CN1871665B - 悬臂组件 - Google Patents

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Abstract

一种悬臂组件(1)，包括具有悬臂尖端(11)的一个悬臂(10)。该悬臂安装在一个刚性支座(12、120、121)上，并在其背面设置有高反射率材料的区域(110)，该区域具有向支座(12)倾斜的边缘(111)。区域(110)和边缘(111)向支座的延伸(c，Δc)满足条件c/Δc≥1，其中，c表示高反射率材料的区域(110)在朝向支座(12)的方向上的延伸，而Δc表示高反射率材料的区域(110)的倾斜边缘(111)在朝向支座(12)的方向上的延伸。

Description

悬臂组件
技术领域
本发明涉及根据独立专利权利要求的一种悬臂组件。
背景技术
在原子力显微术(AFM)或扫描力显微术(SFM)中，要测量局部分布的较小的力以便获得试样的图像。这是借助于横贯试样移动的一个悬臂来进行的。该悬臂远离尖端的一端附着于一个刚性支座，和悬臂相比，该支座具有很大的质量。在悬臂横贯试样移动时，作用于悬臂尖端的力导致悬臂的偏移。对该偏移进行检测和处理，并与该尖端相对于试样的相应位置的信息一起即可获得该试样的一个图像。
由于悬臂的热噪声，因此期望悬臂具有高共振频率和低刚度。这样可以降低热噪声并增强灵敏度。为了获得高质量的图像，要求悬臂具有高灵敏度。而就希望有高扫描速率的动态测量而论，悬臂的高共振频率具有进一步的优势。由于悬臂的共振频率随悬臂刚度的增加和质量的减少而增加，同时为了提高悬臂的灵敏度而期望共振频率与刚度有一个较大的比率，所以优选的是具有很小质量的悬臂。这需要具有很小长度、宽度和厚度的小的悬臂。
此外，相应悬臂的高质量因数可增加其灵敏度。质量因数代表一个给定激发的衰减：质量因数越高，由一个给定激发引起的振动的持续时间越长(即，衰减越低)。
已经有人提出由氮化硅制成的较小的悬臂。然而，由氮化硅制成的悬臂的质量因数内在地低下，因此它们的灵敏度有限。由纯硅制成的悬臂提供增强的灵敏度，这是由于纯硅具有更高的质量因数。
如前所述，为了获得试样的高质量图像，在任何时候都必须准确地知道悬臂尖端的偏移以及尖端相对于试样的准确位置。为此，通常对悬臂尖端的位置进行光学跟踪。这通常借助于一个偏差传感器来进行，该偏差传感器接收由悬臂尖端的背面反射的光。为了反射更多的光，该背面通常涂布比纯硅具有更高反射率的一层金属膜，例如，一层金膜。然而，在小悬臂的一个较大区域上、尤其是直到支座片的区域涂布金膜，会导致质量因数的显著降低，并因此导致显著降低的灵敏度。
可以通过一个掩模来涂覆金涂层，该掩模允许从源蒸发的金仅通过掩模中精确限定的一个开孔投射到悬臂的背面上。为高刚度和实际应用所必需的支座片的宏观尺寸使得实际上不可能把金沉积在具有精确限定的锐利边缘的一个区域内，因为该掩模不可能在足够紧靠悬臂尖端背面的附近定位。相反地，应用传统的遮蔽技术会产生具有显著延伸的边缘。并且，悬臂的尺寸越小，要对准单独的掩模就变得越困难，而对于微米尺寸的非常小的悬臂，通过一个单独的掩模沉积一层金膜是不可行的。
发明内容
本发明现提出一种如在独立专利权利要求中所确定的悬臂组件。有利的具体实施例是从属权利要求的主题。并且，本发明还提出一种用于制备这种悬臂组件的方法。
具体而言，根据本发明的悬臂组件包括一个具有悬臂尖端的悬臂。该悬臂安装在一个刚性支座上，并在其背离试样的背面上设置有一个高反射率材料的区域。该区域具有向该支座倾斜的一个边缘。该区域和边缘向支座的延伸满足以下条件：
c/Δc≥1，
其中
c表示高反射率材料的区域在支座方向上的延伸，以及Δc表示高反射率材料的区域(110)的倾斜边缘(111)在支座(12)方向上的延伸。
换言之，在由高反射率材料(例如，金)覆盖的区域中的“半阴影”(坡面)具有向着支座的延伸，该延伸等于或小于区域本身的延伸。更优选地，c/Δc的比率等于或大于2，从而限定更陡的坡面。因此，即使当该悬臂较小时，这样一种悬臂组件的悬臂也可以具有高质量因数。就高质量因数而论，在悬臂尖端背面上的区域不应具有大的延伸，并且还应具有明晰的边缘，这是因为覆盖悬臂的大部分背面可导致悬臂的质量因数的显著降低，并因此导致灵敏度显著降低。
