DE1540512B2 - Verfahren zur herstellung einer mehrschicht-leiterplatte - Google Patents

Verfahren zur herstellung einer mehrschicht-leiterplatte

Info

Publication number
DE1540512B2
DE1540512B2 DE19651540512 DE1540512A DE1540512B2 DE 1540512 B2 DE1540512 B2 DE 1540512B2 DE 19651540512 DE19651540512 DE 19651540512 DE 1540512 A DE1540512 A DE 1540512A DE 1540512 B2 DE1540512 B2 DE 1540512B2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
insulating
insulating plate
metal foil
conductive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19651540512
Other languages
English (en)
Other versions
DE1540512C3 (de
DE1540512A1 (de
Inventor
Charles Judson Reeds Ferry N H Murch jun (V St A )
Original Assignee
Sanders Associates, Ine , Nashua, NH (VStA)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanders Associates, Ine , Nashua, NH (VStA) filed Critical Sanders Associates, Ine , Nashua, NH (VStA)
Publication of DE1540512A1 publication Critical patent/DE1540512A1/de
Publication of DE1540512B2 publication Critical patent/DE1540512B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE1540512C3 publication Critical patent/DE1540512C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4644Manufacturing multilayer circuits by building the multilayer layer by layer, i.e. build-up multilayer circuits
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/42Plated through-holes or plated via connections
    • H05K3/421Blind plated via connections
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0335Layered conductors or foils
    • H05K2201/0355Metal foils
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0388Other aspects of conductors
    • H05K2201/0394Conductor crossing over a hole in the substrate or a gap between two separate substrate parts
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09Shape and layout
    • H05K2201/09209Shape and layout details of conductors
    • H05K2201/095Conductive through-holes or vias
    • H05K2201/09563Metal filled via
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/06Lamination
    • H05K2203/063Lamination of preperforated insulating layer
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/18Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
    • H05K3/181Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/42Plated through-holes or plated via connections
    • H05K3/423Plated through-holes or plated via connections characterised by electroplating method
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/42Plated through-holes or plated via connections
    • H05K3/425Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern
    • H05K3/427Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern initial plating of through-holes in metal-clad substrates
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S205/00Electrolysis: processes, compositions used therein, and methods of preparing the compositions
    • Y10S205/92Electrolytic coating of circuit board or printed circuit, other than selected area coating
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • Y10T29/4913Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc.
    • Y10T29/49146Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc. with encapsulating, e.g., potting, etc.
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • Y10T29/49155Manufacturing circuit on or in base

Description

3 4
F i g. 3 einen Querschnitt durch eine aus Dielek- weise kann die Isolierplatte 21 aus H-Film-Kunst-
