CN1078845C - 耐热光学塑料层压薄板 - Google Patents

Abstract

由以光学透明的多芳基化合物或聚碳酸酯为代表的聚合物组成的第一层与由玻璃化温度比该层低的光学透明材料组成的第二层层压而成的、耐热性和透明性优异的光学塑料层压薄板。具备耐冲击性和刚性，而且有优异的光学特性，可用来作为光电子元件用基板。

Description

耐热光学塑料层压薄板

技术领域

本发明涉及光学上透明并具有耐热性的光学塑料层压薄板及其制造方法，以及使用了该层压薄板的耐热透明基板。

背景技术

随着电子技术的迅速进展，光电子学领域，尤其液晶显示元件、电场致发光显示元件、太阳能电池用光电转换元件等，一直在扩大。

在这些领域中，光电子元件一般是通过在有透明导电层的玻璃基板形成元件而供给各种用途的。然而，玻璃在机械强度、尤其脆性方面是有问题的，由于会使元件的耐久性降低，因而通常利用进行了强化玻璃等特殊处理的基板。而且，尤其在装入便携式设备中的情况下，由于玻璃比重大而使设备重量增大，因而朝着玻璃基板薄膜化的方向发展，使得0.4mm左右基板的利用成为可能。然而，即使在这种情况下，也由于玻璃的脆性，依然有在工艺中因破碎而使产率低下或元件的耐冲击性低下这样的问题。

因此，人们强烈希望基板的强韧化和轻量化，从重量轻、耐冲击性这一点以及与玻璃的互换性观点来看，要求一般光学透明的，即光线透过率在80％以上，具有光雾(haze)值在5％以下左右的光学特性，且厚度在0.2～0.5mm左右、具备适度刚性的塑料基板。

然而，从光电子元件形成时所需要的温度来看，要求有180℃以上、较好200℃以上的耐热性，而且，在考虑应用于液晶元件的情况下，也要求较好有50nm以下、更好的是有20nm以下这样的低光程差(retardation)。另一方面，在塑料制成薄膜或薄板时，容易发生分子取向，尤其是用耐热性高的材料非常难以用熔融法得到低光程差的薄膜或薄板。例如，用聚碳酸酯等耐热性较低的材料也有可能得到可用于液晶显示元件的、有50nm以下光程差的薄板，但用多芳基化合物等玻璃化温度在180℃以上的材料则不能得到低光程差的薄板。

另一方面，在超向列型液晶显示(STN-LCD)的情况下，为了提高其显示品位，目前的一般做法是利用一种能将双折射率与厚度之积所表示的光程差控制在特定值的高分子薄膜(相位差薄膜)粘贴在玻璃基板上。在基板改用塑料的情况下，可望出现能赋与塑料基板本身以相位差功能从而降低成本等玻璃基板所不具备的特征，因而，尤其需要具有耐热性而且能将光程差很好地控制在100nm以上，较好在100～700nm左右的范围内的塑料基板。

因此，有人提出了把作为耐热高分子已知的多芳基化合物、聚砜、聚醚砜、聚醚醚酮等用溶剂浇铸法制成薄膜、利用所谓塑料液晶胞等形态的方案(特开昭59-119321号、特开昭60-167208号、特开昭60-147721号、特开昭61-41539号、美国专利4623710号)，但由于基板是约0.1mm左右的薄膜状、刚性比玻璃差的软基板，因而不能与采用玻璃基板的工艺共用。这意味着必须开发新工艺，利用现有玻璃基板工艺不能充分达到消除玻璃基板缺点的目的。

为了具有刚性，可考虑使薄膜增厚，但在用溶剂浇铸法制备厚膜的情况下，除易于发生发泡等缺点外，由于生产率大幅度下降也使得在工业上难以实施，而且也有200μm的极限。此外，在用熔融挤压法制备厚膜的情况下，除丧失光学各向同性外，还由于成形时的模具线条而使表面平滑性或外观恶化，难以作为液晶显示用基板使用。

