DE19742802C1 - Mikroskopstativ für ein Waferinspektionsmikroskop - Google Patents
Mikroskopstativ für ein WaferinspektionsmikroskopInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Mikroskopstativ für ein Waferinspektionsmikroskop gemäß
dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
In der Halbleiterindustrie werden Inspektionsmikroskope zur Prüfung der Fertigungs
stadien von Wafern bzw. Halbleiter-Bausteinen eingesetzt. Sie verfügen vielfach über
die Möglichkeit der automatischen Waferzuführung aus Wafer-Aufbewahrungs
kassetten. Zu jeder mikroskopischen Untersuchung wird dabei automatisch jeweils ein
einzelner Wafer aus einer Kassette entnommen und nach der Untersuchung wieder in
derselben oder einer anderen Kassette abgelegt.
In der Waferproduktion werden in sogenannten "Clustern" im Produktionsbereich meh
rere Fertigungs- und Prüfschritte räumlich eng nebeneinanderliegend angeordnet, um
die kostenintensive Reinraumfläche optimal auszunutzen. Die untersuchten und bear
beiteten Wafer werden von einem Bearbeitungsschritt zum nächsten weitergegeben,
ohne wieder in die für sie vorgesehenen Aufbewahrungskassetten abgelegt zu werden.
Die Anordnung der einzelnen Arbeitsgänge in einem Cluster ist in klassischer Weise neben
einander vor einer Wand. Direkt vor der Wand ist eine Art Transportband für die
Wafer vorgesehen, von denen die Wafer für die einzelnen Arbeitsgänge entnommen
bzw. dort wieder abgelegt werden können. Vor dem Transportsystem sind die einzel
nen Fertigungs- bzw. Prüfeinheiten angeordnet und davor wiederum die Arbeitsplätze
für das Bedienpersonal. Dies erfordert, daß jede Bearbeitungseinheit oder auch Prüf
einheit sich in der Reihe anordnen und von hinten beschicken läßt.
Bei den bisher bekannten klassischen Mikroskopen in sogenannter "C"-Bauweise bil
den in Seitenansicht der Stativfuß, die Stativsäule und das Querhaupt, ein zum Benutzer
offenes "C". Die gattungsbildende DE 196 01 131 A1 beschreibt ein solches
Mikroskop. In Frontansicht ist das Querhaupt mit zugeordnetem Objektiv in einem Ab
stand über dem Stativfuß mit zugeordnetem Kondensor und die Stativsäule hinter
diesen beiden angeordnet. Der Stativfuß trägt den Objekttisch,
der aus Beobachtersicht von links, rechts und vorne für den Benutzer zugänglich ist. Eine Proben
beschickung des Objekttisches von hinten ist jedoch nicht möglich.
Auch das Mikroskop MX50 der Fa. Olympus weist ein "C"-Stativ auf. Einzelheiten gehen aus
dem Firmenprospekt "Halbleiter-Inspektions-Mikroskop MX50", Art.-Nr. 30798, zu die
sem Mikroskop hervor. Links neben dem Mikroskop ist eine Feederstation angeschlos
sen. Eine solche Feederstation umfaßt in der Regel eine Wafer-Aufbewahrungs-
Kassette für die zu untersuchenden Wafer und mindestens eine weitere für die unter
suchten Wafer sowie ein Handlingsystem zum Transport der Wafer zwischen den Auf
bewahrungskassetten und dem Objekttisch. Die Waferzufuhr zum Objekttisch des Mi
kroskops erfolgt dabei von links. Die Aufbewahrungskassetten mit den Wafern müssen
manuell in den Feeder eingesetzt und auch manuell wieder entnommen werden.
Dies widerspricht dem üblichen Bearbeitungsgang in einem Cluster, bei dem die ein
zelnen Wafer automatisch von einem Transportband den Prüfstationen von der Rück
seite zugeführt werden und nach der Prüfung auch nach dorthin wieder zum Trans
portband abgegeben werden. Vielmehr müssen zur Einbindung eines vorbekannten
Inspektionsmikroskops mit Feeder-Station in den Cluster-Betrieb nach Möglichkeit das
Wafer-Transportband und die Feeder-Station mit Verbindungselementen aneinander
adaptiert werden. Dabei ist es nicht immer möglich, das Inspektionsmikroskop mit dem
Feeder in der Reihe neben den anderen Untersuchungseinheiten in dem Cluster an
zuordnen. Häufig muß es zur Einbindung in die anderen Prozeßschritte schräg in den
Raum gestellt werden, so daß es in den engen Gang für die Arbeitsplätze des Bedien
personals hineinragt. Dabei wird zusätzlich kostenintensive Reinraumfläche benötigt.
