DE10122678A1 - Maskendatenkorrekturvorrichtung, Fouriertransformationsvorrichtung, Vorrichtung zur höheren Abtastung, Vorrichtung zur niedrigeren Abtastung, Verfahren zur Herstellung einer Übertragungsmaske und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mit einer Musterstruktur - Google Patents

Maskendatenkorrekturvorrichtung, Fouriertransformationsvorrichtung, Vorrichtung zur höheren Abtastung, Vorrichtung zur niedrigeren Abtastung, Verfahren zur Herstellung einer Übertragungsmaske und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mit einer Musterstruktur

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Abstract

Es wird eine Maskendatenkorrekturvorrichtung bereitgestellt, die durch eine wirksame Verwendung der hierarchischen Struktur von Layoutdaten die Effizienz der Verarbeitung unter Erhaltung einer hohen Genauigkeit erhöhen kann. Ein Fouriertransformationsteil (421) führt eine Fouriertransformation von durch die Layoutdaten definierten Grundelemente aus, um Fourierbilder der Grundelemente zu erhalten. Ein Syntheseteil (422) überlagert, basierend auf der hierarchischen Struktur, die Fourierbilder der Grundelemente im Fourierbereich, um ein Fourierbild der gesamten Grafik zu erhalten. Ein Raumfilterteil (423) unterzieht das Fourierbild der gesamten Grafik einer Raumfilterverarbeitung, die einer bei einem Herstellungsprozeß erwarteten Störung entspricht. Ein Invers-Fouriertransformationsteil (424) führt eine inverse Fouriertransformation des Fourierbilds nach der Raumfilterverarbeitung aus, um das die Störung widerspiegelnde inverse Fourierbild zu erhalten. Die durch die Layoutdaten definierte Grafik wird mit der Grafik verglichen, von der das inverse Fourierbild transformiert wurde, und wird in einer derartigen Richtung korrigiert, daß die Störung unterdrückt wird, und daraufhin als Maskendaten ausgegeben.

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Maskendatenkorrekturvorrichtung, eine Fouriertransformationsvorrichtung, eine Vorrichtung zur höheren Abtastung, eine Vorrichtung zur niedrigeren Abtastung, ein Verfahren zur Herstellung einer Übertragungsmaske und ein Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mit einer Musterstruktur. Insbesondere betrifft die Erfindung Verbesserungen bei der Erhöhung der Effizienz unter Erhaltung der Genauigkeit.
In den letzten Jahren war der Fortschritt der Verkleinerung bei großintegrierten Schaltungen (LSI) gewaltig. Dies ist auf die Entwicklung der Mikrolithografietechnologie zurückzuführen. Besonders die Lichtübertragungstechnologie stand aufgrund eines hohen Durchsatzes durch eine Massenbelichtung, eine über 100 Jahre kontinuierlich entwickelte Leistung der optischen Technologie und dergleichen nach wie vor im Mittelpunkt der Mikrolithografietechnologie.
Da nun die Herstellungsgröße von Mikromustern kleiner als die Wellenlänge eines Belichtungslichts ist, ist es jedoch wichtig, die Beschränkung der Lichtübertragungstechnologie zu begründen und die Beschränkung der Auflösung und Tiefenschärfe zu überwinden. Zur Ausführung einer derartigen Analyse rufen nun ein Verfahren zur Ausführung einer Berechnung eines optischen Bilds und ein Verfahren zur Korrektur einer aus dem berechneten optischen Bild erzeugten Störung Interesse hervor. Fig. 32 zeigt ein Flußdiagramm, das als ein spezielles Beispiel eine Prozedur eines Maskendatenkorrekturverfahrens veranschaulicht, das von dem gegenwärtigen Erfinder erfunden wurde und in der japanischen Offenlegungsschrift Nr. 8-297692 (1996) (auf die nachstehend als "Literatur I" Bezug genommen ist) offenbart ist.
Dieses Verfahren ist in der Literatur I vollständig beschrieben und ist in dem Bereich der Technik allgemein bekannt, und es wird somit nachstehend kurz erörtert. Wenn ein Prozeß S90 dieses Verfahrens begonnen wird, werden ein Schaltungsentwurf und ein Layoutentwurf ausgeführt (S91, S92), und anfänglich werden Layoutdaten in einem Aufzeichnungsträger gespeichert (S93). Die Layoutdaten definieren die Form und hierarchische Struktur von Grundelementen einer Grafik mit einer hierarchischen Struktur. Die Layoutdaten werden daraufhin erweitert (S94), und es wird eine Prozeßbedingung eingegeben (S95). Danach werden Zellen bzw. Maschen (meshes) erzeugt (S96), und es wird eine Bildberechnung ausgeführt (S97). Bei einem Vergleich des Ergebnisses der Bildberechnung mit den Layoutdaten wird eine Grafikkorrektur ausgeführt (S98), und es werden das Ergebnis darstellende Korrekturdaten ausgegeben (S99), wodurch der Prozeß S90 abgeschlossen wird.
Wenn diese Verfahren verwendet werden, sollte auch der durch eine Aberration eines optischen Systems verursachten Beeinträchtigung eines optischen Bilds Beachtung geschenkt werden. Diese von dem gegenwärtigen Erfinder erfundenen Verfahren sind in der japanischen Offenlegungsschrift Nr.9-167731 (1997) (auf die nachstehend als "Literatur II" Bezug genommen ist) oder Nr. 10-335224 (1998) (auf die nachstehend als "Literatur III" Bezug genommen ist) vollständig beschrieben. In einigen Fällen kann eine weitreichende Korrelation (long range correlation) eines Vollbereichsniveaus (full shot level) ein Problem verursachen.
Zur Ausführung einer derartigen Auswertung oder Optimierung ist es erforderlich, die Konsistenz zwischen dem Ergebnis der Berechnung und dem Ergebnis eines Experiments bei optischen Bildern hinsichtlich verschiedener Fälle zu überprüfen. Die Berechnung eines optischen Bilds erfordert jedoch üblicherweise ein großes Berechnungsausmaß, da es z. B. erforderlich ist, daß eine Maskengrafik einer Fouriertransformation unterzogen wird, gefolgt von einer inversen Fouriertransformation. Somit wurden zahlreiche Vorschläge zur Ausführung einer Fouriertransformation mit hoher Geschwindigkeit dargelegt. Die nachstehenden Verfahren sind allgemein bekannt.
  • 1. FFT (Fast Fourier Transformation bzw. Schnelle Fouriertransformation), die z. B. in "Waveform Data Processing for Scientific Instrumentation" von Shigeo Minami, CQ publishing company offenbart ist;
  • 2. OCA (Optical Coherent Approximation bzw. Optische kohärente Näherung), die z. B. in Y. C. Pali und T. Kailath, J. OP Soc. Am A, Band 11 (1994) 2438 offenbart ist;
  • 3. Irregular intervals Fourier transformation bzw. Fouriertransformation mit irregulären Intervallen, die z. B. in E. Barouch, B. Bradie, U. Hollerbach und S. A. Orszag, J. Vac. Sci. and Technol. B8 (1990) 1432; E. Barouch, B. Bradie, U. Hollerbach und S. A. Orszag, Proc. SPIE Band 1465 (1991) 254; und E. Barouch, U. Hollerbach, S. A. Orszag, B. Bradie und M. Peckcrar, IEEE Electron Device Lett., EDL- 12 (1991) 513 offenbart ist;
  • 4. Partial coherent approximation bzw. Partielle kohärente Näherung, die z. B. in M. Yeung, Proc. Kodak Microelectronics Seminar INTERFACE '85 (KTI Chemicals, Inc., San Diego, 1986) S. 115; und M. Yeung, Proc. SPIE Band 922 (1988) 149 offenbart ist; und
  • 5. Massively parallel operation bzw. Massiv parallele Arbeitsweise, die z. B. in K. Kamon, W. Wakamiya, H. Nagata, K. Moriizumi, T. Miyamoito, Y. Myoi und M. Tanaka, Proc. SPIE Band 2512 (1995) 491; T. Hanawa, K. Kamon, A. Nakae, S. Nakao und K. Moriizumi, Proc. SPIE Band 2726 (1996) 640; und A. Nakae, K. Kamon, T. Hanawa, K. Moriizumi und S. Nakao, Jpn. J. Appl. Phys. Band 35 (1996) 6395 offenbart ist.
Durch diese Verfahren wurde in jüngster Zeit eine bemerkenswert hohe Geschwindigkeit erreicht. Diese Verfahren, von denen jedes sehr wirksam ist, haben merklich zu der Innovation der Mikrolithografietechnologie beigetragen. Eine Vollbereichsberechnung (full shot calculation) von LSI kann jedoch aus nachstehend erörterten Gründen selbst mit einer Kombination dieser Verfahren nicht zufriedenstellend ausgeführt werden. Beispielsweise ist in dem Fall eines in der Entwicklung befindlichen DRAM von 1G (Gigabit) eine gewaltige Anzahl von Transistoren von 1G zur Bildung einer regelmäßigen Speicheranordnung längslaufend und querlaufend dicht angeordnet. Ferner weist selbst eine Logikvorrichtung einen derartigen Aufbau auf, daß viele RAM geringer Größe enthalten sind. Darüber hinaus wird angenommen, daß LSI in der Zukunft weiter einer hohen Integration unterzogen werden.
Bekanntermaßen wird üblicherweise ein derartiges Verfahren verwendet, daß Grafikdaten nach einer zeitlichen flachen Erweiterung verarbeitet werden (z. B. "dracula" von Cadence Corp.). Wohingegen zur Handhabung einer großen Anzahl von Grafiken in jüngster Zeit eine Vorrichtung entwickelt wurde, bei der Operationen wie beispielsweise eine Layoutverifikation unter Verwendung der hierarchischen Struktur von Grafikdaten ausgeführt werden (z. B. "hercules" von Arant Corp.; "caliber" von Menter Corp.; und "clover" von Lucent Corp.). Wie es in Fig. 33 gezeigt ist, wird bei diesen Vorrichtungen eine Hochgeschwindigkeitsverarbeitung erreicht, indem einige Daten bei Zellen 91 gesammelt werden und eine Grafikoperation ausgeführt wird, während die relative Anordnung der Zellen und der hierarchischen Struktur erhalten werden. In Fig. 33 ist eine Vielzahl von Zellen 91 in einem Bilderzeugungsbereich 93 angeordnet, und ein Grafikgrundelement 92 ist in den Zellen 91 angeordnet.
Da diese Vorrichtungen eine einfache Operation und einen einfachen Vergleich zwischen Grafiken mit hoher Geschwindigkeit ausführen können, sind sie zur Verwendung bei einer Entwurfsregelüberprüfung, einer Logikoperation zwischen einfachen Grafiken oder einer Größenbestimmung geeignet.
Wenn jedoch ein gewisser Grafikeinfluß oder eine Korrelation weit über eine Vielzahl von Zellen ausgeübt wird, ist es erforderlich, jede Elementzelle zu erweitern. Somit ist nicht nur bekannt, daß keine Hochgeschwindigkeitsdatenverarbeitung erreicht werden kann, sondern auch, daß die Verarbeitungskapazität in einigen Fällen gesenkt wird.
Bei der Anwendung auf die Berechnung eines optischen Bilds erstreckt sich ein gewisser Grafikeinfluß in der Kohärenzlänge eines optischen Systems. In einigen Fällen erstreckt sich ein Mikroladungseffekt (micro loading effect) bei einem trockenen Ätzen oder ein Nachbarschaftseffekt bei einem Maskenzeichnen bis etwa 10 µm. Es ist daher erforderlich, den Zustand bzw. das Ausmaß zu berechnen, in dem Grafikelemente sich gegenseitig beeinträchtigen oder beeinflussen. Man kann sagen, daß eine derartige Korrelationszustandsberechnung für eine Vielfalt von Prozeßsimulationen einschließlich der Lithografie ziemlich wesentlich ist. Da die vorstehend angeführte optische Kohärenz oder verschiedene Nachbarschaftseffekte sich üblicherweise über eine Vielzahl von Zellen erstrecken, war es bekanntermaßen erforderlich, alle Zellen für die Auswertung zu erweitern. Folglich ist es selbst dann, wenn die hierarchischen Daten bei einer Nachbarschaftskorrekturberechnung verwendet werden, schließlich erforderlich, alle Zellen zu erweitern. Dadurch wird es unmöglich, die Wirksamkeit der hierarchischen Verarbeitung genügend zu zeigen.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, die Nachteile des Stands der Technik zu überwinden, indem eine Maskendatenkorrekturvorrichtung, eine Fouriertransformationsvorrichtung, eine Vorrichtung zur höheren Abtastung, eine Vorrichtung zur niedrigeren Abtastung, ein Verfahren zur Herstellung einer Übertragungsmaske und ein Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mit einer Musterstruktur bereitgestellt werden, die jeweils zur Erhöhung der Verarbeitungseffizienz unter Erhaltung einer hohen Genauigkeit durch die wirksame Verwendung der hierarchischen Struktur von Layoutdaten in der Lage sind.
