CN1145157C - 具有增强平直度的可重写数据存储光盘 - Google Patents
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Abstract
一种可重写记录光盘(10)具有一个大于或等于约1.5mm而小于或等于2.5mm的增厚基底(12)。这个增厚基底增加了与记录平面相关的记录磁盘的平直度。特别是,增加的厚度可以减少操作引起的表面变化比如扭曲和卷翘,还使磁盘增加刚性以抵抗使用过程中的挠曲。这种增加的平直度使得数据可用例如近场、空气-入射的记录技术以更大的空间密度用一种相容的方式记录在磁盘上。所以这样的磁盘能获得更大的空间密度和数据存储容量。
Description
技术领域
本发明涉及可重写光学数据存储介质,包括在近场和空气入射的记录应用中十分有用的磁光盘。
背景信息
在磁光记录中,数据由可磁化的记录介质如盘上的被磁化了的区域表示。每一个区域是一个稳定的表示一个数据比特的可磁化的数据位置。在存在磁场的情况下应用高强度的会聚光束把数据写在介质上。这种盘通常包括一个基底、一个磁光记录层、一个反射层和两个或多个介电层。
在基底-入射记录中,光束在经过基底后到达记录层。在与基底相对的记录层的一边形成基底-入射记录介质中的反射层。反射层把光束反射回记录层以增加全面的曝光和吸收。
在近场和空气入射记录中,光束不经过基底,而是从盘的与基底相对的一边入射到记录层上。在空气入射记录介质中,反射层在与基底相邻处形成。一种固体浸液透镜(SIL)可被用来把光束传送过一个极薄的空气间隙,经过记录介质的顶端到达记录层。这种SIL可与一种浮动磁头部件作成整体。空气间隙形成了一个支撑,在操作过程中浮动磁头架在上面。对于近场记录,空气间隙的厚度小于记录光束的一个波长。光束的传输由一种已知的瞬时耦合技术完成。
不管是基底-入射记录还是空气-入射记录,记录光束将把记录介质的光束停留区加热到它的居里温度以上而形成一个可磁化的区域。这个区域可在磁场存在的情况下冷却。这个磁场克服各向异性的、与该磁场正交的记录介质的退磁,而使该光束停留区获得一个特殊的磁场。这个磁场和最后磁化的方向决定该区域所表示的数据。
采用光束调制的记录技术,当光束能量在穿过记录介质被选择地调制时磁场在一个给定的方向上保持一段时间以获得特定区域中所希望的磁化。根据磁场调制(MFM)记录技术,当磁场被选择调制时光束连续地扫描过记录介质而获得所希望的磁化。另外,光束还可以为与磁场调制相应的高频脉冲光束。
为读取被记录的数据,驱动器向记录介质施加强度较低的平面偏振的读取光束。当平面偏振读取光束在记录介质中透射和/或反射时,在极化过程中会发生克尔偏振。克尔偏振角随着光束所在区域的磁场的作用而变化。光探测器接收读取光束并把克尔偏振角转换成一个适当的比特值。
一个给定的磁光盘的数据存储量的多少取决于盘上区域的空间密度和盘的有效记录表面面积。较大的空间密度会使每个单元表面面积获得更多的数据。较大的记录表面面积自然会使一定的空间密度获得更大的存储容量。然而,记录表面面积受到盘的尺寸的限制。盘的尺寸大小的限制一部分是由驱动器台面面积的条件所引起的。空间密度主要受驱动激光的光斑大小的制约。换句话说,空间密度就是一种以相容的方式把光束对准到逾小的区域的这种驱动能力的作用效果。特别是,近场、空气入射记录具有运用瞬时耦合和合成高数值孔径产生极小光斑尺寸的能力,因而可提供增加的空间密度和数据存储容量。
发明概述
本发明涉及一种具有一个大于或等于约1.5mm增厚基底的可重写数据存储光盘。基底的增厚增加了与记录平面相关的记录磁盘的平直度。特别是,增加的厚度可以减少操作引起的表面变化比如扭曲和卷翘,还增加了磁盘的刚性以抵御使用过程中的挠曲。增加的平直度使得数据可用例如近场、空气入射的记录技术以更大的空间密度用一种相容的方式记录在磁盘上。所以这样的磁盘能得到更大的空间密度和数据存储容量。