Oft ist eine solche Adaption gar nicht möglich. Dann bleibt weiterhin die manuelle Wafer
versorgung des Feeders mit Waferkassetten und damit regelmäßiger Personalein
satz erforderlich, was einen noch größeren Nachteil für den Betrieb darstellt.
Der Nachteil der vorbekannten klassischen Mikroskop-Stative in "C"-Bauweise besteht
also darin, daß keine Beschickung des Mikroskop-Objekttisches von hinten möglich ist,
wie in der Halbleiterindustrie erforderlich.
Als Ergänzung zu diesen klassischen Mikroskopen beschreibt daher die US 4,582,191
ein spezielles ringförmiges Transport- und Handlingsystem, welches in einem Abstand
um die Stativsäule herum angeordnet ist. Ein mit Gleitschienen versehener, festste
hender Standring wird von einem Winkelstück getragen, das mit der Stativsäule ver
schraubt wird. Auf den Gleitschienen ist ein zweiter, konzentrischer Transportring ver
fahrbar angeordnet, der mit Wafer-Haltevorrichtungen ausgestattet ist. Diesem
ringförmigen Transportsystem werden die Wafer aus einer Aufbewahrungskassette
über eine seitliche Fließbandvorrichtung zugeführt und motorisch um die Stativsäule
herum verfahren. Mit dem beschriebenen Transportsystem können daher auch Wafer
von der Rückseite der Stativsäule um diese herum zur Vorderseite geführt werden.
Dort wird der Wafer dem Objekttisch übergeben, auf dem zusätzlich ein spezieller Höhen
adapter mit Wafer-Vakuumhalterung montiert ist.
Ein Nachteil des beschriebenen Systems besteht darin, daß das ringförmige Trans
portsystem an der Stativsäule befestigt wird. Ein Mikroskop der für die erwähnten Un
tersuchungen erforderlichen Leistungsklasse ist ein sehr empfindliches Gerät, das be
züglich geringem Schwingungsverhalten und hoher Statik in seiner Konstruktion
genauest abgestimmt ist. So beeinflußt jede vom Hersteller nicht vorgesehene, zusätz
lich angebrachte Masse, wie z. B. das ringförmige Transportsystem, die ausgewogene
Statik und beeinträchtigt damit das Abbildungsverhalten des Mikroskops. Außerdem
können sich die Vibrationen des Antriebsmotors des ringförmigen Transportsystems
störend auf das Stativ übertragen.
Darüber hinaus erzeugt das ringförmige Transportsystem mit seinem Motor und seinen
aufeinandergleitenden Führungselementen zusätzliche unerwünschte Kontaminationen
in den Reinräumen. Außerdem vergrößert das Ring-Transportsystem durch seine Ab
messungen die Aufstellfläche des Mikroskops zusätzlich und nimmt damit teure Rein
raum-Grundfläche in Anspruch.
Die Problematik der Einbindung von Inspektionsmikroskopen in die Fertigungslinien
der Halbleiterindustrie stellt sich daher selbst bei einem modernen Inspektionsmikro
skop - wie den beispielsweise genannten - und bei Verwendung von Hilfstransportsy
stemen als dringlich dar, da der Aufwand für Umbau- und Adaptionsmaßnahmen, hoher
Platzverbrauch an Reinraumgrundfläche, Reinraumkontaminationen, unrationelle
Arbeitsabläufe und hoher Personaleinsatz direkt auf die Produktionskosten schlagen.
Es ist daher die Aufgabe dieser Erfindung, ein Mikroskopstativ mit geringer Stellfläche für ein Waferinspektionsmikroskop anzugeben, welches
eine erhöhte Freiheit bei der Beschickung des Objekttisches
mit großflächigen Wafern gewährleistet. Es soll keine zusätz
lichen Kontaminationen in den Reinraum einbringen.
Darüber hinaus soll das neue Stativ auch Untersuchungen
an großflächigen Objekten erlauben, um zukünftigen Anforderungen der Halbleiter
industrie bezüglich der Untersuchung großflächiger Wafern zu genügen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch den kennzeichnenden Teil des
Patentanspruchs 1. Weitere vorteilhafte Weiterbildungen sind Gegenstand der Unter
ansprüche.
