DE10018879A1 - Stromversorgungsgerät zur bipolaren Stromversorgung - Google Patents
Stromversorgungsgerät zur bipolaren StromversorgungInfo
- Publication number
- DE10018879A1 DE10018879A1 DE10018879A DE10018879A DE10018879A1 DE 10018879 A1 DE10018879 A1 DE 10018879A1 DE 10018879 A DE10018879 A DE 10018879A DE 10018879 A DE10018879 A DE 10018879A DE 10018879 A1 DE10018879 A1 DE 10018879A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- power
- devices
- power supply
- positive
- output
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02M—APPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
- H02M7/00—Conversion of ac power input into dc power output; Conversion of dc power input into ac power output
- H02M7/42—Conversion of dc power input into ac power output without possibility of reversal
- H02M7/44—Conversion of dc power input into ac power output without possibility of reversal by static converters
- H02M7/48—Conversion of dc power input into ac power output without possibility of reversal by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode
- H02M7/53—Conversion of dc power input into ac power output without possibility of reversal by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal
- H02M7/537—Conversion of dc power input into ac power output without possibility of reversal by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal using semiconductor devices only, e.g. single switched pulse inverters
- H02M7/5387—Conversion of dc power input into ac power output without possibility of reversal by static converters using discharge tubes with control electrode or semiconductor devices with control electrode using devices of a triode or transistor type requiring continuous application of a control signal using semiconductor devices only, e.g. single switched pulse inverters in a bridge configuration
Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Stromversorgungsgerät zur bipolaren Stromversorgung einer Anlage der Plasma- oder Oberflächentechnik, das mindestens ein regelbares Gleichstromnetzteil (G1, G2) aufweist, dessen positive und negative Ausgänge mit dem Eingang wenigstens einer Brückenschaltung von elektronischen Leistungsschaltern (T1 bis T4) verbunden sind, welche Leistungsschalter eingangsseitig mit wenigstens einer Steuersignalaufbereitungseinrichtung und ausgangsseitig mit wenigstens einer Stromerfassungsschaltung zur Steuerung/Regelung der Leistungsschalter und mit der Last der Anlage (A) verbunden sind. Durch die Erfindung können Stromimpulse mit frei wählbaren Amplituden (V¶o+¶, V¶o-¶) für die positiven und negativen Stromimpulse erzeugt werden, indem für jede Brückenschaltung (T1 bis T4) zwei Gleichstromnetzteile (G1, G2) vorgesehen sind, und der positive Ausgang der beiden Gleichstromnetzteile über eine Serienschaltung jeweils zweier Leistungsschalter (T1 und T4; T2 und T3) mit dem negativen Ausgang des anderen Gleichstromnetzteils (G2, G1) verbunden ist, wobei der Ausgang der Brückenschaltung für die Anlage (A) jeweils zwischen den Leistungsschaltern der beiden Serienschaltungen abgreift.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Stromversorgungsgerät
zur bipolaren Stromversorgung einer Anlage der Plasma- oder
Oberflächentechnik gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1. Der
artige Geräte, wie sie beispielsweise in der EP 534 068 B of
fenbart sind, umfassen in der Regel ein Gleichstromnetzteil,
dessen Ausgänge mit den Eingängen einer Brückenschaltung elek
tronischer Leistungsschalter verbunden sind. Die Leistungs
schalter sind mit Steuersignalaufbereitungseinrichtungen ver
bunden, die in gewünschter Weise die Leistungsschalter ansteu
ern, um ein gewünschtes Impulsmuster für die Plasmaanlage zu
erhalten. Das Gerät hat hierbei separate Steuersignalaufberei
tungseinrichtungen zur individuellen Regelung der Steuerzeiten
der positiven und negativen Ausgangssignale, was eine sehr
freie Wahl der Impulsform ermöglicht.
Es ist Aufgabe der Erfindung, ein Stromversorgungsgerät nach
dem Stand der Technik derart weiterzubilden, dass die Freiheit
in der Wahl einer gewünschten Impulsform weiter vergrößert
wird. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß bei einem Stromversor
gungsgerät der gattungsgemäßen Art durch die kennzeichnenden
Merkmale des Anspruchs 1 gelöst. Ein weiteres Ziel der Erfin
dung besteht darin, eine Anordnung zu schaffen, die die Bereit
stellung absolut frei wählbarer Impulsformen mit Frequenzen bis
in den Megahertz-Bereich erlaubt. Diese Aufgabe wird durch eine
Anordnung gemäß Anspruch 7 gelöst.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand der
zugeordneten Unteransprüche.
