CN1115033A - 光波导及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种带有衍射光栅的具有足够高的反射率的光波导、用于获得该光波导的波导部件、和其制作方法。在一种光波导中，通过采用一种波导部件而在预定部分的芯和包层中形成了所希望的衍射光栅；在该波导部件中二氧化锗被加入芯和包层，并用紫外光的干涉条纹照射该波导部件的预定部分。由此，根据本发明的光波导在整个模式场区中都反射被引导光，因而具有高反射率。

Description

光波导及其制作方法

本发明涉及诸如光纤、薄膜波导等等的光波导，且更具体地说，是涉及用于在预定的部分在周期性地改变折射率的同时产生衍射光栅的波导部件、其中具有衍射光栅的光波导、和用于生产其的方法。

有很多种作为光部件来制作衍射光栅的方式。当用在诸如光通信系统中时，特别适用的一种，是这样一种光波导，即它容易与另一光波导相连接，且其中带有衍射光栅以降低插入损耗。

制作带有衍射光栅的光波导的传统已知方法，诸如在Japanese Laid—open Patent Application No.62—500052中所描述的。该方法以这样的方式制作衍射光栅，即形成带有掺杂有二氧化锗的高折射率芯的石英基光纤，且该光纤随后受到强紫外线的照射以在芯中产生周期性的折射率改变，从而形成衍射光栅。

对于带有衍射光栅的光波导，其反射率是一个重要的特性，它取决于衍射光栅的长度(即芯中折射率被周期地改变的区域的长度)和光致折射率改变，如从以下公式(1)可见：

          R＝tanh2(L·π·Δn_vv/λ)    (1)

在此公式中，R代表反射率，L为芯中形成的衍射光栅的长度，Δn_vv是由于紫外光而引起的折射率改变(光致折射率改变)，且λ是反射波长。

已知由于紫外光照射而引起的折射率改变是由与玻璃中的锗有关的玻璃缺陷引起的。然而，当用于通信的光纤被原样地使用时，包层具有较少的玻璃缺陷。此时，包层由于紫外光而引起的的折射率改变Δn_vv小于芯的折射率改变Δn_vv。因此，整个光波导不能具有足够的反射率。

另外，由于紫外光的照射，芯的被照射部分(那里形成有衍射光栅)具有较高的折射率，该部分的模式场直径变得小于芯的未受到紫外光照射的其他部分的模式场直径。借助在芯中造成的模式场直径的改变，在芯中传播的光由于模式不匹配而辐射到包层中，这增大了传输损耗。

在上述情况下，本发明的一个目的，是实现一种光波导，它具有带有足够反射率的光波导，并提供了方便地制作光波导的方法。

根据本发明的一种光波导具有作为光波导部分的芯和具有比芯的折射率低的折射率并以紧密配合的方式覆盖芯的包层，其中在芯和包层中的预定部分，形成有其中折射率周期地改变的、作为衍射光栅的折射率改变部分。折射率改变部分的数目不一定仅限于1，且可以沿着光的传播方向以预定的间隔形成多个折射率改变部分。

特别地，对于其中在芯和包层中都形成有衍射光栅的波导部件，主要采用了由其中在两个区域之一中预先加有二氧化锗的玻璃材料组成的光波导，但该波导部件包括包含作为主组份的石英(SiO₂)的石英玻璃波导，以及由以石英作为主组份的玻璃和Na₂O、CaO等等添加剂的多组分玻璃波导。另外，在本说明书中，光波导指用于利用芯和包层之间的折射率差传输光并将其限定在一定区域中的线路，包括光纤、薄膜波导等等。

为了起到光波导的作用，包层的折射率必须低于芯的折射率。实现这一点的方式，是例如：(1)将加入包层的二氧化锗的浓度设定在比加入芯的二氧化锗浓度低的水平；或者，(2)在加入芯的二氧化锗浓度等于或高于加入包层的浓度的情况下，加入一种折射率降低剂。这里，作为该折射率降低剂，通常采用诸如氧化硼和氟。

制作根据本发明的具有衍射光栅的光波导的方法的特征，在于该方法包括制备一种玻璃波导部件的步骤—该玻璃波导带有掺杂有二氧化锗的芯和掺杂有二氧化锗并具有低于芯的折射率的折射率的包层，以及用紫外光照射该玻璃波导部件的预定部分(它是包含芯和包层的区域)以改变该预定部分的折射率的步骤。