另一方面，也在探讨利用聚甲基丙烯酸甲酯或改性聚烯烃等基本上属于低双折射材料的塑料，或可以在特开平6-194501号中看到的交联丙烯酸树脂或环氧树脂等固化型塑料成形为薄板状的可能性，但前者没有玻璃工艺所需要的耐热性，后者生产率低，有大量生产实用性差等问题。而且，虽然上述耐热光学薄膜也可以层压制成薄板，但没有耐热性和可靠性优异的粘合剂，或者在加热层压的情况下处理温度必须很高，从而引起树脂变性、着色等特性恶化。

因此，现实情况是，迄今为止尚未发现具有可与玻璃工艺保持互换性的刚性和耐热性、耐冲击性优异、而且满足透明、低光程差等光学特性的、工业上可利用的材料。

鉴于这样的实现情况，本发明提供可期待与玻璃工艺有互换性、耐热性和光学特性优异，而且可大量生产、非常适用于光电子元件的耐热性光学塑料层压薄板。

本发明者等人为达到上述目的而反复进行深入研究的结果，发现通过制作有高耐热性的一层和在室温下物理性能优异的一层的层压结构，可以得到兼备刚性、光学特性和耐热性的光学塑料层压薄板，从而完成了本发明。

发明公开

这就是说，本发明的第一方面内容是，由光学透明的聚合物组成的至少一个第一层和由玻璃化温度比该层低的、光学透明的第二种材料组成的第二层层压而成的、耐热性和透明性优异的光学塑料层压薄板；

本发明的第二方面内容是，耐热性和透明性优异的光学塑料层压薄板的制造方法，其特征在于由构成第一层的光学透明聚合物组成薄膜与构成第二层的、玻璃化温度比第一层低的光学透明薄膜直接加热层压；

本发明的第三方面内容是，用上述光学塑料层压薄板制成的光电子元件用耐热性透明基板。

实施本发明的最佳形态

本发明是具有层压结构的薄板，其中包含由具有高玻璃化温度、耐热性高的材料组成的第一层，和由具有低玻璃化温度的材料组成的第二层。

构成第一层的光学透明聚合物系指光线透射率在80％以上，光雾(haze)值在5％以下的聚合物，例如，可以使用多芳基化合物或聚碳酸酯、聚砜、聚醚砜、聚乙烯醇等称为热塑性工程塑料的、耐热性高的树脂。第一层可以是单层，也可以由两层以上的多层组成。

主链上有芳香族基团的多芳基化合物或聚碳酸酯是耐热性和透明性优异、适合于得到薄膜或薄板(以下只称薄膜)的较好材料。该聚合物的细节可参阅特开昭57-73021号、特开平1-13583号、特开平2-88634号、特开平2-23720号等，由其玻璃化温度在160℃以上、较好在180℃以上、更好的是在200℃以上的材料组成。

第一层层压在玻璃化温度比该层低的第二层的一面或两面上，起到了防止第二层高温加热时热变形的作用。第一层的厚度取决于层压薄板的厚度或所要求的耐热形状稳定性，通常是层压薄板的20～80％，在该层压薄板只作为液晶显示装置用基板使用的情况下，薄板必须有低的光程差，这也因液晶显示装置的种类而异，一般较好在50nm以下，更好的是在20nm以下。而且，在赋与该薄板以相位差功能的情况下，可通过预先赋与层压的至少一层以特定的光程差之后层压而容易地得到。一般需要赋与100nm以上，较好300nm以上的光程差。尤其，赋与耐热性高的第一层以特定光程差，可以提高所得到的相位差层压薄板的热稳定性。