Erfindungsgemäß werden für jede Brückenschaltung mindestens
zwei Gleichstromnetzteile verwendet. Die Brücke wird aufge
teilt, in dem zwischen dem positiven Ausgang des ersten Gleichstromnetzteils
und dem negativen Ausgang des zweiten Gleich
stromnetzteils eine Serienschaltung zweier Leistungshalbleiter
geschaltet wird. Das gleiche gilt für den negativen Ausgang des
ersten Gleichstromnetzteils und den positiven Ausgang des zwei
ten Gleichstromnetzteils, zwischen denen ebenfalls eine Serien
schaltung zweier Leistungshalbleiter angeschlossen ist. Der Ab
griff für die der Plasmaanlage zugeführten Impulse erfolgt je
weils zwischen den beiden Leistungsschaltern der Serienschal
tungen.
Auf diese Weise kann man die Amplitude der positiven und nega
tiven Impulse frei wählen, z. B. entsprechend einem gewünschten
Signalmuster.
Wenn zudem separate Steuersignalaufbereitungseinrichtungen zur
individuellen Ansteuerung der unterschiedlichen Leistungsschal
ter vorgesehen sind, so können nicht nur die Amplituden der po
sitiven und negativen Impulse beliebig gewählt werden, sondern
auch deren Schaltzeiten und Signalpausen bzw. Totzeiten. Man
hat somit bei der Wahl des einer Plasmaanlage zugeführten Im
pulsmusters alle Freiheiten.
Da diese Anlagen einen sehr hohen Strom schalten müssen, ist
der Wirkungsbereich der Stromversorgungsgeräte auf einen Fre
quenzbereich von etwa 100 bis 200 kHz begrenzt. Durch Verwen
dung mehrerer, vorzugsweises zwei bis acht parallel geschalte
ter Stromversorgungsgeräte und entsprechend kurzer zeitversetz
ter synchronisierter Ansteuerung der einzelnen Stromversor
gungsgeräte ist es möglich, ein beliebiges Impulsmuster mit ei
ner Frequenz bis in den Megahertz-Bereich zu erreichen, wenn
z. B. acht Geräte mit einer Frequenz von 125 kHz verwendet wer
den. Die Ansteuerung der Geräte erfolgt vorzugsweise über einen
Steuerbus am Steuereingang der einzelnen Geräte, wobei die
Steuersignale von einer zentralen Steuerung den einzelnen, ein
zeln adressierbaren Geräten zugeführt werden.
Hierfür sind die einzelnen Stromversorgungsgeräte vorzugsweise
mit einer Adresse oder Kennung versehen, die der Steuerung das
gezielte Ansprechen jedes einzelnen Stromversorgungsgerätes ge
stattet.
Vorzugsweise sind die Ausgänge der Gleichstromnetzteile kapazi
tiv stabilisiert mit Kondensatoren möglichst hoher Kapazität,
um sehr hohe Impulsströme bereitstellen zu können. Werden die
Stromversorgungsgeräte am Rande ihrer maximalen Kapazität be
trieben, so kann man jedoch in der freien Wahl der Totzeit zwi
schen den Impulsen beschränkt werden.
Vorzugsweise ist sowohl zwischen den negativen Ausgängen als
auch zwischen den positiven Ausgängen der beiden Gleichstrom
netzteile jeweils eine Brücke schaltbar, so dass auf einen her
kömmlichen Betrieb gewechselt werden kann, der jedoch dann kei
ne individuelle unterschiedliche Ansteuerung der positiven und
negativen Impulsamplituden ermöglicht.
Die maximal zulässige Stromdynamik für die schaltenden Transi
storen und Freilaufdioden werden durch zwei ausgangsseitige In
duktivitäten L1 L2 eingestellt. Dynamisch wird hierbei der
Pulsstrom erfaßt und ausgewertet. Insbesondere bei sehr nieder
impedanten Kurzschlüssen ist ein schnelles Erkennen des Über
stromes und eine umgehende Abschaltung der Transistoren erfor
derlich, um eine Störung der Halbleiterschicht oder an den Sub
stratoberflächen oder des Plasmabeschichtungssystems selbst zu
vermeiden.
Die erfindungsgemäße Stromversorgung oder Anordnung von Strom
versorgungsgeräten läßt sich für alle plasmatechnischen Verfah
ren wie CVD, Plasma-PVD, Magnetron-Sputtern, Plasmanitrieren,
Plasmaätzen einsetzen.