Gemäß einer ersten Ausgestaltung der Erfindung umfaßt eine Maskendatenkorrekturvorrichtung, bei der basierend auf die Form von Grundelementen einer Grafik mit einer hierarchischen Struktur und die hierarchische Struktur definierenden Layoutdaten sowie auf einer Herstellungsprozeßbedingung die Musterform einer bei dem Herstellungsprozeß verwendeten Übertragungsmaske ausdrückende Maskendaten auf eine derartige Weise erzeugt werden, daß eine bei dem Herstellungsprozeß erwartete Störung unterdrückt wird: einen Fouriertransformationsteil zum Erhalten von Fourierbildern der Grundelemente durch eine Ausführung einer Fouriertransformation der Grundelemente; einen Syntheseteil zum Erhalten eines Fourierbilds der Grafik durch eine Synthese der Fourierbilder der Grundelemente im Fourierbereich basierend auf der hierarchischen Struktur; einen Raumfilterteil, der das Fourierbild der Grafik einer der Störung entsprechenden Raumfilterverarbeitung unterzieht; einen Invers- Fouriertransformationsteil, der das Fourierbild nach der Raumfilterverarbeitung einer inversen Fouriertransformation unterzieht, um dadurch das die Störung widerspiegelnde inverse Fourierbild zu erhalten; einen Grafiktransformationsteil zur Transformation des inversen Fourierbilds in eine Grafik; und einen Grafikkorrekturteil zur Korrektur der durch die Layoutdaten definierten Grafik in einer derartigen Richtung, daß die Störung unterdrückt wird, indem die von dem Grafiktransformationsteil ausgegebene Grafik mit der durch die Layoutdaten definierten Grafik verglichen wird, und zur Ausgabe des Ergebnisses als die Maskendaten.
Gemäß einer zweiten Ausgestaltung der Erfindung ist die Maskendatenkorrekturvorrichtung gemäß der ersten Ausgestaltung dadurch gekennzeichnet, daß die Störung eine bei einer Erzeugung der Übertragungsmaske durch ein auf den Maskendaten basierendes Elektronenstrahlzeichnen verursachte Zeichenstörung umfaßt.
Gemäß einer dritten Ausgestaltung der Erfindung ist die Maskendatenkorrekturvorrichtung gemäß der ersten oder zweiten Ausgestaltung dadurch gekennzeichnet, daß die Störung eine bei einer Ausführung einer Übertragung unter Verwendung der basierend auf den Maskendaten erzeugten Übertragungsmaske bei einem Übertragungsbild verursachte Übertragungsstörung umfaßt.
Gemäß einer vierten Ausgestaltung der Erfindung ist die Maskendatenkorrekturvorrichtung gemäß der ersten, zweiten oder dritten Ausgestaltung dadurch gekennzeichnet, daß die Störung eine bei einer Ausführung eines selektiven Ätzens unter Verwendung eines durch eine Übertragung der basierend auf den Maskendaten erzeugten Übertragungsmaske erzeugten Resistmusters bei einem Ätzmuster verursachte Ätzstörung umfaßt.
Gemäß einer fünften Ausgestaltung der Erfindung ist die Maskendatenkorrekturvorrichtung gemäß einer der ersten bis vierten Ausgestaltungen dadurch gekennzeichnet, daß die Störung eine bei einer Ausführung einer Polierverarbeitung bei einer aufgebrachten Schicht nach einer Ausführung eines selektiven Ätzens mit einem durch eine Übertragung der basierend auf den Maskendaten erzeugten Übertragungsmaske erzeugten Resistmuster bei einem polierten Muster verursachte Polierstörung umfaßt.
Gemäß einer sechsten Ausgestaltung der Erfindung ist die Maskendatenkorrekturvorrichtung gemäß einer der ersten bis vierten Ausgestaltungen dadurch gekennzeichnet, daß die Störung eine bei einer Ausführung einer Rückätzverarbeitung bei einer aufgebrachten Schicht nach einer Ausführung eines selektiven Ätzens mit einem durch eine Übertragung der basierend auf den Maskendaten erzeugten Übertragungsmaske erzeugten Resistmuster bei dem dem Rückätzen unterzogenen Muster verursachte Rückätzstörung umfaßt.
Gemäß einer siebten Ausgestaltung der Erfindung ist die Maskendatenkorrekturvorrichtung gemäß einer der ersten bis sechsten Ausgestaltungen dadurch gekennzeichnet, daß der Fouriertransformationsteil umfaßt: einen Grafikteilungsteil, der das Grundelement in eine Gruppe von Elementgrafiken in der Form eines Dreiecks, Vierecks oder Kreises teilt; und einen Elementgrafikfouriertransformationsteil zur Ausführung einer Fouriertransformation pro Elementgrafik der Gruppe von Elementgrafiken, um dadurch ihre jeweiligen Fourierbilder zu erhalten.
Gemäß einer achten Ausgestaltung der Erfindung ist die Maskendatenkorrekturvorrichtung gemäß der siebten Ausgestaltung dadurch gekennzeichnet, daß der Elementgrafikfouriertransformationsteil eine Integralberechnung unter Verwendung einer primitiven Funktion analytisch ausführt, wenn zum Erhalten des Fourierbilds eine Berechnung von Raumfrequenzkomponenten ausgeführt wird.
Gemäß einer neunten Ausgestaltung der Erfindung umfaßt die Maskendatenkorrekturvorrichtung gemäß einer der ersten bis achten Ausgestaltungen einen Maschenerzeugungsteil zur Einstellung eines Bilderzeugungsbereichs im Realbereich und dem Fourierbereich und zur Einstellung von Maschen in dem Bilderzeugungsbereich, wobei der Maschenerzeugungsteil umfaßt: einen Minimalkorrelationsabstandsberechnungsteil zur Berechnung eines Minimalkorrelationsabstands bei dem Herstellungsprozeß basierend auf der Herstellungsprozeßbedingung; und einen Maschenanzahloptimierungsteil zur Bestimmung der Anzahl der Maschen entlang zwei sich in dem Bilderzeugungsbereich kreuzenden Richtungen derart, daß die Maschenausdehnung die größte in dem den Minimalkorrelationsabstand nicht übersteigenden Spektrum ist und die Anzahl der Maschen eine positive Ganzzahl ist.
Gemäß einer zehnten Ausgestaltung der Erfindung ist die Maskendatenkorrekturvorrichtung gemäß der neunten Ausgestaltung dadurch gekennzeichnet, daß der Maschenanzahloptimierungsteil die positive Ganzzahl auf eine positive Ganzzahl n beschränkt, die durch n = 2i3j5k (i, j und k sind jeweils Null oder eine positive Ganzzahl) definiert ist, und der Fouriertransformationsteil die Fouriertransformation unter Verwendung der schnellen Fouriertransformation ausführt.
Gemäß einer elften Ausgestaltung der Erfindung umfaßt die Maskendatenkorrekturvorrichtung gemäß einer der ersten bis achten Ausgestaltungen: einen Maschenerzeugungsteil zur Einstellung eines Bilderzeugungsbereichs im Realbereich und dem Fourierbereich und zur Einstellung von Maschen in dem Bilderzeugungsbereich; einen Maschenhinzufügungsteil zur Hinzufügung einer neuen Masche in den nach der Raumfilterverarbeitung erhaltenen Bilddaten; und einen Neue-Masche-Dateneinstellungsteil zur Einstellung des Werts 1 von Null in den Bilddaten auf der hinzugefügten Masche und zur Ausgabe des Ergebnisses zusammen mit den Bilddaten vor der Hinzufügung der Masche daraufhin, und wobei der Invers- Fouriertransformationsteil die inverse Fouriertransformation der von dem Neue-Masche­ Dateneinstellungsteil ausgegebenen Bilddaten ausführt.
Gemäß einer zwölften Ausgestaltung der Erfindung umfaßt die Maskendatenkorrekturvorrichtung gemäß einer der ersten bis achten Ausgestaltungen: einen Maschenerzeugungsteil zur Einstellung eines Bilderzeugungsbereichs im Realbereich und dem Fourierbereich und zur Einstellung von Maschen in dem Bilderzeugungsbereich; und einen Maschenentfernungsteil zur Entfernung einiger der Maschen aus den nach der Raumfilterverarbeitung erhaltenen Bilddaten, und wobei der Invers-Fouriertransformationsteil die inverse Fouriertransformation der von dem Maschenentfernungsteil ausgegebenen Bilddaten ausführt.
Gemäß einer dreizehnten Ausgestaltung umfaßt ein Verfahren zur Herstellung einer Übertragungsmaske die Schritte: (a) Erzeugen von Maskendaten unter Verwendung der Maskendatenkorrekturvorrichtung gemäß einer der ersten bis zwölften Ausgestaltungen; und (b) Erzeugen einer Übertragungsmaske unter Verwendung der in dem Schritt (a) erzeugten Maskendaten.
Gemäß einer vierzehnten Ausgestaltung umfaßt ein Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mit einer Musterstruktur die Schritte: (a) Erzeugen von Maskendaten unter Verwendung der Maskendatenkorrekturvorrichtung gemäß einer der ersten bis zwölften Ausgestaltungen; (b) Erzeugen einer Übertragungsmaske unter Verwendung der in dem Schritt (a) erzeugten Maskendaten; (c) Ausbilden eines Resists auf der Oberfläche eines Materials einer herzustellenden Vorrichtung; (d) Übertragen der in dem Schritt (b) erzeugten Übertragungsmaske auf den Resist; (e) Strukturieren des Resists in der in dem Schritt (d) übertragenen Musterform; und (f) Ausführen einer selektiven Verarbeitung des Materials unter Verwendung des gemusterten Resists als eine Abschirmung.
Gemäß einer fünfzehnten Ausgestaltung umfaßt eine eine Grafik mit einer hierarchischen Struktur einer Fouriertransformation unterziehende Fouriertransformationsvorrichtung: einen Grafikteilungsteil zur Teilung eines Grundelements der hierarchischen Struktur in eine Gruppe von Elementgrafiken in der Form eines Dreiecks, Vierecks oder Kreises; einen Elementgrafikfouriertransformationsteil, in dem eine Fouriertransformation pro Elementgrafik der Gruppe von Elementgrafiken ausgeführt wird, um dadurch ihre jeweiligen Fourierbilder zu erhalten; und einen Syntheseteil zum Erhalten eines Fourierbilds der Grafik durch eine Synthese des Fourierbilds des Grundelements im Fourierbereich basierend auf der hierarchischen Struktur.
Gemäß einer sechzehnten Ausgestaltung umfaßt eine diskrete Daten einer höheren Abtastung unterziehende Vorrichtung zur höheren Abtastung: einen Fouriertransformationsteil zur Transformation der diskreten Daten in einen Satz von Frequenzkomponenten durch eine Ausführung einer Fouriertransformation der im eindimensionalen oder mehrdimensionalen Raum definierten diskreten Daten; einen Maschenhinzufügungsteil zur Gestaltung des Satzes von Frequenzkomponenten zu Daten auf in dem Fourierbereich der gleichen Dimension wie der vorstehend angeführten einen Dimension oder mehr Dimensionen eingestellten Maschen und zur Hinzufügung einer neuen Masche in dem Fourierbereich; einen Neue-Masche-Dateneinstellungsteil zur Einstellung des Werts von Null in den Daten auf der hinzugefügten Masche und zur Ausgabe des Ergebnisses zusammen mit den Daten auf den Maschen vor der Hinzufügung; und einen Invers- Fouriertransformationsteil, der eine inverse Fouriertransformation der von dem Neue-Masche­ Dateneinstellungsteil ausgegebenen Daten ausführt.
Gemäß einer siebzehnten Ausgestaltung umfaßt eine diskrete Daten einer niedrigeren Abtastung unterziehende Vorrichtung zur niedrigeren Abtastung: einen Fouriertransformationsteil zur Transformation der diskreten Daten in einen Satz von Frequenzkomponenten durch eine Ausführung einer Fouriertransformation der im eindimensionalen oder mehrdimensionalen Raum definierten diskreten Daten; einen Maschenentfernungsteil zur Gestaltung des Satzes von Frequenzkomponenten zu Daten auf in dem Fourierbereich der gleichen Dimension wie der vorstehend angeführten einen Dimension oder mehr Dimensionen eingestellten Maschen und zur Ausgabe des Ergebnisses nach einer Entfernung eines Teils der Maschen in dem Fourierbereich; und einen Invers- Fouriertransformationsteil, der eine inverse Fouriertransformation der von dem Maschenentfernungsteil ausgegebenen Daten ausführt.