如前所述，这对小悬臂可能是特别有利的，但并不限于此。小的悬臂可以是这样的悬臂：其中，悬臂的长度在1μm至100μm的范围内，尤其是在3μm至20μm的范围内，并且其中，由高反射率材料覆盖的区域的延伸c在0.5μm至10μm的范围内，尤其是在1μm至6μm的范围内。
在根据本发明的悬臂组件的一个具体实施例中，支座设置有一个锐利棱边，该锐利棱边位于离悬臂尖端的背面有一定距离的位置。此距离被确定为在涂覆高反射率材料期间使悬臂尖端背面上的区域和倾斜边缘得以形成。因此，该锐利棱边的位置被用来确定高反射率材料区域在悬臂背面上的延伸以及倾斜边缘的延伸。因此，一方面可以将该“掩模”(棱边)布置得紧靠着将要涂覆高反射率材料(例如金)的区域。另一方面，不再需要单独的掩模，因为掩模是由该支座的一部分形成的，从而消除了对准单独的掩模所遇到的问题。利用干法蚀刻技术，可以在确定的位置上产生这样的具有所需精度的锐利棱边。
在根据本发明的悬臂组件的一个有利的具体实施例中，该支座进一步包括一个引导和校准结构，用于在聚焦于由高反射率材料覆盖的区域时引导和校准一个光学跟踪系统。
当开始AFM时，首先，光学跟踪系统必须“找到”该悬臂尖端。并且，必须知道该光学系统的多大的移动量对应于多大距离。为了易于做到这一点，前述具体实施例是有利的，因为若没有引导和校准结构，就必须用其它方法以精细的步骤探测三维空间，以便找到该悬臂尖端。然而，以这种方式寻找悬臂尖端需要花相当长的时间。该引导和校准结构简化了寻找悬臂尖端，因为它提供关于在哪里寻找该悬臂尖端的信息，以致为了找到该悬臂尖端的准确位置，最终只需要以精细的步骤搜索小部分的三维空间。
在根据本发明的悬臂组件的另一个具体实施例中，该支座附着悬臂的那部分具有回缩形状，尤其是部分八边形的形状，所述回缩形状或部分八边形在朝向悬臂的方向变窄。一方面，如此成形的支座的一部分是足够刚性的，而同时，由于其“变窄”的形状，它允许试样可以分别相对于悬臂或支座在一定范围内被倾斜布置，而不会引起支座和试样之间为了扫描在接近试样期间发生碰撞。
在根据本发明的悬臂组件的又一个具体实施例中，该悬臂包括一个台阶形部分，该部分设置在悬臂附着于支座的那一端附近。在该台阶形部分，悬臂正面(即，悬臂面向试样的那一面)上的悬臂厚度被显著地增加。该台阶形部分能够非常精确地限定悬臂的长度，因为从台阶到悬臂尖端的长度限定了该悬臂的长度。可以通过在悬臂的正面应用蚀刻技术(例如，湿法蚀刻技术或干法蚀刻技术)来制作该台阶。这对于用所谓的“硅在氧化物上”的晶片制造悬臂组件(将在下文更为详细地说明)是特别有利的。
在根据本发明的悬臂的又一具体实施例中，该支座包括至少两个台阶，每个台阶都设置有棱边。该支座的第一台阶的棱边(形成该“掩模”的棱边)位于和悬臂尖端的背面相距所述预定距离的位置，而第二台阶的棱边的位置使得它并不妨碍涂覆该高反射率材料。
该两台阶的具体实施方式是有利的，这在于该第一台阶尤其是第一台阶的该棱边的定位相对靠近悬臂尖端的背面并相隔上述预定距离。当高反射率材料(例如，金)通过从高反射率材料源的蒸发而沉积在该悬臂的背面时，必须确保第二台阶的棱边不妨碍涂覆高反射率材料。否则，该第二台阶的棱边将限定由高反射率材料覆盖的区域的边缘，并且由于第二台阶的棱边距离悬臂尖端的背面太远，因此不能制得上述覆盖区域的一个精确限定的明晰边缘。
本发明的另一个方面涉及制造前述的悬臂组件的方法。该方法包括从一个高反射率材料源将该高反射率材料的区域和倾斜边缘施加于悬臂尖端的背面。该方法进一步包括利用悬臂组件的支座的一个锐利棱边以便限定所述区域和边缘向该支座的延伸。虽然并不限于小悬臂，但这种方法对于小悬臂是特别有利的，因为不再需要必须精确布置的单独的掩模。相反，在小悬臂的情况下，该棱边起到“掩模”的作用并且可以足够靠近该悬臂尖端而定位。