为了在波导部件的预定部分中形成衍射光栅，需要在该预定部分中产生紫外光的干涉条纹。这种方法的一个例子，是形成两条紫外光相干光束并将这两条相干紫外光以相对于玻璃波导部件中的芯的光轴的、彼此成补角的角度投射，从而产生干涉条纹。在另一种方法中，将紫外光投射到一个相位光栅上，且该相位光栅透射该紫外光以形成干涉条纹。

如果该波导部件具有多个集成光波导区(芯)，则紫外光的透射可以通过采用一个带有透射窗口的掩膜和选定的光学系统而得到限制，从而能够被应用到衍射光栅的微加工。

另外，该制作方法可以被应用到波导部件移动的情况，例如光纤的拉制步骤。

在本发明的光波导中，衍射光栅不仅被形成在其中将要形成芯的衍射光栅的预定部分(折射率改变部分)中，而且还被形成在以紧密配合的形式覆盖该部分的包层中。即，不仅在光波导的芯中传播的被引导光受到了反射，而且该被引导光在受到引导时辐射到包层中的光也得到了反射，因而被引导光在整个模式场区域中都受到了反射。因此，本发明的光波导具有高反射率。

由于从被引导光照射到包层中的光从芯中泄漏到包层中少量的光，因此即使包层中只在芯与包层的界面附近有折射率改变部分，也能够实现足够的高反射率。

另一方面，为了增大折射率的改变量，重要的是增大如上所述的玻璃缺陷。增大芯中的二氧化锗的掺杂浓度，对于实现这点是有效的，但在此情况下，如果在芯的紫外照射区中紫外光的照射之前和之后的折射率改变量变得非常地大，则会产生另一个问题，即在同一芯的区域中由于模式不匹配而引起的传输损耗问题。

更具体地说，芯的紫外光照射部分具有较高的折射率，从而是减小了模式场直径，而其他的非紫外照射部分不具有模式场直径改变。如果在同一芯中产生了这种模式场直径的改变，则在芯中传播的被引导光很可能照射到包层中，造成传输损耗的增大。

在根据本发明的具有衍射光栅的光波导中，二氧化锗被加到芯和包层的每一个中，因而在两个区域中借助紫外光照射而引起了折射率改变。因此，该光波导具有这样的结构，即它不造成芯与包层之间的折射率差的较大改变。因此，在紫外光照射之前和之后，沿着光的传播方向没有产生模式场直径的周期性改变，因而避免了由于模式不匹配而引起的上述传输损耗(即由于被引导光进入包层而造成的传输损耗)。

根据本发明的用于制作具有衍射光栅的光波导的方法，包括以下步骤：制备带有掺杂有二氧化锗的芯以及掺杂有二氧化锗并具有低于芯的折射率的折射率的包层的玻璃波导部件的步骤，以及用紫外光照射该玻璃波导部件的预定部分(它是包含芯和包层的区域)以改变该预定部分的折射率的步骤。它还包含将该制作方法应用到光波导式光学部件的制作过程—其中形成了作为其中形成有衍射光栅的波导部件的多个集成芯，以及光纤的制作过程。

这里，借助紫外光的照射来改变玻璃的折射率的机理还没有得到完全的澄清。然而，一个重要的原因，被认为是与玻璃中的锗有关的氧损失缺陷，它被假定为诸如Si—Ge或Ge—Ge的中性氧的单体空穴。

根据被认为是折射率改变的机理的Kramers—Kronig机理，折射率改变可被解释如下。即，上述缺陷吸收了波长在240至250nm范围中的紫外光。而这种吸收切断了Si—Ge或Ge—Ge耦合，该产生了新的缺陷。这种新缺陷形成了在210nm和280nm波长周围的吸收带。其结果，玻璃的折射率按照Kramers—Kronig关系而改变。

在本发明的制作过程中，其芯和包层都掺杂有二氧化锗的光波导是在第一个步骤中制成的，且将紫外光照射到该光波导上，从而改变了芯和包层中的紫外光进入部分中的折射率。因此，借助本发明的方法制成的光波导具有一个衍射光栅区，在该衍射光栅区中多个折射率改变部分沿着光轴而对准，不只在芯中，而且在包层中也是如此。

从以下的详细描述和附图，可以更全面地理解本发明；这些附图和描述只是以说明的方式给出的，因而不应该被认为是对本发明的限定。

从以下的详细描述，本发明的进一步的应用范围将变得显而易见。然而，应该理解的是，这些详细描述和具体例子，虽然显示了本发明的最佳实施例，却只是以说明的方式给出的；因为有了这种详细描述，在本发明的精神和范围内的各种改变和修正对于本领域中的技术人员来说都是显而易见。

