无掺杂石英的折射率。
10.一种用于发送1550nm波长区中的光信号的光纤，该光纤包括：
内纤芯；
最小半径为5微米的外纤芯；以及
最大半径为25微米的凹槽；
其中功率包络按如下分布：
(i)50-80％的光功率在内纤芯中，
(ii)20-40％的光功率在外纤芯中，并且
(iii)少于5％的光功率在凹槽中。
11.如权利要求10所述的光纤，其中：
内纤芯的半径在2-8微米之间；
内纤芯和外纤芯的组合半径在5-12微米之间；并且
凹槽的半径在5-25微米之间。
12.如权利要求10所述的光纤，其中内纤芯的折射率Δ在0.001与0.003之间；外纤芯的折射率Δ在0.000与0.001之间；并且凹槽的折射率Δ在-0.0035与-0.0007之间。
13.如权利要求10所述的光纤，其中1550nm的衰减小于0.175dB/km。
14.如权利要求10所述的光纤，其中1383nm的衰减小于0.31dB/km。
15.如权利要求10所述的光纤，其中光缆的截止波长小于1260nm。
16.如权利要求10所述的光纤，其中光缆的截止波长小于约1530nm。
17.如权利要求10所述的光纤，其中20mm直径的宏弯曲损耗小于2dB/m。
CN201110319912.1A 2005-06-29 2006-03-28 低损耗光纤的设计及其制造方法 Active CN102411168B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/170,257 US20070003198A1 (en) 2005-06-29 2005-06-29 Low loss optical fiber designs and methods for their manufacture
US11/170,257 2005-06-29

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2006100716924A Division CN1891649B (zh) 2005-06-29 2006-03-28 低损耗光纤的设计及其制造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102411168A CN102411168A (zh) 2012-04-11
CN102411168B true CN102411168B (zh) 2013-09-18

Family

ID=37052843

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201110319912.1A Active CN102411168B (zh) 2005-06-29 2006-03-28 低损耗光纤的设计及其制造方法
CN2006100716924A Active CN1891649B (zh) 2005-06-29 2006-03-28 低损耗光纤的设计及其制造方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2006100716924A Active CN1891649B (zh) 2005-06-29 2006-03-28 低损耗光纤的设计及其制造方法

Country Status (4)

Country Link
US (4) US20070003198A1 (zh)
EP (2) EP2629126B1 (zh)
JP (2) JP2007011366A (zh)
CN (2) CN102411168B (zh)

Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2893149B1 (fr) * 2005-11-10 2008-01-11 Draka Comteq France Fibre optique monomode.
KR100762611B1 (ko) * 2006-01-10 2007-10-01 삼성전자주식회사 광섬유 모재의 제조 방법 및 이를 이용한 광섬유의 제조방법
FR2899693B1 (fr) * 2006-04-10 2008-08-22 Draka Comteq France Fibre optique monomode.
US20080253428A1 (en) * 2007-04-10 2008-10-16 Qorex Llc Strain and hydrogen tolerant optical distributed temperature sensor system and method
NL1033763C2 (nl) * 2007-04-26 2008-10-28 Draka Comteq Bv Inrichting en werkwijze voor het vervaardigen van een optische voorvorm.
US7836728B2 (en) * 2007-05-09 2010-11-23 Ofs Fitel, Llc Increasing the cladding-to-core ratio (D/d) of low D/d ratio core rods in optical fiber performs
US8107784B2 (en) * 2007-06-15 2012-01-31 Ofs Fitel, Llc Reduced bend sensitivity and catastrophic bend loss in single mode optical fibers and method of making same
US7496258B1 (en) * 2007-11-09 2009-02-24 Schlumberger Technology Corporation Hydrocarbon monitoring cable
EP2206001B1 (en) 2007-11-09 2014-04-16 Draka Comteq B.V. Microbend- resistant optical fiber
FR2930997B1 (fr) 2008-05-06 2010-08-13 Draka Comteq France Sa Fibre optique monomode
JP2010102276A (ja) * 2008-09-26 2010-05-06 Mitsubishi Cable Ind Ltd 光ファイバ及びその製造方法
US8428415B2 (en) * 2009-01-09 2013-04-23 Corning Incorporated Bend insensitive optical fibers with low refractive index glass rings
CN102439805B (zh) * 2009-05-11 2016-06-08 Ofs菲特尔有限责任公司 在拉曼激光发射应用中使用的滤波器光纤及其制造技术
JP2011039109A (ja) * 2009-08-06 2011-02-24 Sumitomo Electric Ind Ltd 光通信システム
DK2352047T3 (da) * 2010-02-01 2019-11-11 Draka Comteq Bv Ikke-nul dispersionsskiftet optisk fiber med et stort effektivt areal
EP2352046B1 (en) * 2010-02-01 2018-08-08 Draka Comteq B.V. Non-zero dispersion shifted optical fiber having a short cutoff wavelength
FR2963787B1 (fr) * 2010-08-10 2012-09-21 Draka Comteq France Procede de fabrication d'une preforme de fibre optique
CN102225843B (zh) * 2011-05-13 2013-07-31 烽火通信科技股份有限公司 光纤预制棒的制造方法
EP2527893B1 (en) * 2011-05-27 2013-09-04 Draka Comteq BV Single mode optical fiber
DE102011109838A1 (de) * 2011-05-27 2012-11-29 J-Plasma Gmbh Lichtleitfaser
JP5590617B2 (ja) * 2011-06-03 2014-09-17 信越化学工業株式会社 コアから離隔した位置に低屈折率部を有する光ファイバ用母材の製造方法
ES2451369T3 (es) 2011-06-09 2014-03-26 Draka Comteq Bv Fibra óptica de modo único
CN102243336B (zh) 2011-07-25 2013-06-05 长飞光纤光缆有限公司 一种色散补偿光纤
US8718431B2 (en) * 2011-09-21 2014-05-06 Ofs Fitel, Llc Optimized ultra large area optical fibers
US8687932B2 (en) * 2011-09-21 2014-04-01 Ofs Fitel, Llc Optimized ultra large area optical fibers
US8768129B2 (en) 2011-09-21 2014-07-01 Ofs Fitel, Llc Optimized ultra large area optical fibers
JP5974455B2 (ja) * 2011-11-21 2016-08-23 住友電気工業株式会社 光ファイバ母材、光ファイバ製造方法および光ファイバ
JP5942630B2 (ja) * 2012-06-20 2016-06-29 住友電気工業株式会社 光ファイバ製造方法
KR102126089B1 (ko) * 2012-12-28 2020-06-23 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 광섬유 및 광섬유용 실리카 유리 모재
WO2014119415A1 (ja) * 2013-01-29 2014-08-07 古河電気工業株式会社 ガラス母材の製造方法および光ファイバ
US9002164B2 (en) 2013-02-28 2015-04-07 Fujikura Ltd. Optical fiber and method of manufacturing the same
CN103149630B (zh) * 2013-03-06 2016-02-24 长飞光纤光缆股份有限公司 一种低衰减单模光纤
WO2015084596A1 (en) 2013-12-04 2015-06-11 Danisco Us Inc. Compositions comprising a beta-glucosidase polypeptide and methods of use
CN104049299A (zh) * 2014-03-31 2014-09-17 江苏科信光电科技有限公司 弯曲不敏感单模光纤及其制作方法
JP6513796B2 (ja) * 2014-09-16 2019-05-15 コーニング インコーポレイテッド 一工程フッ素トレンチ及びオーバークラッドを有する光ファイバプリフォームの作製方法
US9658395B2 (en) * 2014-10-21 2017-05-23 Ofs Fitel, Llc Low loss optical fiber and method of making the same
CN104777553B (zh) * 2015-04-28 2017-12-29 长飞光纤光缆股份有限公司 一种超低衰减单模光纤
CN104991307A (zh) * 2015-07-31 2015-10-21 长飞光纤光缆股份有限公司 一种超低衰减大有效面积的单模光纤
CN107085263B (zh) * 2017-05-16 2019-10-01 长飞光纤光缆股份有限公司 一种熔融拉锥型弯曲不敏感单模光纤
CN109081575A (zh) * 2017-06-14 2018-12-25 中天科技精密材料有限公司 光纤预制棒及其制造方法
CN109970335B (zh) * 2019-03-11 2020-11-17 江苏永鼎股份有限公司 一种大规格低衰减的光纤预制棒及其制备方法
CN110204190B (zh) * 2019-07-12 2023-11-24 杭州金星通光纤科技有限公司 一种超低损耗单模光纤的制造方法及装置
US11874494B2 (en) * 2020-03-18 2024-01-16 Corning Incorporated Reduced diameter optical fiber with improved microbending
CN113213752B (zh) * 2021-03-18 2022-08-05 山东富通光导科技有限公司 一种外气相沉积法制备超低损耗光纤预制棒及光纤的方法
JP2022153101A (ja) * 2021-03-29 2022-10-12 古河電気工業株式会社 光ファイバ