在根据本发明的方法的一个具体实施例中，支座的该棱边位于离悬臂尖端的背面上该区域一定距离的地方。该高反射率材料源也被置于离支座的所述边有一定距离的地方，并且有一个具有一定直径的开孔，通过该开孔涂覆高反射率材料。支座的该棱边离悬臂尖端的背面上所述区域的距离以及从高反射率材料源到支座的该棱边的距离是利用下面的条件确定的：
Δc/l＝d/L
其中
Δc表示该高反射率材料区域的边缘向支座的延伸
l表示支座的该棱边到该高反射率材料区域的距离，
d  表示高反射率材料源的开孔的直径，通过该开孔涂覆高反射率材料，以及
L表示高反射率材料源和支座的该棱边之间的距离。
附图说明
根据本发明的悬臂组件和方法的其它有利方面将通过下文借助于附图对悬臂组件的一个具体实施例的详细描述而变得显而易见，在附图中：
图1示出根据本发明的悬臂组件的一个具体实施例的纵剖图，
图2示出图1的悬臂组件的具体实施例的透视图，
图3基本上示出图1的悬臂组件的具体实施例的纵剖图以及光学跟踪系统的孔径角的示意图，以及
图4示出图1的悬臂组件的具体实施例的正透视图，其中试样相对于悬臂是倾斜的。
具体实施方式
如图1所示，根据本发明的悬臂组件1的一个具体实施例，包括具有悬臂尖端11的一个悬臂10，用于扫描一试样(未示出)。悬臂10附着于支座12，例如，一种基片。所示出的具体实施例由所谓的“硅在氧化物上”的晶片制成，也就是说，它由包括三个层的晶片制成：一个纯硅层，接着是一个氧化硅层，再接着又是一个纯硅层。在图1中分别用Si和SiO2来表示这些层。
在悬臂10的背面上并在悬臂尖端11的区域内(该区域在下文称作“悬臂尖端的背面”)设置有一个由高反射率材料(例如金)构成的区域110。高反射率材料是一种其反射率比纯硅更高的材料。该区域110被精准地限制在三个侧边上，因为悬臂10终止在这三个边上。在第四边上，即，在朝向支座12的方向，区域110具有朝向悬臂10的背面倾斜的一个边缘111。
区域110具有朝向支座12方向的延伸c。如已经概述的，边缘111应该较陡，也就是说它朝向支座12的延伸Δc不应大于区域110的延伸c。这可以借助于支座12的特定形状来实现，下文将更详细地解释。
支座12具有台阶形结构，并且在图1所示的具体实施例中包括两个台阶，分别是120和121。第一台阶120设置有锐利棱边120a，其位于与悬臂尖端11的背面相隔距离l的位置。第二台阶121设置有另一锐利棱边121a，其位置使得它并不妨碍涂覆该高反射率材料。
为了更好地理解即使对于很小的、在3μm至20μm范围内的悬臂、以及对于在0.5μm至6μm范围的区域110，如何能够制出比较锐利的边缘111，我们假设：要从一个蒸发源S将该高反射率材料(例如，金)涂覆在悬臂尖端11的背面，该蒸发源S相对于悬臂10的背面或相对于悬臂尖端11的背面设置成一个预定角度α。角度α的通常范围是最高到15°。并且，从蒸发源S的开孔到悬臂尖端11的背面的距离l+L对于给定的蒸发源是限定的，通常该距离是在大约10厘米以内。
如图1所示，距离l表示从棱边120a到悬臂尖端11的背面的距离，而距离L表示从棱边120a到蒸发源S的开孔的距离。蒸发源S的开孔具有精确限定的直径d，通过该开孔来蒸发金。
根据图1所示安排的几何形状，可以导出以下方程：
Δc/l＝d/L
如先前所述，区域110的延伸c与边缘111的延伸Δc的比率必须等于或大于1，更优选等于或大于2。根据条件
c/Δc≥1
可以得出，为了确定区域110距离棱边120a的距离l，适用以下条件：
l≤cL/d
只是举例来说，如果区域110的延伸c是4μm，距离L是20cm(它是在大约10厘米的范围内，参见上述)，以及蒸发源S的孔的直径d是1cm(同样参见上述)，那么距离l结果为等于或小于80μm。
如图1所示，棱边120a用于限制在悬臂尖端11的背面上的区域110的倾斜边缘111向支座12方向的延伸Δc。关于区域110的其它三个边缘，覆盖悬臂尖端11的背面直到悬臂尖端11的背面的各个边。