trikum und Metallfolie bestehende Schichtplatte, stoff bestehen, der beidseitig mit einer dünnen
F i g. 4 einen Querschnitt durch eine Mehrschicht- Schicht aus Teflon beschichtet ist, damit er am Kupplatte gemäß der Erfindung, fer oder an der Metallfolie 24 besser haftet. Che-
F i g. 5 einen Querschnitt durch eine geätzte 5 misch betrachtet ist Teflon fluorisiertes Aethylen und
Mehrschichtplatte der Erfindung, Propylen und der H-FiIm ein Polyamid. Teflon und
F i g. 6 einen Querschnitt durch eine eingekapselte 1-J-FiIm sind Warenzeichen der Du Pont Company,
Mehrschichtplatte der Erfindung, Delaware. Die Auswahl von mit Teflon überzogenem
Fig.7 einen Querschnitt durch eine mehrfach ger E^Film beim bevorzugten Ausführungsbeispiel ergibt
ätzte, vollständig gekapselte Mehrschichtplatte der io bestimmte Vorteile. Selbstverständlich beschränkt
Erfindung, sich die Erfindung nicht auf die Verwendung von ir-
F i g. 8 eine räumliche Darstellung einer Art Lei- gendwelchen thermo- oder duroplastischen Kunst-
tungsanordnung, wie sie nach der vorliegenden Erfin- stoffen. Da der beidseitig mit Teflon überzogene
dung hergestellt werden kann, H-FiIm eine höhere Schmelztemperatur als das Te-
F i g. 9 einen Querschnitt durch eine Mehrschicht- 15 flon hat, kann das Aufbringen der nachstehend beplatte der Erfindung, bei welcher der Ätzvorgang ab- schriebenen, zur Einkapselung dienenden Deckgewandelt wird, schichten unter Wärme und Druck erfolgen, ohne
F i g. 10 einen Querschnitt durch eine in einem daß dabei die Gefahr besteht, daß der H-FiIm beim Arbeitsgang geätzte Mehrschichtplatte vor der end- Verkleben der Deckschicht mit dem Teflon aufgültigen Einkapselung, 20 weicht. Der hochschmelzende H-FiIm ermöglicht
F i g. 11 einen Querschnitt durch eine aus Dielek- außerdem die Herstellung der mehrlagigen Schaltung
trikum und Metallfolie bestehende Schichtplatte mit und bietet die Möglichkeit, die ganze Leiterplatte in
aktivierten Löchern im Dielektrikum und ein Lötbad zu tauchen. Durch die Verwendung meh-
Fig. 12 ein weiteres Ausführungsbeispiel der Er- rerer Isolierschichten wird außerdem erreicht, daß
findung mit unabhängig aufgebauten Durchverbin- 25 die Gesamtisolierung mechanisch stabil ist, da Teflon
düngen. die Eigenheit aufweist, ständig zu schrumpfen, insbe-
F i g. 1 zeigt eine Platte aus Metallfolie 16 sowie sondere bei Erwärmung.
eine darüber angeordnete Isolierplatte 11, in der Lö- Als Metallfolie 24 kann Kupfer, Nickel oder ein
eher 12, 13 und 14 vorgesehen sind. Diese Figur anderes geeignetes leitendes Material verwendet wer-
dient lediglich zur Veranschaulichung der benutzten 30 den, das sich zur Herstellung von Folien eignet. An
Materialien und der Tatsache, daß die Isolierplatte dieser Stelle sei darauf hingewiesen, daß die Abmes-
11 und die Metallfolie 16 einen Raum einnehmen sungen in den Figuren zwecks Veranschaulichung
oder einnehmen können, dessen Größe von der her- und Beschreibung der Erfindung stark übertrieben
zustellenden Schaltung sowie deren Verwendungs- dargestellt sind, Tatsächlich sind die einzelnen
zweck abhängt. 35 Schichten in der Praxis äußerst dünn. So beträgt bei-
F i g. 2 zeigt einen Schnitt durch eine typische Iso- spielsweise die Dicke der aus Kunststoff bestehenden
lierplatte 21 aus Kunststoff mit Löchern 22, 23. isolierplatte 21 im allgemeinen etwa 0,125 mm und
Diese Löcher lassen sich durch Perforieren, Bohren, die Dicke der Metallfolie etwa 0,0125 bis 0,25 mm.