平直度是指盘的入射表面所具有的保持相对于驱动激光束在其上聚焦的记录平面所固有的确定位置的能力。“入射”表面指光束通过它而进入盘的盘表面。盘表面从记录平面的偏离将影响驱动激光在每个区域的聚焦能力,特别是对较高的空间密度。这种偏离是在当盘在驱动器中使用时连续旋转所形成的。例如,在近场应用中希望驱动器驱动盘在每分钟2400至3600转(rpm)的指令下的速度旋转。而且,记录头所对准的盘的位置是不断地快速变化的。
对于近场、空气入射记录,记录光斑的尺寸和焦平面主要由挤在记录头和盘表面的空气厚度决定。如果盘表面的位置不均匀,所具有的空气厚度就会变化。空气厚度的变化会导致聚焦和光斑大小在整个盘上分布不均。尤其是,空气间隙的厚度决定由记录层接收的通过瞬时耦合而得的辐射量。光斑尺寸和焦点的有效改变决定激光连续在极小区域上作用的能力。而且,盘表面过多的不一致将导致对于连续区域的所用空气厚度的急剧变化和跟踪的损失。在极端的情况下将发生记录头与盘间的碰撞即物理接触。这样,不可接受的平直度将导致盘驱动失败。
盘表面与记录平面的偏离的原因有许多。例如,在盘的制作工序中会产生盘的扭曲和卷翘。尤其是对于较薄的基底,在注模冷却阶段中的重力作用和热梯度效应将在盘的不同区域引起不均匀的密度和不平衡的热压。例如,靠近模具表面的盘部分会冷却得快。结果,盘就会扭曲和卷翘。
根据通常的意义,扭曲就是指盘表面的弯曲。对于扭曲的盘,卷翘可随径向和角向的位置改变而改变。卷翘是指相对于理想的盘平面而言盘表面平直度的变化,它由以下方程式表示:
T=(z/r)i+(z/rθ)j
其中,r是所测得的盘上卷翘部位的径向位置,z是盘相对于理想表平面的垂直方向上的位移,用函数f(r,θ)表示,θ是所测得的盘上卷翘部位的角向位置。由此,扭曲和卷翘就是通常用来表示相对于理想盘平面而言的盘的畸变的用语。
除了由制作过程产生的静态改变以外,较薄基底的盘还受到驱动过程中所受力的作用的影响而发生畸变。例如,这种力来自于记录头与盘表面间无意中的接触或由盘的旋转引起的振动。当盘和驱动器系统相碰或分开时,记录头的碰撞主要来自于振动读写头的使用。而且,在操作中记录头的飞速动作给中间的气体施加了压力。这种挤压传递给盘便导致了畸变。
通常在盘表面的不同面积,畸变是不同的。特别是,当盘在用的过程中,畸变更容易发生在盘的外径部分。盘由一个与驱动器相配的抓取机构以相对固定的方式支撑。盘由与抓取机构相配的锭子状的电动机带动旋转。盘平面的半径形成了相对于盘的确定中心的光束元。盘的每一个光束元的外径部分将产生比内径部分更大的畸变。这样,由畸变产生的盘表面与记录平面的偏离将从内径向外不断增加。在任何情况下,当盘在旋转时,盘表面与记录平面都不可能一致地靠近。
光盘常规的空间密度常常能够公差某种程度的聚焦错误,因而不会受到平直度变化的很大影响。而且,在一定意义上聚焦错误也是一个难题,传统的基底-入射记录驱动通常包括越过光盘表面的闭合的环行焦点调节。然而,在较高的空间密度下,表面畸变可能削弱驱动激光器对光盘上各区域的固有的读写能力。用较新的记录技术比如近场、空气入射记录法,对于具有直径大小范围为120-135mm的光盘面积的单张光盘可以存储20千兆字节(GB)的数据。在这种情形下,光盘必须能提供稳定的磁化的区域,而且按照每区域0.05至0.06立方微米的次序排列。
较高的空间密度可能很难允许对诸如由平直度的变化而引起的聚焦错误的公差。而且,用在近场、空气入射记录法中的瞬时耦合技术也不允许已有焦点的调节。何况,被挤的空气厚度是确定光束的光斑大小和焦面的决定因素。若光盘有明显的扭曲、卷翘、和/或畸变,被挤的空气厚度将变到令人不满的地步。结果,近场记录头将因聚焦错误和/或跟踪损耗而受损。由此,平直度在类似近场记录系统这样的高密度记录系统中是一个关键的条件。