图1显示了作为本发明的一个实施例的紫外光照射方法和所获得的光波导；

图2显示了借助作为紫外光的一种照射方法的全息干涉方法而将紫外光照射到光纤(波导部件)上；

图3显示了用作为紫外光照射方法的相位光栅方法而将紫外光照射到光纤(波导部件)上；

图4显示了作为紫外光的照射方法而采用掩膜来限制照射区的实施例；

图5显示了二氧化锗的掺杂浓度，作为波导部件中的杂质分布的第一个例子；

图6显示了二氧化锗和折射率降低剂(氧化硼)的掺杂浓度，作为波导部件中的杂质分布的第二个例子；

图7显示了二氧化锗和折射率降低剂(氧化硼)的掺杂浓度，作为波导部件的杂质分布的第三个例子。

现在结合附图来详细描述本发明的实施例。在对附图的描述中，相同的部件用相同的标号表示，且将省略重复的描述。

现在描述第一实施例。在该实施例中，首先制备包含作为主组份的石英(SiO₂)玻璃的石英基光纤，作为用于形成衍射光栅的波导部件。该光纤带有一个芯和一个包层，在该芯中将20重量百分比的二氧化锗(GeO₂)加到石英玻璃中，且在该包层中10重量百分比的二氧化锗和20重量百分比的氧化硼被加到石英玻璃中。这里，二氧化锗是用于增大折射率的添加剂，而氧化硼是用于减小折射率的添加剂。

掺杂有20重量百分比的二氧化锗的石英玻璃与纯石英玻璃之间的相对折射率差为1.5百分比，而掺杂有10重量百分比的二氧化锗和20重量百分比的氧化硼的石英玻璃与纯石英玻璃之间的相对折射率差为0.5百分比。

应该注意的是，其中将形成衍射光栅的光纤(波导部件)可以用任何制作方法制成。例如，光纤可以从光纤预制棒，用众所周知的MCVD方法、VAD方法、OVD方法、棒管法等等，通过将其在电炉中加热并拉制而制成。

例如，在VAD方法的情况下，先将在火焰中产生的SiO₂和GeO₂的细玻璃颗粒淀积在目标旋转中心棒上，从而形成一个烟炱预制棒。具体地，四氯硅(SiCl₄)和四氯锗(GeCl₄)、作为燃料的氢、以及氧(全都是气体)被同时送入用于芯的燃烧器中。另一方面，除了上述以外，溴化硼(BBr₃)被送入到用于包层的燃烧器中。随后，借助氢的燃烧而使中心棒在相应的氢燃烧器中受到火焰的作用，从而形成烟炱预制件。

随后，使如此形成的烟炱预制棒在高温下完全脱氢以扩散杂质，且进一步提高温度以对该预制件进行烧结。由此完成了该预制件(光纤预制件)，且可以通过在一个拉制炉中在更高的温度下使其熔解并拉制它，而获得光纤。一个与上述制作过程有关的现有技术是U.S.Patet No.4,770,898和No.4,915,717。

随后，用紫外光照射如此制成的光纤，如前所述。这里，用紫外光的照射可以在切成预定长度的光纤上实现，或者可以被包含在光纤的制作过程中，例如在卷绕如此拉制的光纤的过程中实现这种照射。

在本实施例中，在光纤上以相等的间距形成衍射光栅，且该光纤在紫外光形成等间隔的干涉条纹的同时受到照射。用紫外光照射的该方法将在下面得到详细的描述。

图1显示了该照射方法。如图1所示，借助一个作为预定光学系统的干涉装置20，使从一个紫外光源10发射的紫外光产生干涉并随后在形成干涉条纹的同时被投射到光纤40上。该光学系统可以包括透镜。

在本实施例中，借助全息干涉方法，使两束相干紫外光束彼此干涉。在此方法中，干涉装置20由分束器21a和反射镜21b、21c组成，如图1所示。紫外光源10是氩激光源11。

氩激光源11连续发出244nm的相干紫外光。该紫外光被分束器21a分成两束光，即透射光和反射光。如此被分束的光被相应的反射镜21b和21c所反射，以分别以彼此成补角的、相对于芯41的光轴方向分别成74°(图1中的α)和106°(图1中的180°—α)的角度而被投射到光纤上。