Die Erfindung wird nachfolgend beispielsweise anhand der sche
matischen Zeichnung beschrieben. In dieser zeigen:
Fig. 1 ein stark vereinfachtes Schaltbild eines erfin
dungsgemäßen Stromversorgungsgerätes ohne Steuer
elektronik
Fig. 2 eine Darstellung der Ausgangsimpulse der erfin
dungsgemäßen bipolaren Stromversorgung,
Fig. 3 eine schematische Darstellung einer erfindungsge
mäßen Anordnung mit mehreren Netzteilen,
Fig. 4 A-F mögliche Impulsmuster der Anordnung aus Fig. 3,
und
Fig. 5 eine zu Fig. 3 alternative Anordnung mit mehreren
Netzteilen.
Fig. 1 zeigt ein Stromversorgungsgerät mit zwei Gleichstrom
netzteilen G1, G2, deren Ausgänge durch Kondensatoren C1, C2
stabilisiert sind. An dem Gleichstromnetzteil G1 liegt die
Spannung V1 an, während am Gleichspannungsnetzteil G2 die Span
nung V2 anliegt. Der positive Ausgang des ersten Gleichspan
nungsnetzteils G1 ist über eine Serienschaltung zweier Lei
stungsschalter T1, T4 mit dem negativen Ausgang des Gleichspan
nungsnetzteils G2 verbunden. In gleicher Weise ist der negative
Ausgang des ersten Gleichstromnetzteils G1 über eine Serien
schaltung von zwei Leistungsschaltern T2, T3 mit dem positiven
Ausgang des zweiten Gleichstromnetzteils G2 verbunden. Die ei
ner Plasmaanlage A zugeleiteten Ausgänge greifen in der Mitte
zwischen den Serienschaltungen T1 T4, T2 T3 ab und sind durch
Induktivitäten L1, L2 hinsichtlich der Stromdynamik begrenzt,
um sowohl die Leistungsschalter als auch die Plasmaanlage
selbst und die darin befindlichen Substrate SU zu schützen. In
den Ausgang des Stromversorgungsgerätes ist noch ein Stromauf
nehmer SA geschaltet, dessen Ausgangssignal einer nicht darge
stellten Steuerung zur Ansteuerung der Leistungsschalter T1 bis
T4 zugeführt wird, um somit eine Regelung, d. h. eine Feedback
geregelte Steuerung zu realisieren.
Die Anordnung zweier Brücken S1, S2 zwischen den positiven Aus
gängen als auch den negativen Ausgängen der beiden Gleichspan
nungsnetzteile G1, G2 ermöglicht den Betrieb des Stromversor
gungsgerätes nach herkömmlicher Art mit allerdings identisch
großen Amplituden für die negativen und positiven Stromimpulse.
Es lassen sich beispielsweise folgende Betriebsarten einstel
len:
Gleichspannung DC+ wenn T1 und T2 geschlossen sind, während T3 und T4 geöffnet sind.
Gleichspannung DC-, wenn T3 und T4 geschlossen sind, während T2 und T2 geöffnet sind.
Unipolar plus gepulst UP+, wenn T1 und T2 gepulst sind, wäh rend T3 und T4 geöffnet sind.
Unipolar negativ gepulst UP-, wenn T3 und T4 gepulst sind, während T1 und T2 geöffnet sind.
Bipolar gepulst BP, wenn T1 und T2 alternativ mit T3 und T4 ge taktet werden.
Gleichspannung DC+ wenn T1 und T2 geschlossen sind, während T3 und T4 geöffnet sind.
Gleichspannung DC-, wenn T3 und T4 geschlossen sind, während T2 und T2 geöffnet sind.
Unipolar plus gepulst UP+, wenn T1 und T2 gepulst sind, wäh rend T3 und T4 geöffnet sind.
Unipolar negativ gepulst UP-, wenn T3 und T4 gepulst sind, während T1 und T2 geöffnet sind.
Bipolar gepulst BP, wenn T1 und T2 alternativ mit T3 und T4 ge taktet werden.
Fig. 2 beschreibt den zeitlichen Verlauf eines möglichen Im
pulsmusters mit dem erfindungsgemäßen Stromversorgungsgerät aus
Fig. 1. Auf der horizontalen Achse ist die Zeit in Mikrosekun
den aufgetragen. Die vertikale Achse gibt die Spannung des Aus
gangsimpulses sowohl in positiver als auch in negativer Rich
tung wieder. Die Figur zeigt einen ersten positiven Impuls mit
Ausgangsspannung V0+ und der Impulsdauer Ton+, gefolgt von einer
Auszeit Toff+. Dieser Auszeit folgt ein erster negativer Impuls
mit der Amplitude V0- und der Impulsdauer Ton-, gefolgt von der
Auszeit Toff-. Die vier Pulszeitparameter Ton+, Toff+, Ton- und Toff-
einer Periode sind frei und unabhängig voneinander wählbar, wobei
derzeit bei Verwendung herkömmlicher Technik die Summe der
Zeiten in einer Periode 8 Mikrosekunden (entsprechend einer
Frequenz von maximal 125 kHz) nicht unterschreiten kann.