根据本发明中的光盘,基底的增厚增加了光盘的硬度和重量从而有效地提高了平直度。硬度增加使得光盘在光盘驱动操作中有效地抵制畸变。光盘重量的增加和由此而得的重力也使得盘能抵消在制作过程中引起明显扭曲和卷翘的力的作用。大于或等于约1.5mm的基底厚度为整个光盘表面即从内径到外径达到满意的平直度提供了所需要的硬度和重量。
大于约2.5mm的基底厚度提供了必要的硬度和重量,但可能增加了制作过程中的费用和时间。光盘和驱动材料的费用和注模后过长的冷却时间都使得基底的厚度小于或等于约2.5mm更让人满意。大于2.5mm的基底厚度使光盘变重,从而需要消耗更大的能量和更高的额定功率的驱动电动机来驱动光盘旋转。对于给定的电动机,较重的光盘将产生过量的惯性和动量,减缓旋转的启动和停止的时间和延长数据存取时间。
所以,较为满意的基底厚度是大于或等于约1.5mm而小于或等于约2.5mm。特别是对于一张直径约为120至135mm范围的光盘,基底最好选用大于或等于约1.8mm而小于或等于约2.2mm的厚度。具有大于或等于约1.9mm而小于或等于约2.1mm厚度的基底更为可取,接近2mm基底厚度是考虑到操作和制作因素影响后的最佳选择。
作为广泛实施的和在此描述的,本发明提供一种包含基底和记录层的可重写数据存储光盘,其中基底具有一个大于1.5mm并且小于2.5mm的厚度。
在另一个实施例中,本发明提供一种依次包含基底、反射层、第一介电层、记录层、和第二介电层的空气入射磁光盘,其中基底厚度大于或等于约1.5mm。
在第三个实施例中,本发明为空气入射磁光记录法提供一种系统,这种系统包括一个具有基底和记录层的磁光盘、一个从与基底相对的记录介质的一边把辐射光束对准磁光记录层的辐射源、和一个接收辐射光束反射成分而在辐射光束含量基础上产生数字信号的探测器,其中基底具有一个大于或等于约1.5mm的厚度。
在第四个实施例中,本发明为制作一种空气-入射、磁光盘提供了一种方法,这种方法包括制作一个大于或等于约1.5mm厚度的基底、在基底上形成一个反射层、在此反射层上形成一个第一介电层、在第一介电层上形成一个记录层和在此记录层上形成一个第二介电层。
本发明的其它优点、特征和实施例将在以下的详细描述和权利要求中愈加清楚。
图面说明
图1是一种具有增厚基底的磁光记录盘的横截面示意图;
图2是图1所示的磁光记录盘的顶视图;
图3是具有不同基底厚度的盘由操作过程引起的卷翘的变化条形图;
图4是具有不同基底厚度的盘的畸变的变化图;
图5是具有不同基底厚度的盘所需要的冷却时间的变化图。
详细说明
图1是根据本发明的一种实施例的一种具有增厚基底12的可写磁光数据存储盘的横截面图。例如,盘10可为一种磁光记录盘。在图1例中,盘10是空气-入射记录应用中的结构,它依次包括:基底12、反射层14、第一介电层16、记录层18、第二介电层20和第三介电层22。图1只是为示意的目的提供,并不是按比例来画的。介电层16和20把记录层18包裹而不使它与别的物质发生反应。介电层22用于对盘10进行光学调谐是可取的,它是可选层。反射层14也是可选的,它用于增强光和热响应。
图2是盘10的顶视图。如图2所示,盘10为圆环形,具有一个由中心孔25决定的内径23和一个由盘的圆周决定的外径。图2中参数29用来广义地指示在基底12上形成的不同层14、16、18、20和22。盘10可为特定的光盘驱动系统而配置,但最好是可拆卸的以方便只有一个驱动器的多个光盘的使用而且对别的驱动器也具有可移植性。对于可拆卸使用,盘10可被放在一个盘盒中。中心孔25可提供一个为盘10接合到一个与驱动器相配的抓取机构和锭子状电动机上的插孔或别的机构。这个插孔延伸至盘套。圆形中心孔25的直径可为15mm。