Bei der Vorrichtung gemäß der ersten Ausgestaltung der Erfindung kann das Fourierbild der gesamten Grafik erhalten werden, indem die Fourierbilder von Grundelementen basierend auf der hierarchischen Struktur synthetisiert werden. Dadurch können Maskendaten, bei denen eine große Anzahl von Grundelementen in einer Grafik enthalten ist, unter Erhaltung der Genauigkeit mit hoher Effizienz korrigiert werden.
Bei der Vorrichtung gemäß der zweiten Ausgestaltung der Erfindung wird eine Korrektur derart ausgeführt, daß eine Störung einschließlich einer Zeichenstörung unterdrückt wird, um dadurch Maskendaten zu erhalten, die zur Unterdrückung der sich auf der Übertragungsmaske zeigenden Zeichenstörung in der Lage sind.
Bei der Vorrichtung gemäß der dritten Ausgestaltung der Erfindung wird eine Korrektur derart ausgeführt, daß eine Störung einschließlich einer Übertragungsstörung unterdrückt wird, um dadurch Maskendaten zu erhalten, die zur Unterdrückung der sich auf dem Übertragungsbild zeigenden Übertragungsstörung in der Lage sind.
Bei der Vorrichtung gemäß der vierten Ausgestaltung der Erfindung wird eine Korrektur derart ausgeführt, daß eine Störung einschließlich einer Ätzstörung unterdrückt wird, um dadurch Maskendaten zu erhalten, die zur Unterdrückung der sich auf dem Ätzmuster zeigenden Ätzstörung in der Lage sind.
Bei der Vorrichtung gemäß der fünften Ausgestaltung der Erfindung wird eine Korrektur derart ausgeführt, daß eine Störung einschließlich einer Polierstörung unterdrückt wird, um dadurch Maskendaten zu erhalten, die zur Unterdrückung der sich auf dem polierten Muster zeigenden Polierstörung in der Lage sind.
Bei der Vorrichtung gemäß der sechsten Ausgestaltung der Erfindung wird eine Korrektur derart ausgeführt, daß eine Störung einschließlich einer Rückätzstörung unterdrückt wird, um dadurch Maskendaten zu erhalten, die zur Unterdrückung der sich auf dem Muster nach dem Rückätzen zeigenden Rückätzstörung in der Lage sind.
Bei der Vorrichtung gemäß der siebten Ausgestaltung der Erfindung wird das Fourierbild der gesamten Grafik erhalten, indem das Grundelement in die Gruppe von Elementgrafiken geteilt wird, von denen jede die Form eines Dreiecks, Vierecks oder Kreises aufweist; eine Fouriertransformation pro Elementgrafik ausgeführt wird; und die so erhaltenen Ergebnisse überlagert werden. Daher kann selbst dann, wenn das Grundelement eine komplizierte Form aufweist, eine Fouriertransformation für die gesamte Grafik ohne eine Beeinträchtigung der Genauigkeit in kurzer Zeit erreicht werden. Folglich können die Maskendaten ohne eine Beeinträchtigung der Genauigkeit mit höherer Effizienz korrigiert werden.
Bei der Vorrichtung gemäß der achten Ausgestaltung der Erfindung wird unter Nutzung der Tatsache, daß ein Grundelement in eine Gruppe von Elementgrafiken von einfacher Form geteilt wird, bei der Berechnung von Raumfrequenzkomponenten eine Berechnung eines bestimmten Integrals unter Verwendung einer primitiven Funktion analytisch ausgeführt. Dadurch wird die Genauigkeit der Fouriertransformation weiter verbessert, während die für die Berechnung benötigte Zeit weiter verringert wird.
Bei der Vorrichtung gemäß der neunten Ausgestaltung wird die Anzahl der Maschen optimiert. Daher ist die Maskendatenkorrektur mit hoher Genauigkeit erreichbar, ohne die verschwenderische Berechnungszeit zu benötigen.
Bei der Vorrichtung gemäß der zehnten Ausgestaltung der Erfindung wird die Anzahl der Maschen auf eine für die schnelle Fouriertransformation angemessene Anzahl beschränkt, und die Fouriertransformation wird unter Verwendung der schnellen Fouriertransformation ausgeführt. Dadurch wird die Effizienz der Berechnung ohne eine Beeinträchtigung der Genauigkeit erhöht.
Bei der Vorrichtung gemäß der elften Ausgestaltung der Erfindung wird eine die gesamte Grafik widerspiegelnde Interpolation ausgeführt, da eine höhere Abtastung im Fourierbereich ausgeführt wird. Daher werden korrigierte Maskendaten bereitgestellt, die glatt und natürlich sind und nicht lediglich durch eine lineare Interpolation oder dergleichen verfügbar sind.
Bei der Vorrichtung gemäß der zwölften Ausgestaltung der Erfindung wird eine die gesamte Grafik widerspiegelnde Interpolation ausgeführt, da eine niedrigere Abtastung im Fourierbereich ausgeführt wird. Obwohl die Anzahl der Maschen verringert wird, werden daher korrigierte Maskendaten bereitgestellt, die glatt und natürlich sind und nicht lediglich durch eine lineare Interpolation oder dergleichen verfügbar sind.
Bei dem Verfahren gemäß der dreizehnten Ausgestaltung der Erfindung werden unter Verwendung der Maskendatenkorrekturvorrichtung der vorliegenden Erfindung Maskendaten erzeugt, und es wird unter Verwendung der Maskendaten eine Übertragungsmaske erzeugt. Dadurch kann eine Übertragungsmaske von hoher Genauigkeit mit hoher Effizienz erhalten werden.
Bei dem Verfahren gemäß der vierzehnten Ausgestaltung der Erfindung werden unter Verwendung der Maskendatenkorrekturvorrichtung der vorliegenden Erfindung Maskendaten erzeugt, und es wird unter Verwendung der Maskendaten eine Übertragungsmaske erzeugt, und ferner wird die Übertragungsmaske verwendet, wenn eine Übertragung auf einen Resist, eine Strukturierung des Resists und eine selektive Verarbeitung ausgeführt werden. Dadurch kann eine Vorrichtung mit einer Musterstruktur von hoher Genauigkeit mit hoher Effizienz erhalten werden.
Bei der Vorrichtung gemäß der fünfzehnten Ausgestaltung der Erfindung wird das Fourierbild der gesamten Grafik erhalten, indem das Grundelement in eine Gruppe von Elementgrafiken geteilt wird, von denen jede die Form eines Dreiecks, Vierecks oder Kreises aufweist; eine Fouriertransformation pro Elementgrafik ausgeführt wird; und die so erhaltenen Ergebnisse überlagert werden. Daher kann selbst dann, wenn das Grundelement eine komplizierte Form aufweist, eine Fouriertransformation für die gesamte Grafik ohne eine Beeinträchtigung der Genauigkeit in kurzer Zeit erreicht werden.
Bei der Vorrichtung gemäß der sechzehnten Ausgestaltung der Erfindung wird eine die gesamte Grafik widerspiegelnde Interpolation ausgeführt, da eine höhere Abtastung im Fourierbereich ausgeführt wird. Daher werden nach der höheren Abtastung Daten bereitgestellt, die glatt und natürlich sind und nicht lediglich durch eine lineare Interpolation oder dergleichen verfügbar sind.
Bei der Vorrichtung gemäß der siebzehnten Ausgestaltung der Erfindung wird eine die gesamte Grafik widerspiegelnde Interpolation ausgeführt, da eine niedrigere Abtastung im Fourierbereich ausgeführt wird. Obwohl die Anzahl der Maschen verringert wird, werden daher nach der niedrigeren Abtastung Daten bereitgestellt, die glatt und natürlich sind und nicht lediglich durch eine lineare Interpolation oder dergleichen verfügbar sind.
Diese und weitere Ziele, Merkmale, Ausgestaltungen und Vorteile der vorliegenden Erfindung sind aus der nachstehenden ausführlichen Beschreibung der Erfindung in Verbindung mit der beigefügten Zeichnung ersichtlich.
Fig. 1 zeigt ein Blockschaltbild von verschiedenen Herstellungsvorrichtungen gemäß bevorzugten Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung;
Fig. 2 zeigt ein Blockschaltbild, das einen inneren Aufbau einer Bildberechnungseinheit gemäß Fig. 1 veranschaulicht;
Fig. 3 zeigt ein Flußdiagramm, das einen durch die verschiedenen Herstellungsvorrichtungen gemäß Fig. 1 ausgeführten Herstellungsprozeß veranschaulicht;
Fig. 4A bis 4C zeigen erläuternde grafische Darstellungen eines Prozesses gemäß einem ersten bevorzugten Ausführungsbeispiel;
Fig. 5A, 5B und 6 zeigen erläuternde grafische Darstellungen der Arbeitsweise einer Bildberechnungseinheit;
Fig. 7 zeigt eine erläuternde grafische Darstellung der Arbeitsweise einer Grafikkorrekturvorrichtung;
Fig. 8 zeigt eine teilweise weggebrochene perspektivische Ansicht von einem Aufbau einer Maskenerzeugungsvorrichtung;
Fig. 9 zeigt eine erläuternde grafische Darstellung, die einen Aufbau einer Lichtübertragungsvorrichtung veranschaulicht;
Fig. 10A bis 10F zeigen grafische Darstellungen, die eine Sequenz von Schritten bei einem Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung veranschaulichen;
Fig. 11 zeigt eine Draufsicht, die einen Aufbau einer CMP- Vorrichtung veranschaulicht;
Fig. 12 zeigt eine grafische Darstellung, die einen Schritt bei einem Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung veranschaulicht;
Fig. 13 zeigt ein Blockschaltbild, das einen inneren Aufbau eines Fouriertransformationsteils veranschaulicht;
Fig. 14 zeigt ein Flußdiagramm, das den durch den 3 Fouriertransformationsteil ausgeführten Prozeß veranschaulicht;
Fig. 15, 16 und 17 zeigen Betriebsdiagramme des durch den Fouriertransformationsteil ausgeführten Prozesses;
Fig. 18 zeigt ein Blockschaltbild, das einen inneren Aufbau eines Elementgrafikfouriertransformationsteils und einer Syntheseeinheit veranschaulicht;
Fig. 19 zeigt ein Flußdiagramm, das den durch den Elementgrafikfouriertransformationsteil und die Syntheseeinheit ausgeführten Prozeß veranschaulicht;
Fig. 20 zeigt ein Blockschaltbild, das einen inneren Aufbau einer Maschenerzeugungseinheit veranschaulicht;
Fig. 21 zeigt ein Flußdiagramm, das den durch die Maschenerzeugungseinheit ausgeführten Prozeß veranschaulicht;
Fig. 22 zeigt ein Blockschaltbild, das einen inneren Aufbau einer Einheit zur höheren Abtastung veranschaulicht;
Fig. 23 zeigt ein Flußdiagramm, das den durch die Einheit zur höheren Abtastung ausgeführten Prozeß veranschaulicht;
Fig. 24A bis 24C zeigen Betriebsdiagramme, die den durch die Einheit zur höheren Abtastung ausgeführten Prozeß veranschaulichen;
Fig. 25 zeigt ein Blockschaltbild, das einen inneren Aufbau einer Einheit zur niedrigeren Abtastung veranschaulicht;
Fig. 26 zeigt ein Flußdiagramm, das den durch die Einheit zur niedrigeren Abtastung ausgeführten Prozeß veranschaulicht;
Fig. 27A bis 27C zeigen Betriebsdiagramme, die den durch die Einheit zur niedrigeren Abtastung ausgeführten Prozeß veranschaulichen;
Fig. 28 zeigt ein Blockschaltbild, das einen Aufbau einer Einheit zur höheren Abtastung veranschaulicht;
Fig. 29 zeigt ein Flußdiagramm, das den durch die Einheit zur höheren Abtastung ausgeführten Prozeß veranschaulicht;
Fig. 30 zeigt ein Blockschaltbild, das einen inneren Aufbau einer Einheit zur niedrigeren Abtastung veranschaulicht;
Fig. 31 zeigt ein Flußdiagramm, das den durch die Einheit zur niedrigeren Abtastung ausgeführten Prozeß veranschaulicht;
Fig. 32 zeigt ein Flußdiagramm, das eine Prozedur eines bekannten Maskendatenkorrekturverfahrens veranschaulicht; und
Fig. 33 zeigt eine erläuternde grafische Darstellung, die eine bei dem bekannten Maskendatenkorrekturverfahren verwendete hierarchische Struktur veranschaulicht.