分开的光束在干涉区30中彼此干涉，以被投射到光纤40上并同时以预定的间隔形成干涉条纹。该照射紫外光被照射到芯41和包层42中，以改变被照射部分中的折射率。

图2显示了将紫外光照射到光纤40上。采用紫外光相对于光纤40的径向方向的入射角θ(＝90°—α)和紫外光的波长λ，干涉条纹的间隔Λ可以被表达如下：

          Λ＝λ/(2sinθ)    (2)

因此，在紫外光照射在芯41与包层42中的区域，折射率改变的部分沿着光纤40的光轴以对应于干涉条纹的间隔Λ的周期排列。因此，在芯41或在包层42中，分别形成了具有间距Λ的衍射光栅43、44。由此获得了作为在芯41和包层42中具有衍射光栅的光波导的光纤。

利用芯41的折射率n和衍射光栅43的间距Λ，该衍射光栅的反射波长λ_R由下面著名的布拉格衍射条件表示：

            λ_R＝2nΛ＝λn/sinθ    (3)

在本实施例中，该反射波长λ_R被设定在1300nm。

根据上述公式(3)，由于包层42的折射率与芯41的折射率不同，因此形成在包层42中的衍射光栅44的反射波长偏离了1300nm。但偏离的量并没有这样大，因为折射率差小。由于该衍射光栅的反射频谱在反射波长周围有一个散布，所以衍射光栅44完全反射了在该反射波长附近的1300mn的光。

在上述制作过程中，在用紫外光进行照射的过程中，使来自LED光源的光进入光纤的一端，并由与另一端相连的一个谱线分析仪测量光的透射光谱，以实时监测衍射光栅的形成。这里，该谱线分析仪检测波长与通过衍射光栅43、44透射的光强之间的关系。

随着用紫外光照射的开始，衍射光栅43、44的形成得以进行，从而减小了透射光谱中在反射波长周围的透射光的强度。当透射光谱不再显示进一步的改变时，衍射光栅43、44的形成就被认为是饱和了，因此，紫外光的照射在此时刻被停止。在本实施例中，该饱和时间为40至50分钟。

反射波长的反射率，可以从衍射光栅43、44的形成达到饱和时的透射光谱计算出。根据这种计算，上述带有内部衍射光栅的光纤的反射率约为75百分比，从而实现了良好的效果。

虽然上述实施例采用了全息干涉方法来形成紫外光干涉条纹，但也可以采用相位光栅方法来代替它。

图3显示了这种相位光栅方法。首先，作为干涉装置20的相位光栅22以紧密配合的方式被固定在作为波导部件的光纤40上。可以用带有以等间隔形成的槽的石英板来作为相位光栅22。由于相位光栅22中的槽能够由光刻和化学蚀刻形成，该光栅间隔能够自由选择且能够形成形状复杂的光栅。

随后，采用诸如KrF激发物激光源(紫外光源10)作为脉冲光源，并使该光源输出预定强度和预定频率的、波长为248nm的UV脉冲光，以所示的方式从顶部照射该相位光栅预定时间。该紫外光可以以连续的方式发射。

当紫外光被相位光栅22透射时，它形成了具有预定间隔的干涉条纹。该紫外光入射到芯41和包层42上，并同时形成干涉条纹。随后在芯41和包层42中分别出现了周期性的折射率改变，即衍射光栅43、44。以此方式，获得了一种作为光波导的光纤，其中在芯41和包层42中都形成有衍射光栅。

下面描述第二实施例。在该实施例中，作为其中形成有衍射光栅的光纤而制备的，是这样的光纤，即它带有其中20重量百分比的二氧化锗被加入石英玻璃的芯和其中10重量百分比的二氧化锗和10重量百分比的氟(F)被加入石英玻璃的包层。

其中加有20重量百分比的二氧化锗的石英玻璃与纯石英玻璃之间的相对折射率差为1.5百分比，而其中加有10重量百分比的二氧化锗和10重量百分比的氟的石英玻璃与纯石英玻璃之间的相对折射率差为0.1百分比。

衍射光栅以与第一实施例中相同的方式被形成在这种光纤中，从而形成了具有1300nm的反射波长的衍射光栅的光纤。以与第一实施例中相同的方式测量反射率，该反射率约为75百分比，从而实现了良好的效果。

另外，本发明人制成了一种作为光波导的光纤，其中只在芯中形成了衍射光栅，以与第一和第二实施例相比较。作为波导部件的光纤而制备的，是这样一种光纤，即它带有其中20重量百分比的二氧化锗被加入到石英玻璃中的芯，和由纯石英玻璃制成的包层。相对折射率差为1.5百分比。