Bei den bekannten klassischen Mikroskop-Stativformen wird durch die das Objektiv
und den Kondensator durchlaufende vertikale optische Achse und die horizontale Achse
des Querhaupt-Strahlengangs eine "konstruktive Geräte-Symmetrieebene" aufge
spannt. Der Erfindung liegt nun die Idee zugrunde, die Stativsäule nicht mehr als unmittelbar ver
bindendes Element zwischen Stativfuß und Querhaupt anzuordnen, sondern daneben,
um dadurch auch eine Probenbeschickung von hinten - also von der dem Bediener
abgewandten Seite - zu ermöglichen. Dazu wird die Stativsäule außerhalb der früheren
"Geräte-Symmetrieebene" positioniert, und zwar im vom Mikroskop-Betrachter abge
wandten hinteren Stativbereich rechts oder links. Dies wird erreicht durch eine einzige seitlich
neben dem Stativfuß und dem in einem Abstand darüber befindlichen Querhaupt ange
setzte Stativsäule.
Damit wird als herausragende neue Eigenschaft des Stativs die freie Belademöglich
keit von hinten erzielt, also aus Richtung der Stativsäule zusätzlich zu den üblichen
Beschickungsrichtungen von den Seiten und auch von vorne. Durch geeignete Anord
nung und Ausbildung der Stativsäule ist die Untersuchung selbst sehr großflächiger
Objekte möglich, weil sich ein erweiterter Verfahrbereich für den Objekttisch ergibt.
Die Erfindung wird im folgenden anhand der schematischen Zeichnungen genauer
beschrieben.
Es zeigen
Fig. 1a-1d ein erstes erfindungsgemäßes Ausführungsbeispiel, nämlich
Fig. 1a die linke Seitenansicht,
Fig. 1b die rechte Seitenansicht,
Fig. 1c die Frontansicht,
Fig. 1d die Draufsicht,
Fig. 2a-2d ein zweites erfindungsgemäßes Ausführungsbeispiel mit extrem großem
Verfahrbereich des Objekttisches, nämlich
Fig. 2a die linke Seitenansicht,
Fig. 2b die rechte Seitenansicht,
Fig. 2c die Frontansicht,
Fig. 2d die Draufsicht,
Fig. 3a das Stativ gemäß Fig. 1d mit angegebenem Tischverfahrbereich,
Fig. 3b das Stativ gemäß Fig. 2d mit angegebenem extrem großen Tischverfahr
bereich,
Fig. 4a ein Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 1c mit markierter Säulenhöhe,
Fig. 4b ein drittes Ausführungsbeispiel mit Säulenverlängerung gegenüber
Fig. 4a.
Die klassische Stativform mit Stativfuß, Stativsäule und Querhaupt in Form eines
großen abgewinkelten "C" ist bei dem erfindungsgemäßen Mikroskop sowohl in Seiten
ansicht als auch zusätzlich in Frontansicht zu erkennen. Dazu ist das neue Mikro
skopstativ sowohl in den beiden Seitenansichten als auch in der Frontansicht und in
der Draufsicht dargestellt.
Fig. 1a zeigt die Seitenansicht eines ersten Ausführungsbeispiels von links, Fig. 1b
zeigt die Seitenansicht von rechts. In beiden Figuren ist der klassische Stativaufbau in
Form eines großen "C" zu erkennen. Dargestellt sind die wesentlichen Teile des
Mikroskopstativs, also ein Stativfuß 1 mit einem integrierten Kondensator 2 und einem
darüber angeordneten Objekttisch 3, ferner eine Stativsäule 4, ein Querhaupt 5 mit
einer Objektiveinrichtung 6 und daran befindlichen Mikroobjektiven 7. Im Querhaupt 5
integriert ist ein hier nicht näher dargestellter Tubus mit einer Okulareinrichtung 8.
Durch den horizontalen Strahlengang im Querhaupt 5 wird eine horizontale optische
Achse 9 des Querhaupts 5 festgelegt. Der durch das in Arbeitsposition befindliche
Mikroobjektiv 7 und den Kondensator 6 verlaufende vertikale Strahlengang legt eine ver
tikale optische Achse 10 des Mikroskops fest. Ebenfalls dargestellt ist ein Betrachter
11. In der dargestellten Ausführungsform schließt eine aus der Sicht des Betrachters
11 hintere Fläche 12 der Stativsäule 4 mit einer hinteren Fläche 13 des Stativfußes 1
und einer hinteren Fläche 14 des Querhaupts 5 in derselben Ebene ab.