Erstes bevorzugtes Ausführungsbeispiel
Fig. 1 zeigt ein Blockschaltbild, das Aufbauten von verschiedenen Herstellungsvorrichtungen veranschaulicht, die einen Herstellungsprozeß gemäß einem ersten bevorzugten Ausführungsbeispiel von dem Schaltungsentwurf bis zum Erzeugnisversand einer herzustellenden Vorrichtung (z. B. einer Halbleitervorrichtung oder einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung) ausführen. Fig. 2 zeigt ein Blockschaltbild, das einen inneren Aufbau einer Bildberechnungseinheit 42 gemäß Fig. 1 veranschaulicht.
Fig. 3 zeigt ein Flußdiagramm, das eine unter Verwendung der verschiedenen Herstellungsvorrichtungen gemäß Fig. 1 ausgeführte Herstellungsprozedur veranschaulicht.
Mit Bezug auf Fig. 1 bis 3 sind im folgenden eine Vorrichtung und ein Verfahren gemäß einem ersten bevorzugten Ausführungsbeispiel beschrieben. Andere Komponenten als die Bildberechnungseinheit 42 gemäß Fig. 1 und andere Schritte als ein Bildberechnungsschritt (S24) sind per se bekannt. Daher ist eine vollständige Beschreibung davon weggelassen, und sie sind kurz dargestellt. Obwohl die nachstehende Beschreibung hauptsächlich für einen Fall ausgebildet ist, in dem es sich bei einer herzustellenden Vorrichtung um eine Halbleitervorrichtung handelt, ist die Erfindung nicht darauf beschränkt.
Wenn ein Herstellungsprozeß einer herzustellenden Vorrichtung begonnen wird, werden durch eine Vorlagengrafikerzeugungsvorrichtung 30 eine Vorlagengrafik ausdrückende Layoutdaten erzeugt (S1). Dabei meint der Ausdruck "Vorlagengrafik" die Grafik, bevor sie einer Grafikkorrektur (S3) unterzogen wird, die mit der Grafik nach der Grafikkorrektur verglichen wird. Bei der Vorlagengrafikerzeugungsvorrichtung 30 wird anfänglich basierend auf einer durch eine Bedienungsperson von außen bereitgestellten Entwurfsbedingung ein Schaltungsentwurf (S11) durch eine Schaltungsentwurfseinheit 31 ausgeführt. Der Schaltungsentwurf wird derart ausgeführt, daß eine zu entwerfende Schaltung eine gewünschte Funktion und Leistung erreichen kann.
Basierend auf den Daten der so entworfenen Schaltung und der Entwurfsbedingung von außen wird ein Layoutentwurf (S12) durch eine Layoutentwurfseinheit 32 ausgeführt. Im einzelnen werden Layoutdaten erzeugt, die die Musterform einer Übertragungsmaske zur Realisierung der entworfenen Schaltung auf einem Halbleitersubstrat definieren. Die erzeugten Layoutdaten werden in einem Layoutdatenspeicherträger 33 gespeichert (S13).
Bei einer großintegrierten Schaltung ist eine Vielzahl von Grundelementen häufig in den Schaltungselementen in der Form einer regelmäßigen Anordnung wie beispielsweise einer regelmäßigen Speicherzellenanordnung angeordnet. Durch eine Speicherung derartiger Schaltungslayoutdaten in einem Format von "Grundelement + hierarchische Struktur" kann zur Erhöhung der Effizienz Speicherkapazität eines Speicherträgers gespart werden. Folglich werden die Layoutdaten der großintegrierten Schaltung als Daten zur Definition der Form und hierarchischen Struktur von Grundelementen einer Grafik mit einer hierarchischen Struktur gespeichert.
Fig. 4A, 4B und 4C zeigen grafische Darstellungen, die eine hierarchische Struktur bei Layoutdaten veranschaulichen. Gemäß Fig. 4A sind ein Speicher 2, eine Ein-Ausgabe- Schnittstelle 3 und eine Logikschaltung 4 in einem Halbleiterchip 1 angeordnet. Gemäß Fig. 4B sind eine Peripherieschaltung 5 und eine regelmäßige Speicheranordnung 6 in dem Speicher 2 angeordnet, und eine Vielzahl von Speicherzellen (MC) 7 ist in Matrixform in der regelmäßigen Speicheranordnung 6 angeordnet. Gemäß Fig. 4C sind Grundelemente 10, 11 und 12, bei denen sich um in der hierarchischen Struktur an unterster Stelle befindliche Grafiken handelt, in den Speicherzellen 7 angeordnet.
Wenn keine Grafikkorrektur ausgeführt wird (S1a), werden die Layoutdaten direkt als Maskendaten zur Erzeugung einer Übertragungsmaske verwendet. Im Gegensatz dazu werden eine Bilderzeugung (S2) und eine Grafikkorrektur (S3) in einer Maskendatenkorrekturvorrichtung 29 ausgeführt, wenn eine Grafikkorrektur ausgeführt wird (S1a). Die Bilderzeugung (S2) wird durch eine Bilderzeugungsvorrichtung 40 ausgeführt, und die Grafikkorrektur (S3) wird durch eine Grafikkorrekturvorrichtung S0 ausgeführt.
Bei der Bilderzeugung (S2) werden anfänglich die Layoutdaten mit einer hierarchischen Struktur von dem Layoutdatenspeicherträger 33 eingegeben (S21), und eine Prozeßbedingung (d. h., eine sich auf einen Herstellungsprozeß beziehende Bedingung) wird von außen eingegeben (S22). Die Prozeßbedingung definiert z. B. ein Zeichenverfahren einer Übertragungsmaske (z. B. Elektronenstrahlzeichnen, Laserzeichnen, die Art einer reflexvermindernden Maske und die Art eines Phasenverschiebungsverfahrens), die optischen Parameter einer Belichtungsvorrichtung (z. B. Wellenlänge, numerische Apertur, numerisches Aperturverhältnis σ und die Art der Überauflösung), eine sich auf einen Resist beziehende Bedingung (z. B. Vorbacken, PEB, negativpositiv, Novolaktyp, chemisch verstärkter Typ und trockene/nasse Entwicklung) und eine Ätzbedingung (z. B. trocken/naß).
Daraufhin wird durch eine Maschenerzeugungseinheit 41 ein Bilderzeugungsbereich (d. h., ein zur Auswertung berechneter Bereich) im Realbereich (real space) und Fourierbereich eingestellt, und Maschen werden in dem Bilderzeugungsbereich eingestellt (S23). Im einzelnen werden ein dem Bilderzeugungsbereich des Realbereichs entsprechender Speicherbereich und ein dem Bilderzeugungsbereich des Fourierbereichs entsprechender Speicherbereich in einem (nicht gezeigten) Speicherträger zugeordnet.
Eine Bildberechnung wird durch die Bildberechnungseinheit 42 ausgeführt (S24). Bei der Bildberechnung (S24) werden anfänglich die durch die Layoutdaten definierten Grundelemente in einem Fouriertransformationsteil 421 (siehe Fig. 2) einer Fouriertransformation unterzogen, um dadurch Fourierbilder der Grundelemente zu erhalten. In einem Syntheseteil 422 werden die Fourierbilder der Grundelemente basierend auf der durch die Layoutdaten definierten hierarchischen Struktur im Fourierbereich überlagert, um dadurch das Fourierbild der gesamten Grafik des Bilderzeugungsbereichs zu erhalten (S242).
Ein Raumfilterteil 423 unterzieht das Fourierbild der gesamten Grafik einer Raumfilterverarbeitung, die einer bei dem Herstellungsprozeß geschätzten Störung entspricht. Die Störung wird basierend auf der Prozeßbedingung geschätzt. Wie es im folgenden bei einem zweiten bevorzugten Ausführungsbeispiel vollständig beschrieben ist, finden bei den jeweiligen Schritten des Herstellungsprozesses verschiedene Störungen E1 bis E5 statt. Die Bedienungsperson kann von außen anweisen, welche dieser Störungen widerzuspiegeln ist, wie es in Fig. 1 gezeigt ist.
Die Raumfilterverarbeitung entsprechend verschiedenen Störungen ist per se bekannt. Wenn z. B. der Einfluß der numerischen Apertur eines optischen Systems berücksichtigt wird, wird vorzugsweise eine kreisförmige Tiefpaßfilterverarbeitung ausgeführt. Wenn eine Richtungsabhängigkeit bei den Herstellungsvorrichtungseigenschaften berücksichtigt wird, wird vorzugsweise eine elliptische Filterverarbeitung ausgeführt.
Anschließend unterzieht ein Invers- Fouriertransformationsteil 424 das Fourierbild nach der Raumfilterverarbeitung einer inversen Fouriertransformation, um dadurch das die Störung widerspiegelnde inverse Fourierbild zu erhalten. D. h., das die Störung widerspiegelnde inverse Fourierbild wird von der Bildberechnungseinheit 42 ausgegeben.
Fig. 5A, 5B und 6 zeigen erläuternde grafische Darstellungen, die die Arbeitsweisen der Maschenerzeugungseinheit 41 und der Bildberechnungseinheit 42 veranschaulichen, wie sie vorstehend beschrieben sind. Bei dem in Fig. 5A und 5B veranschaulichten Beispiel wird ein Bilderzeugungsbereich L in dem in Fig. 4A, 4B und 4C veranschaulichten Speicher 2 eingestellt. Durch die Maschenerzeugungseinheit 41 erzeugte Maschen 20 werden in dem Bilderzeugungsbereich L im Realraum eingestellt, wie es in Fig. 5A veranschaulicht ist. Wenn keine Raumfilterverarbeitung ausgeführt wird, d. h. wenn keine Störung widergespiegelt wird, stellt sich das von der Bildberechnungseinheit 42 ausgegebene inverse Fourierbild z. B. wie in Fig. 5B veranschaulicht dar. In Fig. 5B ist das inverse Fourierbild des in Fig. 4C gezeichneten Grundelements 12 gezeigt.
Die in Fig. 4C veranschaulichten Grundelemente 10, 11 und 12 sind bei den Layoutdaten als Grafikdaten beschrieben. Bei den Grafikdaten sind die Formen der Grundelemente 10, 11 und 12 jeweils in einem Satz von Koordinatenwerten von z. B. ihren jeweiligen Winkeln bzw. Ecken beschrieben. Demgegenüber erzeugt der Fouriertransformationsteil 421 ein Fourierbild als Bilddaten auf im Fourierbereich eingestellten Maschen, wie es in dem Bereich der Technik allgemein bekannt ist.
Der Invers-Fouriertransformationsteil 424 erzeugt das inverse Fourierbild als Bilddaten auf den im Realbereich eingestellten Maschen 20, wie es in Fig. 5B veranschaulicht ist. Fig. 5B veranschaulicht die numerischen Werte der Bilddaten pro Zelle der Maschen 20. Bei dem Beispiel gemäß Fig. 5B wird der Zelle dort, wo das Grundelement 12 vorhanden ist, der numerische Wert von 0 zugewiesen, und der numerische Wert von 1 wird der Zelle dort zugewiesen, wo kein Grundelement 12 vorhanden ist. D. h., der numerische Wert in dem Spektrum von 0 bis 1 wird abhängig von dem Verhältnis des Vorhandenseins zugewiesen.
Da bei dem Beispiel gemäß Fig. 5B keine Störung widergespiegelt wird, ist die Form des durch das inverse Fourierbild dargestellten Grundelements 12 die gleiche, wie die des durch die Layoutdaten dargestellten Grundelements 12 (siehe Fig. 4C). Wenn eine Raumfilterverarbeitung ausgeführt wird, d. h. wenn eine Störung widergespiegelt wird, stellt sich das von der Bildberechnungseinheit 42 ausgegebene inverse Fourierbild im Gegensatz dazu z. B. wie in Fig. 6 veranschaulicht dar.
Zu Fig. 1, 2 und 3 zurückkehrend wird das inverse Fourierbild, bei dem es sich um von der Bildberechnungseinheit 42 ausgegebene Bilddaten handelt, durch eine Grafiktransformationseinheit 43 in das dem Format der Layoutdaten ähnelnde Format für Grafikdaten transformiert (S25). In der Grafikkorrekturvorrichtung 50 wird die von der Grafiktransformationseinheit 43 ausgegebene Grafik mit der durch die Layoutdaten definierten Grafik verglichen, wodurch letztere in einer derartigen Richtung korrigiert wird, daß die Störung unterdrückt wird, und daraufhin als Maskendaten ausgegeben wird (S3).