采用这种光纤，以与第一和第二实施例中相同的方式，形成了带有反射波长为1300nm的衍射光栅的光纤，且反射率以与这些实施例中相同的方式测量。测量到的反射率约为50百分比，这比这些实施例中的差。

应该注意的是，本发明不仅限于上述实施例，而是可以有很多修正。例如，光波导不仅限于光纤，而是可以是薄膜波导。另外，紫外光的照射方式可以从与上述实施例中不同的多种方法中选择。例如，衍射光栅可以在如图1的箭头A所示的沿着光轴的方向移动的同时，在位于紫外区的脉冲光的照射下形成。

在其中波导部件具有多个集成芯的情况下，如图4所示，利用设置在干涉装置20与波导部件之间并带有具有预定形状的窗口201的掩膜200以限制紫外光(UV)的照射区，可以在波导部件的预定部分中形成衍射光栅。图4所示的波导部件是具有光学多路复用/信号分离功能的功能元件，其中在波导基底100上形成了具有预定形状的多个芯101，且芯101被包层102所覆盖。

下面，描述第三实施例，以影响本发明中由于前述的模式不匹配而造成的传输损耗。在本实施例中，作为其中形成有衍射光栅的光纤而制备的，是这样的光纤，即它带有其中40重量百分比的二氧化锗被加入石英玻璃的芯和其中30重量百分比的二氧化锗和20重量百分比的氧化硼(B₂O₃)被加入石英玻璃的包层。

其中加有40重量百分比的二氧化锗的石英玻璃与纯石英玻璃之间的相对折射率差为2.9百分比，而其中加有30重量百分比的二氧化锗和20重量百分比的氧化硼(B₂O₃)的石英玻璃与纯石英玻璃之间的相对折射率差为2.0百分比。另外，这种光纤受到氢处理，以增强光致反应。

衍射光栅以与第一实施例中相同的方式形成在该光纤中，且制成了带有反射波长为1300nm的衍射光栅的光纤。以与第一实施例中相同的方式测量反射率，且如此测量到的反射率约为99.9百分比。传输损耗约为0.1dB。

另外，本发明人制备了一种光纤，它带有其中加有40重量百分比的二氧化锗的芯和由纯石英玻璃制成的包层，用于与该第三实施例相比较。其中加有40重量百分比的二氧化锗的芯与纯石英玻璃之间的相对折射率差为2.9百分比。

采用这种光纤，以与第一至第三实施例中相同的方式，制成了带有1300nm反射波长的衍射光栅的光纤，且用与这些实施例中相同的方式测量反射率。如此测量到的反射率约为98百分比，且传输损耗为0.4dB。因此，所获得的结果显示了比第三实施例大的传输损耗。这种增大的传输损耗被认为是由于在芯中传播的被引导光由于模式不匹配而辐射到包层中所引起的。

下面参照图5至7来描述根据本发明的波导部件的杂质分布。

在根据本发明的波导部件中，二氧化锗被加入芯和包层中。众所周知，二氧化锗是用于增大芯中的折射率的材料。因此，为了被用作光波导，需要调节掺杂浓度，例如通过把包层中的二氧化锗的掺杂浓度设定在低于芯中的掺杂浓度的值，或通过进一步把折射率降低剂(例如B₂O₃、F等等)加入包层以减小折射率。

图5显示了第一个例子，其中芯中的二氧化锗掺杂浓度被设定得高于包层中的掺杂浓度。图6显示了第二个例子，其中除了如图5所示的二氧化锗浓度分布之外，还只在包层中加入了作为折射率降低剂的氧化硼。另外，图7显示了第三个例子，其中芯与包层中的二氧化锗浓度被设定为彼此相等，且作为折射率降低剂的氧化硼只被加入包层中，在本发明中，各个掺杂物的掺杂浓度在芯和包层的各个区中是恒定的。

如上上述，根据本发明，在芯和在包层中都形成了衍射光栅，因而不仅在芯中传播的被引导光，而且被引导光中辐射到包层中的光，都在其中形成有衍射光栅的区中受到了反射，因而被引导光在整个模式场区域中都受到了反射。因此，具有根据本发明的衍射光栅的光波导具有高反射率。