根据本发明,基底12的厚度为大于或等于约1.5mm。基底12的厚度最好为大于或等于约1.5mm而小于或等于约2.5mm。特别是,基底厚度为大于或等于约1.8mm而小于或等于约2.2mm,更为可取的是厚度大于或等于约1.9mm而小于或等于约2.1mm。在一个特殊实施例中,为了最佳的性能和使用与制作的方便,基底12选用接近2mm的厚度。盘10的直径最好是大于或等于约120mm而小于或等于约135mm。更为可取的是,为了得到与基底12的厚度尺寸相配的满意的平直度,盘10的直径最好为接近130mm。
对于一个直径为120mm-135mm的光盘,已经可见由基底12的增厚而在整个操作条件范围为盘增加的平直度。基底12提供给盘10增加的硬度以抵御在驱动程序中来自所受力引起的畸变。而且,基底12的增厚可防止盘10在制作过程中因重力和此过程引起的热梯度等导致的扭曲和卷翘。由基底12提供的增加的平直度使得盘10产生更大的空间密度和数据存储容量。在空气-入射、近场记录应用中,基底12的增厚可减少盘10的平面从理想记录平面的偏离,而由驱动头发射的光束就聚焦在这个记录平面上。在这种方式中,为了得到一致的焦点和光斑,基底12使得盘10与记录头之间的空气间隙保持一个更稳定的厚度。基底12还通过减少盘10与记录头之间碰撞的可能性而增加驱动的可靠性。
用图1做进一步的参照,盘10可成为为磁光数据存储而设的近场、空气-入射记录系统的一部分。这个系统可包括一个整体的磁头装置24,它发射记录光束26。当盘10被锭子状电动机带动以每分钟2400至3600转的速度旋转时,记录头使得发出的光束26对准记录层18。在由所用的磁头装置24提供的磁场作用下,记录光束26在特定的区域加热盘10。近场记录技术运用瞬时耦合把准直光26耦合到记录层18上。例如,光束可通过一个固体浸液透镜(SIL)传输。在Cole等人的美国专利No.5125750中披露了一种具有SIL的磁光盘近场、空气-入射记录系统。磁头装置24可与SIL做成一个整体而成为所说的“浮动头”。
记录光束26在某种意义上是空气入射,它不能穿过基底12而到达记录层18。更准确的说,记录光束26是通过挤在盘10和浮动头之间的空气而入射到记录层18上的。这个空气间隙极薄,它的厚度通常小于记录光束26的一个波长。光束26也可以通过一个或多个介电层20,22后到达记录层18。同样如图1所示,应用较低强度的光束26可从记录层18读取。探测器28可定向为接收读取光束的反射成分。探测器28把反射部分的克尔旋转角转换成一个适当的比特值。这个探测器28也可以与浮动头作成一个整体结构。
盘10增加的平直度使得盘表面与记录平面的符合性提高了,特别是,减少了盘10扭曲和卷翘的可能性,提高了硬度以防止畸变,使浮动头与盘之间的气体间隙保持真正恒定,至少也与可适用的系统公差有关。因此,可用一种相容的方式调节记录头装置24的位置以得到想要的空气间隙厚度。尤其是,盘10增加的平直度可使记录头装置24不用考虑辐射位置而可放在一个与盘10的整个表平面距离真正恒定的位置处。
在空气-入射结构中,基底12的光学特性很不相关。尤其是,由于光束不能通过基底12进入盘10,基底的光学特性不能在使用中产生直接的光学效果。相反,基底-入射盘特别需要具有光学特性的基底。因此可以想象,在空气-入射盘中可有较宽范围的材料可用来制作基底12。而且,这些材料可比高级的光学材料便宜。例如,基底12可从不同类材料包括热固性材料、热塑塑料、金属或玻璃中选择制成。选用的材料可为透明的或不透明的。而且,相对于更典型的光盘基底材料,在选择这些材料时可部分根据材料的可适用弹性系数以增加刚性。然而,对于光学记录,在基底12上形成一个物理格式以利于光学跟踪是较为可取的。所以,采用一种用物理格式在模具中就能复制的材料制作基底12可能更令人满意。