Fig. 3 zeigt eine Anordnung zur Erzeugung hochenergetischer und
hochfrequenter Impulsfolgen mit Frequenzen bis in den Mega
hertz-Bereich. Die Anordnung besteht aus einer Vielzahl von
Stromversorgungsgeräten gemäß Fig. 1, die in dieser Figur mit
den Bezugszeichen "System 1, System 2 . . . System N" bezeichnet
sind. Die Ausgänge dieser mehreren, vorzugsweise 2 oder 3 oder
bis zu 20 Stromversorgungsgeräte sind parallel geschaltet und
auf den Eingang einer Plasmaanlage A geführt. Zur Synchronisa
tion und Ansteuerung der einzelnen Stromerzeugungsgeräte ist
eine zentrale Steuerung 10 vorgesehen, die über einen Datenbus
mit den Steueranschlüssen der einzelnen Stromversorgungsgeräte
verbunden ist. Da in diesem System jedes Stromversorgungsgerät
System 1 bis System N eine eigene Kennung bzw. Adresse hat, ist
es der zentralen Steuerung 10 möglich, jedes einzelne Stromver
sorgungsgerät in der Anordnung individuell anzusteuern. Statt
einer Adressierbarkeit kann selbstverständlich die Steuerung
auch über separate Zuleitungen mit jedem Stromversorgungsgerät
einzeln verbunden sein.
Weiterhin sind an dem parallel geschalteten Ausgang vor der
Einspeisung in die Anlage A Stromabnehmer 14 vorgesehen, deren
Ausgänge mit der zentralen Steuerung 10 verbunden sind, um auf
diese Weise eine Rückkopplung zur Regelung der Ansteuerung zu
erhalten. Durch diese in Fig. 3 gezeigte Anordnung lassen sich
die in Fig. 4 A bis F gezeigten Signalformen erzeugen, wobei
die Polarität der Abfolge der einzelnen Impulse als auch deren
Amplitude und zeitliche Länge sowie die dazwischen befindlichen
Totzeiten separat und individuell einstellbar sind. Es lassen
sich auf diese Weise hochenergetische hochfrequente Impulsmu
ster mit Frequenzen bis in den Megahertz-Bereich erzeugen. Wie
z. B. Fig. 4B zeigt, können Sinus-Verläufe approximiert werden.
Gemäß Fig. 4 A können Dreieck-Verläufe approximiert werden.
Fig. 4 D zeigt einen approximierten Sägezahnverlauf in bipola
rer Abfolge.
Selbstverständlich können die Impulse der unterschiedlichen
Stromerzeugungsgeräte System 1 . . . System N auch zeitlich über
lagert gesendet werden, so dass kurzzeitige Höchstleistungsim
pulse allerdings geringerer Frequenz erzielt werden können.
Es besteht weiterhin die Möglichkeit, durch die Anordnung ge
wünschte Pulsformen durch eine Art Fouriertransformation zu er
zeugen, wobei evtl. ein Plasma einer Beschichtungsanlage in ei
ne gewünschte Anregungsform überführt werden kann. Bei der
freien Einstellung des Pulsmusters bei N-facher Pulsparallel
schaltung von N Stromversorgungsgeräten können durch Zu- oder
Wegschalten einzelner Pulsteile gewisse Frequenzspektren addi
tiv überlagert oder ausgeblendet werden.
Fig. 5 zeigt eine zu Fig. 3 weitgehend identische Anlage, wobei
identische oder funktionsgleiche Teile mit den selben Bezugs
zeichen versehen sind. In Fig. 5 sind jedoch im Gegensatz zu
Fig. 3 die Elektroden der einzelnen Stromversorgungsgeräte
SYSTEM 1 . . SYSTEM N nicht parallel geschaltet, sondern ent
sprechend einem vorgegebenen Muster, z. B. kreisförmig, im Be
handlungsraum der Plasmaanlage angeordnet. Hierdurch kann nicht
nur die Pulsform der eingebrachten Stromimpulse eingestellt
werden, sondern auch Einfluss auf die geometrische Entwicklung
des Plasmas genommen werden.