在具有根据本发明的衍射光栅的光波导的制作方法中，使紫外光进入其中二氧化锗被加入芯并被加包层的波导部件的预定部分中，从而在所制成的光波导的芯和包层中都形成了衍射光栅。在其中形成有衍射光栅的区域中，不仅在芯中传播的被引导光受到了反射，而且被引导光中辐射到包层中的光也受到了反射，从而使被引导光在整个模式场区域中都受到了反射。因此，本发明的光波导具有比传统的光波导更高的反射率。因此，借助本发明的制作过程，可以容易地制作具有足够高的反射率的光波导式衍射光栅。

从所描述的本发明可以明显地看出的是，本发明能够以很多种方式实施。这些变形没有脱离本发明的精神和范围，且对本领域的技术人员来说是显而易见所有这些修正，都属于所附权利要求书的范围。

Claims (20)

1.波导部件，包括：

作为光波导区的芯，它具有预定的折射率并掺杂有预定浓度的二氧化锗；以及

作为以紧密配合的方式覆盖所述芯的区域的包层，它具有比所述芯的折射率低的折射率，并掺杂有预定浓度的二氧化锗。

2.根据权利要求1的波导部件，其中所述芯和包层都是石英玻璃。

3.根据权利要求1的波导部件，其中加入所述芯的二氧化锗的浓度高于加入所述包层的二氧化锗的浓度。

4.根据权利要求1的波导部件，其中所述包层掺杂有与二氧化锗一起的折射率降低剂。

5.根据权利要求4的波导部件，其中所述折射率降低剂至少是氧化硼与氟中的一种。

6.根据权利要求4的波导部件，其中加入所述包层的二氧化锗的浓度等于加入所述芯的二氧化锗的浓度。

7.一种光波导，包括：

作为光波导区的芯，它具有预定的折射率，所述芯具有形成在其预定部分中的衍射光栅并具有沿着光的传播方向周期改变的折射率；以及

具有比所述芯的折射率低的折射率并以紧密配合的方式覆盖所述芯的包层，所述包层具有在以紧密配合方式覆盖芯的所述预定部分的部分中形成的衍射光栅—在芯的该预定部分中形成有芯的所述衍射光栅并具有沿着光的传播方向周期改变的折射率。

8.根据权利要求7的光波导，其中所述芯和所述包层都是掺杂有二氧化锗的石英玻璃。

9.根据权利要求7的光波导，其中所述芯掺杂有预定浓度的二氧化锗且所述包层掺杂有浓度低于所述芯的二氧化锗浓度的二氧化锗。

10.根据权利要求7的光波导，其中所述芯掺杂有二氧化锗，且所述包层掺杂有与所述二氧化锗一起的的折射率降低剂。

11.根据权利要求10的光波导，其中所述折射率降低剂是氧化硼与氟中的至少一种。

12.根据权利要求10的光波导，其中加入所述包层的二氧化锗的浓度等于加入所述芯的二氧化锗的浓度。

13.一种光波导制作方法，包括：

用紫外光照射一个波导部件的预定部分以改变所述预定部分中的折射率，该波导部件带有一个芯和具有比所述芯的折射率低的折射率的一个包层，该芯是具有预定折射率的光波导区并被掺杂有预定浓度的二氧化锗，该包层是以紧密配合的方式覆盖所述芯的区域并被掺杂有预定浓度的二氧化锗。

14.根据权利要求13的光波导制作方法，其中所述包层掺杂有与二氧化锗一起的折射率降低剂。

15.根据权利要求14的光波导制作方法，其中所述折射率降低剂是氧化硼与氟中的至少一种。

16.根据权利要求13的光波导制作方法，其中用紫外光照射所述波导部件的预定部分是在使所述紫外光彼此进行干涉以形成干涉条纹的同时实现的。

17.根据权利要求16的光波导制作方法，其中紫外光的所述照射是在所述波导部件的预定部分中以如下方式利用所述紫外光的两个相干光束而实现的，即使得所述两个相干紫外光束相对于所述波导部件的光轴以彼此成补角的角度入射到该预定部分上。

18.根据权利要求13的光波导制作方法，其中使所述紫外光通过一个掩膜，该掩膜带有具有预定形状的透射窗口以照射所述波导部件的预定部分。

19.根据权利要求18的光波导制作方法，其中使所述紫外光照射正在移动的所述波导部件。

20.根据权利要求16的光波导制作方法，其中所述干涉条纹是以这样的方式产生的，即使所述紫外光照射一个具有预定光栅间隔的相位光栅并被该相位光栅所透射。

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