Verbesserungen bei der Gesamtprozeßmarge können z. B. auf die nachstehende Weise erreicht werden, daß eine Untergrößenbestimmung bzw. Bestimmung einer Größe unter Normalgröße für den Teil ausgeführt wird, von dem basierend auf dem Ergebnis der Berechnung in der Bildberechnungseinheit 42 erwartet wird, daß er in einer großen Größe fertiggestellt wird, wohingegen eine Übergrößenbestimmung bzw. Bestimmung einer Größe über Normalgröße für den Teil ausgeführt wird, von dem erwartet wird, daß er in einer kleinen Größe fertiggestellt wird. Fig. 7 zeigt eine grafische Darstellung, die die Form eines Grundelements 12b nach einer Korrektur veranschaulicht. Was das Beispiel gemäß Fig. 7 betrifft, stellt sich die Form des Grundelements 12 ohne eine Störung wie in Fig. 5B veranschaulicht dar, und die Form des Grundelements 12a bei Berücksichtigung einer Störung stellt sich wie in Fig. 6 veranschaulicht dar. Daher wird zur Unterdrückung oder Beseitigung der Störung eine Grafikkorrektur ausgeführt, wie es in Fig. 7 gezeigt ist. Da der Aufbau und die Arbeitsweise der Grafikkorrekturvorrichtung 50 in der Literatur I vollständig offenbart sind und es sich um bekannte Verfahren handelt, ist eine ausführliche Beschreibung davon somit weggelassen.
Eine Maskenerzeugungsvorrichtung 61 erzeugt basierend auf von der Grafikkorrekturvorrichtung 50 ausgegebenen Maskendaten eine Übertragungsmaske (S4). Eine Lichtübertragungsvorrichtung 62 überträgt die Übertragungsmaske auf einen auf der Oberfläche eines Halbleitersubstrats, bei dem es sich um ein Material der Halbleitervorrichtung handelt, ausgebildeten Resist (S5). Wie es in dem Bereich der Technik allgemein bekannt ist, ist der sich ergebende Resist in der übertragenen Musterform strukturiert bzw. gemustert. Eine Substratätzvorrichtung 63 führt ein selektives Ätzen des Halbleitersubstrats unter Verwendung des gemusterten Resists als eine Abschirmung aus (S6). Eine CMP-Vorrichtung und eine Rückätzvorrichtung 64 führen jeweils eine CMP- (chemisches mechanisches Polieren) und eine Rückätzverarbeitung bei einer nach dem selektiven Ätzen auf dem Halbleitersubstrat aufgebrachten Schicht aus (S7). Nach dem Durchlaufen der vorstehenden verschiedenen Prozesse wird die Halbleitervorrichtung als ein Erzeugnis fertiggestellt.
Somit wird bei der Maskendatenkorrekturvorrichtung 29 gemäß dem ersten bevorzugten Ausführungsbeispiel das Fourierbild der gesamten Grafik erhalten, indem die Fourierbilder ihrer jeweiligen Grundelemente basierend auf der hierarchischen Struktur synthetisiert werden. Daher kann eine Korrektur für Maskendaten, bei denen eine große Anzahl von Grundelementen in einer Grafik enthalten ist, unter Erhaltung der Genauigkeit mit hoher Effizienz erreicht werden.
Zweites bevorzugtes Ausführungsbeispiel
Ein zweites bevorzugtes Ausführungsbeispiel erörtert verschiedene Störungen bei einem Herstellungsprozeß, die bei der Bildberechnungseinheit 42 widergespiegelt werden. Als ein spezielles Beispiel ist im folgenden der Fall beschrieben, daß es sich bei einer herzustellenden Vorrichtung um eine Halbleitervorrichtung handelt. Es ist zu beachten, daß selbst bei einem Herstellungsprozeß für andere Vorrichtungen wie beispielsweise eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung ähnliche Störungen angenommen und bei der Bildberechnungseinheit 42 widergespiegelt werden können. Ein Verfahren zur Widerspiegelung dieser Störungen bei dem Raumfilterteil 423 und ein Verfahren zur Unterdrückung dieser Störungen in der Grafikkorrekturvorrichtung 50 sind per se allgemein bekannt.
Fig. 8 zeigt eine teilweise weggebrochene perspektivische Ansicht, die einen bekannten Aufbau der Maskenerzeugungsvorrichtung 61 veranschaulicht. Ein durch eine LaB6-Elektronenkanone 610 erzeugter Elektronenstrahl geht durch eine erste Formgebungsapertur 611, eine erste Formgebungslinse 612, eine erste Formgebungsablenkvorrichtung 613, eine zweite Formgebungslinse 614, eine zweite Formgebungsapertur 615, eine Verkleinerungslinse 616 und eine Austastelektrode 617, die insgesamt einen variabel geformten Linsenteil 61a bilden. Der Elektronenstrahl geht daraufhin durch eine Ablenkvorrichtung 618 und eine Verkleinerungslinse 619, die einen konvergierenden und ablenkenden Linsenteil 61b bilden, und wird bei einem einzelnen Punkt auf einer Übertragungsmaske 60 konvergiert. Basierend auf den in die Maskenerzeugungsvorrichtung 61 eingegebenen Maskendaten wird eine durch die Maskendaten dargestellte Grafik auf die Übertragungsmaske 60 gezeichnet.
Zu dieser Zeit tritt eine Zeichenstörung E1 (siehe Fig. 3) zwischen der durch die Maskendaten dargestellten Grafik und der auf die Übertragungsmaske 60 gezeichneten Grafik auf. Die auf die Übertragungsmaske 60 gezeichnete Grafik entspricht einem Verteilungsbild der gespeicherten Energie des Elektronenstrahls. Wenn ein Laserstrahl anstelle des Elektronenstrahls verwendet wird, entspricht eine zu zeichnende Grafik einem Verteilungsbild der gespeicherten Energie des Laserstrahls. Die Maskendatenkorrekturvorrichtung 29 kann unter Verwendung des Verteilungsbilds von derartiger gespeicherter Energie eine Nachbarschaftskorrektur ausführen, wodurch die Zeichenstörung E1 unterdrückt oder aufgehoben wird.
Fig. 9 zeigt eine erläuternde grafische Darstellung, die einen bekannten Aufbau der Lichtübertragungsvorrichtung 62 veranschaulicht. Bei der vorliegenden Beschreibung stellt das bei der Übertragung der Übertragungsmaske verwendete "Licht" weit eine elektromagnetische Welle dar, z. B. ist dabei ultraviolettes Licht enthalten. Bei einer Lampe 620 erzeugtes Licht geht durch einen Spiegel 621, eine Linse 622, eine Mehrlinsenvorrichtung (fly eye) 623, eine Linse 622a, eine Sekundärlichtquellenplatte 625, eine Linse 622b, einen Spiegel 621a, eine Linse 622c, eine Übertragungsmaske 60, eine Linse 622d, eine Pupillenoberfläche 626 und eine Linse 622e, und das Licht wird daraufhin auf die Oberfläche eines Halbleitersubstrats (Halbleiterwafer) 100 geworfen. Dadurch wird die Grafik der Übertragungsmaske 60 auf die Oberfläche des Halbleitersubstrats 100 übertragen. Zu dieser Zeit tritt eine Übertragungsstörung E2 (siehe Fig. 3) zwischen der auf die Übertragungsmaske 60 gezeichneten Grafik und dem Übertragungsbild auf der Oberfläche des Halbleitersubstrats 100 auf. Die Maskendatenkorrekturvorrichtung 29 kann unter Verwendung eines optischen Bilds eine Lichtnachbarschaftskorrektur ausführen, wodurch die Übertragungsstörung E2 unterdrückt oder aufgehoben wird.
Fig. 10A bis 10F zeigen grafische Darstellungen, die eine Sequenz von Schritten bei einem Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung veranschaulichen. Bei diesem Herstellungsprozeß wird anfänglich ein Halbleitersubstrat 100 bereitgestellt (Fig. 10A), und ein Resist 101 wird auf die Hauptoberfläche des Halbleitersubstrats 100 aufgetragen (Fig. 10B). Anschließend wird unter Verwendung der Lichtübertragungsvorrichtung 62 die Grafik einer Übertragungsmaske auf den Resist 101 übertragen, gefolgt von einer Entwicklung, die zu einem Resistmuster 102 führt (Fig. 10C).
Unter Verwendung des Resistmusters 102 als eine Abschirmung wird die Hauptoberfläche des Halbleitersubstrats 100 einem selektiven Ätzen unterzogen (Fig. 10D). Auf dem erhaltenen Ätzmuster tritt eine sich aus dem Übertragungsbild ergebende Ätzstörung E3 (siehe Fig. 3) auf. Die Maskendatenkorrekturvorrichtung 29 kann unter Verwendung eines Mikroladungseffektbilds bei dem Ätzen eine Nachbarschaftskorrektur ausführen, wodurch die Ätzstörung E3 unterdrückt oder aufgehoben wird.
Anschließend wird zum derartigen Aufbringen einer Schicht 104, daß das geätzte Halbleitersubstrat 100 bedeckt wird, ein isotropes Aufbringen ausgeführt (Fig. 10E). Dem Ätzmuster entsprechende Unregelmäßigkeiten werden auf der Oberfläche der Schicht 104 ausgebildet, wie es in Fig. 10E gezeigt ist. Daraufhin wird die Schicht 104 mittels CMP poliert, bis die Hauptoberfläche des Halbleitersubstrats 100 offenliegt (Fig. 10F).
Fig. 11 zeigt eine Draufsicht, die einen bekannten Aufbau der CMP-Vorrichtung 64 zur Ausführung des CMP veranschaulicht. Die Halbleitersubstrate 100 sind auf einem Drehtisch 640 angebracht, und jedes Halbleitersubstrat 100 dreht sich auf seiner Achse auf dem Tisch 640. In Fig. 11 ist ein Chiperzeugungsbereich 110 der Halbleitersubstrate 100 als Rechteck gezeichnet. Ein (nicht gezeigtes) Poliertuch ist an einem Ort über dem Tisch 640 angebracht, und das Poliertuch wird gegen jede der Hauptoberflächen der Halbleitersubstrate 100 gedrückt. Durch zwei Drehbetriebsarten der Drehung des Tischs 640 und des Kreiselns bzw. der Drehung der Halbleitersubstrate 100 wird jede Hauptoberfläche der Halbleitersubstrate 100 mittels der mechanischen Reibung mit dem Poliertuch und dem chemischen Prozeß von Chemikalien poliert.
Zu Fig. 10F zurückkehrend tritt eine Polierstörung E4 auf einem Film 105 mit einem Poliermuster entlang einer Normalen der Hauptoberfläche des Halbleitersubstrats 100 auf, falls eine Ungleichmäßigkeit bei der Ätzmusterdichte vorhanden ist. Die Maskendatenkorrekturvorrichtung 29 kann unter Verwendung des Polierbilds eine CMP-Korrektur ausführen, wodurch die Polierstörung E4 unterdrückt oder aufgehoben wird.
Fig. 12 zeigt eine grafische Darstellung, die den Schritt der Ausführung einer Rückätzverarbeitung anstelle des CMP nach dem Schritt gemäß Fig. 10E veranschaulicht. Dieser Schritt verursacht eine Rückätzstörung E5 auf dem Rückätzmuster des Films 105 entlang einer Normalen der Hauptoberfläche des Halbleitersubstrats 100. Die Maskendatenkorrekturvorrichtung 29 kann unter Verwendung des Rückätzbilds eine Korrektur ausführen, wodurch die Rückätzstörung E5 unterdrückt oder aufgehoben wird.
Drittes bevorzugtes Ausführungsbeispiel
Fig. 13 zeigt ein Blockschaltbild, das einen bevorzugten inneren Aufbau des Fouriertransformationsteils 421 veranschaulicht. Fig. 14 zeigt ein Flußdiagramm, das einen bevorzugten inneren Ablauf der durch den Fouriertransformationsteil 421 ausgeführten Fouriertransformation (S241) veranschaulicht. Der in Fig. 13 gezeigte Fouriertransformationsteil 421 umfaßt einen Grafikteilungsteil 4211 und eine Elementgrafikfouriertransformationseinheit 4212. Der Grafikteilungsteil 4211 umfaßt einen Dreieckteilungsteil 4213, einen Viereckteilungsteil 4214 und einen Kreisteilungsteil 4215. Layoutdaten werden in diese Teilungsteile 4213, 4214 und 4215 eingegeben.