当使用所谓的“硅在氧化物上”的晶片时，在两个纯Si层之间的SiO2层为蚀刻过程形成一挡层。然而，为了完全暴露悬臂10，可以如图1所示，在上述蚀刻过程之后，将SiO2层也除去。由于SiO2的机械性能与Si的机械性能明显不同，所以悬臂10不会最佳地附着于支座12，因为具有不同机械性能(例如，热膨胀系数)的两种材料在附着位置彼此紧靠。如果不采取另外的措施，这会导致质量因数降低，并因此导致悬臂10的灵敏度下降。
为了保持悬臂10的高质量因数，悬臂10设置有台阶形部分100，该台阶形部分布置在靠近悬臂10附着于支座12的那一端。台阶形部分100布置得离附着位置相隔一段小的距离。在台阶形部分100，在悬臂10的正面(即在图1中悬臂10面朝下的那一侧)，悬臂10的厚度显著增加。通过提供台阶形部分100，可以很好地限定悬臂10的长度，因为在增加其厚度以后，具有显著增加的厚度的那部分已经起到支座的作用。因此，悬臂10的柔性部分具有精确限定的长度，此外，在相同的材料(硅)中实现悬臂10的柔性部分与巨大的“支座”的附着，从而避免了质量因数的降低。
现参照图2，悬臂组件1以透视图显示，因此对两个台阶120和121的形状可以获得更详细的印象。特别对台阶120的形状将在下面结合图4更详细地说明。图2进一步示出了一个引导和校准结构123的具体实施例，其包括(为了举例说明)两个槽123a和123b，所述两个槽对称地延伸并平行于悬臂10的连续纵轴101。此外，引导和校准结构123包括具有精确限定的长度和深度的一个凹入部分123c或凹坑，其布置在悬臂10的连续纵轴101上。引导和校准结构123是用来帮助引导和校准光学跟踪系统(例如，在偏差传感器的定位期间)，因为光学跟踪系统首先必须“找到”悬臂尖端。
槽123a和123b以及凹入部分123c和它们的边均被非常精确地制造在非常精确的位置上。因此，在第一步，光学跟踪系统聚焦于台阶121的上表面，以便使引导和校准开始运行。以下的说明提供了关于该光学系统的引导和校准是如何运行的多种可能性中的一种。
在聚焦于台阶121的上表面之后，光学跟踪系统的各个位移单元(以图2中的三维箭头安排21示意性地表示)在垂直于连续纵轴101的方向上移动光学跟踪系统(通过图2中的光束20示意性地表示)直到光束20到达一个槽的边缘。例如，光学跟踪系统的位移单元首先在箭头210方向上移动光学跟踪系统直到它到达槽123a的内边。槽123a的内边通过例如反射光的强度变化被检测到。然后该位移单元在箭头211的方向上移动光学跟踪系统直到它到达槽123b的内边。一旦检测到槽123b的内边，光学跟踪系统即知道连续纵轴101一定位于两个已检测到的边的中间，因为槽123a和123b相对于连续纵轴101对称排列。此外，因为光学跟踪系统已对驱动位移单元的步进电机在槽123a和123b的内边之间移动该光学跟踪系统所需步数进行了计数，并且因为已经精确知道槽123a和123b的内边之间的距离，所以光学跟踪系统准确地知道在箭头210或211的方向上步进电机的一个步长所对应的距离。
位移单元现在将光学跟踪系统(即，光束20)移回到连续纵轴101上，并随后在垂直于箭头210或211的方向(即在箭头212的方向)上继续移动光学跟踪系统直到光束20到达凹入部分123c的内边。位移单元在连续纵轴101的方向上继续移动光学跟踪系统，越过凹入部分123c，直到光束20到达凹入部分123c的外边。再一次，光学跟踪系统对将光束20从凹入部分123c的内边移动到凹入部分123c的外边所需的步数进行计数。因为已经精确知道凹入部分123c的内、外边之间的距离，所以光学跟踪系统现在知道在箭头212方向上步进电机的一个步长所对应的距离。现在，光学跟踪系统在台阶120b的上表面的平面上被校准，并且可以在连续纵轴101上被引导。