Stanzen oder sogar durch chemisches Ätzen herstel- Ist die Isolierplatte 21 mit der Metallfolie ver-
len. Die Löcher sind in der Platte so angeordnet, daß 40 klebt, so wird die gesamte Oberfläche der Isolier^
sie einen freien Durchgang zur Herstellung von nach- platte behandelt, so daß man die behandelten Flä-
stehend noch im einzelnen beschriebenen Durchver- chen 28, 29 und 31 erhält. Eine weitere Neuerung
bindungen bilden. besteht in dem Gedanken, die Isolierfläche zwecks
Direkt unterhalb der Isolierplatte 21 ist eine Anfertigung eines Leitungsmusters wahlweise zu akr Platte aus Metallfolie 24 dargestellt. Ober- und Un- 45 tivieren, um später eine Leitschicht aufzubringen. In terseite der Metallfolie sind vorbehandelt, wie scher den Fällen, in denen Kupferoxyd oder ein Kleber matisch bei 26 und 27 angedeutet ist. Diese Vorbe^ verwendet wird, muß von den Folienflächen am Bohandlung ist nicht Gegenstand der vorliegenden Er- den der Löcher 22, 23 das Kupferoxyd oder der KIefindung. Sie kann sich auf das Aufbringen einer KIe- ber entfernt werden. Das Kupferoxyd kann mit einer berschicht beziehen, um die Verklebung der Metall- 50 Salzsäurelösung und der Kleber mit einem geeigneten folie 24 mit der Isolierplatte 21 zu unterstützen. Die Lösemittel entfernt werden. Nach dieser Methode Behandlung der Fläche 26 kann so erfolgen, daß sich läßt sich das gesamte Kupferoxyd der Fläche 27 entern Kupferoxydbelag ergibt, wie er in der USA.J*ar fernen,
tentschrift 2 997 521 dargestellt ist. Durch das Aktivieren der Oberfläche des Kunst
Von der Oberflächenbehandlung der Metallfolie 55 stoffes und der Wände der Löcher 22 und 23 soll der 24 hängt es ab, wie die Isolierplatte 21 aus Kunst- nächste Verfahrensschritt intensiviert werden. Dieser stoff auf der Metallfolie 24 haftet. Bei Kupferoxyd Verfahrensschritt besteht in dem Aufbringen einer genügen Wärme und Druck, um die erforderliche Schicht aus geeignetem, elektrisch leitendem Material Haftung an der Metallfolie 24 zu bewerkstelligen. auf die aktivierten Flächen 28, 29 und 31. Handelt es Bei Klebern wird dagegen unter Umständen nur 60 sich um Teflon, so wird zum Aktivieren dieser Flä-Druck benötigt, je nachdem, was für ein Kleber be- chen eine Lösung aus einer Fluorbindung aufnutzt wird, getragen, um das Teflon zu ätzen. Danach kann
F i g. 3 zeigt eine Schichtplatte, die durch Zusam- das Teflon dann nach dem Shipley-Verfahren behanmenpressen der Isolierplatte 21 und der Metallfolie delt werden, bei dem eine stromlose Kupferlösung, 24 gebildet wurde. An dieser Stelle des Verfahrens 65 wie beispielsweise das von der Shipley Company, sollen einige bestimmte Materialien angegeben wer- Wellesley, Massachusetts, erhältliche 328, verwendet den, die zur Herstellung von Leiterplatten der einen wird. Diese Leitschicht, durch welche sich der Auf-Ausführungsform benutzt werden können. Beispiels- bau von F i g. 4 ergibt, kann alternativ auch durch
Aufdampfen, Elektroplattieren oder nach einem an- Fig. 5, 6 und 7 zeigen links ein Loch42, das eine
deren geeigneten, herkömmlichen Verfahren zum Öffnung für einen Anschluß-Stützpunkt bildet und
Aufbringen von elektrisch leitendem Material auf benötigt wird, um Bauelemente, die in die Mehr-
die aktivierte Fläche der oben beschriebenen Isolier- schicht-Leiterplatte miteinbezogen werden sollen, mit
platte 21 aufgebracht werden. S dem Anschluß-Stützpunkt zu verbinden.