为了赋与第一层以特定光程差，可以通过让上述高分子材料发生取向来实现。一般可以通过让光学各向异性程度低的多芳基化合物或聚碳酸酯、聚砜、聚醚砜、聚乙烯醇等所组成的高分子薄进行单轴或双轴拉伸达到。这类薄膜可以用众所周知的薄膜化技术得到，但从表面外观和光学特性来看，最好使用以溶剂浇铸法制备的薄膜。

光程差取决于薄膜厚度和分子取向程度，而分子取向在很大程度上被拉伸条件所左右。因此，为了精确控制光程差，较好是让第一层的厚度比较薄，让拉抻条件的控制幅度尽可能大。为此，第一层的厚度较好选自20～150μm、更好的是40～100μm。此外，如特开平2-160204号或特开平3-85519号中所述，也可以恰当使用已将膜厚方向的折射率调整到与平面内任何一个方向的折射率不同的任何一种特殊材料。即使在这种情况下，第一层也不仅可以是单层，而且也可以是两层以上的多层。

作为构成第二层的材料，一般使用由双折射率低，容易制成厚膜的材料构成，耐热性比第一层低的材料。在用加热熔粘法在层压工艺中将第二层加热到玻璃化温度以上的情况下，也可以使用没有低双折射率的材料，从而大幅度缓和第二层所要求的光学初期特性。构成第二层的材料的玻璃化温度取决于所要求的耐热性程度，但一般可以在100℃以上，较好在140℃以上，较好的是也比构成第一层的材料的玻璃化温度低20℃以上，而更好的是低40℃以上。本发明层压塑料薄板的耐热性主要取决于第一层的耐热性。第二层可以是单层，也可以由两层以上的多层组成。

构成第二层的材料较好是与第一层的亲和性优异的材料，必须选择最适用的材料。第二层起到在常温下使薄板呈刚性的作用。此外，由于第一层的保护使之不发生热变形，因而即使在玻璃化温度以上的高温加热时，也受到存在于其一面或两面，玻璃化温度高的第一层的保护，即使对于加压等应力也能保持无流动形态。同在第一层厚度的情况下一样，第二层的厚度也决定于层压薄板所要求的特性，但可以选择层压薄板总厚度的80～20％。

本发明的塑料层压薄板可以将构成各层的塑料用熔融共挤压法成形，但若将各层单独使用溶剂浇铸法或熔融挤压法按所需厚度制成薄膜后再层压，则可以容易地得到高品位的塑料层压薄板。也可以用粘合剂进行层压，但必须选择不损害层压薄板耐热性的粘合剂。从高温时的特性来看，较好是加热层压。在这种情况下，进行材料选择时必须考虑第一层与第二层的亲和性。

在使用多芳基化合物或聚碳酸酯类材料作为第一层的情况下，作为第二层的适用材料，是具有较低玻璃化温度的聚酯、多芳基化合物或聚碳酸酯等。由双酚A和对苯二甲酸形成的聚碳酸酯作为工程塑料已被广泛利用，而且在具有玻璃化温度为约150℃的适度值的同时，还具有与第一层的高亲和性，因而从特性和成本的观点来看，作为第二层材料是特别好的。

本发明的耐热光学塑料层压薄板，如上所述，是由第一层和第二层层压而成的，因而有效利用了容易得到光学特性优异的薄厚度薄膜这样的溶剂浇铸法优点，而且具有能以低成本得到耐热厚膜薄板这样的特征。此外，在用层压法得到层压薄板的情况下，从光学特性或表面平滑性的观点来看，高耐热层(第一层)可以使用溶剂浇铸法成膜的薄膜。进而，利用具有较低玻璃化温度的材料容易以熔融挤压法高产率地得到光学特性良好的薄膜这样的特征，第二层也可以使用熔融挤压薄膜，以降低层压薄板的成本。