Wenn die Fouriertransformation (S241) begonnen wird, teilt der Dreieckteilungsteil 4213 ein durch die Layoutdaten definiertes Grundelement in ein Dreieck oder mehr Dreiecke (S2411). Beispielsweise wird mit Bezug auf ein in Fig. 15 gezeigtes Grundelement 10 ein rechtes Dreieck 10a von dem Grundelement 10 getrennt, wie es in Fig. 16 gezeigt ist, und ein rechtwinkliges Polygon 10b wird somit übriggelassen.
Der Viereckteilungsteil 4214 teilt ein Grundelement in ein Viereck oder mehr Vierecke (S2412). Beispielsweise werden in Fig. 17 gezeigte Vierecke 10c und 10d von dem rechtwinkligen Polygon 10b gemäß Fig. 16 getrennt. Entsprechend kann ganz gleich, um ein wie kompliziertes Polygon es sich dabei handelt, jedes Grundelement in eine Ansammlung von einfachen Dreiecken und Vierecken geteilt werden.
Wenn das durch die Layoutdaten definierte Grundelement auch einen Kreis umfaßt, wird der Kreisteil durch den Kreisteilungsteil 4215 weiter geteilt (S2413). Auf diese Weise wird das Grundelement in eine Ansammlung von Elementgrafiken geteilt, die die Form eines Dreiecks, Vierecks oder Kreises aufweisen.
In der Elementgrafikfouriertransformationseinheit 4212 wird eine Fouriertransformation pro Elementgrafik in der aus den so geteilten Elementgrafiken zusammengesetzten Gruppe ausgeführt, um dadurch ihre jeweiligen Fourierbilder zu erhalten (S2414). Da ein Dreieck, Viereck und Kreis jeweils eine einfache Form darstellen, kann die Elementgrafikfouriertransformationseinheit 4212 die Fouriertransformation durch eine einfache Berechnung leicht und schnell ausführen. Die in der Elementgrafikfouriertransformationseinheit 4212 erhaltenen Fourierbilder der Elementgrafiken werden durch den Syntheseteil 422 (siehe Fig. 2) zu einem Grafikfourierbild des gesamten Bilderzeugungsbereichs synthetisiert.
Somit wird gemäß dem dritten bevorzugten Ausführungsbeispiel das Fourierbild relativ zu der Grafik des gesamten Bilderzeugungsbereichs erhalten, indem das Grundelement in die Gruppe von Elementgrafiken geteilt wird, bei denen es sich jeweils um ein Dreieck, ein Viereck oder einen Kreis handelt; eine Fouriertransformation pro Elementgrafik ausgeführt wird; und die so erhaltenen Ergebnisse überlagert werden. Daher kann selbst dann, wenn das Grundelement eine komplizierte Form aufweist, eine Fouriertransformation für die Grafik des gesamten Bilderzeugungsbereichs ohne eine Beeinträchtigung der Genauigkeit in kurzer Zeit erreicht werden. In der Fouriertransformation ist keine Näherungsberechnung enthalten, und sie kann somit das genaue Fourierbild erhalten, bei dem es sich nicht um eine Näherung handelt.
Ferner kann der Fouriertransformationsteil 421 gemäß dem dritten bevorzugten Ausführungsbeispiel zusätzlich zu der Anwendung auf die Maskendatenkorrekturvorrichtung 29 auch durch eine Kombination mit dem Syntheseteil 422 für eine Vielfalt von Gebieten als Fouriertransformationsvorrichtung verwendet werden, durch die das Fourierbild relativ zu im allgemeinen komplizierten Grafiken leicht und schnell erhalten werden kann.
Viertes bevorzugtes Ausführungsbeispiel
Fig. 18 zeigt ein Blockschaltbild, das einen bevorzugten inneren Aufbau der Elementgrafikfouriertransformationseinheit 4212 und des Syntheseteils 422 veranschaulicht. Fig. 19 zeigt ein Flußdiagramm, das einen bevorzugten inneren Ablauf der Verarbeitung (S2414) durch die Elementgrafikfouriertransformationseinheit 4212 und der Verarbeitung (S242) durch den Syntheseteil 422 veranschaulicht. Die Elementgrafikfouriertransformationseinheit 4212 umfaßt drei Raumfrequenzkomponentenberechnungsteile 42121, 42122 und 42123, die die entsprechende Elementgrafikform berechnen. Von dem Grafikteilungsteil 4211 (siehe Fig. 13) ausgegebene Elementgrafikdaten werden in diese Berechnungsteile 42121, 42122 und 42123 eingegeben. Der Syntheseteil 422 umfaßt einen ersten und zweiten Syntheseteil 4221 und 4222.
Wenn Elementgrafikdaten in die Elementgrafikfouriertransformationseinheit 4212 eingegeben werden (S24141), führen die drei Raumfrequenzkomponentenberechnungsteile 42121, 42122 und 42123 eine Fouriertransformation von Dreiecken, Vierecken bzw. Kreisen in der Elementgrafik aus, um dadurch ihre jeweiligen Fourierbilder (d. h., einen Satz von Raumfrequenzkomponenten) zu erhalten (S24142, S24143, S24144). Jede Raumfrequenzkomponente kann erhalten werden, indem eine Fourierintegration entlang der x- und y-Richtung im Realraum ausgeführt wird.
Der erste Syntheseteil 4221 überlagert die Fourierbilder pro Elementgrafik gemäß der hierarchischen Struktur (S2421). Dadurch kann das Fourierbild relativ zu der Elementgrafik des gesamten Bilderzeugungsbereichs pro Elementgrafik erhalten werden. Der zweite Syntheseteil 4222 überlagert die in dem ersten Syntheseteil 4221 erhaltenen Fourierbilder pro Elementgrafik (S2422). Falls die Verarbeitung für die Grafik des gesamten Bilderzeugungsbereichs nicht abgeschlossen ist (S2422), kehrt die Prozedur zu dem Schritt S24142 zurück. Falls sie abgeschlossen ist (S2423), wird das Fourierbild relativ zu der Grafik des gesamten Bilderzeugungsbereichs erhalten (S2424).
Bei der vorstehenden Prozedur wird der durch die Fourierintegration für Elementgrafiken berechnete Satz von Raumfrequenzkomponenten gemäß der hierarchischen Struktur wiederholt verwendet. Daher werden die Anzahl von Fourierintegrationen und die Anzahl von Operationen von trigonometrischer Funktion beträchtlich verringert, und die Verarbeitungskapazität der Fouriertransformation wird deutlich erhöht. Selbst ein großes Ausmaß von Daten kann in einer brauchbaren Berechnungszeit verarbeitet werden. Darüber hinaus ist die Genauigkeit der Berechnung hoch, da eine derartige hierarchische Verarbeitung keine Näherung umfaßt und es sich dabei um die genaue Berechnung handelt. Es wurde bestätigt, daß das erhaltene Ergebnis vollkommen gleich wie das in dem Fall, daß nach der Erweiterung der hierarchischen Struktur eine Fourierintegration jeder Grafik ausgeführt wird, erhaltene Ergebnis war. Ferner wurde verifiziert, daß keine Beeinträchtigung der Genauigkeit der Berechnung vorhanden war.
Ein bekanntes Verfahren zur Überlagerung im Realraum leidet unter den nachstehenden Nachteilen: (i) Vorwärts- oder Rückwärtszerstreuung des Elektronenstrahls; (ii) optischer Interferenzeffekt; (iii) Mikroladungseffekt; und (iv) Schwierigkeiten bei der genauen Einbringung eines Deformationseffekts eines Poliertuchs usw. mit einem jeweils langen Korrelationsabstand. Wohingegen bei den vorstehenden bevorzugten Ausführungsbeispielen eine Überlagerung im Fourierbereich durchgeführt wird und es somit leicht ist, diese Effekte mit einem langen Korrelationsabstand genau widerzuspiegeln.
Fünftes bevorzugtes Ausführungsbeispiel
Wenn die Elementgrafikfouriertransformationseinheit 4212 gemäß dem dritten oder vierten bevorzugten Ausführungsbeispiel die Raumfrequenzkomponenten einer Elementgrafik berechnet, kann sie einen derartigen üblichen Weg bei der Fouriertransformation verwenden, daß die numerische Integration ausgeführt wird, nachdem die Elementgrafik zu einer Bitmap bzw. Bitmaske erweitert ist. Vorzugsweise kann sie durch die wirksame Nutzung der Tatsache, daß es sich bei der der Fouriertransformation zu unterziehenden Grafik um ein einfaches Dreieck, ein einfaches Viereck oder einen einfachen Kreis handelt, einen derartigen Weg zur analytischen Berechnung des bestimmten Integrals verwenden, daß sie eine primitive Funktion F(x) des Fourierintegrals aus der nachstehenden Gleichung (1) findet:
Dadurch ist eine schnelle Berechnung erreichbar, während die Genauigkeit der Fouriertransformation erhöht wird.
Sechstes bevorzugtes Ausführungsbeispiel
Fig. 20 zeigt ein Blockschaltbild, das einen bevorzugten inneren Aufbau der Maschenerzeugungseinheit 41 veranschaulicht. Fig. 21 zeigt ein Flußdiagramm, das einen bevorzugten inneren Ablauf der Maschenerzeugung (S23) durch die Maschenerzeugungseinheit 41 veranschaulicht. Wenn die Maschenerzeugung (S23) durch die in Fig. 20 gezeigte Maschenerzeugungseinheit 41 begonnen wird, berechnet ein Minimalkorrelationsabstandsberechnungsteil 411 basierend auf der Herstellungsprozeßbedingung einen Minimalkorrelationsabstand bei dem Herstellungsprozeß (S231). Beispielsweise entspricht in dem Fall eines optischen Systems der Minimalkorrelationsabstand einer Minimalauflösung R, und R ist durch R = λ/4NA gegeben, wobei es sich bei λ um die Wellenlänge des Belichtungslichts und bei NA um die numerische Apertur einer Projektionslinse handelt.
Anschließend wird durch einen Bilderzeugungsbereichseinstellungsteil 412 ein Bilderzeugungsbereich L (siehe Fig. 5A) eingestellt (S232). Eine optimale Anzahl der Maschen wird durch einen Maschenanzahloptimierungsteil 413 bestimmt. Im einzelnen wird als eine optimale Anzahl der Maschen die Anzahl der Maschen entlang zwei sich in dem Bilderzeugungsbereich kreuzenden Richtungen derart bestimmt, daß die Maschenausdehnung die größte in dem den Minimalkorrelationsabstand nicht übersteigenden Spektrum ist und die Anzahl der Maschen eine positive Ganzzahl ist. Es wird noch mehr vorgezogen, sie derart zu bestimmen, daß die Maschenausdehnung die größte in dem den Minimalkorrelationsabstand nicht übersteigenden Spektrum ist und die Anzahl der Maschen n durch n = 2i3j5k (i, j und k sind jeweils Null oder eine positive Ganzzahl) definiert ist (S234, S235). Die letztere Art und Weise ermöglicht es, die schnelle Fouriertransformation (FFT) zu nutzen, die mit einem Vielfachen von 2, 3 oder 5 verwendet werden kann.
Als ein spezifischer Fall der vorstehend angeführten Bedingung wird zur Erfüllung von n = 2i (i ist eine positive Ganzzahl) eine anfängliche Teilungszahl n0 derart bestimmt, daß sie die nachstehende Gleichung (2) erfüllt:

n0 = ceil(L/R) (2)
wobei es sich bei ceil um eine aufrundende, Ganzzahlen ausbildende Funktion handelt.
Daraufhin wird bei einer Bestimmung der Anzahl der Maschen n durch die nachstehende Gleichung (3):
n = 2ceil(logn/log2) (3)
die Anzahl der Maschen n eine Potenzierung von 2. Dies ist auch bei der Nutzung der schnellen Fouriertransformation (FFT) vorteilhaft.
Ein Maschenerzeugungsteil 414 erzeugt Maschen gemäß der durch den Maschenanzahloptimierungsteil 413 bestimmten Anzahl der Maschen (S233).
Somit kann bei dem sechsten bevorzugten Ausführungsbeispiel eine minimale Anzahl von Maschen eingestellt werden, und es kann somit die verschwenderische Berechnung zur Erzeugung einer höheren Anzahl von Maschen als erforderlich von dem Standpunkt der Genauigkeit der Berechnung her weglassen werden. Dies ermöglicht es, eine schnelle Verarbeitung zu erreichen, während die hohe Genauigkeit der Berechnung erhalten wird.
Siebtes bevorzugtes Ausführungsbeispiel
Wenn unter Verwendung einer minimalen Anzahl von Maschen für die Genauigkeit der Berechnung gemäß dem sechsten bevorzugten Ausführungsbeispiel eine Berechnung ausgeführt wird und das Ergebnis angezeigt wird, stellt es sich in einigen Fällen für das Auge des Betrachters als grob dar.