Wie Fig.4 zeigt, ergibt sich nach Durchführung Fig.7 veranschaulicht in Wirklichkeit zwei Verdes Plattier- oder Niederschlagschrittes eine Leit- fahrensschritte, die eine vollständig fertige und eingeschicht 32, welche die gesamte Isolierplatte 21 ab- kapselte Mehrschicht-Leiterplatte ergeben. Wie zu deckt und darüber hinaus infolge der aktivierten Flä- erkennen ist, ist die Metallfolie 24 mit einem Photochen der Löcher 22 und 23 in diesen gleichstoffige, io abdecker behandelt und ein Verbindungszug 43 hermassive Durchverbindungen 33, 34 bildet, welche die ausgeätzt worden, der die beiden massiven Durchveraufgebrachte Leitschicht 32 mit der Metallfolie 24 bindungen 33 und 34 miteinander verbindet, so daß verbinden. der Anschluß-Stützpunkt 39 mit dem geätzten Schal-
Wie Fig.4 zeigt, erscheinen auf der Oberseite tungsteil 38 elektrisch verbunden ist. Auf den Verder Leitschicht 32 kleine Vertiefungen 36, 37, die 15 bindungszug 43 wird eine zur Einkapselung dienende zur Veranschaulichung stark vergrößert dargestellt Isolierplatte 44 gepreßt, die wie die Isolierplatte 21 sind. Diese Vertiefungen ergeben sich infolge der aus Kunststoff bestehen kann und in diesem Fall ungleichmäßigen Geschwindigkeit, mit der das Material ter Anwendung von Druck und Wärme aufgebracht auf die aktivierte Oberfläche der Isolierplatte aufge- wird. Durch diese Isolierplatte wird der betreffende tragen wird. Da das Beschichten mit konstanter Ge- 20 Teil der Schaltung vollständig eingekapselt. Stehen schwindigkeit erfolgt, ergeben sich somit naturgemäß dagegen geeignete Kleber zur Verfügung, so kann die Eintiefungen 36, 37 an den Stellen, an denen der Verbindungszug 43 mit einem Kleber bestrichen elektrische Durchverbindungen vorzusehen sind. und anschließend die Isolierplatte 44 aufgepreßt wer-Diese Eintiefungen üben keinerlei Funktion aus, son- den. Die Verwendung der oberen und unteren zur dem ergeben sich lediglich zwangläufig bei der Her- 25 Einkapselung der Leiterplatte dienenden Isolierplatstellung der Leitschicht 32. Nachstehend wird noch ten 41, 44 kann je nach den Umständen zur Anfertiein alternatives Verfahren beschrieben, bei dem diese gung einer brauchbaren elektrischen Schaltung erfor-Eintiefungen nicht auftreten. derlich sein oder auch nicht.
F i g. 4 zeigt nicht das zum Aktivieren der Ober- F i g. 8 zeigt in dreidimensionaler Darstellung eine fläche und der Löcher benutzte Material. An dieser 30 Schaltung der Art, wie sie sich nach dem bis hier bestelle des Verfahrens hat man also zwei Metall- schriebenen Verfahren anfertigen läßt. Sie zeigt eine schichten erhalten, zwischen denen sich die Isolier- Anzahl von elektrischen Anschluß-Stützpunkten 51, platte 21 befindet und die durch die gleichstoffigen, 52 und 53, die nach dem vorstehend beschriebenen massiven Durchverbindungen 33, 34 miteinander Verfahren hergestellt wurden. Die Anschluß-Stützverbunden sind bzw. von diesen zusammengehalten 35 punkte 53 und 51 sind durch die gleichstoffige, maswerden. Im nächsten Verfahrensschritt wird unter sive Durchverbindung 56 miteinander verbunden, die Anwendung der Photoätztechnik ein vorbestimmtes ihrerseits mechanisch und elektrisch mit einem Ver-Leitungsbild auf der Leitschicht 32 angefertigt, in- bindungszug 58 des Leitungsmusters und von dort dem die Oberfläche der Leitschicht 32 mit einem über eine zweite gleichstoffige, massive Durchverbin-Photoabdecker behandelt und anschließend geätzt 40 dung 57 schließlich mit dem elektrischen Anschlußwird, so daß sich — wie F i g. 5 zeigt — auf der Stützpunkt 51 verbunden ist.