In Fig. 1a befinden sich der Stativfuß 1 und das Querhaupt 5 im Vordergrund der Dar
stellung, die Stativsäule 4 ist hinter beiden angeordnet und oben vom Querhaupt 5 sowie
unten vom Stativfuß 1 verdeckt. In der Fig. 1b sind der Stativfuß 1 und das Querhaupt
5 im Hintergrund angeordnet. Davor steht die Stativsäule 4. Sie verdeckt in dieser
Ansicht die jeweils in dieser Darstellung rechts befindlichen hinteren Anteile von Stativ
fuß 1 und Querhaupt 5. Daher ist nur die hintere Fläche 12 der Stativsäule 4 zu erken
nen. In beiden Fig. 1a und 1b ist also die klassisch bekannte "C"-Form bereits
bekannter Mikroskopstative wiedererkennbar.
In Fig. 1c, der Frontansicht, wird nun die wesentliche Neuerung des erfindungsgemäßen
Stativs erkennbar. Unten ist der Stativfuß 1 mit dem Kondensor 2 und dem Objekt
tisch 3 dargestellt. Darüber befindet sich in einem Abstand das Querhaupt 5 mit der
Objektiveinrichtung 6 und den Objektiven 7 sowie der Okulareinrichtung 8. Die horizontale
optische Achse 9 des Querhaupts 5 ist in dieser Ansicht ebenfalls nur in Frontansicht zu
erkennen und daher nur als ein Punkt dargestellt. Die vertikale optische Achse 10
durch das Arbeitsobjektiv 7 und den Kondensor 2 erscheint in dieser Ansicht als Symmetrie
achse des Stativfußes 1 und des Querhaupts 5. Während nun bei bisher be
kannten klassischen Stativformen die Stativsäule 4 stets hinter dem Stativfuß 1 und
dem Querhaupt 5 - und zwar symmetrisch zu der vertikalen optischen Achse 10 - posi
tioniert ist, befindet sich erfindungsgemäß die Stativsäule 4 seitlich neben dem Stativ
fuß 1 und dem Querhaupt 5 am hinteren - also dem Betrachter 11 abgewandten - Ende
des Geräts. Die "C"-Form in Frontansicht wird hier also dadurch realisiert, daß die Stativ
säule 4 - statt hinter dem Stativfuß 1 und dem Querhaupt 5 - neben dem Stativfuß
1 angeordnet und das Querhaupt 5 in einem Abstand über dem Stativfuß 1 in derselben
Orientierung wie dieser seitlich an der Stativsäule 4 montiert ist.
Die Anordnung der Stativsäule 4 im rückwärtigen Bereich des Mikroskopstativs wird in
Fig. 1d verdeutlicht, in der das Mikroskopstativ in der Ansicht von oben (Draufsicht)
dargestellt ist. Man erkennt das weitausladende Querhaupt 5, das den darunter in einem
Abstand angeordneten Stativfuß 1 verdeckt. Auch der Objekttisch 3 ist weitge
hend verdeckt. Erkennbar ist die Okulareinrichtung 8 am Querhaupt 5. Wiederum dargestellt
sind die horizontale optische Achse 9 durch das Querhaupt 5 sowie die vertikale optische
Achse 10, die in dieser Ansicht nur als Punkt dargestellt ist. Ein Bediener 20
blickt in die Okulareinrichtung 8. Im hinteren Bereich des Querhaupts 5 ist seitlich die Stativsäule
4 angeordnet, wobei die hintere Fläche 12 der Stativsäule 4 mit der hinteren Fläche
14 des Querhaupts 5 abschließt. Die Stativsäule 4 ist in diesem Ausführungsbeispiel
am rechten hinteren Ende des Stativs angeordnet. Eine Anordnung am linken hinteren
Ende des Stativs wäre ebenso denkbar, ist aber ungewöhnlich, da die automatische
Beschickung bei Inspektionsmikroskopen in der Regel von links erfolgt.
Insbesondere die Fig. 1c und 1d demonstrieren die freie Beschickbarkeit des
neuen Mikroskopstativs sowohl von vorne als auch links und rechts und nunmehr
erstmals auch von der Rückseite aus. Wie in Fig. 1c besonders deutlich zu erkennen,
ist der Zugang von der rückwärtigen Seite des Mikroskopstativs zum ausgewählten
Arbeitsobjektiv 7 in der Position der vertikalen optischen Achse 10 frei zugänglich.
Damit läßt sich das neue Mikroskopstativ in idealer Weise in der von der Halbleiter
industrie gewünschten Form in der Fertigung in Clustern integrieren.