而且，按照加热层压法，一般是第二层在层压期间加热到玻璃化温度以上，因而产生了热退火效果，因此，单一薄膜所具有的双折射率因热退火而下降和改善，其结果是，所得到层压薄板具有其光程差小于各单一薄膜的光程差总和这样的特征。适用的加热层压方法之一是用加热辊或带进行的加热·加压层压法。所需要的加热温度因层压材料而异，但较好是比构成第二层的材料的玻璃化温度高、比构成第一层的材料的玻璃化温度低的温度。热层压也可以先在较低温度预压、然后在层压温度加热正常压合等分多个阶段进行加热。为防止热层压时有气泡卷入，较好也可以使用真空层压方式。

有如上所述结构的本发明塑料层压薄板，为确保刚性等在工艺上与玻璃的共用性或互换性，厚度较好是0.2～1mm、特别好的是0.3～0.7mm。至于光学特性，较好是全光线透射率在80％以上。

本发明的塑料层压薄板，同玻璃一样，也可以作为光电子元件基板进行透明导电加工等二次加工，但作为加工条件，必须边参考透明导电薄膜的实施条件，边找出最佳条件。此外，与玻璃板不同，由于对氧、水蒸汽等的阻挡性能降低，因而如有必要，可进行乙烯-乙烯醇共聚物或聚偏二氯乙烯等有机类气体阻挡层加工或二氧化硅·氧化铝等组成的无机类气体阻挡层加工。

另一方面，如前所述，也可以预先赋与至少一个第一层以某种功能。例如，通过将构成第一层的薄膜预先拉伸以赋与一定的双折射性而制成相位差薄膜后再制成层压薄板，可以得到已使相位差薄膜一体化的塑料层压薄板。在这种情况下，由于构成第一层的相位差薄膜具有高玻璃化温度，因而即使在加热层压中也具有其余光程差不下降这样的特征，可以得到光程差高度受控的薄板。

在将由相位差薄膜组成的第一层同时配置于第二层两面的情况下，如果保持第一层相位差薄膜的光轴相互平行，则所得到的薄板的相位差是两者的总和。这样配置第一层情况，与只有一个第一层显示相位差的情况相比，可以防止所得到的薄板发生翘曲等不良变形。此外，构成第一层的各相位差薄膜，为了达到使所得到的液晶显示装置的反差加大等提高特性的目的，也可以将其光轴适当交叉配置。通常，作为STN液晶显示装置，除基板外还需要多层相位差薄膜，但当采用这样的结构时，由于基板材料具有多层相位差薄膜的功能，因而有可以简单地制作液晶显示装置的结构这样的优点。两个第一层形成的相对光轴角度，可与设计液晶显示装置的各参数联系起来加以确定。按照本发明的层压薄板，可以容易地得到有所需相对角度的装置。

此外，本层压薄板没有限制进一步设置除第一、第二层以外的其它层。

两个第一层也可以是其光程差值相同或不同。进而，如有必要，甚至可以改变构成这些第一层的材料种类。

而且，通过采用表面上有透明导电层的薄膜作为第一层，可以得到透明导电性塑料层压薄板。进而，通过采用在一个第一层薄膜上有相位差的薄膜而在另一个第一层薄膜上有透明导电性的薄膜，也可以得到相位差·透明导电一体型塑料层压薄板。

本发明的塑料层压薄板，从耐热性和光学特性的观点来看，可以与玻璃共用或互换，因而可以广泛用作光电子元件基板。进而，由于与玻璃不同，其耐冲击性优异且重量轻，因而尤其可用来作为要求面积日益增大的液晶显示元件的基板材料。

以下，参照实施例更具体地说明本发明，但本发明不受这些实施例限制。

实施例1

作为第一层材料，使用以溶剂浇铸法制膜、玻璃化温度为215℃，光程差为10nm、75μm厚、A4版尺寸的透明多芳基化合物薄膜(ェルメックF-1100：钟渊化学工业公司注册商标)，而作为第二层材料，则使用以溶剂浇铸法制膜、玻璃化温度为150℃、光程差为13nm、120μm厚、主链由双酚A-对苯二甲酸组成的透明聚碳酸酯薄膜，将聚碳酸酯薄膜夹在两张多芳基化合物薄膜之间，在真空层压机中于145℃初步加压粘合。然后，用玻璃板夹住，在200℃加热、正规加压粘合，得到牢固融粘的270μm厚层压薄板。