Oberseite der Isolierplatte 21 ein offenliegendes Lei- F i g. 8 dient zur Veranschaulichung einer von
tungsbild ergibt. Alternativ kann das Kupfer auch verschiedenen Herstellungsmöglichkeiten, die das er-
nur auf die obenbeschriebenen, aktivierten Flächen findungsgemäße Verfahren bietet. Obwohl bis hier
aufgebracht werden. Diese in F i g. 5 schematisch an- 45 nur die Verbindung von zwei Leitschichten mit Hilfe
gedeutete Leiterplatte weist einen elektrischen An- der aufgebrachten Durchverbindungen beschrieben
schluß-Stützpunkt 39 und rechts von der Figur einen wurde, lassen sich erfindungsgemäß selbstverständ-
geätzten Schaltungsteil 38 auf. lieh noch weitere mitverbundene Leitschichten vorse-
An dieser Stelle ließe sich die Schaltung ohne hen. Zu diesem Zweck brauchen in den thermoplastiweitere den Anschluß - Stützpunkt 39 betreffende 50 sehen Abdeckplatten lediglich Löcher vorgelocht Verfahrensschritte verwenden. Auf ihrer Oberfläche oder vorgesehen zu werden, worauf auf diese Abließe sich eine Zuleitung anbringen oder anschwei- deckplatten weiteres elektrisch leitendes Material ßen, und der gesetzte Schaltungsteil 38 könnte mit aufgebracht wird und anschließend Leitungsmuster einem anderen elektrischen Bauelement des Systems vorbestimmter Gestalt unter Anwendung von Schaverbunden werden. 55 blonen angefertigt und diese Muster geätzt werden,
Zur weiteren Verstärkung der Mehrschicht- um mit fortschreitendem Verfahren eine dritte, vierte
Leiterplatte kann je nach den vorherrschenden Um- oder fünfte Leitschicht zu bilden. Bei der Anferti-
gebungsbedingungen auf das Leitungsbild noch eine gung solcher vielschichtigen Schaltungen beliebiger
isolierende Deckplatte 41 aufgepreßt werden, wo- Dicke und Schichtzahl muß der Schaltungskonstruk-
durch das durch den soeben erwähnten Ätzschritt 60 teur darauf achten, daß an den Stellen, an denen eine
freigelegte Leitungsmuster vollständig eingekapselt elektrische Durchverbindung zwischen zwei von
v/ird, wie Fig. 6 zeigt. Zur besseren Haftung der einer Kunststoffplatte getrennten Leitungsmustern
zum Einkapseln benutzten Deckplatte 41 können die herzustellen ist, lediglich eine Öffnung vorgesehen
zu verklebenden Flächen des Leitungsmusters mit werden muß, die mit dem aufgebrachten, elektrisch
einem geeigneten Kleber oder Aufrauhmittel behan- 65 leitenden Material ausgefüllt wird. Solange diese Öff-
delt werden. Bei Kupfer kann zu diesem Zweck Kup- nungen in den aufeinanderfolgenden Schichten über-
feroxid gebildet werden, wie es in der zuvor erwähn- einander auftreten, läßt sich eine elektrische Durch-
ten USA.-Patentschrift beschrieben ist. verbindung von der unteren Leitschicht zu irgend-
7 8
einem Zwischenverbindungszug durch die gesamte das Leitungsbild durch eine Schablone aufgetragen, Schaltung in der gewünschten Weise herstellen. Es während gleichzeitig auf die gleiche Weise die Meversteht sich, daß an den Stellen, an denen keine tallfolie 66 ein Leitungsmuster erhält. Die Schicht-Verbindung zwischen den Leitungszügen erfolgen platte wird dann in eine Ätzlösung gegeben, um die soll, durch die bloße Anwesenheit von ungelochtem, 5 auf beiden Seiten der Isolierplatte auftretenden Leiisolierendem Kunststoffmaterial eine solche elektri- tungszüge gleichzeitig zu ätzen und so in einem sehe Verbindung verhindert wird. Schritt das herzustellen, was zuvor in zwei Schritten
Es wird nunmehr auf F i g. 9 und 10 Bezug ge- beschrieben wurde.