一个很容易模压的特殊材料的例子是特别用于制作CD的易流动的聚碳酸酯。尽管聚碳酸酯通常被广泛地用作工程热塑塑料,但这种特殊种类的聚碳酸酯已经为光盘市场而发展起来了。这种种类的聚碳酸酯的可用性和价格使得它应用于基底12很有吸引力。这种聚碳酸酯材料也为结构和制作带来许多优点。例如,流动性好的聚碳酸酯有足够低的黏度而使得它在填充入模具时不需形成与注入铸造的产品相关的流动标记。弹性系数为每平方英寸345000磅(psi)的这种聚碳酸酯通常不是工程热塑塑料中最硬的,但它的刚性足以能为与本发明所涉及的预期基底厚度的盘10提供满意的平直度特性。关于所说的足够的硬度,在流动性好的聚碳酸酯中用水做支撑相对来说是低的,由于水的吸收,可以避免一定的畸变或周围的老化问题。而且,这种材料表现出的不变形率超过100%,说明它的弹性很好。这个特性对于一个用在光盘驱动以把亚微米级激光光斑导引到盘10上的数据的由毫微级复制的塑料表面十分重要。在一组所必需的条件之上,给出了流动性好的聚碳酸酯的可接受的性能,通常用于光盘基底的这种流动性好的聚碳酸酯为制作基底12提供了一种适宜的材料。
基底12最好是单个制作的,整体形成的片状,但也可以由两层或更多层通过例如粘合或迭合在一起。例如,由传统的1.2mm MO基底模具制得的两个聚碳酸酯基底可结合在一起提供一个2.4mm的基底。然而为减少制作的时间和复杂程度,这种聚碳酸酯基底最好整体由单个模具形成一个单独的非迭层的基底。其它层14、16、18、20、22可在制好的基底12上形成。
记录层18可包括一种稀土过渡金属合金比如FeTbCo或FeTbCoTa。介电层16,20,22可由任何一种介电材料包括碳化硅、氮化硅和二氧化硅形成。特别是,介电层16,20可包括碳化硅以增加记录层18的钝化,而介电层22可包括氮化硅以使记录层18得到满意的光学灵敏度。最后,反射层14可包含象铝铬合金这样的高反射率的金属。这种金属既能提供有效的反射又能提供好的热传导。
例如,反射层14可由铝铬合金形成(铬在铝中的重量比为4%),它的厚度范围为小于或等于约130nm而大于或等于约20nm,最好是小于或等于约60nm而大于或等于约30nm。记录层18的厚度最好小于或等于约15nm。特别是,记录层18的厚度可在小于或等于约15nm而大于或等于约6nm的范围内,最好是在小于或等于约12nm而大于或等于约8nm的范围内。在这个典型的实施例中,记录层18可由FeTbCoTa材料形成。尤其是,记录层18可有这样的组成,原子重量比约为67%Fe,23.5%Tb,8.0%Co和1.5%Ta。
第一介电层16的厚度可在小于或等于约60nm而大于或等于约5nm的范围内,最好是在小于或等于约30nm而大于或等于约5nm的范围内。第二介电层20的厚度可在小于或等于约30nm而大于或等于约5nm的范围内,最好是大于或等于约20nm。在这个例子中,第一介电层和第二介电层16,20可由标有商标Hexoloy SG的碳化硅-石墨材料形成,这种材料可从美国纽约州Amherst的Carborundum公司获得。这种叫“Hexoloy SG”的碳化硅混合物的组分在可探测的浓度中具有一个光谱,表明有碳、硼、硅、氮和氧的存在。用本领域中所知的峰值强度和标准的灵敏度参数,可以估计这种碳化硅(SiCx)电介质的原子浓度为Si(35%)、C(51%)、B(7%)、N(5%)、O(2%),由此得出x=0.51/0.35=1.47。第三介电层22的厚度可在小于或等于约200nm而大于或等于约5nm的范围内,最好是在小于或等于约50nm而大于或等于约20nm的范围内。第三介电层22可由氮化硅材料形成。在这个例子中,氮化硅可为Si3N4。
根据这个实施例,盘10由一个厚度范围为1.5至2.5mm的基底12组成,就像在此所描述的那样,它还包括一个极薄的厚度为6到15nm的MO记录层。这些特征的集合提供给盘10增强的平直度特性和降低的退磁阈。平直度特性特别适用于大于或等于约120mm而小于或等于约135mm范围的盘直径。降低的退磁阈对于记录技术十分有用,比如磁场调制只用较弱的磁场。一个由以上材料和尺寸构成的盘已经可见它能够按每个区域0.0525平方微米的方式提供稳定的磁化的区域。