Bei diesem Ereignis wird es empfohlen, eine höhere Abtastung (up sampling) auszuführen, d. h. häufiger abzutasten. Fig. 22 zeigt ein Blockschaltbild, das einen inneren Aufbau einer Einheit zur höheren Abtastung 44 veranschaulicht, die für die höhere Abtastung zwischen den Raumfilterteil 423 und den Invers- Fouriertransformationsteil 424 in Fig. 2 zwischengeschaltet wird. Die Einheit zur höheren Abtastung 44 umfaßt einen Maschenhinzufügungsteil 441 und einen Neue-Masche- Dateneinstellungsteil 442. Fig. 23 zeigt ein Flußdiagramm, das eine durch die Einheit zur höheren Abtastung 44 ausgeführte Prozedur veranschaulicht.
Der Maschenhinzufügungsteil 441 fügt eine neue Masche zu von dem Raumfilterteil 423 eingegebenen Bilddaten hinzu (S261). Der Neue-Masche-Dateneinstellungsteil 442 stellt den Wert von Null in den Bilddaten auf der hinzugefügten Masche ein und gibt das Ergebnis zusammen mit den Bilddaten vor der Hinzufügung der Masche zu dem Invers- Fouriertransformationsteil 424 aus (S262).
Fig. 24A, 24B und 24C zeigen erläuternde grafische Darstellungen, die durch den Maschenhinzufügungsteil 441 und den Neue-Masche-Dateneinstellungsteil 442 ausgeführte Prozesse veranschaulichen. Das Fourierbild F im Fourierbereich (siehe Fig. 24A) wird durch eine inverse Fouriertransformation in dem Invers- Fouriertransformationsteil 424 in das inverse Fourierbild R im Realbereich transformiert (siehe Fig. 24B). Im Gegensatz dazu wird bei einer Hinzufügung einer Masche im Fourierbereich und einer Bereitstellung des Wert von Null für die Bilddaten auf der hinzugefügten Masche (siehe Fig. 24A) sein inverses Bild R feiner als das Bild gemäß Fig. 24B, wie es in Fig. 24 C gezeigt ist.
Beispielsweise ist in dem Fall, daß neue Maschen im Fourierbereich hinzugefügt werden und die Anzahl der Maschen in zwei Dimensionen auf 2 × 2-mal erhöht wird, eine höhere Abtastung auf 2 × 2-mal Maschen in zwei Dimensionen zu der Zeit abgeschlossen, zu der die inverse Fouriertransformation zum Realbereich hin ausgeführt wird. Allgemein kann das Verhältnis der Erhöhung der Anzahl der Maschen beliebig eingestellt werden. Es ist jedoch wünschenswert, ein derartiges Verhältnis einzustellen, bei dem die FFT verwendet werden kann, z. B. 2 × 2-mal.
Somit kann gemäß dem siebten bevorzugten Ausführungsbeispiel eine höhere Abtastung im Fourierbereich ausgeführt werden, wobei jeder interpolierte Punkt das gesamte Bild widerspiegelt. Dies realisiert eine Interpolation glatter und natürlicher als eine lediglich lineare Interpolation und stellt somit den Vorteil bereit, daß die Genauigkeit der Interpolation hoch ist.
Achtes bevorzugtes Ausführungsbeispiel
Im Gegensatz zu dem siebten bevorzugten Ausführungsbeispiel kann in dem Fall, daß die Anzahl der zu berechnenden Maschen größer als die Anzahl der Maschen einer Anzeigevorrichtung ist, durch eine Ausführung einer niedrigeren Abtastung die Geschwindigkeit der Anzeige ohne eine Beeinträchtigung der Bildqualität erhöht werden. Fig. 25 zeigt ein Blockschaltbild, das einen inneren Aufbau einer Einheit zur niedrigeren Abtastung 45 zur Erreichung des vorstehenden Ziels veranschaulicht, die zwischen den Raumfilterteil 423 und den Invers- Fouriertransformationsteil 424 in Fig. 2 zwischengeschaltet wird. Die Einheit zur niedrigeren Abtastung 45 umfaßt einen Maschenentfernungsteil 451. Fig. 26 zeigt ein Flußdiagramm, das eine durch die Einheit zur niedrigeren Abtastung 45 ausgeführte Prozedur veranschaulicht.
Der Maschenentfernungsteil 451 entfernt einige der Maschen aus von dem Raumfilterteil 423 eingegebenen Bilddaten (S271). Die sich ergebenden Bilddaten werden zu dem Invers- Fouriertransformationsteil 424 ausgegeben.
Fig. 27A, 27B und 27C zeigen erläuternde grafische Darstellungen, die durch den Maschenentfernungsteil 451 ausgeführte Prozesse veranschaulichen. Das Fourierbild F im Fourierbereich (siehe Fig. 27A) wird durch eine inverse Fouriertransformation in dem Invers- Fouriertransformationsteil 424 in das inverse Fourierbild R im Realbereich transformiert (siehe Fig. 27B). Im Gegensatz dazu wird bei einer Entfernung einiger der Maschen im Fourierbereich (siehe Fig. 27A) sein inverses Bild R grober als das Bild gemäß Fig. 27B, wie es in Fig. 27C gezeigt ist.
Beispielsweise ist in dem Fall, daß Hochfrequenzkomponenten um das Fourierbild F im Fourierbereich vorhanden sind und die Anzahl der Maschen in zwei Dimensionen auf 1/2 × 1/2-mal verringert wird, eine niedrigere Abtastung auf 1/2 × 1/2-mal Maschen in zwei Dimensionen zu der Zeit abgeschlossen, zu der die inverse Fouriertransformation in den Realbereich ausgeführt wird. Allgemein kann das Verhältnis der Verringerung der Anzahl der Maschen beliebig eingestellt werden. Es ist jedoch wünschenswert, ein derartiges Verhältnis einzustellen, bei dem die FFT verwendet werden kann, z. B. 1/2 × 1/2-mal.
Somit kann gemäß dem achten bevorzugten Ausführungsbeispiel eine niedrigere Abtastung im Fourierbereich ausgeführt werden, wobei jeder interpolierte Punkt das gesamte Bild widerspiegelt. Dies realisiert eine Interpolation glatter und natürlicher als eine lediglich lineare Interpolation. Außerdem wird zur Verbesserung der Vorrichtungsbetreibbarkeit die Geschwindigkeit der Anzeige des Ergebnisses der Berechnung erhöht.
Neuntes bevorzugtes Ausführungsbeispiel
Unter Verwendung der mit der Maskendatenkorrekturvorrichtung 29 gemäß dem ersten bis achten bevorzugten Ausführungsbeispiel korrigierten Maskendaten kann eine Übertragungsmaske erhalten werden, die preiswert und von hoher Genauigkeit ist. Bei der Herstellung einer Halbleitervorrichtung wie beispielsweise einer integrierten Halbleiterschaltung kann die Verwendung einer derartigen spezifischen Übertragungsmaske eine Halbleitervorrichtung bereitstellen, die preiswert und von hoher Zuverlässigkeit ist. Dies gilt ohne eine Beschränkung auf Halbleitervorrichtungen für andere Vorrichtungen mit einer Musterstruktur (z. B. Flüssigkristallanzeigevorrichtungen). Ein Verfahren zur Herstellung dieser Vorrichtungen ist unter Bezugnahme auf Fig. 10A bis 10F und Fig. 11 bei dem zweiten bevorzugten Ausführungsbeispiel vollständig beschrieben, und eine weitere Beschreibung davon ist somit weggelassen. Wie es in Fig. 3 gezeigt ist, werden üblicherweise nach einem Durchlaufen der in Fig. 10A bis 10F oder Fig. 11 veranschaulichten Schritte S5 bis S7 zusätzliche Prozesse über mehrere Schritte ausgeführt, um eine Vorrichtung mit einer Musterstruktur, z. B. eine Halbleitervorrichtung oder eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung, als ein Erzeugnis fertigzustellen.
Zehntes bevorzugtes Ausführungsbeispiel
Die Einheit zur höheren Abtastung 44 gemäß dem siebten bevorzugten Ausführungsbeispiel kann als eine von der Maskendatenkorrekturvorrichtung 29 unabhängige Vorrichtung zur höheren Abtastung konfiguriert werden, indem der Fouriertransformationsteil und der Invers- Fouriertransformationsteil hinzugefügt werden. Ähnlich kann die Einheit zur niedrigeren Abtastung 45 als eine von der Maskendatenkorrekturvorrichtung 29 unabhängige Vorrichtung zur niedrigeren Abtastung konfiguriert werden, indem der Fouriertransformationsteil und der Invers- Fouriertransformationsteil hinzugefügt werden. Ein zehntes bevorzugtes Ausführungsbeispiel ist auf die so konfigurierte Vorrichtung zur höheren Abtastung und Vorrichtung zur niedrigeren Abtastung gerichtet.
Fig. 28 zeigt ein Blockschaltbild, das einen Aufbau einer Einheit zur höheren Abtastung 80 gemäß dem zehnten bevorzugten Ausführungsbeispiel veranschaulicht. Fig. 29 zeigt ein Flußdiagramm, das eine Prozedur eines Schritts (S8) bei der Einheit zur höheren Abtastung 80 veranschaulicht. Die Einheit 80 empfängt anfänglich im eindimensionalen oder mehrdimensionalen Raum definierte diskrete Daten (S81). Ein Fouriertransformationsteil 81 führt eine Fouriertransformation der empfangenen diskreten Daten aus (S82), wodurch die diskreten Daten in einen Satz von Frequenzkomponenten transformiert werden. In einem Maschenhinzufügungsteil 82 wird der Satz von Frequenzkomponenten als ein Satz von Daten auf in dem Fourierbereich der gleichen Dimension wie der vorstehend angeführten einen Dimension oder mehr Dimensionen eingestellten Maschen betrachtet, um dadurch eine neue Masche in dem Fourierbereich hinzuzufügen (S83).
Ein Neue-Masche-Dateneinstellungsteil 83 stellt den Wert von Null in den Daten auf der hinzugefügten Masche ein und gibt das Ergebnis zusammen mit den Daten auf der Masche vor der Hinzufügung aus (S84). Ein Invers- Fouriertransformationsteil 84 führt eine inverse Fouriertransformation der Daten von dem Neue-Masche- Dateneinstellungsteil 83 aus, um höher abgetastete Daten zu erhalten (S85), und gibt daraufhin die erhaltenen höher abgetasteten Daten aus (S86).
Da die höhere Abtastung in der Einheit zur höheren Abtastung 80 im Fourierbereich ausgeführt wird, wird eine Interpolation ausgeführt, die den gesamten Satz von diskreten Daten widerspiegelt. Dadurch sind die Daten nach der Verarbeitung zur höheren Abtastung glatt und natürlich, was nicht lediglich durch eine lineare Interpolation oder dergleichen erreicht werden kann.
Fig. 30 zeigt ein Blockschaltbild, das einen Aufbau einer Einheit zur niedrigeren Abtastung 90 gemäß dem zehnten bevorzugten Ausführungsbeispiel veranschaulicht. Fig. 31 zeigt ein Flußdiagramm, das eine Prozedur eines in der Einheit zur niedrigeren Abtastung 90 ausgeführten Schritts (S9) veranschaulicht. Die Einheit 90 empfängt anfänglich im eindimensionalen oder mehrdimensionalen Raum definierte diskrete Daten (S81). Der Fouriertransformationsteil 81 führt eine Fouriertransformation der empfangenen diskreten Daten aus (S82), wodurch die diskreten Daten in einen Satz von Frequenzkomponenten transformiert werden.
Ein Maschenentfernungsteil 85, der den Satz von Frequenzkomponenten als einen Satz von Daten auf in dem Fourierbereich der gleichen Dimension wie der vorstehend angeführten einen Dimension oder mehr Dimensionen eingestellten Maschen betrachtet, entfernt einige der Maschen in dem Fourierbereich und gibt die sich ergebenden Daten aus (S87). Der Invers-Fouriertransformationsteil 84 führt eine inverse Fouriertransformation der Daten von dem Maschenentfernungsteil 85 aus, um dadurch niedriger abgetastete Daten zu erhalten (S85), und gibt daraufhin die erhaltenen niedriger abgetasteten Daten aus (S86).
Da die niedrigere Abtastung in der Einheit zur niedrigeren Abtastung 90 im Fourierbereich ausgeführt wird, wird eine Interpolation ausgeführt, die den gesamten Satz von diskreten Daten widerspiegelt. Obwohl die Anzahl der Abtastungen verringert wird, sind dadurch die Daten nach der niedrigeren Abtastung glatt und natürlich, was nicht lediglich durch eine lineare Interpolation oder dergleichen erreicht werden kann.