nommen, in denen eine Abwandlung des bereits be- F i g. 10 zeigt zwei Abdeckplatten 71, 72, die auf schriebenen Verfahrens veranschaulicht ist. Diese Fi- io den Anschluß-Stützpunkt 76, die Isolierplatte 61 und guren dienen zur Erläuterung eines weiteren Ausfuh- den geätzten Schaltungsteil 68 gepreßt werden, um rungsbeispiels der Erfindung, das für die Massenfa- die Mehrschicht-Leiterplatte in der in F i g. 7 dargebrikation von Mehrschicht-Leiterplatten gedacht ist, stellten Weise vollständig einzukapseln,
bei denen beispielsweise nur zwei Leitschichten ange- F i g. 11 zeigt eine Anordnung, bei der die Isolierfertigt werden sollen. Selbstverständlich können in 15 platte 21 ähnlich wie in F i g. 3 mit der Metallfolie 24 der Praxis beliebig viele Schichten nach den be- verklebt worden ist. Jedoch ist bei diesem Ausfühschriebenen Verfahren hergestellt werden. rungsbeispiel der Erfindung vorgesehen, die Innen-
Fi g. 9 zeigt eine Anordnung der gleichen Art, Seiten der Löcher 22 und 23 nur bei 73 und 74 zu ak-
wie sie F i g. 4 veranschaulicht. Hier ist auf einer aus tivieren. Im nächsten Schritt kann dann das elek-
Kunststoff bestehenden Isolierplatte 61 eine Leit- 20 irisch leitende Material aufgebracht werden, das —
schicht 62 mit massiven, gleichstoffigen Durchver- wie Fig. 12 zeigt — gleichstoffige, massive Säulen
bindungen zur Metallfolie 66 in der gleichen Weise bildet, welche fluchtgerechte Durchverbindungen zu
aufgebracht, wie in Verbindung mit F i g. 2 bis 4 be- weiteren Leitschichten oder elektrische Anschlüsse
schrieben wurde. Diese Schichtplatte wird dann nach bilden. Der weitere Verfahrensablauf erfolgt dann
der zuvor beschnebenen Photoätztechnik behandelt, 25 wie zuvor beschrieben, um eine Schaltung ohne Ein-
d. h., auf die Leitschicht 62 wird mit Photoabdecker tiefungen herzustellen.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (9)

1 2 Patentansprüche: init Durchverbindungen ist es bekannt, auf einen mit
1. Verfahren zur Herstellung einer Mehr- einer leitenden Schicht versehenen Isolierstoff träger schicht-Leiterplatte mit Durchverbindungen un- eine Isolierschicht in der Weise aufzubringen, daß sie ter Verwendung einer an der Stelle der Durchver- mindestens diejenigen Teile eines ersten Stromkreises bindungen vorgelochten Isolierplatte, da- 5 bedeckt, die vom zweiten Stromkreis zu isolieren durch gekennzeichnet, daß eine Räche sind, und diejenigen Bereiche des ersten Stromkreises der Isolierplatte (11) mit einer Metallfolie (16) frei läßt, die mit dem zweiten Stromkreis zu verbinverklebt wird und sodann die andere noch freie den sind. Danach wird auf die frei liegenden Bereiche Fläche der Isolierplatte (11) mit einer leitenden des ersten Stromkreises zunächst eine dünne Schicht Schicht (28) vollständig unter Ausfüllung der Lo- io aus einem elektrisch leitenden Material und anschliechungen (22, 23) überzogen wird, worauf das ßend durch Elektroplattierung eine weitere Schicht Leitungsmuster in bekannter Weise aus der lei- elektrisch leitenden Materials aufgebracht, so daß die tenden Schicht (28) geätzt wird. frei liegenden Bereiche bis auf die Höhe der Isolier-
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- schicht mit Metall aufgefüllt werden. Danach wird kennzeichnet, daß ein zweites Leitungsmuster in 15 eine weitere leitende Schicht in einem dem zweiten die Metallfolie gesetzt wird, um eine Mehr- Stromkreis entsprechenden Muster aufgebracht schicht-Leiterplatte mit zwei durch das Loch in (französische Patentschrift 1 345 163). Die nach dieder Isolierung elektrisch und mechanisch mitein- sem Verfahren hergestellten Schaltungsanordnungen ander verbundene Schaltungen fertigzustellen. weisen mindestens einen eine Öffnung der Isolier-