盘10最好采用为空气-入射记录所用的结构。然而,通过选择不同层的组合次序,盘10也可被基底-入射记录采用。特别是,对于基底-入射记录,盘10依次包括基底12、第一介电层、记录层、第二介电层和反射层。这种基底-入射盘将得益于由基底12的厚度所提供的增强的平直度。然而,基底12增加的厚度同时会引起现有的激光二极管源光束的聚焦和衰减问题。
图3是一个条形图,表示出不同基底厚度的盘由操作引起的卷翘程度的变化。卷翘程度是反应盘整个平直度特性的其中的一个参数,即盘的光束-入射表面与写光束聚焦在其上的记录平面的一致性。在柱-模冷却阶段中重力和不均衡热梯度的影响将导致盘的不同区域有不同的密度,从而使盘产生扭曲和卷翘。卷翘指盘表面的角向相对于盘中心的切线方向的平面的变化。如图3所示,把许多具有不同基底厚度的盘取样进行分析以确定每毫弧度(mrad)的卷翘。样品由图3中的水平轴表示,每毫弧度的卷翘由纵轴表示。
如图3的条形图所示,一个第一套盘的样品包括10个传统的DVD盘,每一个具有基底厚度0.6mm。每个DVD盘是4.7千兆字节(GB)直径为120mm的盘。这种DVD盘可从美国明尼苏达州的Oakdale的Imation Enterprises公司买到。一个第二套盘的样品包括10个传统的MO盘,每一个具有基底厚度1.2mm。每个MO盘是1.3GB直径为130mm的盘。这种MO盘也可从美国明尼苏达州的Oakdale的Imation Enterprises公司买到。最后,第三套盘的样品10个特别准备的MO盘,根据本发明的一个实施例,每一个具有基底厚度为2mm。每个特别准备的MO盘直径为130mm,而且用近场记录技术可使它的数据存储密度达到10-20GB。铸造每个特别准备的MO盘的基底的方法与用于传统光盘的相似。尤其是,每个基底都是用中号大小的30-100吨注模压力来加工以在每个周期做成一个单独的基底。
由图3可知,具有基底厚度约2mm的MO盘可使卷翘特性得到有效的提高。卷翘特性是由沿一个盘样品的径向和角向位置的最大卷翘来衡量的。卷翘测量是通过用激光扫描传感器阵列对盘的单次旋转过程记录下盘表面的垂直位移。通过辐射式平移扫描仪和传感器阵列,全径向范围的卷翘图便可绘制出来。由此,盘可由一个函数f(r,θ)表示,其中,r为盘的半径,θ为角向位置。轴向位移定义为在整个表面所测的数据中的z的最大绝对值或盘表面的最大偏离值。从所有的径向测试中可看出,轴向伸出是z的峰值到峰值的最大圆周,即,在一个特定的半径上的最大的z和最小的z。卷翘由描述盘表面的函数的第一导数T矢量来定义,包括径向和切向成分。在这个背景下,卷翘为整个盘的平直度提供了有用的指示。
如图3所示,尽管DVD盘和MO盘产生的最大卷翘在大约5-9.5mrad的范围,但本发明中的“厚基底”MO盘产生的最大卷翘只在1-1.5mrad的范围。这种由盘中约2mm厚的基底所带来的减小的卷翘在提供增加的平直度中是一个重要的参数。特别是,当盘具有较小的卷翘时,它能更好得保证瞬时耦合光束在记录平面上的聚焦。换句话说,盘表面越平直就越能保证记录平面与盘表面之间的空气间隙厚度的一致性。空气间隙的厚度决定光束的焦面和由瞬时耦合传送的辐射量。通过减小空气间隙厚度的变化,写光束可更加一致地分辨极小尺寸的区域。这个特征对于近场记录所需的过高的空间分辨特别有用。例如,一个130mm的盘,存储密度约为20GB的条件是空间分辨率大约为0.0525平方微米。所以,降低由基底的空气间隙引起的聚焦误差是一个重要的特性参数。根据测得的卷翘值,扭曲度可用整个盘的最大和最小卷翘值之差来表示。如图3所示,根据对特别准备的盘所测得的最大卷翘值的有效减少,很有理由认为这种盘也同样有效的减小了扭曲。