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5278931A (en) * 1992-12-31 1994-01-11 Corning Incorporated Low bend loss singlemode optical waveguide fiber
CN1309624A (zh) * 1998-06-25 2001-08-22 三星电子株式会社 具有oh阻挡层的光纤预制品及其生产方法
CN1598629A (zh) * 2003-09-19 2005-03-23 三星电子株式会社 低耗光纤及制造光纤预制棒的方法
CN1666124A (zh) * 2002-07-09 2005-09-07 株式会社藤仓 光纤及采用了光纤的光纤耦合器、掺铒光纤放大器、光导波路

Family Cites Families (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61117126A (ja) * 1984-11-13 1986-06-04 Sumitomo Electric Ind Ltd 光フアイバ用母材の製造方法
US4852968A (en) * 1986-08-08 1989-08-01 American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories Optical fiber comprising a refractive index trench
US5044724A (en) * 1989-12-22 1991-09-03 At&T Bell Laboratories Method of producing optical fiber, and fiber produced by the method
US5822488A (en) * 1995-10-04 1998-10-13 Sumitomo Electric Industries, Inc. Single-mode optical fiber with plural core portions
JPH09288220A (ja) * 1996-02-20 1997-11-04 Kokusai Denshin Denwa Co Ltd <Kdd> 光ファイバ
JP3738510B2 (ja) * 1997-01-16 2006-01-25 住友電気工業株式会社 光ファイバ及びその製造方法
US5878182A (en) * 1997-06-05 1999-03-02 Lucent Technologies Inc. Optical fiber having a low-dispersion slope in the erbium amplifier region
US6131415A (en) * 1997-06-20 2000-10-17 Lucent Technologies Inc. Method of making a fiber having low loss at 1385 nm by cladding a VAD preform with a D/d<7.5
US6421489B1 (en) * 1997-10-29 2002-07-16 Corning Incorporated Waveguide profile for large effective area
DE19852704A1 (de) * 1998-11-16 2000-05-18 Heraeus Quarzglas Verfahren zur Herstellung einer Vorform für eine optische Faser und für die Durchführung des Verfahrens geeignetes Substratrohr
WO2000062106A1 (fr) * 1999-04-13 2000-10-19 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Fibre optique et systeme de communication optique comprenant celle-ci
JP4345180B2 (ja) * 2000-03-10 2009-10-14 住友電気工業株式会社 光ファイバ母材製造方法、光ファイバ母材および光ファイバ製造方法
JP4531954B2 (ja) * 2000-09-01 2010-08-25 古河電気工業株式会社 光ファイバおよびその光ファイバを用いた光伝送路
US6654531B2 (en) * 2001-02-21 2003-11-25 Fitel Usa Corp. Dispersion-compensating module
US6498887B1 (en) * 2001-02-21 2002-12-24 Fitel Usa Corp. Dispersion-compensating fiber having a high relative dispersion slope
US6574994B2 (en) * 2001-06-18 2003-06-10 Corning Incorporated Method of manufacturing multi-segmented optical fiber and preform
JP3986842B2 (ja) * 2001-07-26 2007-10-03 株式会社フジクラ ノンゼロ分散シフト光ファイバ用光ファイバ母材の製法
US7085462B2 (en) * 2001-12-05 2006-08-01 The Furukawa Electric Co., Ltd. Optical fiber, optical fiber module and optical amplifier
JP2003232950A (ja) * 2002-02-13 2003-08-22 Fujikura Ltd 光ファイバ
JP2003300744A (ja) * 2002-04-08 2003-10-21 Sumitomo Electric Ind Ltd 光ファイバの製造方法及び光ファイバ
US6816657B2 (en) * 2002-05-08 2004-11-09 Furukawa Electric North America, Inc. Raman fiber optic amplifier with reduced dispersion
US6987895B2 (en) * 2002-07-02 2006-01-17 Intel Corporation Thermal compensation of waveguides by dual material core having positive thermo-optic coefficient inner core
JP2004347884A (ja) * 2003-05-22 2004-12-09 Furukawa Electric Co Ltd:The 光ファイバおよび光伝送路
US6888991B2 (en) * 2003-04-04 2005-05-03 Fitel Usa Corp. Single-mode fiber systems
EP1657575A4 (en) * 2003-04-11 2008-03-19 Fujikura Ltd OPTICAL FIBER
JP4292862B2 (ja) * 2003-05-12 2009-07-08 住友電気工業株式会社 光ファイバ用母材の製造方法及び光ファイバの製造方法
JP4152813B2 (ja) * 2003-06-24 2008-09-17 株式会社フジクラ モード変換器用ファイバ、モード変換器、光伝送路
JP2005017694A (ja) * 2003-06-26 2005-01-20 Furukawa Electric Co Ltd:The 光ファイバおよび光ファイバケーブル
JP2007504080A (ja) * 2003-08-29 2007-03-01 コーニング インコーポレイテッド アルカリ金属酸化物を含有する光ファイバおよびその製造方法と装置
US7164833B2 (en) * 2003-09-24 2007-01-16 Fitel U.S.A. Corp. Optical fiber for improved performance in S-, C- and L-bands
DK1930753T3 (en) * 2006-12-04 2015-03-30 Draka Comteq Bv Optical fiber having a high Brillouin threshold strength and low bending
US8374472B2 (en) * 2007-06-15 2013-02-12 Ofs Fitel, Llc Bend insensitivity in single mode optical fibers
US8107784B2 (en) * 2007-06-15 2012-01-31 Ofs Fitel, Llc Reduced bend sensitivity and catastrophic bend loss in single mode optical fibers and method of making same
US8107783B2 (en) * 2008-07-07 2012-01-31 Ofs Fitel, Llc Stretcher fiber and module
US8520994B2 (en) * 2008-09-17 2013-08-27 Ofs Fitel, Llc Bandwidth-maintaining multimode optical fibers
FR2951282B1 (fr) * 2009-10-13 2012-06-15 Draka Comteq France Fibre optique monomode a tranchee enterree