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- 20 schicht ausfüllenden und die Verbindungsabschnitte kennzeichnet, daß die Leitungsmuster gleichzeitig der beiden Stromkreise miteinander verbindenden, in die Leitschicht und die Metallfolie geätzt wer- galvanisch erzeugten Metallstöpsel auf. Zur Herstelden, um eine Mehrschicht-Leiterplatte fertigzu- lung von Mehrschicht-Leiterplatten mit Durchverbinstellen, deren Leitungsmuster durch eine massive, düngen ist es ferner bekannt, auf eine Isolierplatte, aufgebrachte Durchverbindung miteinander ver- 25 die an den Stellen der späteren Durchverbindung bebunden sind. reits gelocht ist, zunächst den gewünschten Leiterzug
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- auf jeder Seite der Isolierplatte aufzubringen, indem kennzeichnet, daß die Isolierplatte aus einem iso- ζμηαϋΐιβΐ einmal diejenigen Stellen, welche in der lierenden Material besteht, daß zwischen zwei Schaltung nicht leitend sein sollen, mit einem isolie-Isolierschichten aus einem bei niedrigerer Tem- 30 renden Schutzüberzug versehen werden und anschlieperatur als das dazwischenliegende Material ßend die frei gelassenen Flächen einschließlich der schmelzenden Material angeordnet und fest mit Lochungen in einem mehrere Verfahrensschritte umdiesen Isolierschichten verklebt ist. schaffenden Verfahren unter Verwendung chemi-
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- scher Abscheidung und elektrischer Abscheidung kennzeichnet, daß die gesamte Fläche der Isolier- 35 von Metall mit dem stromleitenden Überzug zu verplatte und des Loches aktiviert wird, um das sehen (französische Patentschrift 1276 972).
Aufbringen eines anschließenden Überzuges zu Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die unterstützen. Herstellung von Mehrschicht-Leiterplatten mit
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- Durchverbindungen zu vereinfachen. Diese Aufgabe kennzeichnet, daß nur das Innere des Loches und 40 wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß eine die durch das Loch freigelegte Fläche der Metall- Fläche einer Isolierplatte mit einer Metallfolie verfolie aktiviert werden. klebt wird und sodann die andere noch freie Fläche
7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- der Isolierplatte mit einer leitenden Schicht vollstänkennzeichnet, daß das geätzte Leitungsbild mit dig unter Ausfüllung der Lochungen überzogen wird, einer Isolierplatte eingekapselt wird. 45 worauf das Leitungsmuster in bekannter Wreise aus
8. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch ge- der leitenden Schicht geätzt wird. Das Verfahren kennzeichnet, daß die geätzten Leitungsbilder der nach der Erfindung ist äußerst einfach und gestattet Leitschicht und der Metallfolie gleichzeitig einge- es, hochwertige und äußerst beständige elektrische kapselt werden. Verbindungen zwischen den beiden Schichten herzu-
9. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- 50 stellen, wobei der Vorteil besteht, daß das elektrische kennzeichnet, daß die Oberfläche der Isolier- Material der Durchverbindungen identisch ist mit platte aktiviert wird, um das anschließende Auf- dem elektrisch leitfähigen Material der einen Schalbringen einer Leitschicht zu unterstützen, daß auf tung. Das Verfahren der Erfindung eignet sich in die aktivierte Fläche eine Leitschicht aus elek- gleicher Weise zur Herstellung von Mehrschichttrisch leitendem Material aufgebracht wird, um 55 Leiterplatten als Frachtplatten wie als flexible Platdas Material elektrisch und mechanisch im Loch ten. Zur Herstellung der Verbindungen zwischen den zu verbinden, daß in die Leitschicht ein erstes Schaltungsebenen der Mehrschicht-Leiterplatte brau-Leitungsmuster geätzt wird, wodurch dieses Lei- chen keine Löcher durch die Platte gestanzt, gebohrt tungsmuster elektrisch und mechanisch mit der oder anderweitig gebildet zu werden. Die erfindungs-Metallfolie verbunden wird, und daß in die Me- 60 gemäße Leiterplatte bietet die Möglichkeit einer hotallfolie ein zweites Leitungsmuster geätzt wird. hen Leitungsmusterdichte, ohne die Gesamtschaltung