Statt einzelner Netzteil G1, G2 können auch Parallel- oder Seri
enschaltungen von Netzteilen verwendet werden.
Claims (11)
1. Stromversorgungsgerät zur bipolaren Stromversorgung einer An
lage der Plasma- oder Oberflächentechnik, das mindestens ein
regelbares Gleichstromnetzteil (G1, G2) aufweist, dessen
positive und negative Ausgänge mit dem Eingang wenigstens einer
Brückenschaltung von elektronischen Leistungsschaltern (T1 bis
T4) verbunden sind, welche Leistungsschalter eingangsseitig mit
wenigstens einer Steuersignalaufbereitungseinrichtung und aus
gangsseitig mit wenigstens einer Stromerfassungsschaltung zur
Steuerung/Regelung der Leistungsschalter und mit der Last der
Anlage (A) verbunden sind,
dadurch gekennzeichnet,
daß für jede Brückenschaltung (T1 bis T4) wenigstens zwei Gleichstromnetzteile (G1, G2) vorgesehen sind,
daß der positive Ausgang der beiden Gleichstromnetzteile über eine Serienschaltung jeweils zweier Leistungsschalter (T1 und T4; T2 und T3) mit dem negativen Ausgang des anderen Gleich stromnetzteils (G2, G1) verbunden ist, wobei der Ausgang der Brückenschaltung für die Anlage jeweils zwischen den Leistungs schaltern der beiden Serienschaltungen abgreift.
daß für jede Brückenschaltung (T1 bis T4) wenigstens zwei Gleichstromnetzteile (G1, G2) vorgesehen sind,
daß der positive Ausgang der beiden Gleichstromnetzteile über eine Serienschaltung jeweils zweier Leistungsschalter (T1 und T4; T2 und T3) mit dem negativen Ausgang des anderen Gleich stromnetzteils (G2, G1) verbunden ist, wobei der Ausgang der Brückenschaltung für die Anlage jeweils zwischen den Leistungs schaltern der beiden Serienschaltungen abgreift.
2. Gerät nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß separate Steuersignalaufbereitungs
einrichtungen (12, 13) zur individuellen Regelung der positiven
und negativen Ausgangssignale vorgesehen sind, die in separaten
Regelkreisen zusammengefaßt sind, welche von einer Steuerung
(18) unabhängig voneinander gesteuert werden.
3. Gerät nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die elektronischen Leistungsschal
ter (T1 bis T4) durch MOSFETs gebildet sind.
4. Gerät nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Leistungsschalter (T1 bis T4) bipolare Transistoren
IBGTs oder andere schnell schaltende elektronische Leistungs
halbleiter sind.
5. Gerät nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Ausgang der beiden Gleichstromnetzteile (G1, G2) kapazi
tiv (C1, C2) stabilisiert ist.
6. Gerät nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
daß wenigstens ein Schalter (S1, S2) zum Parallelschalten der
Gleichstromnetzteile (G1, G2) vorgesehen ist.
7. Gerät nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine Steuerung zur separaten Steuerung/Regelung der Gleich
stromnetzteile (G1, G2) vorgesehen ist.
8. Anordnung mit mehreren Geräten nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, gekennzeichnet durch eine zentrale Steuerung (10)
zur zeitlichen Steuerung bzw. Synchronisation der durch die
einzelnen Geräte (SYSTEM 1 . . . SYSTEM N) abgegebenen Ausgangsim
pulse, wobei die Ausgänge aller Geräte zur Anlage (A) parallel
geschaltet sind.
9. Anordnung nach Anspruch 8,
dadurch gekennzeichnet,
daß die zentrale Steuerung (10) durch ein Bussystem (12) mit an
den Geräten (SYSTEM 1 . . . SYSTEM N) vorgesehenen Steuereingängen
und vorzugsweise auch einer Stromerfassungsschaltung (14) ver
bunden ist.
10. Verfahren zur Erzeugung von Stromimpulsen für Anlagen der
Plasma- und Oberflächentechnik mit einem Gerät gemäß einem der
Ansprüche 1 bis 6, durch das die Stromimpulse mit frei wählba
ren Signalzeiten (Ton+, Toff+, Ton-, Toff-) für die positiven als
auch die negativen Stromimpulse und separat wählbaren Amplitu
den (V0+, V0-) für die positiven und negativen Stromimpulse er
zeugt werden.