就深度而论，凹入部分123c也可以用于校准光学跟踪系统，因为，如上所述，凹入部分123c具有精确限定的深度。因此，位移单元可以将光学跟踪系统移回到凹入部分123c之上，以致光束20未聚焦。随后，位移单元在箭头213的方向移动光学跟踪系统直到光束20在凹入部分123c的底表面上聚焦，这可以通过例如检测反射光的最大强度来检测。再一次，光学跟踪系统对步进电机在两个位置(即，光束20在台阶121的上表面聚焦的位置和光束20在凹入部分123c的底表面聚焦的位置)间所需的步数进行计数。因为凹入部分123c的深度是精确已知的，所以光学跟踪系统现在知道在箭头213方向上步进电机的一个步长所对应的距离。
光学跟踪系统现在向后移动以聚焦于台阶121的上表面，并且现在可以沿纵轴移动，直到光束20经过台阶121的棱边121a。经过棱边121a以后，光学跟踪系统向下移向台阶120，直到光束20聚焦于台阶120的上表面。然后，光学跟踪系统可以沿连续纵轴101移动，直到光束20经过台阶120的棱边120a。经过台阶120的棱边120a以后，光学跟踪系统朝向悬臂10的背面向下移动，直到它聚焦于悬臂10的背面。然后继续移动光学跟踪系统直到光束20照射到区域110上，这可以通过反射光增加的强度来确定。
为了在校准以后显著加速将光学跟踪系统引导并聚焦至悬臂尖端11的背面，凹入部分123c的内和/或外边与台阶121的棱边121a之间的距离、以及台阶121的上表面与台阶120的上表面之间的距离均为已知。最后，台阶120的长度、以及台阶120的上表面与悬臂10的背面之间的距离也均为已知。最后，悬臂10的长度是已知的，以致可以快速地引导光学跟踪系统并使其聚焦于三维空间中的一个目标点，该点至少位于相对靠近区域110的位置。然后可以用比较短的时间在区域110上进行最后准确的定位和聚焦，因为光学跟踪系统必须仅在三维空间的一个非常小的部分进行“搜寻”，因为它可以被快速引导到三维空间中位于至少靠近区域110的附近的一点。如上所述，图2所示的校准结构仅是用实例的方式加以描述，因此也可以同样使用其它合适的校准结构。
现转向图3，该图主要示出图1所示的悬臂组件的具体实施例的纵切面，但还提供了具有高数值孔径的光学跟踪系统的孔径张角β。悬臂组件1的形状并不与光学跟踪系统的高数值孔径相对立。这对于在悬臂尖端11的背面上的区域110上获得较小聚焦点(通常＜5μm)是有利的。可以使用的数值孔径越高，聚焦就越精确，并且来自试样的图像质量就越高。大于30°的孔径β是特别有利的。
图4是悬臂组件1以及试样3在一起的的正透视图，其中试样相对于悬臂10和支座12稍微倾斜一角度γ。根据图4，另一个在扫描试样时通常遇到的问题变得显而易见。该问题与试样3相对于悬臂10和支座12的倾斜放置有关，现将说明此问题。如图4所示，悬臂组件1可以从后面接近试样3。悬臂10附着于包括台阶120和121的支座12。现在为了避免在接近试样3的过程中支座12和试样3之间(或更确切地说是支座的台阶120和试样3之间)的碰撞，支座12的台阶120(就是悬臂所附着的那部分支座12)具有一个回缩的形状，在示出的具体实施例中为一个部分八边形的形状。所述部分八边形的形状在朝向悬臂10的方向变窄。
台阶120回缩的部分八边形的形状是有利的，因为一方面它是足够刚性的(因为台阶120具有足够的质量)，以便形成对悬臂10的刚性支持。另一方面，回缩的台阶120允许试样3分别相对于支座12或台阶120具有一定的倾斜度，这样在接近试样3的过程中，试样3分别和支座12或台阶120之间的碰撞就不大可能发生。

Claims (11)

1.用于扫描试样(3)的悬臂组件(1)，包括具有一个悬臂尖端(11)的悬臂(10)，所述悬臂(10)安装在一个刚性支座(12、120、121)上，并在所述悬臂(10)背离所述试样(3)的背面上设置有一个高反射率材料的区域(110)，该区域具有向所述支座(12)倾斜的一个边缘(111)，其特征在于所述区域(110)和所述边缘(111)向所述支座延伸的距离(c，Δc)满足条件c/Δc≥1，
其中，
c表示所述高反射率材料的区域(110)在向所述支座(12)方向上延伸的距离，以及
Δc表示所述高反射率材料的区域(110)的倾斜边缘(111)在向所述支座(12)方向上延伸的距离，
其中所述悬臂(10)的长度是在1μm至100μm的范围内。
2.根据权利要求1所述的悬臂组件(1)，其中，所述高反射率材料的区域(110)向该支座(12)延伸的距离(c)是在0.5μm至10μm的范围内。
3.根据权利要求2所述的悬臂组件(1)，其中，所述悬臂(10)的长度是在3μm至20μm的范围内，并且其中所述高反射率材料的区域(110)向该支座(12)的延伸的距离(c)是在1μm至6μm的范围内。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的悬臂组件(1)，其中所述支座(12)设置有一个锐利棱边(120a)，所述锐利棱边位于和所述悬臂尖端(11)的背面相隔一定距离(l)的位置，所述距离(l)被确定为在涂覆所述高反射率材料期间使所述悬臂尖端(11)的背面上的该区域(110)和所述倾斜边缘(111)得以形成。
5.根据权利要求1-3中任一项所述的悬臂组件(1)，其中，所述支座(12)进一步包括一个引导和校准结构(123、123a、123b，123c)，用于引导和校准一个光学跟踪系统聚焦于所述高反射率材料的区域(110)。
6.根据权利要求4所述的悬臂组件(1)，其中，所述支座(12)进一步包括一个引导和校准结构(123、123a、123b，123c)，用于引导和校准一个光学跟踪系统聚焦于所述高反射率材料的区域(110)。
7.根据权利要求1-3中任一项所述的悬臂组件(1)，其中，所述支座(12)的附着所述悬臂(10)的部分(120)具有如在附图2或4中所示的一个回缩的形状，所述回缩形状在朝向所述悬臂(10)的方向变窄。
8.根据权利要求1-3中任一项所述的悬臂组件(1)，其中，所述悬臂(10)包括一个台阶形部分(100)，所述台阶形部分布置在靠近所述悬臂(10)附着于所述支座(12、120)的那端，在所述悬臂(10)的正面，所述台阶形部分(100)增加了所述悬臂(10)的厚度。
9.根据权利要求1-3中任一项所述的悬臂组件(1)，其中所述支座(12)包括至少第一台阶(120)和第二台阶(121)，这些台阶(120、121)设置有棱边(120a、121a)，其中，该第一台阶(120)的棱边(120a)的位置使得在涂覆所述高反射率材料期间形成在所述悬臂尖端(11)的背面上的所述高反射率材料的区域(110)和所述倾斜边缘(111)，并且其中，该第二台阶(121)的棱边(121a)的位置使得该棱边(121a)并不妨碍涂覆所述高反射率材料。
10.用于制造根据权利要求1-9中任一项所述的悬臂组件(1)的方法，包括从一个高反射率材料源(S)在所述悬臂尖端(11)的背面施加所述高反射率材料的区域(110)和所述倾斜边缘(111)，其特征在于利用所述悬臂组件(1)的所述支座(12)的一个锐利棱边(120a)，以便限制所述区域(110)和所述边缘(111)向所述支座(12)延伸的距离(c、Δc)。
11.根据权利要求10所述的方法，其中，所述支座(12)的所述棱边(120a)位于和悬臂尖端(11)的背面上的所述区域(110)相隔一定距离(l)的位置，并且其中，所述高反射率材料源(S)布置为与所述支座(12)的所述棱边(120a)相隔一定距离(L)，并且具有一定直径(d)的开孔，通过所述开孔涂覆所述高反射率材料，并且其中从悬臂尖端(11)的背面上的所述区域(110)到所述支座(12)的所述棱边(120a)的距离(l)和从所述源到所述支座(12)的所述棱边(120a)的距离(L)被确定为使得
Δc/l＝d/L
其中
Δc表示所述高反射率材料的所述区域(110)的所述边缘(111)向所述支座(12)延伸的距离，
l表示所述支座(12)的所述边(120a)和所述高反射率材料的所述区域(110)相隔的距离，
d表示所述源(S)的所述开孔的直径，通过所述开孔涂覆所述高反射率材料，以及
L表示所述源(S)和所述支座(12)的所述边(120a)之间的距离。
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