所得到的层压薄板用热机分析法(TMA)测定的软化温度为245℃，显示出与多芳基化合物单独制成的薄膜大致相同的软化温度。另一方面，聚碳酸酯的软化温度为180℃。而且，所制成的层压薄板即使在200℃以20kg/cm²加压，也能保持其形态，光程差为20nm，而且有优异的耐热性和光学各向同性。表面糙度平均为0.028μm。光线透射率为90％，光雾(haze)值为0.3％。

实施例2

用含有1，1-二(4-羟基苯基)-3，3，5-三甲基环己烷和双酚A作为苯酚成分的耐热聚碳酸酯(玻璃化温度：206℃，Apec HT KUI-9371：拜耳公司注册商标)，用溶剂浇铸法得到光程差为8nm、75μm厚的聚碳酸酯薄膜。除用该薄膜作为第一层外，与实施例1一样进行，得到牢固融粘的270μm层压薄板。

所得到的层压薄板用TMA分析法测定的软化温度为230℃，显示出与第一层聚碳酸酯单独制成的薄膜大致相同的软化温度。所制成的层压薄板即使在190℃、20kg/cm²加压也能保持其形态，光程差为19nm，有优异的耐热性和光学各向同性。此外，光线透射率为89％、光雾(haze)值为0.4％。

实施例3

除使用以熔融挤压法成形、光程差为150nm的400μm厚聚碳酸酯薄膜(玻璃化温度：150℃)作为第二层材料外，与实施例1一样，与两张多芳基化合物薄膜一起进行加热熔粘，得到530μm厚的层压薄板。

所得到的层压薄板的软化温度为245℃，在200℃、20kg/cm²加压后的光程差为19nm。此外，光线透射率为90％、光雾(haze)值为0.3％。

实施例4

用溶剂浇铸法制膜的、厚度75μm的多芳基化合物薄膜以自由端单轴拉伸法进行纵向单轴拉伸，得到玻璃化温度为215℃、光程差为380nm的相位差薄膜。用这种相位差薄膜和未拉伸的75μm厚多芳基化合物薄膜(玻璃化温度：215℃)作为第一层材料，而作为第二层材料，则使用以熔融挤压法成形、玻璃化温度为150℃、光程差为200nm的200μm厚聚碳酸酯薄膜，与实施例1一样进行加热融粘，得到了使相位差薄膜成为一体的340μm厚层压薄板。

所得到的层压薄板有372nm的光程差。此外，平面内的光程差分布为7nm，而且有良好的均一性。光线透射率为88％、光雾(haze)值为0.9％。

实施例5

实施例2所用的耐热聚碳酸酯制成的薄膜以自由端单轴拉伸法进行纵向单轴拉伸，得到光程差为410nm的75μm厚相位差薄膜。用这种相位差薄膜和未拉伸，厚度为75μm的耐热聚碳酸酯薄膜作为第一层材料，而作为第二层材料，则使用实施例4所用的，以熔融挤压法成形、玻璃化温度为150℃、光程差为20nm、厚度为200μm的聚碳酸酯薄膜，与实施例1一样进行加热融粘，得到了使相位差薄膜成为一体的340μm厚层压薄板。

所得到的层压薄板有392nm的光程差。而且平面内的光程差分布为12nm，并有良好的均一性。此外，光线透射率为89％、光雾(haze)值为0.8％。

实施例6

使用在一侧的表面上依次设置SiO_x组成的气体阻挡层和ITO组成的透明导电层、厚度为75μm，表面电阻为60Ω/口的多芳基化合物薄膜(玻璃化温度：215℃)以及实施例1所述的多芳基化合物薄膜作为第一层材料，而作为第二层材料，则使用实施例4所用的、熔融挤压法成形、光程差为20nm、厚度为200μm的聚碳酸酯薄膜(玻璃化温度：150℃)，聚碳酸酯薄膜用上述两种多芳基化合物薄膜夹住，与实施例1一样进行加热融粘，得到表面上有透明导电层的塑料层压薄板。

所得到的层压薄板的厚度为350μm，表面电阻为45Ω/口。

实施例7

分别使用实施例4所述的多芳基化合物相位差薄膜以及实施例6所述的透明导电多芳基化合物薄膜作为第一层材料，而作为第二层材料，则使用实施例4所用的、以熔融挤压法成形、光程差为20nm、厚度为200μm的聚碳酸酯薄膜(玻璃化温度：150℃)，与实施例1一样进行加热融粘，得到了表面上有透明导电层而且具有相位差的塑料层压薄板。

所得到的层压薄板的厚度为347μm，光程差为369nm，表面电阻为45Ω/口

实施例8

用实施例1得到的塑料层压薄板，以真空溅射法依次形成500的SiOx层和1000的ITO层，制成了有气体阻挡层和透明导电层的耐热透明基板。

所得到的耐热透明基板的表面电阻为52Ω/口，氧气渗透率为0.7ml/m²/日以下。

实施例9

以溶剂浇铸法制膜、玻璃化温度为215℃、光程差为10nm、厚度为58μm的多芳基化合物透明薄膜(ェルメゾクF-1100：钟渊化学工业公司注册商标)进行单轴拉伸，得到光程差为380±3nm的相位差薄膜。以这种相位差薄膜作为第一层，而作为第二层材料，则使用以熔融挤压法成形、玻璃化温度为150℃、光程差为30nm、厚度为400μm的聚碳酸酯薄膜，将该聚碳酸酯薄膜夹在两张上述多芳基化合物相位差薄膜之间，以使其光轴呈70°角交叉的方式配置，然后进行加热融粘，得到牢固融粘的、550μm厚、300mm×400mm层压薄板。

所得到的层压薄板是两张第一层的光程差分别为388±5nm和390±4nm，且光线透射率为89％，光雾(haze)值为1.5％。

实施例10

实施例9所用的多芳基化合物透明薄膜进行单轴拉伸，得到光程差为200±3nm的相位差薄膜。以这种相位差薄膜作为第一层，而作为第二层材料则使用实施例9所用的聚碳酸酯薄膜，将该聚碳酸酯薄膜夹在两张多芳基化合物相位差薄膜之间，以使其光轴相互平行的方式配置，然后进行加热融粘，得到了牢固融粘的、550μm厚、300mm×400mm层压薄板。

所得到的层压薄板的光程差为388±5nm。其平面内的光程差分布显示出每1cm在3nm以下的良好数值。其光线透射率为88％，光雾(haze)值为1.2％。

实施例11

作为第二层材料，使用的是以熔融挤压法成形、玻璃化温度为150℃、光程差为130nm、厚度为400μm的聚碳酸酯薄膜，与实施例9一样，与两张实施例9所述的多芳基化合物薄膜一起进行加热融粘，得到550μm厚的层压薄板。

构成所得到的层压薄板的两张第一层的光程差分别为390±4nm和285±3nm，第二层的初期光程差对所得到的层压薄板的光程差没有重大影响，具有与实施例9一样的光学性能。其光线透射率为89％，光雾(haze)值为1.5％。

实施例12

用以溶剂浇铸法制膜、玻璃化温度为215℃、光程差为420nm、厚度55μm的多芳基化合物相位差薄膜作为第一层、实施例9所用的聚碳酸酯薄膜作为第二层。两张第一层以其光轴彼此成45°交叉的方式夹住第二层，加热融粘，得到520μm厚层压薄板。层压后两张第一层的光程差分别为403nm和409nm 。其光线透射率为88％，光雾(haze)值为1.6％。

实施例13

用含有1，1-二(4-羟基苯基)-3，3，5-三甲基环己烷和双酚A作为苯酚成分的耐热聚碳酸酯(玻璃化温度：206℃，Apec HT KUI-9372：拜耳公司注册商标)，以溶剂浇铸法，得到光程差为8nm、A4版尺寸的75μm厚耐热聚碳酸酯薄膜。进而，对这种薄膜以自由端单轴拉伸法进行纵向单轴拉伸，得到光程差为410nm的相位差薄膜。

用这种相位差薄膜作为第一层，用以熔融挤压法成形、光程差为20nm、厚度为200μm的聚碳酸酯薄膜作为第二层材料，与实施例9一样进行加热融粘，得到使相位差薄膜成为一体的340μm厚层压薄板。层压后两张第一层的光程差分别为392nm和390nm。其平面内的光程差分布为12nm，具有良好的均一性。其光线透射率为88％，光雾(haze)值为1.5％。

实施例14

用实施例9所用的单轴拉伸多芳基化合物相位差薄膜，其一侧用表面溅射法形成一个由SiOx组成，500厚的气体阻挡层。作为第二层材料，使用实施例13所用的聚碳酸酯薄膜，将聚碳酸酯薄膜与两张多芳基化合物薄膜不存在气体阻挡层的那一面叠在一起夹紧，与实施例9一样进行加热融粘，得到表面上有气体阻挡层的双折射性塑料层压薄板。这种薄板的厚度为350μm，氧气渗透性为0.7ml/m²/日以下，其有阻挡层存在的表面显示良好的耐药品性。

实施例15

用实施例9得到的层压薄板，在上下两个第一层中的一层表面上用真空溅射法依次形成一个500SiOx层和一个1500置ITO层，制成有气体阻挡层和透明导电层的耐热透明基板。这种层压薄板的表面电阻为30Ω/口、氧气渗透性为0.8ml/m²/日以下。层压薄板的光程差在溅射处理前后无变化，得到了有良好光学性能、有相位差的透明导电层压薄板。

产业上利用的可能性

如上所述，本发明提供了具备耐冲击性、刚性、同时光学特性优异的耐热性透明塑料层压薄板。本发明的塑料层压薄板在光电子领域、尤其液晶显示装置领域，可代替玻璃作为光学基板使用。

Claims (6)

1.光电子元件用耐热性透明基板，包括由第二层和配置在该第二层两面的两个第一层组成的层压板，所述第一层为用溶剂浇铸法获得的光学透明非晶态聚合物，并且玻璃化转变温度大于180℃，所述第二层的聚合物为玻璃化转变温度大于140℃的光学透明非晶态聚合物，其玻璃化转变温度比所述第一层聚合物的玻璃化转变温度低20℃以上，所述层压板的光程差小于50nm，并且其光线透射率大于80％。

2.光电子元件用耐热性透明基板，包括由第二层和配置在该第二层两面的两个第一层组成的层压板，所述第一层为用溶剂浇铸法获得的光学透明非晶态聚合物，并且玻璃化转变温度大于180℃，所述第二层的聚合物为玻璃化转变温度大于140℃的光学透明非晶态聚合物，其玻璃化转变温度比所述第一层聚合物的玻璃化转变温度低20℃以上，所述层压板的光程差为100至700nm，并且其光线透射率大于80％。

3.权利要求1或2的光电子元件用耐热性透明基板，其中第一层与第二层直接层压。

4.权利要求1或2的光电子元件用耐热性透明基板，其中第一层由主链上有芳香族基团的光学透明多芳基化合物或聚碳酸酯组成。

5.权利要求1或2的光电子元件用耐热性透明基板，其中第二层由聚碳酸酯组成。

6.权利要求1或2的光电子元件用耐热性透明基板，其中第一层表面上有透明导电层。