11. Verfahren zur Erzeugung hochfrequenter Stromimpulse für An
lagen der Plasma- und Oberflächentechnik mit einer Anordnung
gemäß Anspruch 7 oder 8, die mehrere, insbesondere zwischen
drei und 20 Geräte umfaßt, wobei die Geräte durch die zentrale
Steuerung zur Erzeugung eines zusammengesetzten Signalmusters
angesteuert werden, indem jedes Gerät zur Abgabe eines Si
gnalimpulses veranlasst wird, dessen Impulszeit höchstens der
Gesamtzeit des Signalmusters geteilt durch die Anzahl der Gerä
te entspricht.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10018879A DE10018879B4 (de) | 2000-04-17 | 2000-04-17 | Stromversorgungsgerät zur bipolaren Stromversorgung |
TW090101276A TWI256765B (en) | 2000-04-17 | 2001-01-19 | Bipolar power supply, array of several power supplies as well as current pulse generating method |
US10/257,189 US6735099B2 (en) | 2000-04-17 | 2001-04-17 | Power supply unit for bipolar power supply |
JP2001577694A JP3803064B2 (ja) | 2000-04-17 | 2001-04-17 | 双極式電力供給のための電源ユニット |
CNB018081967A CN100433530C (zh) | 2000-04-17 | 2001-04-17 | 用于双极供电的电源装置 |
PCT/DE2001/001508 WO2001080413A1 (de) | 2000-04-17 | 2001-04-17 | Stromversorgungsgerät zur bipolaren stromversorgung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10018879A DE10018879B4 (de) | 2000-04-17 | 2000-04-17 | Stromversorgungsgerät zur bipolaren Stromversorgung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10018879A1 true DE10018879A1 (de) | 2001-10-25 |
DE10018879B4 DE10018879B4 (de) | 2013-02-28 |
Family
ID=7638973
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10018879A Expired - Lifetime DE10018879B4 (de) | 2000-04-17 | 2000-04-17 | Stromversorgungsgerät zur bipolaren Stromversorgung |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6735099B2 (de) |
JP (1) | JP3803064B2 (de) |
CN (1) | CN100433530C (de) |
DE (1) | DE10018879B4 (de) |
TW (1) | TWI256765B (de) |
WO (1) | WO2001080413A1 (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007011230A1 (de) | 2007-03-06 | 2008-09-11 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Magnetronplasmaanlage |
DE10257147B4 (de) * | 2002-08-09 | 2008-12-04 | Kyosan Electric Mfg. Co., Ltd., Yokohama | Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung |
US7508093B2 (en) | 2002-12-23 | 2009-03-24 | Huettinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Modular current supply |
EP2618640A2 (de) | 2012-01-23 | 2013-07-24 | Forschungsverbund Berlin e.V. | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Plasmapulsen |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7147759B2 (en) * | 2002-09-30 | 2006-12-12 | Zond, Inc. | High-power pulsed magnetron sputtering |
DE10306347A1 (de) * | 2003-02-15 | 2004-08-26 | Hüttinger Elektronik GmbH & Co. KG | Leistungszufuhrregeleinheit |
US9771648B2 (en) | 2004-08-13 | 2017-09-26 | Zond, Inc. | Method of ionized physical vapor deposition sputter coating high aspect-ratio structures |
US7095179B2 (en) * | 2004-02-22 | 2006-08-22 | Zond, Inc. | Methods and apparatus for generating strongly-ionized plasmas with ionizational instabilities |
CN100561848C (zh) * | 2004-03-12 | 2009-11-18 | Mks仪器股份有限公司 | 用于开关式电源的控制电路 |
EP1720195B1 (de) * | 2005-05-06 | 2012-12-12 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Arcunterdrückungsanordnung |
JP2008178284A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-31 | Tokyo Electric Power Co Inc:The | 電力変換器 |
US9039871B2 (en) | 2007-11-16 | 2015-05-26 | Advanced Energy Industries, Inc. | Methods and apparatus for applying periodic voltage using direct current |
US8133359B2 (en) | 2007-11-16 | 2012-03-13 | Advanced Energy Industries, Inc. | Methods and apparatus for sputtering deposition using direct current |
DE102008021912C5 (de) * | 2008-05-01 | 2018-01-11 | Cemecon Ag | Beschichtungsverfahren |
JP5429772B2 (ja) * | 2008-06-30 | 2014-02-26 | 株式会社アルバック | 電源装置 |
JP5295833B2 (ja) * | 2008-09-24 | 2013-09-18 | 株式会社東芝 | 基板処理装置および基板処理方法 |