Durch große Verbindungsflächen zwischen Stativfuß 1, Stativsäule 4 und Querhaupt 5,
wie sie in den Fig. 1a-d dargestellt sind, wird auch die erforderliche Statik erreicht,
die bei der ungewöhnlichen Anordnung von Stativsäule 4 zu Querhaupt 5 und Stativfuß
1 und der weiten Ausladung des Querhaupts 5 dem ersten Anschein nach nicht er
reichbar ist. Es erwies sich überraschenderweise als realisierbar, daß das erfindungs
gemäße Stativ, allen statischen und thermischen Anforderungen im Einsatz - vor allem
im Verbund innerhalb einer automatisierten Fertigungs-"Straße" - vollauf genügt, wobei
Konstruktionsparameter unter Einsatz der Finite-Elemente-Methode ermittelt wurden.
Um die Inspektion auch großer Objekte problemlos zu ermöglichen, sind der Stativfuß
1 und das Querhaupt 5 weit ausladend.
In einer besonders vorteilhaften Ausführung eignet sich das neue Mikroskop selbst zur
Untersuchung extrem großflächiger Objekte, wie beispielsweise 400-mm-Wafer oder
sogar Flachbildschirmen. Diese Ausführung ist in den Fig. 2a-d dargestellt.
In Fig. 2a ist erkennbar, daß die Stativsäule 4 mit ihrer hinteren Fläche 12 um ein großes
Stück bis hinter die hintere Fläche 14 des Querhaupts 5 und die hintere Fläche 13
des Stativfußes 1 gerückt ist. Fig. 2b zeigt, daß zur Realisierung dieser Ausführungs
form die Stativsäule 4 an ihrem oberen Ende und an ihrer Basis nach vorne stark ver
breitert wurde. Zwischen einer oberen Fläche 16 einer unteren Säulenende-
Verbreiterung 15 und einer unteren Fläche 17 einer oberen Säulenende-Verbreiterung
15 ergibt sich ein freier Arbeitsbereich, z. B. zum Verfahren des Objekttisches 3. Durch
die beiden Säulenende-Verbreiterungen 15 vor ihre zurückgesetzte Säulenvorderfläche
18 ist ebenso eine große Verbindungsfläche zwischen dem Stativfuß 1 und der
Stativsäule 4 bzw. dem Querhaupt 5 und der Stativsäule 4 wie in dem in Fig. 1a-d
dargestellten Ausführungsbeispiel geschaffen und damit eine gute Statik gewährleistet.
Diese Verbindungsfläche 19 ist insbesondere gut aus Fig. 2d zu erkennen. Die hintere
Fläche 12 der Stativsäule 4 ist aus der Sicht des Bedieners 20 weit hinter die hintere
Fläche 14 des Querhaupts 5 versetzt. Die Verbreiterung 15 der Stativsäule 4 ist hier
mit eingezeichnet, und die zurückgesetzte Säulenvorderfläche 18 ist verdeckt und daher
gestrichelt dargestellt.
Fig. 2c zeigt, daß auch in dieser vorteilhaften Ausführungsform die neue "C"-Form des
Stativs von vorne erkennbar ist. An der Stativsäule 4 sind die obere Fläche 16 der un
teren Säulenverbreiterung 15 und die untere Fläche 17 der oberen Säulenverbreite
rung 15 als Linien dargestellt. Auch hier ist die freie Beschickbarkeit des Arbeitsbe
reichs von allen Seiten, insbesondere aber nun auch von der rückwärtigen Seite des
Mikroskopstativs, deutlich erkennbar.
Der Vergleich zwischen den Fig. 1a und 1b und den entsprechenden Fig. 2a
und 2b läßt bereits erkennen, daß der Verfahrbereich des Objekttisches 3 erheblich
vergrößert wurde, so daß nun noch wesentlich größere Proben untersucht werden
können. Der tatsächliche Gewinn bei der in den Fig. 2a-d dargestellten Ausfüh
rungsformen des neuen Mikroskopstativs läßt sich erst erkennen, wenn man einen sym
metrischen Verfahrbereich 21 des Objekttisches 3 im Vergleich betrachtet. So zeigt
Fig. 3a das bereits in Fig. 1d gezeigte erfindungsgemäße Mikroskopstativ in der An
sicht von oben. Zusätzlich dargestellt ist der symmetrische Verfahrbereich 21 des Ob
jekttisches 3. Es ist deutlich zu erkennen, daß der Tischverfahrbereich 21 durch die
Position der Stativsäule 4 begrenzt wird.
Fig. 3b zeigt die vorteilhafte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Mikroskopsta
tivs, die bereits in Fig. 2d in der Ansicht von oben dargestellt ist. Zusätzlich dargestellt
ist der symmetrische Tischverfahrbereich 21. Auch er wird hier durch die Position der
Stativsäule 4 begrenzt. Durch die nochmals zurückversetzte Position der Stativsäule 4
und damit der zurückgesetzten Säulenvorderfläche 18 ist hier in Fig. 3d deutlich er
kennbar ein wesentlich größerer Tischverfahrbereich 21 realisiert als in Fig. 3a. Damit
zeigt sich, daß das in den Fig. 2a-d dargestellte zweite Ausführungsbeispiel des
erfindungsgemäßen Mikroskopstativs sich insbesondere zur Untersuchung sehr groß
flächiger Objekte, wie beispielsweise zur Untersuchung von Flachbildschirmen und
ähnlich großflächigen Objekten, eignet. Die in der Fig. 2b dargestellte und bereits
weiter oben erläuterte Verbreiterung 15 der Stativsäule 4 am oberen Ende und an ihrer
Basis liegt außerhalb des Tischverfahrbereiches 21 und beeinträchtigt diesen daher
nicht.
Fig. 4b zeigt eine dritte vorteilhafte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Mikro
skopstativs für andere als beispielsweise Waferuntersuchungen, in der die Stativsäule
4 an hohe Untersuchungsobjekte angepaßt werden kann. Dazu kann in die Stativsäule
4 oder unter ihrer Basis ein Verlängerungsmodul 22 montiert werden, welches die Sta
tivsäule 4 im gewünschten Maß verlängert. Das Maß der Säulenverlängerung 23 ist an
dem zum Vergleich in Fig. 4a ebenfalls dargestellten unveränderten Mikroskopstativ
gemäß Fig. 1c dargestellt. Das am oberen Ende der Stativsäule 4 montierte Querhaupt
5 wird dabei in dem Maße der Säulenverlängerung 23 angehoben, so daß sich der
Abstand des Querhaupts 5 zum Stativfuß 1 deutlich vergrößert. Somit ist es dann
möglich, auch Objekte mit größerer Dimensionierung in z-Richtung zur Untersuchung
auf den Objekttisch 3 aufzulegen. Zur Verdeutlichung ist das Maß der Säulenverlänge
rung 23 im Arbeitsbereich des Objektivs 7 ebenfalls dargestellt.
Indem die freie Beschickungsmöglichkeit des erfindungsgemäßen Mikroskopstativs für
großflächige Objekte von allen vier Seiten, insbesondere erstmals nun auch von hin
ten, durch die eigentliche Konstruktion des Mikroskopstativs erzielt wird, kann auf die
Verwendung spezieller zusätzlicher Transportvorrichtungen verzichtet werden. Das
heißt, das neue Mikroskop kann in einem Cluster integriert und von hinten direkt mit
Wafern beschickt werden. Eine umständliche und kostenintensive Adaption des Fee
ders an das Transportsystem des Clusters ist nicht mehr nötig. Damit bringt das neue
Mikroskop allein auf Grund seiner baulichen Konzeption keine zusätzlichen kontamina
tionserhöhenden Bauelemente in den Reinraum ein. Seine Stellfläche entspricht ver
gleichbaren bekannten Inspektionsmikroskopen.
Die Erfindung ist nicht auf die dargestellten konkreten Ausführungsformen be
schränkt. Vielmehr sich auch modulartig zusammengesetzte Raumformen
von Mikroskopstativen von dem erfindungsgemäßen Bauprinzip mit
umfaßt.
1
Stativfuß
2
Kondensor
3
Objekttisch
4
Stativsäule
5
Querhaupt
6
Objektiveinrichtung
7
Objektiv
8
Okulareinrichtung
9
horizontale optische Achse des Querhaupts
5
10
vertikale optische Achse durch Objektiv
3
und Kondensator
2
11
Betrachter
12
hintere Fläche der Stativsäule
4
13
hintere Fläche des Stativfußes
1
14
hintere Fläche des Querhaupts
5
15
Säulenende-Verbreiterung
16
obere Fläche der unteren Säulenende-Verbreiterung
17
untere Fläche der oberen Säulenende-Verbreiterung
18
zurückgesetzte Säulenvorderfläche
19
Verbindungsfläche
20
Bediener
21
Verfahrbereich des Objekttisches
3
22
Verlängerungsmodul
23
Maß der Säulenverlängerung
Claims (6)
1. Mikroskopstativ für ein Waferinspektionsmikroskop,
- - mit einem einen Objekttisch (3) lagernden Stativfuß (1), einer vertikalen Stativsäule (4) und einem eine Objektiveinrichtung (6) und eine Okulareinrichtung (8) tragenden Querhaupt (5),
- - wobei die Stativsäule (4) mit dem rückwärtigen, vom Beobachter abgewandten Ende des Stativfußes (1) und des Querhaupts (5) verbunden ist und zusammen mit diesen eine c-förmige, zum Beobachter hin offene Querschnittsform des Mikroskopstativs definiert, dadurch gekennzeichnet, daß
- - die Stativsäule (4) nicht an die vom Beobachter abgewandte Rückseite des Stativ fußes (1) und des Querhaupts (5), sondern unmittelbar daneben, an deren rechte oder linke Seite angesetzt ist,
- - wodurch eine direkte, geradlinige Beschickung des Objekttisches (3) mit zu un tersuchenden Wafern von der Rückseite des Mikroskops her in Beobachterrich tung gewährleistet ist.
2. Mikroskopstativ nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die vom Beobachter abgewandte Rückseite der Stativsäule (4) bündig mit den
Rückseiten des Stativfußes (1) und des Querhaupts (5) abschließt.
3. Mikroskopstativ nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die vom Beobachter abgewandte Rückseite der Stativsäule (4) gegenüber den
Rückseiten des Stativfußes (1) und des Querhaupts (5) vom Beobachter weg zu
rückversetzt ist.
4. Mikroskopstativ nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
die Stativsäule (4) zum Stativfuß (1) und zum Querhaupt (5) hin in Beobachterrich
tung eine Verbreiterung (15) entlang des Stativfußes (1) und des Querhauptes (5)
aufweist, über welche die Stativsäule (4) mit dem Stativfuß (1) und dem Querhaupt
(5) verbunden ist.
5. Mikroskopstativ nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß die Stativsäule (4) vermittels eines zusätzlich montierbaren Verlängerungs
moduls (22) in ihrer Höhe verlängerbar ist, wobei das Verlängerungsmodul (22)
vorzugsweise unter der Basis der Stativsäule (4) an diese ansetzbar ist.
6. Mikroskopstativ nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
daß das Mikroskopstativ einstückig oder, alternativ hierzu, modular aufgebaut ist.
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19742802A DE19742802C1 (de) | 1997-09-27 | 1997-09-27 | Mikroskopstativ für ein Waferinspektionsmikroskop |
DE59801895T DE59801895D1 (de) | 1997-09-27 | 1998-08-04 | Mikroskopstativ für ein waferinspektionsmikroskop |
EP98948717A EP1018054B1 (de) | 1997-09-27 | 1998-08-04 | Mikroskopstativ für ein waferinspektionsmikroskop |
JP2000514157A JP3673717B2 (ja) | 1997-09-27 | 1998-08-04 | ウェハ検査顕微鏡用の顕微鏡架台及び検査顕微鏡 |
US09/486,704 US6236503B1 (en) | 1997-09-27 | 1998-08-04 | Microscope stand for a wafer inspection microscope |
KR10-1999-7009131A KR100478993B1 (ko) | 1997-09-27 | 1998-08-04 | 웨이퍼 검사 현미경용 현미경 스탠드 |
PCT/DE1998/002230 WO1999017146A1 (de) | 1997-09-27 | 1998-08-04 | Mikroskopstativ für ein waferinspektionsmikroskop |
TW090214051U TW472890U (en) | 1997-09-27 | 1998-09-09 | Microscope-tripod for a wafer-inspection microscope |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19742802A DE19742802C1 (de) | 1997-09-27 | 1997-09-27 | Mikroskopstativ für ein Waferinspektionsmikroskop |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19742802C1 true DE19742802C1 (de) | 1998-10-22 |
Family
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Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19742802A Expired - Fee Related DE19742802C1 (de) | 1997-09-27 | 1997-09-27 | Mikroskopstativ für ein Waferinspektionsmikroskop |
DE59801895T Expired - Lifetime DE59801895D1 (de) | 1997-09-27 | 1998-08-04 | Mikroskopstativ für ein waferinspektionsmikroskop |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE59801895T Expired - Lifetime DE59801895D1 (de) | 1997-09-27 | 1998-08-04 | Mikroskopstativ für ein waferinspektionsmikroskop |
Country Status (7)
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---|---|
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1093002A2 (de) * | 1999-10-04 | 2001-04-18 | Leica Microsystems Wetzlar GmbH | Vorrichtung zum Wechseln von Objektiven in einem Mikroskop |
DE10126291C2 (de) * | 2001-05-30 | 2003-04-30 | Leica Microsystems | Mikroskop |
DE10117167B4 (de) * | 2001-04-06 | 2004-06-03 | Leica Microsystems Wetzlar Gmbh | Inspektionsmikroskop und Objektiv für ein Inspektionsmikroskop |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2334593B (en) * | 1998-02-20 | 2002-07-17 | Melles Griot Ltd | Positioning mechanism |
US7049693B2 (en) * | 2001-08-29 | 2006-05-23 | Micron Technology, Inc. | Electrical contact array for substrate assemblies |
US20070035856A1 (en) * | 2003-01-28 | 2007-02-15 | John Galpin | Multi-axis positioner |
CN101442018B (zh) * | 2007-11-21 | 2010-11-03 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 晶圆翘曲程度的检测方法 |
DE102009029146B4 (de) * | 2009-06-16 | 2014-04-24 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Objektivwechsler und Mikroskop mit einem solchen Objektivwechsler |
KR101753103B1 (ko) | 2015-05-06 | 2017-07-04 | 한국광학기술 주식회사 | 수화콘택트렌즈 형상 측정기 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1761393U (de) * | 1957-11-23 | 1958-02-13 | Proebster Jun Nachf C | Mikroskop. |
US4582191A (en) * | 1982-06-17 | 1986-04-15 | Weigand Robert E | Article handling apparatus and method |
US5552928A (en) * | 1991-10-30 | 1996-09-03 | Nikon Corporation | Microscope with movable stage and objective for examining large sample |
DE19601731A1 (de) * | 1996-01-19 | 1997-07-24 | Leica Ag | Mikroskop mit vergrößertem Verschiebebereich für scheibenförmige Objekte |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2214367A (en) * | 1939-03-24 | 1940-09-10 | Bausch & Lomb | Microscope |
US2360268A (en) * | 1943-06-23 | 1944-10-10 | Harvey N Ott | Microscope |
US3103844A (en) * | 1958-10-01 | 1963-09-17 | Lkb Produkter Fabrisaktiebolag | Microtome with illumination and observation means |
US3834966A (en) * | 1972-12-26 | 1974-09-10 | Mech El Inc Ind | Adhesive bonding system |
US4106851A (en) * | 1976-09-22 | 1978-08-15 | Eikonix Corporation | Film examining with diffuse and specular illumination |
US4328713A (en) | 1980-03-03 | 1982-05-11 | Eikonix Corporation | Controlling translation |
JPH0335510U (de) * | 1989-08-19 | 1991-04-08 | ||
JP3080730B2 (ja) * | 1991-11-06 | 2000-08-28 | 株式会社トプコン | 顕微鏡 |
JP3362892B2 (ja) * | 1992-04-28 | 2003-01-07 | オリンパス光学工業株式会社 | 顕微鏡 |
-
1997
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-
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- 1998-09-09 TW TW090214051U patent/TW472890U/zh unknown
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1761393U (de) * | 1957-11-23 | 1958-02-13 | Proebster Jun Nachf C | Mikroskop. |
US4582191A (en) * | 1982-06-17 | 1986-04-15 | Weigand Robert E | Article handling apparatus and method |
US5552928A (en) * | 1991-10-30 | 1996-09-03 | Nikon Corporation | Microscope with movable stage and objective for examining large sample |
DE19601731A1 (de) * | 1996-01-19 | 1997-07-24 | Leica Ag | Mikroskop mit vergrößertem Verschiebebereich für scheibenförmige Objekte |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1093002A2 (de) * | 1999-10-04 | 2001-04-18 | Leica Microsystems Wetzlar GmbH | Vorrichtung zum Wechseln von Objektiven in einem Mikroskop |
EP1093002A3 (de) * | 1999-10-04 | 2004-01-28 | Leica Microsystems Wetzlar GmbH | Vorrichtung zum Wechseln von Objektiven in einem Mikroskop |
DE10117167B4 (de) * | 2001-04-06 | 2004-06-03 | Leica Microsystems Wetzlar Gmbh | Inspektionsmikroskop und Objektiv für ein Inspektionsmikroskop |
DE10126291C2 (de) * | 2001-05-30 | 2003-04-30 | Leica Microsystems | Mikroskop |
US7016108B2 (en) | 2001-05-30 | 2006-03-21 | Leica Microsystems Wetzlar Gmbh | Microscope |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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