Während die Erfindung ausführlich gezeigt und beschrieben ist, ist die vorstehende Beschreibung in allen Ausgestaltungen veranschaulichend und nicht einschränkend. Es ist daher selbstverständlich, daß verschiedene Modifikationen im Rahmen des Inhalts und Schutzbereichs der beigefügten Patentansprüche möglich sind.
Es wird eine Maskendatenkorrekturvorrichtung bereitgestellt, die durch eine wirksame Verwendung der hierarchischen Struktur von Layoutdaten die Effizienz der Verarbeitung unter Erhaltung einer hohen Genauigkeit erhöhen kann. Ein Fouriertransformationsteil (421) führt eine Fouriertransformation von durch die Layoutdaten definierten Grundelementen aus, um Fourierbilder der Grundelemente zu erhalten. Ein Syntheseteil (422) überlagert basierend auf der hierarchischen Struktur die Fourierbilder der Grundelemente im Fourierbereich, um ein Fourierbild der gesamten Grafik zu erhalten. Ein Raumfilterteil (423) unterzieht das Fourierbild der gesamten Grafik einer Raumfilterverarbeitung, die einer bei einem Herstellungsprozeß erwarteten Störung entspricht. Ein Invers-Fouriertransformationsteil (424) führt eine inverse Fouriertransformation des Fourierbilds nach der Raumfilterverarbeitung aus, um das die Störung widerspiegelnde inverse Fourierbild zu erhalten. Die durch die Layoutdaten definierte Grafik wird mit der Grafik verglichen, von der das inverse Fourierbild transformiert wurde, und wird in einer derartigen Richtung korrigiert, daß die Störung unterdrückt wird, und daraufhin als Maskendaten ausgegeben.

Claims (15)

1. Maskendatenkorrekturvorrichtung (29), bei der basierend auf die Form von Grundelementen (10, 11, 12) einer Grafik mit einer hierarchischen Struktur und die hierarchische Struktur definierenden Layoutdaten sowie auf einer Herstellungsprozeßbedingung die Musterform einer bei dem Herstellungsprozeß verwendeten Übertragungsmaske (60) ausdrückende Maskendaten auf eine derartige Weise erzeugt werden, daß eine bei dem Herstellungsprozeß erwartete Störung (E1-E5) unterdrückt wird, mit:
einem Fouriertransformationsteil (421) zum Erhalten von Fourierbildern (F) der Grundelemente (10, 11, 12) durch eine Ausführung einer Fouriertransformation der Grundelemente (10, 11, 12);
einem Syntheseteil (422) zum Erhalten eines Fourierbilds (F) der Grafik durch eine Synthese der Fourierbilder (F) der Grundelemente (10, 11, 12) im Fourierbereich basierend auf der hierarchischen Struktur; einem Raumfilterteil (423), der das Fourierbild (F) der Grafik einer der Störung (E1-E5) entsprechenden Raumfilterverarbeitung unterzieht;
einem Invers-Fouriertransformationsteil (424), der das Fourierbild (F) nach der Raumfilterverarbeitung einer inversen Fouriertransformation unterzieht, um dadurch das die Störung (E1-E5) widerspiegelnde inverse Fourierbild (R) zu erhalten;
einem Grafiktransformationsteil (43) zur Transformation des inversen Fourierbilds (R) in eine Grafik; und
einem Grafikkorrekturteil (50) zur Korrektur der durch die Layoutdaten definierten Grafik in einer derartigen Richtung, daß die Störung (E1-E5) unterdrückt wird, indem die von dem Grafiktransformationsteil. (43) ausgegebene Grafik mit der durch die Layoutdaten definierten Grafik verglichen wird, und zur Ausgabe des Ergebnisses als die Maskendaten.
2. Maskendatenkorrekturvorrichtung (29) nach Anspruch 1, wobei die Störung (E1-E5) eine bei einer Erzeugung der Übertragungsmaske (60) durch ein auf den Maskendaten basierendes Elektronenstrahlzeichnen verursachte Zeichenstörung (E1) umfaßt.
3. Maskendatenkorrekturvorrichtung (29) nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Störung (E1-E5) eine bei einer Ausführung einer Übertragung unter Verwendung der basierend auf den Maskendaten erzeugten Übertragungsmaske (60) bei einem Übertragungsbild verursachte Übertragungsstörung (E2) umfaßt.
4. Maskendatenkorrekturvorrichtung (29) nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die Störung (E1-E5) eine bei einer Ausführung eines selektiven Ätzens unter Verwendung eines durch eine Übertragung der basierend auf den Maskendaten erzeugten Übertragungsmaske (60) erzeugten Resistmusters (102) bei einem Ätzmuster verursachte Ätzstörung (E3) umfaßt.
5. Maskendatenkorrekturvorrichtung (29) nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die Störung (E1-E5) eine bei einer Ausführung einer Polierverarbeitung bei einer aufgebrachten Schicht (104) nach einer Ausführung eines selektiven Ätzens mit einem durch eine Übertragung der basierend auf den Maskendaten erzeugten Übertragungsmaske (60) erzeugten Resistmuster (102) bei einem polierten Muster verursachte Polierstörung (E4) umfaßt.
6. Maskendatenkorrekturvorrichtung (29) nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die Störung (E1-E5) eine bei einer Ausführung einer Rückätzverarbeitung bei einer aufgebrachten Schicht (104) nach einer Ausführung eines selektiven Ätzens mit einem durch eine Übertragung der basierend auf den Maskendaten erzeugten Übertragungsmaske (60) erzeugten Resistmuster (102) bei dem dem Rückätzen unterzogenen Muster verursachte Rückätzstörung (E5) umfaßt.
7. Maskendatenkorrekturvorrichtung (29) nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei der Fouriertransformationsteil (421) umfaßt:
einen Grafikteilungsteil (4211), der das Grundelement (10, 11, 12) in eine Gruppe von Elementgrafiken in der Form eines Dreiecks (10a), Vierecks (10c, 10d) oder Kreises teilt; und
einen Elementgrafikfouriertransformationsteil (4212) zur Ausführung einer Fouriertransformation pro Elementgrafik der Gruppe von Elementgrafiken (10a, 10c, 10d), um dadurch ihre jeweiligen Fourierbilder (F) zu erhalten.
8. Maskendatenkorrekturvorrichtung (29) nach Anspruch 7, wobei der Elementgrafikfouriertransformationsteil (4212) eine Integralberechnung unter Verwendung einer primitiven Funktion (F(x)) analytisch ausführt, wenn zum Erhalten des Fourierbilds (F) eine Berechnung von Raumfrequenzkomponenten ausgeführt wird.
9. Maskendatenkorrekturvorrichtung (29) nach einem der Ansprüche 1 bis 8 mit einem Maschenerzeugungsteil (41) zur Einstellung eines Bilderzeugungsbereichs (L) im Realbereich und dem Fourierbereich und zur Einstellung von Maschen in dem Bilderzeugungsbereich, wobei der Maschenerzeugungsteil (41) umfaßt:
einen Minimalkorrelationsabstandsberechnungsteil (411) zur Berechnung eines Minimalkorrelationsabstands bei dem Herstellungsprozeß basierend auf der Herstellungsprozeßbedingung; und
einen Maschenanzahloptimierungsteil (413) zur Bestimmung der Anzahl der Maschen entlang zwei sich in dem Bilderzeugungsbereich (L) kreuzenden Richtungen derart, daß die Maschenausdehnung die größte in dem den Minimalkorrelationsabstand nicht übersteigenden Spektrum ist und die Anzahl der Maschen eine positive Ganzzahl ist.
10. Maskendatenkorrekturvorrichtung (29) nach Anspruch 9, wobei
der Maschenanzahloptimierungsteil (413) die positive Ganzzahl auf eine positive Ganzzahl n beschränkt, die durch n = 2i3j5k (i, j und k sind jeweils Null oder eine positive Ganzzahl) definiert ist; und
der Fouriertransformationsteil (421) die Fouriertransformation unter Verwendung der schnellen Fouriertransformation ausführt.
11. Maskendatenkorrekturvorrichtung (29) nach einem der Ansprüche 1 bis 8 mit:
einem Maschenerzeugungsteil (41) zur Einstellung eines Bilderzeugungsbereichs (L) im Realbereich und dem Fourierbereich und zur Einstellung von Maschen in dem Bilderzeugungsbereich (L);
einem Maschenhinzufügungsteil (441) zur Hinzufügung einer neuen Masche in den nach der Raumfilterverarbeitung erhaltenen Bilddaten; und
einem Neue-Masche-Dateneinstellungsteil (442) zur Einstellung des Werts von Null in den Bilddaten auf der hinzugefügten Masche und zur Ausgabe des Ergebnisses zusammen mit den Bilddaten vor der Hinzufügung der Masche daraufhin, und
wobei der Invers-Fouriertransformationsteil (424) die inverse Fouriertransformation der von dem Neue-Masche- Dateneinstellungsteil (442) ausgegebenen Bilddaten ausführt.
12. Maskendatenkorrekturvorrichtung (29) nach einem der Ansprüche 1 bis 8 mit:
einem Maschenerzeugungsteil (41) zur Einstellung eines Bilderzeugungsbereichs (L) im Realbereich und dem Fourierbereich und zur Einstellung von Maschen in dem Bilderzeugungsbereich (L); und
einem Maschenentfernungsteil (451) zur Entfernung einiger der Maschen aus den nach der Raumfilterverarbeitung erhaltenen Bilddaten, und
wobei der Invers-Fouriertransformationsteil (424) die inverse Fouriertransformation der von dem Maschenentfernungsteil (451) ausgegebenen Bilddaten ausführt.
13. Vorrichtung zur höheren Abtastung (80), die diskrete Daten einer höheren Abtastung unterzieht, mit:
einem Fouriertransformationsteil (81) zur Transformation der diskreten Daten in einen Satz von Frequenzkomponenten durch eine Ausführung einer Fouriertransformation der im eindimensionalen oder mehrdimensionalen Raum definierten diskreten Daten;
einem Maschenhinzufügungsteil (82) zur Gestaltung des Satzes von Frequenzkomponenten zu Daten auf in dem Fourierbereich der gleichen Dimension wie der einen Dimension oder mehr Dimensionen eingestellten Maschen und zur Hinzufügung einer neuen Masche in dem Fourierbereich;
einem Neue-Masche-Dateneinstellungsteil (83) zur Einstellung des Werts von Null in den Daten auf der hinzugefügten Masche und zur Ausgabe des Ergebnisses zusammen mit den Daten auf den Maschen vor der Hinzufügung; und
einem Invers-Fouriertransformationsteil (84), der eine inverse Fouriertransformation der von dem Neue-Masche- Dateneinstellungsteil (83) ausgegebenen Daten ausführt.
14. Vorrichtung zur niedrigeren Abtastung (90), die diskrete Daten einer niedrigeren Abtastung unterzieht, mit:
einem Fouriertransformationsteil (81) zur Transformation der diskreten Daten in einen Satz von Frequenzkomponenten durch eine Ausführung einer Fouriertransformation der im eindimensionalen oder mehrdimensionalen Raum definierten diskreten Daten;
einem Maschenentfernungsteil (85) zur Gestaltung des Satzes von Frequenzkomponenten zu Daten auf in dem Fourierbereich der gleichen Dimension wie der einen Dimension oder mehr Dimensionen eingestellten Maschen und zur Ausgabe des Ergebnisses nach einer Entfernung eines Teils der Maschen in dem Fourierbereich; und
einem Invers-Fouriertransformationsteil (84), der eine inverse Fouriertransformation der von dem Maschenentfernungsteil (85) ausgegebenen Daten ausführt.
15. Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mit einer Musterstruktur mit den Schritten:
  • a) Erzeugen von Maskendaten unter Verwendung der Maskendatenkorrekturvorrichtung (29) nach einem der Ansprüche 1 bis 12;
  • b) Erzeugen einer Übertragungsmaske (60) unter Verwendung der in dem Schritt (a) erzeugten Maskendaten;
  • c) Ausbilden eines Resists (101) auf der Oberfläche eines Materials (100) einer herzustellenden Vorrichtung;
  • d) Übertragen der in dem Schritt (b) erzeugten Übertragungsmaske (60) auf den Resist (101);
  • e) Strukturieren des Resists (101) in der in dem Schritt (d) übertragenen Musterform; und
  • f) Ausführen einer selektiven Verarbeitung des Materials unter Verwendung des gemusterten Resists (102) als eine Abschirmung.
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