EP2463890A1 (de) | 2010-12-08 | 2012-06-13 | Applied Materials, Inc. | Erzeugung von Plasmen in gepulsten Stromversorgungssystemen |
JP2013223380A (ja) * | 2012-04-18 | 2013-10-28 | Sony Corp | 送電装置、非接触電力伝送システムおよび信号生成方法 |
JP2013223409A (ja) * | 2012-04-19 | 2013-10-28 | Sony Corp | 送電装置、非接触電力伝送システムおよび信号生成方法 |
US9279722B2 (en) | 2012-04-30 | 2016-03-08 | Agilent Technologies, Inc. | Optical emission system including dichroic beam combiner |
TW201408805A (zh) * | 2012-06-29 | 2014-03-01 | Oc Oerlikon Balzers Ag | 脈衝雙極濺鍍方法、用於製造工件的設備、方法以及工件 |
SG11201510649VA (en) * | 2013-06-26 | 2016-01-28 | Oerlikon Trading Ag | Decorative hipims hard material layers |
CN109811324B (zh) * | 2019-03-14 | 2021-02-09 | 哈尔滨工业大学 | 基于异质双靶高功率脉冲磁控溅射制备掺杂类薄膜的装置及方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1293298B (de) * | 1964-11-18 | 1969-04-24 | Bbc Brown Boveri & Cie | Einrichtung zur Kommutierung der Ventile eines Umkehrstromrichters |
DE2822332C2 (de) * | 1978-05-22 | 1979-08-16 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Elektrolyseanlage zur Abscheidung von Metallen, insbesondere Zink, aus einem wässerigen Elektrolyten |
DE3122222A1 (de) * | 1981-06-04 | 1982-12-23 | Proizvodstvennoe ob"edinenie "Uralenergocvetmet", Sverdlovsk | Elektrolysenanlage fuer metalle |
DE9210382U1 (de) * | 1992-08-04 | 1992-09-24 | Magtron Magneto Elektronische Geraete Gmbh, 7583 Ottersweier, De | |
EP0534068B1 (de) * | 1991-07-31 | 1996-03-20 | MAGTRON MAGNETO ELEKTRONISCHE GERÄTE GmbH | Anlage der Plasma- und Oberflächentechnik |
US5673187A (en) * | 1994-12-26 | 1997-09-30 | Ricoh Company, Ltd. | Power supply system |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3148004A1 (de) * | 1981-12-04 | 1983-06-09 | Erno Raumfahrttechnik Gmbh | Schaltungsanordnung zur versorgung eines wechselstromverbrauchers aus gleichstromquellen |
US5910886A (en) * | 1997-11-07 | 1999-06-08 | Sierra Applied Sciences, Inc. | Phase-shift power supply |
-
2000
- 2000-04-17 DE DE10018879A patent/DE10018879B4/de not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-01-19 TW TW090101276A patent/TWI256765B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-04-17 CN CNB018081967A patent/CN100433530C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2001-04-17 US US10/257,189 patent/US6735099B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-04-17 JP JP2001577694A patent/JP3803064B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-04-17 WO PCT/DE2001/001508 patent/WO2001080413A1/de active Application Filing
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1293298B (de) * | 1964-11-18 | 1969-04-24 | Bbc Brown Boveri & Cie | Einrichtung zur Kommutierung der Ventile eines Umkehrstromrichters |
DE2822332C2 (de) * | 1978-05-22 | 1979-08-16 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Elektrolyseanlage zur Abscheidung von Metallen, insbesondere Zink, aus einem wässerigen Elektrolyten |
DE3122222A1 (de) * | 1981-06-04 | 1982-12-23 | Proizvodstvennoe ob"edinenie "Uralenergocvetmet", Sverdlovsk | Elektrolysenanlage fuer metalle |
EP0534068B1 (de) * | 1991-07-31 | 1996-03-20 | MAGTRON MAGNETO ELEKTRONISCHE GERÄTE GmbH | Anlage der Plasma- und Oberflächentechnik |
DE9210382U1 (de) * | 1992-08-04 | 1992-09-24 | Magtron Magneto Elektronische Geraete Gmbh, 7583 Ottersweier, De | |
US5673187A (en) * | 1994-12-26 | 1997-09-30 | Ricoh Company, Ltd. | Power supply system |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10257147B4 (de) * | 2002-08-09 | 2008-12-04 | Kyosan Electric Mfg. Co., Ltd., Yokohama | Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung |
DE10262286B4 (de) * | 2002-08-09 | 2009-03-19 | Kyosan Electric Mfg. Co., Ltd., Yokohama | Leistungsversorgungsvorrichtung zum Erzeugen von Hochfrequenzleistung für eine Plasmaerzeugungsvorrichtung |
US7508093B2 (en) | 2002-12-23 | 2009-03-24 | Huettinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Modular current supply |
DE10260726B4 (de) * | 2002-12-23 | 2014-10-16 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Modulare Stromversorgung |
DE102007011230A1 (de) | 2007-03-06 | 2008-09-11 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Magnetronplasmaanlage |
WO2008106956A2 (de) | 2007-03-06 | 2008-09-12 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Spannungsversorgung für eine sputteranlage |
WO2008106956A3 (de) * | 2007-03-06 | 2009-10-22 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Spannungsversorgung für eine sputteranlage |
DE202008018481U1 (de) | 2007-03-06 | 2014-06-10 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Magnetronplasmaanlage |
EP2618640A2 (de) | 2012-01-23 | 2013-07-24 | Forschungsverbund Berlin e.V. | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Plasmapulsen |
DE102012200878A1 (de) * | 2012-01-23 | 2013-07-25 | Forschungsverbund Berlin E.V. | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Plasmapulsen |
DE102012200878B4 (de) * | 2012-01-23 | 2014-11-20 | Forschungsverbund Berlin E.V. | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Plasmapulsen |
US9210792B2 (en) | 2012-01-23 | 2015-12-08 | Forschungsverbund Berlin E.V. | Method and apparatus for generating plasma pulses |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2001080413A1 (de) | 2001-10-25 |
CN100433530C (zh) | 2008-11-12 |
TWI256765B (en) | 2006-06-11 |
DE10018879B4 (de) | 2013-02-28 |
JP3803064B2 (ja) | 2006-08-02 |
CN1425217A (zh) | 2003-06-18 |
JP2004507993A (ja) | 2004-03-11 |
US6735099B2 (en) | 2004-05-11 |
US20030174526A1 (en) | 2003-09-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE10018879A1 (de) | Stromversorgungsgerät zur bipolaren Stromversorgung | |
EP1864313B1 (de) | Vakuumplasmagenerator | |
EP0534068B1 (de) | Anlage der Plasma- und Oberflächentechnik | |
DE102006052061B4 (de) | Verfahren zur Ansteuerung von zumindest zwei HF-Leistungsgeneratoren | |
EP1927183B1 (de) | Verfahren zur steuerung eines mehrphasigen stromrichters mit verteilten energiespeichern | |
DE3118554A1 (de) | Stromversorgungsschaltung | |
DE3105094A1 (de) | Wechselrichtervorrichtung | |
DE19500219A1 (de) | Elektrochirurgisches Gerät | |
WO2008106956A2 (de) | Spannungsversorgung für eine sputteranlage | |
DE2824326C2 (de) | ||
CH654153A5 (de) | Elektrischer umformer. | |
EP4106176A1 (de) | Verfahren zum betrieb eines flying-capacitor multilevel-umrichters | |
EP2697901B1 (de) | Spannungseinstellvorrichtung | |
EP0563790A2 (de) | Verfahren zum Betreiben mehrerer parallel geschalteter Thyristorsteller | |
EP3375006B1 (de) | Sputter-anordnung und - verfahren zur optimierten verteilung des energieflusses | |
DE3900958C2 (de) | ||
DE3919123C2 (de) | ||
EP0142649A2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Ansteuerung der Schalter eines mehrphasigen Pulswechselrichters, insbesondere eines Transistorwechselrichters | |
EP0744820B1 (de) | Schaltungsanordnung zum Speisen einer Last | |
DE102015119064A1 (de) | Reduzierung des stromes durch die kapazität des zwischenkreises | |
DE10237893B3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur punktuellen Bearbeitung eines Werkstücks mittels Laserstrahlung | |
DE3541663A1 (de) | Schaltverstaerker fuer analoge nf-signale | |
DE1948257C3 (de) | Verfahren und Anordnung zur Erzeugung eines Zündimpulses mit einer hohen steilen Spitze und einem Impulsrücken | |
DE2903575C2 (de) | ||
DE202020100668U1 (de) | Vorrichtung zum Schalten einer Ionenstrahlquelle |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R082 | Change of representative |
Representative=s name: GLUECK - KRITZENBERGER PATENTANWAELTE PARTGMBB, DE Representative=s name: GRAF GLUECK KRITZENBERGER, DE |
|
R020 | Patent grant now final |
Effective date: 20130529 |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: MELEC GMBH, DE Free format text: FORMER OWNER: MELEC GMBH, 77833 OTTERSWEIER, DE |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: GLUECK - KRITZENBERGER PATENTANWAELTE PARTGMBB, DE |
|
R071 | Expiry of right |