图4是对具有不同基底厚度的盘的畸变量的变化图。在一个盘的整个平直度特性中畸变是另一个重要的参数。特别是,在驱动过程中,盘容易因所受力而发生畸变。例如,这种力可由记录头与盘表面的不经意的接触或盘的旋转所引起的振动而产生。当盘和驱动系统被启动或停止时,记录头的碰撞特别容易因使用振动读写头而引起。而且,由于记录头在操作过程中飞速移动,记录头将带给间隙空气以压力。这种挤压被传递给盘,进而引起盘的畸变。通常在盘的这个表面上的畸变是变化的,特别是,当盘在使用时,畸变可能更多的产生在盘的外径。盘被一个与驱动器相配的抓举机构以一种相对固定的方式支撑。盘由一个与抓举机构相配的锭子状电动机带动而旋转。相对于盘的固有中心,盘表面的半径形成了光束单元。盘的每一个光束单元在外径处的畸变比在内径处的大。这样,盘表面从记录平面的畸变可能是从内径向外逐渐增加的。这就造成当盘旋转时盘表面与记录平面不可能保持一致的结果。
图4表示了几种实际的盘和基底的畸变数据和由有限的参数模型代表的盘和基底。特别是,参见图4,畸变数据是从以下的一套样品得来的:样品1-没有涂层的厚度在约1.24-1.52mm范围的聚碳酸酯基底;样品2-有涂层(记录层,反射层,和介电层)的厚度在约1.24-1.52mm范围的聚碳酸酯基底;和样品5-没有涂层的厚度在约1.95-2.1mm范围的聚碳酸酯基底。样品1,2,5是由具有好的流动性的CD级聚碳酸酯形成的,这种聚碳酸酯可从Mitsubishi Gas & Chemical公司获得。畸变也可由以下几套由有限的参数模型分析所得的样品来模拟:样品3-没有涂层的厚度在约1.2-1.8mm范围的聚碳酸酯基底;和样品4-有涂层(记录层,反射层,和介电层)的厚度在约1.2-1.8mm范围的聚碳酸酯基底。
不管是实际的还是模拟的,每一个样品得半径都是130mm。畸变数据以微米为单位(Tm)由相对于初始的未加负载时的位置的轴向位移表示。为获得畸变数据,每个样品都被在离盘中心约60mm的半径处施加一个大约5g(gf)的力。在空气入射,近场记录方法的操作过程中,所加的力约等于希望施加给盘的空气挤压力的大小。然后,在60mm半径处的样品的位移可从它的初始的未加负载时的位置到加载后的位置来测得。在进行测量时,这种盘不旋转。然而,这种静态的测量是建立在对盘在旋转时可能获得的测量值的合理模拟基础上的。这种位移的测量为每一个样品提供了一个有关畸变的指示。正如图4所示,这种位移数据给出一个这样的暗示,当基底厚度从约1.2mm增加到2.1mm时,盘的畸变迅速减小。特别是,实验观测到,一个厚度约为1.24mm的没有涂层的聚碳酸酯光盘所产生的位移约为62微米。与之相比,所观测到的厚度约为2.0mm的没有涂层的聚碳酸酯光盘所产生的位移约为28微米。
在图4所给出的数据基础上显然可知,基底较厚的盘在抵制当其在驱动器中因操作所引起畸变方面具有明显的优势。这种对畸变的抵制或“刚性”在保证盘的入射表面与记录平面的一致性方面是很重要的。畸变数据也为盘的基底厚度的增加的理论事例提供支持。尤其是,根据力学原理,光束元件的刚性与材料的弹性系数和光束宽度成正比。然而,刚性也是厚度的立方的函数。因此,基底的厚度在控制畸变中是最有用的参数。根据本发明,利用较厚基底的特征来提高盘的平直度特性,最终为记录增加空间密度。特别是,盘的较高的平直度提高了整个盘表面的空气间隙厚度的一致性。空气间隙厚度的较好的一致性增强了驱动器在盘的极小区域中聚焦的能力。
尽管从盘的操作的角度来看,增加盘的厚度通常是可取的,但它可能会受到某些对尺寸、重量和加工过程的考虑的限制。过大的尺寸和重量将使便携性和工效性受损。而且,过大的尺寸和重量将增大扭矩、能量消耗和驱动的空间要求。尤其是,过大的重量将使盘具有更大的惯性和动量,减缓旋转的启动和停止的时间从而增加驱动器的访问时间。此外,较大的基底厚度将抬高用于制作过程中的材料的费用和盘制作所需的时间。例如,一个聚碳酸酯或其它塑料基底,基底是浇铸的和需冷却的,增加了厚度就可能使浇铸后的冷却过程的时间拉长。
图5是具有不同基底厚度的浇铸盘所需的冷却时间的变化图。图5表示出盘的中线处的冻结时间的简单的有限变化结果,其中盘的中线处的一维(非平面)传导占优势。一维瞬时热传导的指导性方程如下:
dT/dt=∝(2T/z2)
其中,T是开氏温度,t是时间,z是厚度尺寸,∝是热扩散系数。这个方程首先按时间然后按空间方位进行运算。从而,基底厚度的改变将需要增加浇铸后的冷却时间,因为冷却时间与厚度变化的平方成正比。在图5中,方程为适合于在340℃在模具中浇铸而且存放于金属接触表面的温度为80,100,和120℃的聚碳酸酯的适当条件求解。如图5所示,厚度为2mm的盘的基底冷却到固体状态至少需要20秒钟。然而,基底厚度超过2.5mm时所需的冷却时间超过20秒钟而且随着厚度的增加所花的时间增长得越快。从图5得出的重要结论是当基底厚度超过2.5mm时所需的冷却时间增长得相当的多。当然,这些增加的冷却时间将减少制作量,而且为了得到满意的生产水平,可能还需要附加的模具配置和相应的资金支出。
从图3与图4的卷翘数据和图5的加工过程的数据可知,基底厚度的限制是在对性能考虑时通常基于图中的较低端,而在对加工过程考虑时通常基于图中的较高端。较高端也会受到盘和驱动器的费用、尺寸和重量的影响。所以,在二者之间找平衡是必要的。根据本发明,基底具有大于或等于约1.5mm的厚度对于提供足够的硬度以限制畸变和振荡问题是合意的。一个厚度为大于或等于约1.5mm的基底对于避免较明显的扭曲和卷翘也是可取的。然而,为了使加工时间可行和使盘与驱动器的费用、尺寸以及重量合理,应当把基底的厚度选为小于或等于约2.5mm。在一个较好的实施例中,这种平衡是通过选择基底的厚度为大于或等于约1.8mm而小于或等于约2.2mm来实现的。基底厚度在这个较佳的范围,使得盘获得满意的平直度而不产生额外的加工时间或把盘与驱动器的材料费用、尺寸以及重量抬高很多。更可取的是,基底具有大于或等于约1.9mm而小于或等于约2.1mm的厚度,还可具有接近2mm的厚度。已经发现,这个厚度范围对于直径为约120-135mm范围内的盘特别有利。已经给出了盘和驱动器的尺寸限制和存储密度的要求,这个盘的直径范围对于不久要实现的近场记录应用来说是最合适的。
以上的详细描述是为了较好地理解本发明和仅为举例的目的。对于本领域的熟练的技术人员来说,在不偏离本发明的实质和超出后面所附的权利要求的范围的情况下对本发明做修改是很显然的。例如,尽管由本发明所提供的增强的平直度可能对在近场、空气-入射记录法中有用的磁光盘特别适宜,但应用于其它光盘例如相移、CD-R、或基底入射磁光盘中也是可预见的。
Claims (10)
1、一种可重写数据存储光盘(10),包括一个基底(12)和一个记录层(18),其中基底的厚度大于1.5mm并且小于2.5mm。
2、如权利要求1所述的盘,其中的盘为磁光盘,而且记录层包括一种磁光记录材料。
3、根据权利要求1的盘,其中的基底厚度大于或等于约1.8mm小于或等于约2.2mm。
4、根据权利要求1的盘,其中的基底厚度约为2mm。
5、根据权利要求1的盘,其中盘的直径为大于或等于约120mm小于或等于约135mm。
6、根据权利要求5的盘,其中盘的直径约为130mm。
7、根据权利要求1的盘,其中的基底由从包括热固性材料、热塑性材料、玻璃和金属在内的一组材料中选择的一种材料构成。
8、根据权利要求1的盘,其中的基底由聚碳酸酯材料构成。
9、根据权利要求1的盘,其中的盘能形成稳定的、尺寸小于或等于约0.06方μm2的可磁化区域。
10、根据权利要求1的盘,其中的基底和记录层含有一个直径约15mm的中心孔(25)。
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