in ihrer Vollkommenheit zu beeinträchtigen. Die Erfindung wird nachstehend an Hand der Zeichnung Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstel- beschrieben. Es zeigt
lung einer Mehrschicht-Leiterplatte mit Durchverbin- 65 F i g. 1 eine oberhalb einer Metallfolie angeord-
dungen unter Verwendung einer an der Stelle der nete Isolierplatte,
Durchverbindungen vorgelochten Isolierplatte. F i g. 2 einen Querschnitt durch eine typische Iso-
Zur Herstellung von Mehrschicht-Leiterplatten lierplatte aus Kunststoff mit behandelter Metallfolie,
DE19651540512 1964-08-24 1965-08-18 Verfahren zur Herstellung einer Mehrschicht-Letterplatte Expired DE1540512C3 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US39151064 1964-08-24
US391510A US3352730A (en) 1964-08-24 1964-08-24 Method of making multilayer circuit boards
DES0098898 1965-08-18

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE1540512A1 DE1540512A1 (de) 1970-01-02
DE1540512B2 true DE1540512B2 (de) 1972-12-14
DE1540512C3 DE1540512C3 (de) 1976-01-15

Family

ID=

Also Published As

Publication number Publication date
GB1106985A (en) 1968-03-20
DE1540512A1 (de) 1970-01-02
US3352730A (en) 1967-11-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2227701C3 (de) Verfahren zur Herstellung von Schal tungs-Zwischenverbindungen
DE2702844C2 (de) Verfahren zur Herstellung einer vielschichtigen gedruckten Schaltung
AT398877B (de) Zwei- oder mehrlagige leiterplatte, verfahren zum herstellen einer solchen leiterplatte und laminat für die herstellung einer solchen leiterplatte nach einem solchen verfahren
DE3020196C2 (de) Mehrebenen-Leiterplatte und Verfahren zu deren Herstellung
DE19650296A1 (de) Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements
DE2539925A1 (de) Verfahren zur herstellung einer mehrschichtigen gedruckten schaltungsplatte
DE19615395A1 (de) Elektrostatische Schutzvorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE2911620A1 (de) Verfahren zum herstellen von leitenden durchgehenden bohrungen in schaltungsplatten
DE2144137A1 (de) Verfahren zum Herstellen der Löcher für die Verbindungen zwischen elektrischen, parallel übereinander liegenden Schaltungslagen einer Mehrlagen-Schaltungspackung
DE3824008A1 (de) Elektronische schaltung sowie verfahren zu deren herstellung
DE3514093A1 (de) Verfahren zum verschliessen von in einer leiterplatte vorgesehenen bohrungen
DE4135839A1 (de) Verfahren zur herstellung einer mehrlagigen gedruckten schaltung sowie mehrlagige gedruckte schaltung
DE102005011545A1 (de) Verfahren zur Kontaktierung von Leiterbahnen einer Leiterplatte
WO2004030429A1 (de) Verfahren zur herstellung von starr-flexiblen leiterplatten und leiterplatte mit mindestens einem starren bereich und mindestens einem flexiblen bereich
DE3020466A1 (de) Sammelschiene mit mindestens einem paar langgestreckter, zueinander parallel gefuehrter leiter und verfahren zur herstellung einer solchen sammelschiene
DE102008009220A1 (de) Verfahren zum Herstellen einer Leiterplatte
DE69922271T2 (de) Leiterplattenherstellungsmethode
DE3810486C2 (de)
DE1540512B2 (de) Verfahren zur herstellung einer mehrschicht-leiterplatte
WO1983001344A1 (en) Thin layered electronic circuit and manufacturing method thereof
DE1540512C3 (de) Verfahren zur Herstellung einer Mehrschicht-Letterplatte
DE2326861A1 (de) Verfahren zum gegenseitigen verbinden von elektronischen mikrobausteinen und nach einem solchen verfahren hergestellte verbindungssubstrate und hybridschaltungen
DE1665395B1 (de) Verfahren zur herstellung gedruckter leiterplatten
DE102006045836B4 (de) Verfahren zum Herstellen einer Durchkontaktierung zwischen zwei Oberflächen eines Halbleitersubstrats
DE1765926A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltung

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977
8339 Ceased/non-payment of the annual fee