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5278931A (en) * 1992-12-31 1994-01-11 Corning Incorporated Low bend loss singlemode optical waveguide fiber
CN1309624A (zh) * 1998-06-25 2001-08-22 三星电子株式会社 具有oh阻挡层的光纤预制品及其生产方法
CN1666124A (zh) * 2002-07-09 2005-09-07 株式会社藤仓 光纤及采用了光纤的光纤耦合器、掺铒光纤放大器、光导波路
CN1598629A (zh) * 2003-09-19 2005-03-23 三星电子株式会社 低耗光纤及制造光纤预制棒的方法

Also Published As

Publication number Publication date
US8295668B2 (en) 2012-10-23
US20120033924A1 (en) 2012-02-09
US20070003198A1 (en) 2007-01-04
JP5674593B2 (ja) 2015-02-25
CN102411168A (zh) 2012-04-11
US20120093471A1 (en) 2012-04-19
US20090232463A1 (en) 2009-09-17
CN1891649B (zh) 2011-11-09
US8073301B2 (en) 2011-12-06
EP2629126A3 (en) 2014-10-01
JP2012008592A (ja) 2012-01-12
CN1891649A (zh) 2007-01-10
JP2007011366A (ja) 2007-01-18
EP1739063A2 (en) 2007-01-03
EP2629126B1 (en) 2017-04-12
US8315493B2 (en) 2012-11-20
EP2629126A2 (en) 2013-08-21
EP1739063A3 (en) 2012-11-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102411168B (zh) 低损耗光纤的设计及其制造方法
CN102798927B (zh) 单模光纤及其制造方法
EP2369379B1 (en) Fibre optique monomode ayant des pertes par courbures réduites
US7095940B2 (en) Optical fiber, method for manufacturing same and optical transmission channel
CN102819063B (zh) 单模光纤及其制造方法
JP6298893B2 (ja) 損失低下を示す、台形コアを有するシングルモードファイバ
EP2584389B1 (en) Bend insensitive fiber
US20060018614A1 (en) High performance dispersion compensating optical fibers and manufacturing method for the same
CN104155717B (zh) 一种低衰耗单模光纤
CN103323908B (zh) 一种单模光纤及其制造方法
WO2016173253A1 (zh) 一种超低衰耗弯曲不敏感单模光纤
CN103472525B (zh) 低损耗大有效面积单模光纤及其制造方法
CN107608023A (zh) 一种阶跃型超低衰减少模光纤
EP0851247A2 (en) Dispersion-shifted optical fibre and method of manufacturing the same
US11579355B2 (en) Low cross-talk multicore optical fiber for single mode operation
CN1300607C (zh) 弯曲不敏感光纤及其制备方法
CN100458477C (zh) 光纤、光传送线路
CN113552666A (zh) 光纤
KR20060099332A (ko) 대용량 비영분산 천이 광섬유용 모재의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant