DE10130464B4 - Plasmabeschleuniger-Anordnung - Google Patents

Plasmabeschleuniger-Anordnung Download PDF

Info

Publication number
DE10130464B4
DE10130464B4 DE10130464A DE10130464A DE10130464B4 DE 10130464 B4 DE10130464 B4 DE 10130464B4 DE 10130464 A DE10130464 A DE 10130464A DE 10130464 A DE10130464 A DE 10130464A DE 10130464 B4 DE10130464 B4 DE 10130464B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
plasma
plasma chamber
electron source
plasma jet
electrons
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE10130464A
Other languages
English (en)
Other versions
DE10130464A1 (de
Inventor
Günter Dr. Kornfeld
Werner Dr. Schwertfeger
Roland Lenz
Gregory Coustou
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Thales Electronic Systems GmbH
Original Assignee
Thales Electron Devices GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to DE10130464A priority Critical patent/DE10130464B4/de
Application filed by Thales Electron Devices GmbH filed Critical Thales Electron Devices GmbH
Priority to CNB028126041A priority patent/CN100512592C/zh
Priority to PCT/EP2002/006950 priority patent/WO2003000550A1/de
Priority to JP2003506766A priority patent/JP4669219B2/ja
Priority to RU2004101768/06A priority patent/RU2279769C2/ru
Priority to EP02747423A priority patent/EP1401708B1/de
Priority to DE50212966T priority patent/DE50212966D1/de
Priority to US10/481,778 priority patent/US7084572B2/en
Publication of DE10130464A1 publication Critical patent/DE10130464A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE10130464B4 publication Critical patent/DE10130464B4/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F03MACHINES OR ENGINES FOR LIQUIDS; WIND, SPRING, OR WEIGHT MOTORS; PRODUCING MECHANICAL POWER OR A REACTIVE PROPULSIVE THRUST, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F03HPRODUCING A REACTIVE PROPULSIVE THRUST, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F03H1/00Using plasma to produce a reactive propulsive thrust
    • F03H1/0037Electrostatic ion thrusters
    • F03H1/0062Electrostatic ion thrusters grid-less with an applied magnetic field
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B64AIRCRAFT; AVIATION; COSMONAUTICS
    • B64GCOSMONAUTICS; VEHICLES OR EQUIPMENT THEREFOR
    • B64G1/00Cosmonautic vehicles
    • B64G1/22Parts of, or equipment specially adapted for fitting in or to, cosmonautic vehicles
    • B64G1/40Arrangements or adaptations of propulsion systems
    • B64G1/405Ion or plasma engines
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F03MACHINES OR ENGINES FOR LIQUIDS; WIND, SPRING, OR WEIGHT MOTORS; PRODUCING MECHANICAL POWER OR A REACTIVE PROPULSIVE THRUST, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F03HPRODUCING A REACTIVE PROPULSIVE THRUST, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F03H1/00Using plasma to produce a reactive propulsive thrust
    • F03H1/0006Details applicable to different types of plasma thrusters
    • F03H1/0025Neutralisers, i.e. means for keeping electrical neutrality
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/54Plasma accelerators

Abstract

Plasmabeschleuniger-Anordnung mit einer Plasmakammer zwischen einer Anode und einer am Plasmastrahlausgang angeordneten Beschleunigungselektrode und einer Elektronenquelle, welche der Plasmakammer von der Seite des Plasmastrahlausgangs Elektronen zuführt, die zur Ionisation eines Arbeitsgases in der Plasmakammer in dieser einem elektrischen und einem magnetischen Feld ausgesetzt sind, wobei die Elektronenquelle durch eine passive Elektrodenfläche innerhalb der Plasmakammer gebildet ist, welche von einem Teil des Plasmastrahls beaufschlagt ist und beim Aufprall von Ionen Elektronen freisetzt.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Plasmabeschleuniger-Anordnung.
  • Plasmabeschleuniger-Anordnungen sind insbesondere in Form von Hall-Thrustern bekannt, welche eine um eine zentrale Längsachse verlaufende Plasmakammer besitzen. Am Boden der Plasmakammer ist eine ringförmige Anode angeordnet, von welcher aus sich die Plasmakammer im wesentlichen in Form eines Kreisringzylinders in Längsachsenrichtung zum Plasmastrahlausgang erstreckt. Auf der Seite des Plasmastrahlausgangs der Plasmakammer und typischerweise außerhalb dieser ist eine aktive Kathode, insbesondere in Form einer Plasmahohlkathode mit Gasentladung oder einer thermionischen Kathode, als Elektronenquelle angeordnet, welche Elektronen einerseits in die Plasmakammer und andererseits in Richtung des austretenden Plasmastrahls zu dessen Neutralisation emittiert. Die in die Plasmakammer geleiteten Elektronen werden durch ein elektrisches Feld in Richtung der Anode beschleunigt und durch ein magnetisches Feld auf ringförmige Driftbahnen gezwungen. Das magnetische Feld durchsetzt die Plasmakammer im wesentlichen radial und wird erzeugt durch eine von der ringförmigen Plasmakammer umgebene erste Polanordnung um die zentrale Längsachse und einer zweiten, die Plasmakammer außen umgebenden zweiten Polanordnung als magnetischem Gegenpol. Eine derartige Hall-Beschleuniger-Anordnung ist beispielsweise aus der EP 0 541 309 A1 bekannt.
  • Eine in der US 5 847 493 A beschriebene Hall-Beschleuniger-Anordnung zeigt ein komplexeres Magnetfeld, bei welchem ein zweites Polpaar in entgegengesetzter Ausrichtung in Längsrichtung von einem ersten Polpaar beabstandet ist. Beide Polpaare besitzen jeweils einen inneren, von der Plasmakammer umgebenen ersten und einen äußeren, die Plasmakammer umgebenden zweiten Pol.
  • Die DE 198 28 704 A1 zeigt eine Plasmabeschleuniger-Anordnung mit einer im wesentlichen kreiszylindrischen Plasmakammer, welche die Längsachse als Mittelachse enthält. Ein extern erzeugter gebündelter Elektronenstrahl wird durch eine die Plasmakammer umgebende Magnetanordnung mit in Längsrichtung alternierend aufeinanderfolgenden Polwechseln auf der Mittelachse geführt und dient neben einer die Ionisation des Arbeitsgases einleitenden Wirkung insbesondere zur Neutralisation des in gleicher Richtung aus der Plasmakammer austretenden Plasmastrahls.
  • Eine Plasmabeschleuniger-Anordnung aus der DE 1 222 589 A leitet gleichfalls einen gebündelten Elektronenstrahl durch eine langgestreckte Ionisationskammer und neutralisiert damit einen in gleicher Richtung aus der Plasmakammer austretenden Plasmastrahl. Ein Teil der Elektroden in der Plasmakammer kann aus Wolfram bestehen.
  • Bei einem in der US 4 296 327 A beschriebenen Teilchenbeschleuniger wird aus einer Kathode ein hochenergetischer gepulster Elektronenstrahl emittiert und durch eine Anodenblende geleitet, deren Blendenränder mit einem Plastikmaterial versehen sind. Auf das Plastikmaterial auftretende hochenergetische Elektronen schlagen aus dem Plastikmaterial Protonen aus, welche durch Raumladungseffekte von dem durch die Blendenöffnung durchtretenden Elektronenstrahl angezogen und in Strahlrichtung beschleunigt werden.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine weitere sich insbesondere durch einfachen Aufbau auszeichnende Plasmabeschleuniger-Anordnung anzugeben.
  • Die erfindungsgemäße Lösung ist in dem unabhängigen Anspruch angegeben. Die abhängigen Ansprüche enthalten vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung.
  • Die Erfindung sieht eine Plasmabeschleuniger-Anordnung vor, bei welcher als Quelle für Elektronen zur Ionisation eines Arbeitsgases eine passive Elektrodenfläche innerhalb der Plasmakammer vorzugsweise im Bereich des Plasmastrahlausgangs vorgesehen ist, welche von einem Teil der Ionen des Plasmastrahls, insbesondere aus dem Randbereich des Strahls beaufschlagt ist und beim Aufprall von Ionen Elektronen freisetzt. Als passive Elektronen emittierende Elektrode oder passive Kathode sei hierbei und im folgenden im Unterschied zu der eingangs genannten aktiven Kathode eine Elektrode zu verstehen, welche weder geheizt noch mit einer Gasentladung betrieben ist. Die derart freigesetzten Elektronen werden zumindest teilweise durch das elektrische Feld zwischen Beschleunigungselektrode entgegen der Laufrichtung des Plasmastrahls in Richtung der Anode beschleunigt und in an sich bekannter Weise durch das die Plasmakammer durchsetzende Magnetfeld beeinflußt, insbesondere zur Erhöhung der Verweildauer und der Ionisationswirkung auf Driftbahnen quer zur Längsrichtung der Plasmakammer gezwungen. Die Stoßionisation des Arbeitsgases setzt gleichzeitig weitere Elektronen frei.
  • Durch die Verwendung einer passiven Elektrodenfläche als Elektronenquelle für die ionisierenden Elektronen kann die Plasmabeschleuniger-Anordnung wesentlich vereinfacht werden. Vorzugsweise wird vollständig auf eine aktive Elektronenquelle verzichtet, wobei dann die passive Elektronenquelle unter dem Beschuß mit Ionen des Plasmastrahls auch die Elektronen zur Neutralisierung des Plasmastrahls emittiert, welche durch die Raumladung der Ionen in Richtung des Plasmastrahls angezogen und mitgetragen werden. Die Elektrodenquelle ist hierfür vorzugsweise durch eine Teilfläche der Beschleunigungselektrode gebildet.
  • Für die effiziente Erzeugung freier Elektronen bei Beschuß der Elektronenquelle mit Ionen des Plasmastrahls enthält die Elektronenquelle vorteilhafterweise ein Material, vorzugsweise ein Metall, mit geringer eigener Sputterbarkeit für lange Lebensdauer auch unter Ionenbeschuss und/oder mit hohem Elektronenauslösungsfaktor, welcher ein Maß für den Umfang eines bei Auftreffen eines Ions ausgelösten Elektronenschauers ist.
  • Die Anordnung der Elektronenquelle im Bereich des Plasmastrahlausgangs der Plasmakammer bewirkt eine hohe Energie der auf die Elektronenquelle aufschlagenden Ionen des beschleunigten Plasmastrahls und damit die Erzeugung einer ausreichenden Zahl von Elektronen. Wenn die Elektronenquelle vorteilhafterweise lediglich in einem Randbereich des Plasmastrahls angeordnet ist, treffen insbesondere Ionen aus einem stärker divergierenden Teil des Plasmastrahls, welche ohnehin durch die Divergenz einen reduzierten Anteil zum Rückstoßimpuls des Plasmastrahls beitragen, auf die Elektronenquelle auf.
  • Die Elektronenquelle zur Erzeugung von Elektronen für die Ionisation des Arbeitsgases kann auch von der Beschleunigungselektrode beabstandet zwischen dieser und der Anode angeordnet sein und dann im Mittel mit Ionen geringer kinetischer Energie als am Ausgang der Plasmakammer beaufschlagt sein. Dies kann insbesondere von Vorteil sein, wenn eine in Längsrichtung mehrstufige elektrische Elektrodenanordnung mit einer oder mehreren Zwischenelektroden zwischen Beschleunigungselektrode und Anode vorgesehen ist. Bei Erzeugung der Elektronen für die Ionisation des Arbeitsgases in einer Zwischenelektrodenstufe ist vorteilhafterweise eine separate Elektronenquelle zur Neutralisation des Plasmastrahl im Bereich des Ausgangs des Plasmastrahl aus der Plasmakammer vorgesehen.
  • Der Start der Ionisation in der Plasmakammer kann durch spontan, z. B. durch Einwirkung energiereicher Höhenstrahlung gebildete Elektron-Ion-Paare erfolgen, welche bei Anlegen eines elektrischen Feldes zwischen Beschleunigungselektrode und Anode auseinanderdriften und durch Stoßionisation weitere Ladungsträgertrennungen und durch Ionenaufschlag auf die passive Elektronenquelle die Freisetzung von Elektronen bewirken und die Erzeugung des Plasmas in Gang setzen. Eine anfängliche Ionisation kann auch ausgelöst und/oder unterstützt werden durch eine kurzfristige Erhöhung eines elektrischen Feldes und/oder des Drucks des Arbeitsgases in der Plasmakammer über die Werte des laufenden Betriebs hinaus.
  • Die Erzeugung von Elektronen für die Ionisation des Arbeitsgases und/oder die Neutralisation des austretenden Plasmastrahls mittels einer passiven, nicht geheizten und mit Ionen des Plasmastrahls beaufschlagten Elektronenquelle ist für die meisten der bekannten Geometrien der Plasmakammer, insbesondere die Ringform des Hall-Thrusters und die Kreiszylinderform mit in der Plasmakammer enthaltener zentraler Längsachse vorteilhaft einsetzbar. Besonders vorteilhaft ist der Einsatz der passiven Elektronenquelle in Verbindung mit einem Aufbau einer Plamsakammer mit mehreren in Längsrichtung der Plasmakammer aufeinanderfolgenden Stufen, welche jeweils eine eigene Elektrode auf einem Zwischenpotential zwischen Beschleunigungselektrode und Anode aufweisen und durch starke radiale Magnetfeldkomponenten zwischen den aufeinanderfolgenden Elektroden eine besonders hohe Vervielfältigungsrate der Elektronen aufweisen.
  • Die Magnetfeldanordnung ist vorteilhafterweise mehrstufig mit in Längsrichtung alternierend aufeinanderfolgenden Polwechseln aufgebaut und vorzugsweise kombiniert mit einer in Längsrichtung mehrstufigen Anordnung von Elektroden auf unterschiedlichen Potentialen mit wenigstens einer Zwischenelektrode im Längsverlauf der Plasmakammer auf einem Zwischenpotential zwischen Beschleunigungselektrode und Anode. Die Zwischenelektroden liegen vorzugsweise in Längsrichtung zwischen aufeinanderfolgenden gegensinnigen Magnetpolen.
  • Die Erfindung ist nachfolgend anhand bevorzugter Ausführungsbeispiele unter Bezugnahme auf die Abbildungen noch eingehend veranschaulicht. Dabei zeigt
  • 1 einen Längsschnitt durch eine Plasmakammer mit passiver Elektronenquelle
  • Der in 1 im Längsschnitt dargestellte Aufbau einer Plasmakammer ist stark vereinfacht gezeichnet. Die Plasmakammer PK ist seitlich begrenzt durch nichtleitende Kammerwände KW. Die Plasmakammer kann eine an sich bekannte Form besitzen, beispielsweise drehsymmetrisch um eine erste Längsachse LA(A), welche durch die Plasmakammer verläuft, im wesentlichen kreiszylindrisch oder nach Art eines Hall-Thrusters ringförmig um eine zweite Längsachse LA(B), welche dann nicht durch die Plasmakammer verläuft, aufgebaut sein. Im letzteren Fall ist ein zweiter Längsschnitt spiegelsymmetrisch zur Längsachse LA(B) zu ergänzen. Im folgenden wird der weiteren Erläuterung der 1 der erstgenannte Aufbau mit zentraler Längsachse LA(A) zugrunde gelegt.
  • Die Plasmakammer kann mit einem anodenseitigen Flansch FA und einem ausgangsseitigen Flansch FB zur Befestigung innerhalb einer größeren Anordnung versehen sein. Die Kammerwand KW kann beispielsweise aus Keramik bestehen.
  • In der Plasmakammer, welche sich zwischen einer Anodenelektrode AO und einer beim Ausgang PA des Plasmastrahls PB befindlichen Kathode KA als Beschleunigungselektrode für die positiv geladenen Ionen eines Arbeitsgases, beispielsweise Xenon, erstreckt, können weitere Zwischenelektroden Z1 bis Zn, im skizzierten Beispiel Z1 und Z2 in Längsrichtung LR aufeinanderfolgend vorgesehen sein. Die Zwischenelektroden Z1, Z2 liegen auf verschiedenen elektrischen Zwischenpotentialen zwischen den Potentialen von Anode AO und Kathode KA. Die Zuleitungen zu den einzelnen Elektroden sind nicht mit eingezeichnet.
  • Außerhalb der Plasmakammer PK und der sie umgebenden Kammerwand KW ist eine Magnetanordnung angebracht, welche die Plasmakammer PK vorzugsweise ringförmig umgibt.
  • Die Polung der in Längsrichtung aufeinanderfolgenden Stufen der Magnetanordnung ist von Stufe zu Stufe alternierend. Die Magnetpole der einzelnen Stufen liegen bevorzugt jeweils bei den Lücken zwischen den in Längsrichtung aufeinanderfolgenden Stufen. Durch die alternierende Polung aufeinanderfolgender Stufen der Magnetanordnung bildet sich in der Plasmakammer ein besonders günstiger Magnetfeldverlauf mit starken radialen Komponenten an den Lücken zwischen aufeinanderfolgenden Elektroden.
  • Der Plasmastrahl bildet sich gebündelt ohne scharfe Grenzen um die Längsachse (bzw. bei ringförmiger Plasmakammer um die Mitte der Plasmakammer) aus und zeigt typischerweise zum Ausgang PA hin in Längsrichtung eine leichte Divergenz. Das elektrische Feld in der Plasmakammer beschleunigt die Ionen des Arbeitsgases in Richtung des Plasmastrahlausgangs PA. Dabei treten auch Ionen auf, welche im Randbereich RB des Plasmastrahls so weit von der zentralen Längsachse entfernt sind, daß sie seitlich auf Elektrodenflächen, insbesondere im Bereich des Strahlausgangs PA auf die Kathode KA treffen. Durch die hohe kinetische Energie der Ionen können dabei Elektronen aus der Oberfläche der passiven Kathode ausgeschlagen werden. Diese aus der passiven Kathode freigesetzten Elektronen können zum einen durch die Differenzen der anliegenden Potentiale in Richtung der Anode beschleunigt werden und sich unter dem Einfluß der in der Plasmakammer herrschenden elektrischen und magnetischen Felder in der Plasmakammer bewegen und dabei durch Stoßionisation des Arbeitsgases, welches als neutrales Gas im Bereich der Anode eingeleitet ist, sowohl positiv geladene Ionen als auch weitere Elektronen erzeugen. Dieser aus der Kathode durch Ionenaufschlag freigesetzte Anteil von Elektronen ist in 1 mit e1 bezeichnet.
  • Zum anderen können die aus der Kathode freigesetzten Elektronen sich unter dem Einfluß der positiven Raumladung eines noch nicht neutralisierten Plasmastrahls als Anteil e2 zu dem Plasmastrahl hin bewegen und zu dessen Neutralisation beitragen.
  • Die Kathode KA kann vollständig oder zumindest an einer den aufschlagenden Ionen zugewandten Teilfläche ein Material mit niedriger eigener Sputterbarkeit aufweisen, aus welchem unter Ionenbeschuss keine materialeigenen Atome gelöst werden, und hierfür auch eine speziell präparierte Teiloberfläche oder einen Einsatz ES aufweisen.
  • Der Aufschlag von Ionen mit Freisetzung von Elektronen kann auch an anderer Stelle, insbesondere auch an den Zwischenelektroden Z1, Z2 auftreten, wobei der Energieverlust aus dem Plasmastrahl wegen der an dieser Stelle im Mittel geringeren kinetischen Energie des aufschlagenden Ions geringer ist. Ein Aufprall eines Ions auf die Kathode als letzter Elektrode im Längsverlauf der Plasmakammer kann aber wegen der dort höheren Energie der Ionen mehr Elektronen ausschlagen und diese zeigen auf dem längeren Weg durch die Plasmakammer auch einen wesentlich höheren Vervielfältigungsfaktor, insbesondere bei einem mehrstufigen Aufbau der Elektroden- und Magnetanordnung.
  • Anstelle oder zusätzlich zu der Beschleunigungselektrode KA selbst kann auch eine gesonderte Elektrode zur Freisetzung von Elektronen durch Ionenaufprall vorgesehen sein. Ferner kann, falls die Neutralisierungswirkung durch mittels Ionenaufprall erzeugte freie Elektronen unzureichend ist, eine zusätzliche geheizte Elektronenquelle als Neutralisator am Ausgang der Plasmakammer vorgesehen sein. Bevorzugt wegen des besonders einfachen Aufbaus ist aber eine Ausführung gänzlich ohne aktive Elektronenquelle und mit Erzeugung freier Elektronen zur Ionisation und zur Neutralisation aus einer passiven Elektrode allein durch Aufprall von Ionen aus dem Plasmastrahl selbst.
  • Der Start der Ionisation des Arbeitsgases kann bei Einleitung von Arbeitsgas in die Plasmakammer u. U. durch spontane Ladungsträgertrennung oder Einwirkung hochenergetischer Höhenstrahlung mit nachfolgender Vervielfachung getrennter Ladungsträger in der Plasmakammer erfolgen. Es kann aber auch zur Unterstützung und/oder Sicherstellung des Ionisationsstarts anfänglich bei Einleiten des Arbeitsgases durch kurzfristig höheren Druck des Arbeitsgases und/oder höhere Spannung zwischen zwei Elektroden eine Gasentladung gezündet werden.

Claims (6)

  1. Plasmabeschleuniger-Anordnung mit einer Plasmakammer zwischen einer Anode und einer am Plasmastrahlausgang angeordneten Beschleunigungselektrode und einer Elektronenquelle, welche der Plasmakammer von der Seite des Plasmastrahlausgangs Elektronen zuführt, die zur Ionisation eines Arbeitsgases in der Plasmakammer in dieser einem elektrischen und einem magnetischen Feld ausgesetzt sind, wobei die Elektronenquelle durch eine passive Elektrodenfläche innerhalb der Plasmakammer gebildet ist, welche von einem Teil des Plasmastrahls beaufschlagt ist und beim Aufprall von Ionen Elektronen freisetzt.
  2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektronenquelle durch eine Teilfläche der Beschleunigungselektrode gebildet ist.
  3. Anordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass in Längsrichtung zwischen Anode und Beschleunigungselektrode eine oder mehrere Zwischenelektroden angeordnet sind, die auf elektrischen Zwischenpotentialen liegen, und dass eine in Längsrichtung mehrstufige Magnetanordnung ein Magnetfeld mit einer Konzentration radialer Magnetfeldkomponeneten zwischen aufeinanderfolgenden Elektroden erzeugt.
  4. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektronenquelle metallisch ist.
  5. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektronenquelle zusätzlich Elektronen zur Neutralisierung des austretenden Plasmastrahls liefert und hierfür keine zusätzliche aktive Elektronenquelle vorhanden ist.
  6. Plasmabeschleuniger-Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die passive Elektrodenfläche im Bereich des Plasmastrahlausgangs der Plasmakammer angeordnet ist.
DE10130464A 2001-06-23 2001-06-23 Plasmabeschleuniger-Anordnung Expired - Fee Related DE10130464B4 (de)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10130464A DE10130464B4 (de) 2001-06-23 2001-06-23 Plasmabeschleuniger-Anordnung
PCT/EP2002/006950 WO2003000550A1 (de) 2001-06-23 2002-06-24 Plasmabeschleuniger-anordnung
JP2003506766A JP4669219B2 (ja) 2001-06-23 2002-06-24 プラズマ加速装置
RU2004101768/06A RU2279769C2 (ru) 2001-06-23 2002-06-24 Плазменный ускоритель
CNB028126041A CN100512592C (zh) 2001-06-23 2002-06-24 等离子加速器装置
EP02747423A EP1401708B1 (de) 2001-06-23 2002-06-24 Plasmabeschleuniger-anordnung
DE50212966T DE50212966D1 (de) 2001-06-23 2002-06-24 Plasmabeschleuniger-anordnung
US10/481,778 US7084572B2 (en) 2001-06-23 2002-06-24 Plasma-accelerator configuration

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10130464A DE10130464B4 (de) 2001-06-23 2001-06-23 Plasmabeschleuniger-Anordnung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE10130464A1 DE10130464A1 (de) 2003-01-02
DE10130464B4 true DE10130464B4 (de) 2010-09-16

Family

ID=7689296

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10130464A Expired - Fee Related DE10130464B4 (de) 2001-06-23 2001-06-23 Plasmabeschleuniger-Anordnung
DE50212966T Expired - Lifetime DE50212966D1 (de) 2001-06-23 2002-06-24 Plasmabeschleuniger-anordnung

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE50212966T Expired - Lifetime DE50212966D1 (de) 2001-06-23 2002-06-24 Plasmabeschleuniger-anordnung

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7084572B2 (de)
EP (1) EP1401708B1 (de)
JP (1) JP4669219B2 (de)
CN (1) CN100512592C (de)
DE (2) DE10130464B4 (de)
RU (1) RU2279769C2 (de)
WO (1) WO2003000550A1 (de)

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10300776B3 (de) * 2003-01-11 2004-09-02 Thales Electron Devices Gmbh Ionenbeschleuniger-Anordnung
DE10300728B3 (de) * 2003-01-11 2004-09-02 Thales Electron Devices Gmbh Ionenbeschleuniger-Anordnung
WO2004079188A2 (de) 2003-03-05 2004-09-16 Thales Electron Devices Gmbh Antriebsvorrichtung eines raumflugkörpers und verfahren zur lagesteuerung eines raumflugkörpers mit einer solchen antriebsvorrichtung
DE10318925A1 (de) * 2003-03-05 2004-09-16 Thales Electron Devices Gmbh Antriebsvorrichtung eines Raumflugkörpers und Verfahren zur Lagesteuerung eines Raumflugkörpers mit einer solchen Antriebsvorrichtung
FR2857555B1 (fr) * 2003-07-09 2005-10-14 Snecma Moteurs Accelerateur a plasma a derive fermee d'electrons
US7204078B2 (en) * 2004-07-21 2007-04-17 United Technologies Corporation Staged emitter-attractor ion drive
ITMI20050585A1 (it) * 2005-04-07 2006-10-08 Francesco Cino Matacotta Apparato e processo per la generazione accelerazione e propagazione di fasci di elettroni e plasma
KR101094919B1 (ko) * 2005-09-27 2011-12-16 삼성전자주식회사 플라즈마 가속기
CN101296842B (zh) * 2005-10-17 2012-05-09 贝尔直升机特克斯特龙有限公司 用于垂直升降飞行器的翼状物、机舱和/或机身上的减阻的等离子体激励器
JP4697460B2 (ja) * 2006-10-04 2011-06-08 三菱電機株式会社 電源装置
US8006939B2 (en) 2006-11-22 2011-08-30 Lockheed Martin Corporation Over-wing traveling-wave axial flow plasma accelerator
US7870720B2 (en) * 2006-11-29 2011-01-18 Lockheed Martin Corporation Inlet electromagnetic flow control
DE102006059264A1 (de) * 2006-12-15 2008-06-19 Thales Electron Devices Gmbh Plasmabeschleunigeranordnung
US8016247B2 (en) * 2007-05-25 2011-09-13 The Boeing Company Plasma flow control actuator system and method
US8016246B2 (en) * 2007-05-25 2011-09-13 The Boeing Company Plasma actuator system and method for use with a weapons bay on a high speed mobile platform
DE102007044074B4 (de) * 2007-09-14 2011-05-26 Thales Electron Devices Gmbh Elektrostatische Ionenbeschleunigeranordnung
DE102007044070A1 (de) 2007-09-14 2009-04-02 Thales Electron Devices Gmbh Ionenbeschleunigeranordnung und dafür geeignete Hochspannungsisolatoranordnung
DE102007044071A1 (de) 2007-09-14 2009-04-02 Thales Electron Devices Gmbh Antriebsanordnung in einem Raumflugkörper
DE102007043955B4 (de) * 2007-09-14 2010-07-22 Thales Electron Devices Gmbh Vorrichtung zur Verminderung der Beaufschlagung eines Flächenabschnitts durch positiv geladene Ionen und Ionenbeschleunigeranordnung
DE102007062150A1 (de) * 2007-09-14 2009-04-02 Thales Electron Devices Gmbh Vorrichtung zur Ableitung von Verlustwärme sowie Ionenbeschleunigeranordnung und Wanderfeldröhrenanordnung mit einer Wärmeleitanordnung
FR2945842B1 (fr) 2009-05-20 2011-07-01 Snecma Propulseur a plasma a effet hall.
GB2480997A (en) * 2010-06-01 2011-12-14 Astrium Ltd Plasma thruster
US20130026917A1 (en) * 2011-07-29 2013-01-31 Walker Mitchell L R Ion focusing in a hall effect thruster
CN103037609B (zh) * 2013-01-10 2014-12-31 哈尔滨工业大学 射流等离子体电子能量调节器
JP6214874B2 (ja) * 2013-01-22 2017-10-18 国立大学法人 東京大学 イオンエンジンのプラズマ着火用ガス供給方法及びシステム
CN103327721B (zh) * 2013-06-24 2016-01-27 哈尔滨工业大学 一种控制会切磁场推力器羽流发散角度的方法
CN103397991A (zh) * 2013-08-21 2013-11-20 哈尔滨工业大学 一种基于多级尖端会切磁场的等离子体推力器
CN103835905B (zh) * 2014-03-03 2016-06-15 哈尔滨工业大学 多级会切磁场等离子体推动器的变截面通道
CN103836031B (zh) * 2014-03-03 2016-01-27 哈尔滨工业大学 环形永磁铁装配机构
CN103835906B (zh) * 2014-03-25 2016-06-01 哈尔滨工业大学 模块化的多级会切磁场等离子体推力器
CN105072792A (zh) * 2015-07-13 2015-11-18 兰州空间技术物理研究所 一种柱形磁铁四级环尖离子推力器磁场
DE102016206039A1 (de) 2016-04-12 2017-10-12 Airbus Ds Gmbh Entladungskammer eines Ionenantriebs, Ionenantrieb mit einer Entladungskammer und eine Blende zur Anbringung in einer Entladungskammer eines Ionenantriebs
CN105799955B (zh) * 2016-05-18 2018-01-05 张金良 运用在真空状态下的推进机构
CN107035638B (zh) * 2016-12-07 2020-01-21 兰州空间技术物理研究所 一种离子推力器放电室结构
FR3062545B1 (fr) * 2017-01-30 2020-07-31 Centre Nat Rech Scient Systeme de generation d'un jet plasma d'ions metalliques
DE102017204590B3 (de) 2017-03-20 2018-08-02 Airbus Defence and Space GmbH Cusp-Feld-Triebwerk
CN113357110B (zh) * 2021-07-02 2022-11-04 哈尔滨工业大学 降低微型离子电推力器中原初电子损耗的方法及结构
CN114554670B (zh) * 2022-02-14 2022-11-29 西安电子科技大学 一种等离子体射流系统及控制方法

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1222589B (de) * 1961-03-27 1966-08-11 Atomic Energy Commission Vorrichtung zum Erzeugen eines raumladungsneutralisierten Strahles geladener Teilchen
US3462622A (en) * 1966-04-27 1969-08-19 Xerox Corp Plasma energy extraction
US3735591A (en) * 1971-08-30 1973-05-29 Usa Magneto-plasma-dynamic arc thruster
US3956666A (en) * 1975-01-27 1976-05-11 Ion Tech, Inc. Electron-bombardment ion sources
US4296327A (en) * 1980-06-02 1981-10-20 The Boeing Company Multi-stage collective field charged particle accelerator
JPS59123152A (ja) * 1982-12-28 1984-07-16 Hajime Ishimaru イオンポンプ
US4821508A (en) * 1985-06-10 1989-04-18 Gt-Devices Pulsed electrothermal thruster
US4821509A (en) * 1985-06-10 1989-04-18 Gt-Devices Pulsed electrothermal thruster
EP0541309A1 (de) * 1991-11-04 1993-05-12 Fakel Enterprise Plasmabeschleuniger mit geschlossener Elektronenlaufbahn
JPH06249131A (ja) * 1993-02-24 1994-09-06 Natl Aerospace Lab イオンエンジン
JPH0845697A (ja) * 1994-08-01 1996-02-16 Joshin Uramoto 反射型シートプラズマによるプラズマプロセシング装置
US5847493A (en) * 1996-04-01 1998-12-08 Space Power, Inc. Hall effect plasma accelerator
DE19828704A1 (de) * 1998-06-26 1999-12-30 Thomson Tubes Electroniques Gm Plasmabeschleuniger-Anordnung
DE19928053A1 (de) * 1999-06-15 2001-01-11 Hermann Schlemm Anordnung zur Erzeugung eines Niedertemperaturplasmas durch eine magnetfeldgestützte Kathodenentladung
DE10014033A1 (de) * 2000-03-22 2001-10-04 Thomson Tubes Electroniques Gm Plasma-Beschleuniger-Anordnung

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3309873A (en) * 1964-08-31 1967-03-21 Electro Optical Systems Inc Plasma accelerator using hall currents
US3831052A (en) * 1973-05-25 1974-08-20 Hughes Aircraft Co Hollow cathode gas discharge device
US3916239A (en) * 1973-07-05 1975-10-28 Varian Associates High energy beam launching apparatus and method
JPS6477764A (en) * 1987-09-18 1989-03-23 Toshiba Corp Hall type ion thruster
JPH01235138A (ja) * 1988-03-14 1989-09-20 Fuji Electric Co Ltd 冷陰極電子銃
US5274306A (en) * 1990-08-31 1993-12-28 Kaufman & Robinson, Inc. Capacitively coupled radiofrequency plasma source
RU1796777C (ru) * 1991-06-28 1993-02-23 Опытное конструкторское бюро "Факел" Стационарный плазменный двигатель
JPH05144397A (ja) * 1991-11-20 1993-06-11 Mitsubishi Electric Corp イオン源
US5466929A (en) * 1992-02-21 1995-11-14 Hitachi, Ltd. Apparatus and method for suppressing electrification of sample in charged beam irradiation apparatus
JP3095614B2 (ja) * 1993-04-30 2000-10-10 株式会社東芝 半導体ウェハ等の被処理体をプラズマ処理するに際して使用されるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
WO1995000758A1 (fr) * 1993-06-21 1995-01-05 Societe Europeenne De Propulsion Moteur a plasma de longueur reduite a derive fermee d'electrons
KR100271244B1 (ko) * 1993-09-07 2000-11-01 히가시 데쓰로 전자빔 여기식 플라즈마장치
WO1996006518A1 (fr) * 1994-08-25 1996-02-29 Aeorospatiale Societe Nationale Industrielle Accelerateur plasmatique a flux electronique ferme
US5497006A (en) * 1994-11-15 1996-03-05 Eaton Corporation Ion generating source for use in an ion implanter
RU2084085C1 (ru) * 1995-07-14 1997-07-10 Центральный научно-исследовательский институт машиностроения Ускоритель с замкнутым дрейфом электронов
US5760405A (en) * 1996-02-16 1998-06-02 Eaton Corporation Plasma chamber for controlling ion dosage in ion implantation
US5703375A (en) * 1996-08-02 1997-12-30 Eaton Corporation Method and apparatus for ion beam neutralization
US5934965A (en) * 1997-04-11 1999-08-10 Hughes Electronics Corporation Apertured nonplanar electrodes and forming methods
US5892329A (en) * 1997-05-23 1999-04-06 International Space Technology, Inc. Plasma accelerator with closed electron drift and conductive inserts
US5947421A (en) * 1997-07-09 1999-09-07 Beattie; John R. Electrostatic propulsion systems and methods
US6075321A (en) * 1998-06-30 2000-06-13 Busek, Co., Inc. Hall field plasma accelerator with an inner and outer anode
DE19835512C1 (de) * 1998-08-06 1999-12-16 Daimlerchrysler Aerospace Ag Ionentriebwerk
US6777862B2 (en) * 2000-04-14 2004-08-17 General Plasma Technologies Llc Segmented electrode hall thruster with reduced plume
US6448721B2 (en) * 2000-04-14 2002-09-10 General Plasma Technologies Llc Cylindrical geometry hall thruster

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1222589B (de) * 1961-03-27 1966-08-11 Atomic Energy Commission Vorrichtung zum Erzeugen eines raumladungsneutralisierten Strahles geladener Teilchen
US3462622A (en) * 1966-04-27 1969-08-19 Xerox Corp Plasma energy extraction
US3735591A (en) * 1971-08-30 1973-05-29 Usa Magneto-plasma-dynamic arc thruster
US3956666A (en) * 1975-01-27 1976-05-11 Ion Tech, Inc. Electron-bombardment ion sources
US4296327A (en) * 1980-06-02 1981-10-20 The Boeing Company Multi-stage collective field charged particle accelerator
JPS59123152A (ja) * 1982-12-28 1984-07-16 Hajime Ishimaru イオンポンプ
US4821508A (en) * 1985-06-10 1989-04-18 Gt-Devices Pulsed electrothermal thruster
US4821509A (en) * 1985-06-10 1989-04-18 Gt-Devices Pulsed electrothermal thruster
EP0541309A1 (de) * 1991-11-04 1993-05-12 Fakel Enterprise Plasmabeschleuniger mit geschlossener Elektronenlaufbahn
JPH06249131A (ja) * 1993-02-24 1994-09-06 Natl Aerospace Lab イオンエンジン
JPH0845697A (ja) * 1994-08-01 1996-02-16 Joshin Uramoto 反射型シートプラズマによるプラズマプロセシング装置
US5847493A (en) * 1996-04-01 1998-12-08 Space Power, Inc. Hall effect plasma accelerator
DE19828704A1 (de) * 1998-06-26 1999-12-30 Thomson Tubes Electroniques Gm Plasmabeschleuniger-Anordnung
DE19928053A1 (de) * 1999-06-15 2001-01-11 Hermann Schlemm Anordnung zur Erzeugung eines Niedertemperaturplasmas durch eine magnetfeldgestützte Kathodenentladung
DE10014033A1 (de) * 2000-03-22 2001-10-04 Thomson Tubes Electroniques Gm Plasma-Beschleuniger-Anordnung

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP 06 249 131 A (Abstract) *
JP 08 045 697 A (Abstract) *
JP 08-045 697 A (Abstract) JP 06-249 131 A (Abstract)

Also Published As

Publication number Publication date
EP1401708B1 (de) 2008-10-29
US7084572B2 (en) 2006-08-01
RU2279769C2 (ru) 2006-07-10
US20040183452A1 (en) 2004-09-23
EP1401708A1 (de) 2004-03-31
WO2003000550A1 (de) 2003-01-03
CN1606517A (zh) 2005-04-13
DE50212966D1 (de) 2008-12-11
CN100512592C (zh) 2009-07-08
DE10130464A1 (de) 2003-01-02
JP2004531038A (ja) 2004-10-07
RU2004101768A (ru) 2005-05-10
JP4669219B2 (ja) 2011-04-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE10130464B4 (de) Plasmabeschleuniger-Anordnung
EP1123642B1 (de) Plasmabeschleuniger-anordnung
DE3429591A1 (de) Ionenquelle mit wenigstens zwei ionisationskammern, insbesondere zur bildung von chemisch aktiven ionenstrahlen
DE3328423A1 (de) Negative ionenquelle
EP1269803B1 (de) Plasma-beschleuniger-anordnung
DE102014226039A1 (de) Ionisierungseinrichtung und Massenspektrometer damit
DE3718244A1 (de) Speicherionenquelle fuer flugzeit-massenspektrometer
DE102007043955B4 (de) Vorrichtung zur Verminderung der Beaufschlagung eines Flächenabschnitts durch positiv geladene Ionen und Ionenbeschleunigeranordnung
EP1442640B1 (de) Plasmabeschleuniger-anordnung
DE102017204590B3 (de) Cusp-Feld-Triebwerk
EP0631712B1 (de) Verfahren zum beschleunigen elektrisch geladener teilchen
DE1153463B (de) Plasmaerzeuger zur Erzeugung eines kontinuierlichen Plasmastrahls
EP0810628A2 (de) Quelle zur Erzeugung von grossflächigen, gepulsten Ionen- und Elektronenstrahlen
WO2004064461A1 (de) Ionenbeschleuniger-anordnung
DE2608958A1 (de) Vorrichtung zum erzeugen von strahlen aus geladenen teilchen
WO2017211627A1 (de) Magnetfreie erzeugung von ionenpulsen
CH650104A5 (de) Mit bombardierung durch elektronen arbeitende ionenquelle.
DE2362723C3 (de) Ionenquelle zur Erzeugung einfach und/oder mehrfach geladener Ionen
DE102017218456B3 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen von Ionenpulsen sowie deren Verwendung
DE2712829C3 (de) Ionenquelle
EP2586052A1 (de) Vorrichtung zur strukturierung von festkörperflächen mit ionenstrahlen aus einem ionenstrahlspektrum
EP1604110B1 (de) Antriebsvorrichtung eines raumflugkörpers und verfahren zur lagesteuerung eines raumflugkörpers mit einer solchen antriebsvorrichtung
DE2025987B2 (de) Ionenquelle
DE766171C (de) Entladungsrohr mit Gas- oder Dampffuellung
DE102010060661A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen von ultraviolettem Licht

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
8110 Request for examination paragraph 44
8364 No opposition during term of opposition
R082 Change of representative

Representative=s name: GERHARD WEBER, DE

R081 Change of applicant/patentee

Owner name: THALES AIR SYSTEMS & ELECTRON DEVICES GMBH, DE

Free format text: FORMER OWNER: THALES ELECTRON DEVICES GMBH, 89077 ULM, DE

Effective date: 20120911

Owner name: THALES ELECTRONIC SYSTEMS GMBH, DE

Free format text: FORMER OWNER: THALES ELECTRON DEVICES GMBH, 89077 ULM, DE

Effective date: 20120911

R082 Change of representative

Representative=s name: GERHARD WEBER, DE

Effective date: 20120911

Representative=s name: BAUR & WEBER PATENTANWAELTE PARTG MBB, DE

Effective date: 20120911

Representative=s name: BAUR & WEBER PATENTANWAELTE, DE

Effective date: 20120911

R082 Change of representative

Representative=s name: BAUR & WEBER PATENTANWAELTE, DE

R081 Change of applicant/patentee

Owner name: THALES ELECTRONIC SYSTEMS GMBH, DE

Free format text: FORMER OWNER: THALES AIR SYSTEMS & ELECTRON DEVICES GMBH, 89077 ULM, DE

Effective date: 20130911

R082 Change of representative

Representative=s name: BAUR & WEBER PATENTANWAELTE PARTG MBB, DE

Effective date: 20130911

Representative=s name: BAUR & WEBER PATENTANWAELTE, DE

Effective date: 20130911

R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee