DE19814871A1 - Verfahren und Vorrichtung zur gezielten Teilchenmanipulierung und -deposition - Google Patents

Abstract

Bei einem Verfahren zur gezielten Deposition von Partikeln, die unregelmäßig in einem Plasma eines Träger- oder Reaktionsgases verteilt sind, werden die Partikel ortsselektiv mindestens teilweise einer Plasmabehandlung unterzogen und/oder auf einer Substratoberfläche aufgetragen. Eine Vorrichtung zur Manipulierung von Partikeln umfaßt ein Reaktionsgefäß, in dem Plasmaelektroden und mindestens ein Substrat angeordnet sind. Die gezielte Einwirkung energiereicher Bestrahlung wird insbesondere zur gezielten Deposition der Partikel eingesetzt. Es wird eine adaptive Elektrode zur ortsselektiven Ausbildung eines niederfrequenten oder statischen elektrischen Feldes im Reaktionsgefäß beschrieben.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur gezielten Manipulierung und/oder Deposition von mikroskopisch kleinen Teilchen in einem Hochfrequenzplasma.

Es ist allgemein bekannt, daß für Bearbeitungs- oder Abschei­ deverfahren wie z. B. das Plasmaätzen oder die chemische Dampfabscheidung (CVD) die Ausbildung eines Hochfrequenzplas­ mas im jeweiligen Reaktionsgas ein geeignetes Mittel zur Er­ zielung der gewünschten Degradationsreaktionen oder dgl. ist. Für die Optimierung von CVD-Anwendungen, z. B. zur Abscheidung von amorphem, hydrogeniertem Silizium (a-Si:H) für photovol­ taische Einrichtungen, Dünnfilmtransistoren, Flachbildschirm- Anzeigen oder Farbdetektoren in Abbildungssystemen, gibt es zahlreiche Untersuchungen zur Abhängigkeit der Eigenschaften abgeschiedener Schichten von Plasmaparametern wie z. B. den Ar­ ten der Reaktionsgase, der HF-Spannung oder des Gasdrucks. Es hat sich gezeigt, daß sich im Plasma mikroskopisch kleine Teilchen (sogenannte Partikel) bilden können, die anwendungs­ abhängig störend oder fördernd auf die Schichteigenschaften einwirken.

So wird von D.M. Tanenbaum et al. in "Appl. Phys. Lett.", Band 69, 1996, Seite 1705 ff. die Ausbildung von Partikeln im Plasma bei der a-Si:H-Abscheidung wie folgt beschrieben: Im Reaktionsgas Silan werden durch Elektronenbeschuß negative Io­ nen gebildet, die im Plasma mit Radikalen und Kationen reagie­ ren. Es entstehen wachsende Teilchen, die wegen der im Ver­ gleich zu den Kationengeschwindigkeiten wesentlich höheren Elektronengeschwindigkeiten negativ geladen sind. Wegen der Ausbildung von Raumladungsgebieten in Elektrodennähe gelangen diese Teilchen, die bis zu einer Größe von µm-Dimensionen wachsen können, nicht zum Substrat, das in der Regel an einer der Elektroden angebracht ist. D. M. Tanenbaum et al. haben ge­ zeigt, daß trotz der Raumladungszone Partikel im Größenbereich von rd. 2 bis 14 nm während der Plasmaentladung das Substrat erreichen und dort Störungen der Schichteigenschaften verursa­ chen können.

Von P. Roca i Cabarrocas et al. wird in "14^th European Photo­ voltaic Solar Energy Conference" (Barcelona 1997), Paper No. P5A.20, eine wesentliche Verbesserung des Ladungsträgertrans­ ports in a-Si:H-Schichten durch Einbettung von Partikeln be­ schrieben. Die Partikel entstehen unter bestimmten Druckbedin­ gungen im Reaktionsgas und werden durch charak­ teristische sogenannte "Hydrogen Evolution"-Messungen in der Schicht identifiziert. In den Partikel enthaltenden Schichten zeigt sich eine erhebliche Erhöhung der Dunkelleitfähigkeit und der Photoleitfähigkeit im Vergleich zu amorphen Schichten. Außerdem wurde eine erhebliche Verbesserung der Stabilität von photoelektrischen Eigenschaften bei Belichtung erhalten.

Ein generelles Problem bei den bisherigen Untersuchungen zur Wirkung von Partikeln in CVD-abgeschiedenen Schichten besteht darin, daß bisher ein Mittel zur gezielten und reproduzierba­ ren Handhabung der unregelmäßig im Reaktionsgas auftretenden Partikel nicht verfügbar ist. Dabei besteht insbesondere ein Problem darin, daß bei den üblichen Plasmafrequenzen von rd. 14 MHz die Partikel innerhalb rd. 1 Sekunde entstehen können.

Weitere Gesichtspunkte der Partikelbildung werden im folgenden unter Bezug auf eine herkömmliche Anordnung gemäß Fig. 13 erläutert.

Ein Gas umfaßt im Plasmazustand, der beispielsweise durch eine Glimm- oder Gasentladung erzeugt wird, verschiedenartig gela­ dene Teilchen, wie positiv oder negativ geladene Ionen, Elek­ tronen und Radikale, aber auch neutrale Atome. Entstehen oder befinden sich im Plasma mikroskopische Teilchen (Größenordnung bis einige 10 µm), zum Beispiel Staubteilchen, so werden diese elektrisch aufgeladen. Die Ladung kann in Abhängigkeit von der Teilchengröße und den Plasmabedingungen (Gasart, Plasmadichte, Temperatur, Druck etc.) einige Hunderttausend Elektronenladun­ gen erreichen.

In der bekannten Anordnung gemäß Fig. 13 sind in einem Reaktor (Gefäßwände nicht dargestellt) mit einem Trägergas zwei ebene Entladungselektroden übereinander angeordnet. Die untere kreis- oder scheibenförmige HF-Elektrode 11 wird mit einer Wechselspannung angesteuert, die obere, ringförmige Gegenelek­ trode 12 ist z. B. geerdet. Der Elektrodenabstand beträgt rd. 2 cm. Eine Steuerschaltung 13 ist dazu eingerichtet, den HF- Generator 14 mit der HF-Elektrode 11 zu verbinden und die Er­ dungs- und Trennschaltung 15 der Gegenelektrode 12 anzusteu­ ern. Die Hochfrequenzenergie kann beispielsweise mit einer Frequenz von 13,56 MHz und einer Leistung von rd. 5 W einge­ koppelt werden. Das Trägergas wird durch Edelgase oder reakti­ ve Gase bei einem Druck von ca. 0.01-2 mbar gebildet.

Die Partikel ordnen sich vorzugsweise in einem Gleichgewichts­ zustand an, in dem die auf die Teilchen wirkende Gravitations­ kraft G mit einer elektrischen Feldkraft E ausgeglichen ist, die durch eine Raumladung in der Nähe der HF-Elektrode 11 auf die Teilchen in Abhängigkeit von deren Ladung ausgeübt wird. Es ist ferner die Bildung von plasmakristallinen Zuständen von Partikelanordnungen bekannt, was aber auf Teilchen mit charak­ teristischen Dimensionen oberhalb von 20 nm beschränkt ist, da für kleinere Partikel die jeweils getragene Ladung so gering ist, daß thermische Fluktuationen die Teilchen stärker beein­ flussen als die für Plasmakristalle erforderlichen Coulomb- Wechselwirkungen, so daß eine regelmäßige Struktur nicht aus­ gebildet werden kann. Außerdem war die Ausbildung von Plasma­ kristallen bisher auf extern in den Reaktionsraum eingebrachte Teilchen wie z. B. Staubpartikel beschränkt. Eine gezielte Handhabung von nanokristallinen Partikeln, insbesondere mit charakteristischen Größen von wenigen bis einige 10 nm, konnte daher aus der Manipulierung von plasmakristallin angeordneten Teilchen nicht abgeleitet werden.

Mit Blick auf die an sich bekannte Beeinflussung struktureller oder photoelektrischer Eigenschaften abgeschiedener Schichten durch eingebaute nanokristalline Partikel besteht jedoch ein starkes Interesse daran, den Partikeleinbau insbesondere in Bezug auf die Art, die Größe, die Zahl und die Position der Partikel steuern zu können.

Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein Verfahren zur ge­ zielten Manipulierung oder Abscheidung (Deposition) von Teil­ chen in bzw. aus Plasmen, insbesondere zur Beeinflussung der Teilchen selbst oder zur Modifizierung einer Substratoberflä­ che oder einer Schicht, und eine Vorrichtung zur Realisierung des Verfahrens anzugeben.

Diese Aufgabe wird durch Verfahren mit den Merkmalen gemäß Pa­ tentanspruch 1, 2 oder 12 bzw. Vorrichtungen mit den Merkmalen gemäß Patentanspruch 15 oder 19 gelöst. Vorteilhafte Ausfüh­ rungsformen der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Pa­ tentansprüchen.

Die Erfindung beruht auf den folgenden Ideen. Teilchen, die im Reaktionsraum mit einem gezündeten Plasma intern entstehen oder in den Reaktionsraum von außen (extern) geliefert werden und zunächst negativ geladen sind, werden unter genügend ener­ giereicher Bestrahlung, mit der insbesondere eine Ent- oder Umladung der Teilchen oder die Ausübung eines Lichtdrucks be­ wirkt wird, aus einer Ausgangsposition, die dem Kräftegleich­ gewicht des negativ geladenen Teilchens entspricht, in eine veränderte Zielposition bewegt. Die Teilchen können hierbei Partikel bzw. Partikel mit Teilchengrößen von einigen Nanome­ tern bis rund 100 µm sein. Die energiereiche Bestrahlung kann eine Laserbestrahlung zur Bewirkung einer Entladung, eine UV-, Laser- oder Elektronenbestrahlung zur Partikelumladung durch Sekundärelektronenemission oder eine Lichtbestrahlung zur Er­ zeugung eines Lichtdruckes umfassen. Die Zielposition der Par­ tikel kann ein Bereich mit veränderten Plasmabedingungen oder auch ein Substrat sein, auf dem die Partikel allein oder si­ multan mit einer Schichtbildung durch Plasmaabscheidung aufge­ tragen werden.

Ein besonderer Vorteil der Erfindung besteht darin, daß die energiereiche Bestrahlung der zunächst räumlich unregelmäßig verteilten Partikel im Plasma ortsselektiv erfolgt, so daß Partikel in vorbestimmten, ausgewählten Plasmabereichen nach Art einer Maskierung veränderten Plasmabedingungen ausgesetzt oder entsprechend einem Depositionsmuster auf dem Substrat aufgetragen werden.

Das Gleichgewicht insbesondere zwischen der Gravitationskraft und elektrischen Kräften auf die Partikel in der Ausgangsposi­ tion kann ferner durch eine ortsabhängige Veränderung eines statischen oder niederfrequent veränderlichen elektrischen Feldes zwischen den Elektroden eines Plasmareaktors beeinflußt werden (Ausübung äußerer Verstellkräfte). Auf diese Weise las­ sen sich Teilchen im Plasma auf beliebig gekrümmten Flächen mit beliebigen Umrandungen anordnen. Die Teilchen im Plasma lassen sich somit in vorbestimmter Weise bewegen, wobei diese Bewegung sogar reversibel ist, so daß die Teilchenanordnung zwischen verschiedenen Konformationen umstellbar ist.

Ein weiterer wichtiger Gesichtspunkt der Erfindung besteht darin, daß durch die ortsselektive Deformation einer unregel­ mäßigen Partikelanordnung diese in verschiedenen Teilbereichen verschiedenen Plasmabedingungen ausgesetzt ist. Damit wird insbesondere in einem Plasma zwischen zwei im wesentlichen ebenen Elektroden eine ortsselektive Plasmabehandlung von Tei­ len der Partikel (z. B. Beschichtung oder Abtragung) möglich. Einer derartigen ortsselektiven Teilchenbehandlung kann sich eine Auftragung auf einem Substrat anschließen.

Ferner besteht ein wichtiger Gesichtspunkt der Erfindung dar­ in, daß die Ausbildung einer Partikelanordnung durch die Anwe­ senheit eines Substrats in einem Plasmareaktor, insbesondere zwischen Reaktorelektroden zur Ausbildung einer Glimm- oder Gasentladung, unbeeinflußt ist. Es ist insbesondere möglich, die oben genannten Umstellvorgänge in unmittelbarer Nähe eines flächigen, ebenen oder gekrümmten Substrats durchzuführen und anschließend den Abstand zwischen den Teilchen der Partike­ lanordnung und der Substratoberfläche derart zu verringern, daß mindestens ein vorbestimmter Teil der Teilchen auf die Substratoberfläche aufgetragen werden. Die Abstandsverringe­ rung kann entweder durch Beeinflussung der Feldkräfte, die die Teilchen in Position halten, oder durch Bewegung der Substra­ toberfläche erfolgen. Somit können die Teilchen in beliebig gestalteten Mustern auf Substratoberflächen abgeschieden wer­ den. Damit stellt die Erfindung ein neuartiges ortsselektives, maskenfreies Beschichtungsverfahren bereit, mit dem modifi­ zierte Oberflächen erzeugt werden. Aufgrund der aufgetragenen Teilchen besitzen die modifizierten Oberflächen veränderte elektronische, optische und/oder mechanische Eigenschaften. Es ist aber auch möglich, die ortsselektiv aufgetragenen Teilchen selbst zur Maskierung oder Konditionierung der Substratober­ fläche vor oder während einem nachfolgenden weiteren Beschich­ tungsschritt zu verwenden.

Eine erfindungsgemäße Vorrichtung zur Manipulierung von Parti­ keln umfaßt ein Reaktionsgefäß, das Mittel zur Ausbildung ei­ nes Plasmas und mindestens ein Substrat enthält. Die Mittel zur Ausbildung des Plasmas werden vorzugsweise durch flächige, im wesentlichen parallele Elektroden gebildet, in deren Zwi­ schenraum das Substrat beweglich ist. Die Elektroden im Reak­ tionsgefäß können feldformende Strukturen zur ortsselektiven Beeinflussung der Partikel aufweisen. Im Reaktionsgefäß können ferner Mittel zur ortsselektiven Teilchenentladung (z. B. UV- Belichtungsmittel mit einer Maskierungseinrichtung), Mittel zur Ausübung eines Strahlungsdruckes auf die Teilchen, Beob­ achtungsmittel und Steuermittel enthalten sein.

Ein besonderer Gesichtspunkt der Erfindung ist die Gestaltung der Elektroden zur ortsselektiven Beeinflussung der Teilchen im Reaktionsgefäß. Erfindungsgemäß wird eine Elektrodenein­ richtung (oder: adaptive Elektrode) angegeben, die eine Viel­ zahl von Elektrodensegmenten aufweist, die simultan mit einer Hochfrequenzspannung und jeweils einzeln mit einer segmentspe­ zifischen Gleichspannung oder Niederfrequenzspannung beauf­ schlagt sind. Die Hochfrequenzspannung ist dazu eingerichtet, einen Plasmazustand im Reaktionsgefäß zu erzeugen bzw. auf­ rechtzuerhalten, während die Gleich- bzw. Niederfrequenzspan­ nung dazu eingerichtet ist, im Reaktionsgefäß eine statische oder langsam veränderliche Feldverteilung (Feld E) zu erzeu­ gen, unter deren Wirkung sich die Teilchen im Reaktionsgefäß anordnen oder bewegen. Weitere wichtige Merkmale der adaptiven Elektrode sind die Ausbildung einer aus miniaturisierten Elek­ trodensegmenten bestehenden Matrixanordnung, die Gestaltung der Matrixanordnung als im wesentlichen ebenes, schichtförmi­ ges Bauteil, dessen Elektrodenseite zum Reaktionsgefäß hin­ weist und dessen Rückseite eine Steuerelektronik trägt, die Druckentlastung des Bauteils z. B. durch Ausbildung eines Un­ terdruckes in dem Raum, zu dem die Rückseite der Elektroden­ einrichtung weist, und die Bereitstellung einer Temperierein­ richtung für die Steuerelektronik.

Einzelheiten und Vorteile der Erfindung werden im folgenden unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben. Es zeigen:

Fig. 1 eine schematische Seitenansicht einer erfindungsgemä­ ßen Anordnung zur Manipulierung von Partikeln;

Fig. 2 eine schematische Draufsicht auf einen Teil der Anordnung gemäß Fig. 1;

Fig. 3 eine schematische Illustration einer erfindungs­ gemäßen Elektrodengestaltung zur Manipulierung von Partikeln, und Beispiele einer ortsselektiven Substratbeschichtung;

Fig. 4 eine Explosionsdarstellung eines mit einer erfin­ dungsgemäßen adaptiven Elektrode versehenen Reaktionsgefäßes;

Fig. 5 eine schematische Draufsicht auf eine adaptive Elek­ trode gemäß Fig. 4;

Fig. 6 eine schematische Perspektivansicht einer Subeinheit der in den Fig. 4 und 5 dargestellten adaptiven Elektrode mit der zugehörigen Schaltelektronik;

Fig. 7 eine Blockdarstellung zur Illustration der Steuerung einer erfindungsgemäßen adaptiven Elektrode;

Fig. 8 eine schematische Illustration eines weiteren Bei­ spiels einer ortsselektiven Substratbeschichtung;

Fig. 9 eine Darstellung zur Illustration eines weiteren Bei­ spiels einer ortsselektiven Substratbeschichtung;

Fig. 10 eine schematische Draufsicht auf eine modifizierte Anordnung zur Manipulierung von Partikeln und ein weiteres Beispiel einer ortsselektiven Substratbe­ schichtung;

Fig. 11 eine schematische Illustration einer Substratbe­ schichtung mit sogenannten Bucky Tubes;

Fig. 12 eine schematische Draufsicht auf eine weitere Aus­ führungsform einer erfindungsgemäßen Anordnung zur Manipulierung von Partikeln; und

Fig. 13 eine schematische Perspektivansicht eines herkömmlichen Reaktors (Stand der Technik).

Die Erfindung wird im folgenden am Beispiel einer Plasmaanord­ nung beschrieben, die als Reaktionsgefäß einen Reaktor umfaßt, dessen Aufbau in Bezug auf die Plasmaerzeugung und die Parti­ kelbeobachtung im wesentlichen dem herkömmlichen Aufbau ent­ spricht, wie er oben unter Bezug auf Fig. 13 beschrieben wur­ de. Es ist dem Fachmann jedoch verständlich, daß auch anders aufgebaute Reaktoren verwendet werden können, soweit sie zur erfindungsgemäßen Manipulierung von Teilchen in einer Partike­ lanordnung eingerichtet sind.

Die folgende Beschreibung bezieht sich auf zwei Ausführungs­ beispiele, von denen das erste Ausführungsbeispiel die Manipu­ lierung bzw. Deposition von extern in den Reaktionsgefäß ein­ geführten Partikeln und die zweite Ausführungsform die Manipu­ lierung bzw. Deposition von intern im Reaktionsgefäß generier­ ten Partikeln betrifft.

Erste Ausführungsform

Die folgende Erläuterung bezieht sich auf die Manipulation von Partikeln, die aus Übersichtlichkeitsgründen als im wesentli­ che ebene Partikelanordnung dargestellt und mit den Bezugszei­ chen 10, 20, 40, 50, 60, 70 bezeichnet sind. Diese Partike­ lanordnungen sind allgemein unregelmäßig, können aber auch re­ gelmäßig sein, und können Mono- oder Mehrfachschichten umfas­ sen.

Die schematische Seitenansicht einer Anordnung zur Manipulie­ rung von Partikeln gemäß Fig. 1 zeigt eine HF-Elektrode 11, eine geerdete Gegenelektrode 12, eine Steuereinrichtung 13, einen HF-Generator 14 und eine Schalteinrichtung 15. Eine Be­ obachtungslichtquelle 16 mit einer Zylinderlinsenanordnung 16a, ein Beobachtungsmittel in Form einer CCD-Kamera 17 mit einer Vergrößerungsoptik 18 und eine zugehörige Steuereinrich­ tung 19 stellen optische Beobachtungsmittel dar, deren Bereit­ stellung (insbesondere bei der zweiten Ausführungsform (s. un­ ten) gegebenenfalls unterbleiben kann. So wird bei sehr klei­ nen (< 100 nm) Teilchen ein anderes Beobachtungsmittel erfor­ derlich (z. B. unter Verwendung der Braggstreuung). Ein Staub­ dispensor 21 mit einem Reservoir 22, einer Konditionierungs­ einrichtung 23 und einem Einlaßmittel 24 ist dazu eingerich­ tet, Teilchen in den Raum zwischen der HF-Elektrode 11 und der Gegenelektrode 12 einzubringen. Die Konditionierungseinrich­ tung 23 kann beispielsweise eine Vorladungseinrichtung für die Teilchen enthalten.

Die erfindungsgemäße Anordnung umfaßt ferner ein Substrat 30, das mit einer Verstelleinrichtung 30 in alle Raumrichtungen beweglich ist. Fig. 1 zeigt nicht die Wandung des Reaktions­ gefässes, die einen geschlossenen Raum für das Trägergas bil­ det und vakuumdicht die Elektroden 11, 12, das Substrat 30 und Teile der Teilchenzuführeinrichtung einschließt. Die Wandung kann ferner Fenster zur Strahlungsein- bzw. -auskopplung auf­ weisen.

Fig. 2 zeigt schematisch eine Draufsicht auf Teile der erfin­ dungsgemäßen Anordnung gemäß Fig. 1, nämlich die HF-Elektrode 11 und das Substrat 30 mit der Verstelleinrichtung 31. Zusätz­ lich ist eine in Fig. 1 nicht gezeigte Entladeeinrichtung 24 dargestellt, die zur ortsselektiven Entladung von Partikeln eingerichtet ist. Beim dargestellten Beispiel umfaßt die Ent­ ladeeinrichtung 24 eine UV-Strahlenquelle 25 und ein geeigne­ tes Abbildungs- und Maskierungssystem, mit z. B. eine Gruppe der Partikel bzw. Partikel in vorbestimmten Raumbereichen ortsselektiv bestrahlt und unter Wirkung der UV-Strahlung ent­ laden werden können.

Die UV-Strahlenquelle 25 und das Abbildungs- und Maskierungs­ system 26 können alternativ auch eine Umladeeinrichtung 24 darstellen. In diesem Fall ist die Leistung der UV- Strahlenquelle 25 derart gewählt, daß an den Partikeln bei UV- Beleuchtung Sekundärelektronenemissionen auftreten, in deren Ergebnis die Nettoladung des Partikels positiv ist. Anstelle der dargestellten Ausführungsform einer ausgedehnten UV- Strahlenquelle 25 kann auch eine eng begrenze, intensive Lichtquelle z. B. in Form eines UV-Lasers vorgesehen sein, wo­ bei dann das Abbildungs- und Maskierungssystem 26 zur raster­ artigen, sequentiellen Beleuchtung der interessierenden Be­ reich der Partikelanordnung 10 eingerichtet ist. Die UV- Beleuchtung erfolgt in diesem Fall vorzugsweise von oben durch die Ringelektrode 12.

Ersatzweise kann zur Umladung das Bauteil 25 auch eine Elek­ tronenquelle bezeichnen, wobei dann das Bauteil 26 ein Strahl­ lenkungssystem darstellt. Mit dem Strahllenkungssystem wird ein Elektronenstrahl von der Elektronenquelle auf die interes­ sierenden Bereiche der Partikelanordnung gerichtet, um die dort befindlichen Partikel mittels Sekundärelektronenemission umzuladen. Diese Einkopplung des Elektronenstrahls erfolgt ebenfalls vorzugsweise von oben durch die Ringelektrode 12.

Im folgenden wird eine erste Variante der erfindungsgemäßen Verfahrensweise zur Manipulierung der Teilchen im Plasma unter Bezug auf die Fig. 1 und 2 erläutert.

Im (nicht dargestellten) Reaktionsgefäß, insbesondere zwischen den HF- und Gegenelektroden, die als Entladungselektroden wir­ ken, wird in einem Trägergas ein Plasma gezündet. Ein besonde­ rer Vorteil bei der ersten Ausführungsform besteht darin, daß an die Art des Trägergases keine besonderen Anforderungen zu stellen sind. Die Plasmabedingungen (Art und Dichte des Gases, HF- Leistung, Frequenz, Druck etc.) können vom Fachmann ent­ sprechend den Bedingungen der Partikelanordnung ausgewählt werden. Es können beispielsweise auch Niederenergie- Argonentladungen oder Silanentladungen unter den Bedingungen verwendet werden, wie sie bei der Plasmaabscheidung in der Halbleitertechnologie benutzt werden. Der Einsatz eines reak­ tiven Gases wie z. B. Silan ist für weitere Behandlungsschritte an den Partikeln von Vorteil. Die Energie der Ionen im Plasma entspricht im wesentlichen der Gastemperatur. Diese wird durch die Entladungsbedingungen und gegebenenfalls durch eine äußere Kühleinrichtung bestimmt. So kann beispielsweise in einer er­ findungsgemäßen Anordnung eine (nicht dargestellte) Stick­ stoffkühlung vorgesehen sein.

Über den Staubdispensor 21 können die zu manipulierenden Teil­ chen in den Elektrodenraum eingebracht. Die Teilchengröße liegt im Bereich von einigen nm bis 100 µm. Die Untergrenze der Teilchengröße wird durch die Druckbedingungen im Reakti­ onsgefäß und über die Aufladung festgelegt. Die Teilchen soll­ ten so schwer sein, daß im plasmafreien Zustand die Teilchen unter Wirkung der Schwerkraft eine vertikale Bewegung ausfüh­ ren und nicht im Schwebezustand verbleiben. Die Obergrenze der Teilchengrößen wird durch die sogenannte Debye-Länge der Wech­ selwirkung zwischen benachbarten Teilchen festgelegt. Die De­ bye-Länge steigt proportional zur Wurzel der Plasmatemperatur bzw. umgekehrt proportional zur Wurzel der Plasmadichte. Ein weiterer besonderer Vorteil der Erfindung besteht darin, daß neben den Größenanforderungen an die zu manipulierenden Teil­ chen keine weiteren Einschränkungen in Bezug auf die Form oder das Material der Teilchen bestehen. Es sind beliebige, z. B. runde, nadelförmige, rohrförmige oder plättchenförmige Teil­ chen verwendbar. Die Teilchen müssen fest sein bzw. eine genü­ gende Formstabilität unter den Plasmabedingungen besitzen. Es wird vorzugsweise ein Material verwendet, das im interessie­ renden Teilchengrößenbereich besondere elektrische oder opti­ sche Eigenschaften besitzt. Es kann auch ein Material verwen­ det werden, das eine Zusammensetzung aus verschiedenen Sub­ stanzen, z. B. organischen Stoffen, ist.

Die in das Plasma eingebrachten Teilchen bilden eine Partikel­ anordnung 10 (s. Fig. 1, 2). Diese kann eine beliebige, un­ geordnete Teilchenanordnung sein.

Die HF-Elektrode 11 weist eine negative Gleichspannung auf. Bei einem Durchmesser der Elektroden von rd. 8 bis 10 cm, ei­ nem Elektrodenabstand von rd. 2 cm und einer Vorspannung an der HF-Elektrode 11 von rd. -15 Volt ordnen sich beispielswei­ se Polymerteilchen einer charakteristischen Größe von rd. 7 µm als flächige Wolke mit einem Abstand von rd. 0,5 cm von der HF-Elektrode 11 an.

Die hier beispielhaft gegebenen Systemdimensionen ändern sich bei veränderten Elektrodenparametern (Elektrodendurchmesser, Elektrodenabstand, Spannungswerte) entsprechend. Der Elektro­ dendurchmesser kann beispielsweise im Bereich von wenigen Zen­ timetern bis 60 cm und der Elektrodenabstand kann im Bereich von 1 cm bis 10 cm liegen. Es werden vorzugsweise solche Elek­ trodenparameter ausgewählt, die mit verfügbaren und CVD- Reaktoren kompatibel sind.

Das Substrat 30 ist zwischen der HF-Elektrode 11 und der Par­ tikelanordnung 10 angeordnet. Auch in Bezug auf das Substrat­ material und die Substratform bestehen vorteilhafterweise kei­ ne Beschränkungen. Es kann insbesondere sowohl ein leitfä­ higes als auch ein nicht-leitfähiges Substrat verwendet wer­ den, ohne daß die Bedingungen für die Partikelanordnung sich verändern.

Bei einem erfindungsgemäßen Verfahren zur Manipulierung von Teilchen erfolgt zunächst eine Einstellung der Teilchen in ei­ ner Ausgangs- oder Behandlungsposition. Diese Behandlungsposi­ tion kann einem Kräftegleichgewichtszustand nach Einführung der Teilchen in den Reaktor entsprechen. Es ist aber auch mög­ lich, die Partikelanordnung 10 zu bewegen, insbesondere die Relativposition in Bezug auf die Elektroden oder das Substrat zu ändern. Dies erfolgt beispielsweise durch eine Änderung der Plasma- oder Feldbedingungen. So kann durch eine Änderung der Trägergasdichte eine Änderung der Teilchenladung und somit ei­ ne Änderung des Gleichgewichtszustands zwischen Gravitations­ kraft und elektrischer Kraft erzielt werden. Entsprechendes gilt bei Änderung der negativen Vorspannung der HF-Elektrode oder bei einer äußeren Entladung der Teilchen. In der Behand­ lungsposition wird in einem nächsten Schritt mindestens ein Teil der Teilchen einer Plasmabehandlung oder einer Auftragung auf das Substrat unterzogen.

Die Plasmabehandlung kann beispielsweise eine Teilchenober­ flächen-Beschichtung oder -Abtragung umfassen. Im letzteren Fall kann beispielsweise ein schrittweises Absenken der Parti­ kelanordnung zu einem geringeren Abstand von der HF-Elektrode dazu führen, daß die untersten Schichten der Partikelanordnung einem selektiven Plasmaätzprozeß unterzogen werden. Zur Teil­ chenbeschichtung kann ggf. ein Plasmawechsel bei laufendem Reaktorbetrieb vorgesehen sein.

Zur Auftragung auf dem Substrat 30 kann jede geeignete Ände­ rung des Abstands zwischen den Partikelanordnungen und der Substratoberfläche verwendet werden. Gemäß einer ersten Alter­ native werden die Partikelanordnungen durch Änderung der Plas­ mabedingungen bzw. durch eine gezielte, ortsselektive Entla­ dung auf das Substrat gesenkt. Gemäß einer zweiten Alternative kann das Substrat mit der Verstelleinrichtung 31 zur Partike­ lanordnung angehoben werden. Gemäß einer dritten, bevorzugten Alternative wird die Entladung zwischen den Elektroden abge­ schaltet, so daß das Plasma erlischt und die Teilchen auf das Substrat fallen. Beim Kontakt zwischen den Teilchen und dem Substrat führen molekulare Anziehungskräfte zur Adsorption der Teilchen an der Substratoberfläche. Gleichzeitig oder im wei­ teren Verfahren kann die Teilchenadsorption durch eine Über­ schichtung noch verstärkt werden.

Fig. 3 zeigt eine schematische Seitenansicht eines Ausschnitts einer erfindungsgemäßen Anordnung zur Teilchenmanipulierung. Zwischen der HF-Elektrode 11 und dem Substrat 30 mit der Ver­ stelleinrichtung 31 einerseits und der geerdeten Gegenelektro­ de 12 sind Partikelanordnungen angeordnet. Die Partikelanord­ nung 40 ist mit einer mehrfach gewölbten Querschnittsform aus­ gebildet, die im wesentlichen dem Verlauf des statischen elek­ trischen Feldes im Raum zwischen den Elektroden entspricht. Das Feld zwischen den Elektroden wird durch eine Elektroden­ strukturierung 41 ortsselektiv verformt. Beim dargestellten Beispiel wird die Elektrodenstrukturierung durch Zusatzelek­ troden 41 (Nadel-Elektroden) gebildet, die mit einer positiven Spannung beaufschlagt und isoliert durch die Gegenelektrode 12 durchgeführt sind. Die Partikelanordnung folgt der ortsselek­ tiven Deformierung des elektrischen Feldes, so daß ein mehr­ fach gewölbtes Gebilde entsteht. Die Zusatzelektroden 41 kön­ nen reihenweise oder flächig angeordnet sein. Statt einem po­ sitiven Potential können die Zusatzelektroden 41 auch mit ei­ nem negativen Potential beaufschlagt sein.

Im unteren Teil von Fig. 3 sind zwei Beispiele einer ortsse­ lektiven Substratbeschichtung mit erfindungsgemäß manipulier­ ten Partikelanordnungen schematisch gezeigt. Erfolgt eine For­ mation der Partikelanordnung derart, daß die Querschnittsform nach oben weisende Auswölbungen zeigt, so führt eine Annähe­ rung der Partikelanordnungen an das Substrat 30 gemäß der oben genannten ersten oder zweiten Alternative zu einem Beschich­ tungsmuster entsprechend dem unteren, linken Teil von Fig. 3. Wird umgekehrt eine nach unten weisende Auswölbung (durch ne­ gative Potentiale der Zusatzelektroden 41) eingestellt, so führt die gegenseitige Annäherung zu einer inselförmigen Be­ schichtung gemäß dem unteren, rechten Teil von Fig. 3.

Durch eine geeignete Formung der Elektrodenstrukturierung oder der Zusatzelektroden lassen sich beliebige Beschichtungsmuster z. B. in Form von Kreisen, Ringen, Bögen, Streifen oder dgl. auf der Substratoberfläche ausbilden. Zusätzliche Modifizie­ rungen sind möglich, wenn die Zusatzelektroden gemäß Fig. 3 beweglich angeordnet sind, so daß die Manipulierung der Parti­ kel 40 im Zeitverlauf variiert werden kann. Dementsprechend lassen sich verschiedene Beschichtungsmuster aufeinanderfol­ gend auf dem Substrat 30 auftragen.

Eine alternative Gestaltung zur ortsselektiven Verformung des Feldes zwischen den Elektroden wird im folgenden unter Bezug auf die Fig. 4 bis 7 erläutert.

Fig. 4 zeigt eine Explosionsdarstellung eines Reaktionsgefäßes 20, das zur Realisierung der Erfindung eingerichtet ist. Das Reaktionsgefäß 20 ist nicht nur an die im folgenden erläuterte adaptive Elektrode angepaßt, sondern kann auch in Verbindung mit den in den anderen Figuren dargestellten Ausführungsformen der Erfindung realisiert werden. Das Reaktionsgefäß 20 besteht aus einer Elektrodenaufnahme 201, die in den Rezipientenboden 202 eingelassen ist. Der Reaktionsraum wird vom Rezipientenbo­ den 202 mit der Elektrodenaufnahme 201, der Rezipientenwand 203 und dem Rezipientendeckel 204 eingeschlossen und ist über den Vakuumanschluß 205 evakuierbar. Der Rezipientendeckel 204 besitzt einen Fenstereinsatz 206, der auf einer gegebenenfalls gegenüber dem Rezipientendeckel 204 vakuumdicht verdrehbaren Subeinheit 207 des Rezipientendeckels 204 angebracht ist. Es kann vorgesehen sein, daß die Subeinheit 207 selbst unter Va­ kuum verdrehbar ist. Der Fenstereinsatz 206 ist zur Aufnahme unterschiedlicher Beobachtungs- oder Diagnosemittel für die im Reaktionsraum manipulierten Teilchen ausgelegt. Die Teile des Reaktionsgefäßes 20 sind in üblicher Weise wie bei einem Vaku­ umgefäß verbunden. Des weiteren können über seitliche Flan­ scheinheiten zusätzlich unterschiedliche Diagnostikeinheiten eingebracht werden.

In Fig. 4 sind ferner die adaptive HF-Elektrode 11 und die ge­ erdete Gegenelektrode 12 (vgl. Fig. 1) gezeigt. Die Gegenelek­ trode 12 ist ringförmig ausgebildet, um eine Beobachtungsöff­ nung für das Beobachtungsmittel (nicht dargestellt) zu bilden.

Eine vergrößerte Draufsicht auf die adaptive Elektrode 11 ist in Fig. 5 dargestellt. Die adaptive Elektrode 11 besitzt ent­ sprechend der üblichen zylinderförmigen Gestaltung von Vakuum­ gefäßen zur Bildung eines durch äußere Rezipienteneinbauten möglichst ungestörten Feldverlaufs eine im wesentlichen kreis­ runde Umrandung 111. Innerhalb der Umrandung befinden sich ei­ ne Ringelektrode 112 und eine Vielzahl Elektrodensegmenten, die beim dargestellten Beispiel in Elektrodensubeinheiten 113 zusammengefaßt sind. Die Ringelektrode 112 ist als einstücki­ ger, durchgehender Elektrodenbereich dargestellt und zur Feld­ korrektur (Abflachung) des elektrischen Feldes des hochsegmen­ tierten Elektrodenbereiches eingerichtet. Es ist jedoch er­ satzweise auch möglich, anstelle der Ringelektrode 112 einen segmentierten Elektrodenbereich vorzusehen, in dem jedoch die Segmente mit identischen Feldern beaufschlagt werden. Im Über­ gangsbereich zwischen den Elektrodensubeinheiten und der Rin­ gelektrode werden die Subeinheiten derart in der Höhe verän­ dert, daß der Ring (eventuell von der Unterseite ausgefräst) über die Subeinheiten geschoben werden kann.

Die Elektrodensubeinheiten 113 sind in einem inneren, von der Ringelektrode 112 umgebenen Bereich der Elektrode 11 vorgese­ hen und umfassen jeweils eine Vielzahl von Elektrodensegmen­ ten. Die Form, Größe und Zahl der Elektrodensegmenten wird an­ wendungsabhängig je nach den räumlichen Anforderungen an ein elektrisches Gleich- oder Niederfrequenzfeld (E) zwischen den Elektroden 11, 12 (vgl. Fig. 1) konstruiert. Die größte Varia­ bilität der einstellbaren Feldverläufe wird durch eine Ma­ trixanordnung einer Vielzahl von punktförmigen Elektrodenseg­ menten (im folgenden als Punktsegmente oder Punktelektroden bezeichnet) erreicht. Hierbei bedeutet die Bezeichnung punkt­ förmiges Elektrodensegment bzw. Punktsegment, daß zwar jedes Elektrodenelement eine zum Reaktionsraum hinweisende endliche Fläche besitzt, diese jedoch wesentlich kleinere Dimensionen als die Gesamtgröße der Elektrode 11 besitzt. So besitzt jede Punktelektrode beispielsweise eine charakteristische Längen- Dimension, die um einen Faktor von rund 1/500 bis 1/100, z. B. 1/300, gegenüber der Außendimension (Durchmesser) der Elektro­ de 11 verkleinert ist. Das Matrixraster kann jedoch anwen­ dungsabhängig auch größer gewählt werden. Bei der hier darge­ stellten Punktrasterform der adaptiven Elektrode ist eine cha­ rakteristische Längen-Dimension der Punktelektrode vorzugswei­ se gleich oder kleiner der Debye-Länge der Teilchen im Plasma (z. B. rund 3 mm).

Eine adaptive Elektrode 11 besitzt beispielsweise einen Außen­ durchmesser von rund 50 cm mit einer Breite der Ringelektrode 112 von rund 5 cm, so daß der innere Bereich der Elektroden­ segmente 113 einen Durchmesser von rund 40 cm besitzt. Die ad­ aptiven Elektrodensubeinheiten 113 können in ihrer Gesamtheit beispielsweise rund 50.000 bis 100.000 Punktsegmente umfassen. Ein bevorzugtes Maß der Segmentierung ist ein 1.27-mm-Raster, das mit verfügbaren 1/20-Zoll-Steckereinrichtungen kompatibel ist, wie dies unten unter Bezug auf Fig. 6 näher erläutert wird. In diesem Fall lassen sich innerhalb der Ringelektrode 112 rund 80.000 voneinander elektrisch isolierte Punktsegmente anordnen.

Aus Übersichtlichkeitsgründen zeigt der untere Teil von Fig. 5 nicht jedes einzelne Punktsegment, sondern die Elektrodensu­ beinheiten (Punktsegmentgruppen). Die gruppenweise Zusammen­ fassung von Punktsegmenten ist kein zwingendes Merkmal der Er­ findung, besitzt jedoch Vorteile bei der Elektrodenansteue­ rung, wie dies unten im einzelnen unter Bezug auf die Fig. 7 und 8 erläutert wird. So zeigt das Linienmuster im unteren Teil von Fig. 5 beispielsweise Elektrodensubeinheiten 113, die jeweils 8.32 Punktsegmente enthalten. Dies wird durch den oberen Teil von Fig. 5 verdeutlicht, der eine Ausschnittsver­ größerung (X) vom Rand der Elektrodensubeinheiten 113 dar­ stellt. Die Erfindung ist nicht auf die Zusammenfassung von 8 . 32 Punktsegmenten zu einer Elektrodensubeinheit beschränkt, sondern kann konstruktions- und anwendungsabhängig andere Gruppierungen umfassen (z. B. 16.16 Punktsegmente).

Der obere Teil von Fig. 5 zeigt beispielhaft hervorgehoben ei­ ne Elektrodensubeinheit 113 mit einer Vielzahl von Punktseg­ menten oder Punktelektroden 115, die jeweils untereinander durch Isolationsstege voneinander elektrisch getrennt sind. Die Punktelektroden 115 besitzen zum Reaktionsraum weisende, quadratische Stirnflächen der Breite a = 1.25 mm. Die Isolati­ onsstege 116 besitzen eine Breite b = 0.02 mm, so daß sich insgesamt das oben genannte 1.27 mm-Raster ergibt. Die Elek­ trodensubeinheit 113 umfaßt z. B. 8.32 Punktelektroden 115. Aus Fig. 5 ist ferner ersichtlich, daß sich die Ringelektrode 112 und der Bereich der Elektrodensubeinheiten 113 gegenseitig überlappen. Damit wird eine optimale, dichte Ausfüllung des inneren Bereiches der Elektrode 11 auch am Rand der Ringelek­ trode 112 erzielt, wie dies im vergrößerten Teil von Fig. 5 erkennbar ist.

Sowohl die Ringelektrode 112 als auch die Elektrodensubeinhei­ ten 113 bestehen aus einem metallischen Elektrodenwerkstoff. Das Material wird anwendungsabhängig und je nach dem gewünsch­ ten Herstellungsverfahren für die Elektrode gewählt. Bei den unten erläuterten Ätzverfahren kann als Elektrodenwerkstoff z. B. Edelstahl, Aluminium oder Kupfer verwendet werden. Zur Vermeidung von elektrischen Störungen durch Abscheidungen auf der Elektrodenfläche wird diese vorzugsweise mit einer Isola­ tionsschicht überzogen, die z. B. aus demselben Isolationsmate­ rial wie die Isolationsstege 116 besteht. Die Isolations­ schicht kann beispielsweise eine Dicke von rund 10 µm bis 100 µm, vorzugsweise 20 µm, besitzen. Als Isolationsmaterial der Isolationsstege 116 ist jedes Material geeignet, das bei den auftretenden Spannungswerten eine genügende Isolationsfestig­ keit zwischen den Punktelektroden gewährt. Dieses Isolations­ material ist beispielsweise Epoxydharz oder ein anderer geeig­ neter Kunststoff.

Fig. 6 zeigt den Aufbau der segmentierten Elektrode am Bei­ spiel einer Elektrodensubeinheit 113. Entsprechend dem oben erläuterten Beispiel umfaßt die Elektrodensubeinheit 113 wie­ derum beispielhaft 8.32 Punktelektroden 115. Diese bilden (gemeinsam mit den übrigen, nicht dargestellten Segmenten der adaptiven Elektrode) einen oberen Elektrodenbereich, der auch als segmentierte Elektrode 120 bezeichnet wird. Die segmen­ tierte Elektrode besteht des weiteren aus der Isolationsplatte 122, in die eine Vielzahl von Buchsen eingearbeitet sind (nicht dargestellt), deren Zahl und Anordnung jeweils den Punktelektroden 115 der Elektrodensubeinheit 113 entspricht. Die Buchsen sind zur Aufnahme von Steckereinheiten 123 einge­ richtet, die gegebenenfalls auch als integrale Basisplatte ausgebildet sein können. Es besteht auch die Möglichkeit, die Steckereinheiten 123 als Buchsen auszulegen und eine elektri­ sche Verbindung mit den Buchsen, welche in die Isolationsplat­ te integriert sind, über leitfähige Stifte herzustellen. Zwi­ schen jeder Buchse der Isolationsplatte 122 und der entspre­ chenden Punktelektrode 115 besteht ein elektrischer Kontakt. Der Aufbau der Isolationsplatte 122 ist abhängig vom Herstel­ lungsverfahren der Gesamtelektrode 11 beziehungsweise des Be­ reiches der Elektrodensubeinheiten 113. Ein derartiges Her­ stellungsverfahren wird im folgenden beispielhaft illustriert.

Zunächst wird von der Unterseite der Isolationsplatte 122, für jede Punktelektrode 115 eine Bohrung durch die Isolationsplat­ te 122 bis zur späteren Position der jeweiligen Punktelektrode 115 vorgenommen, so daß am Ende jeder punktförmigen Elektrode, welche mit leitfähigem Klebstoff an der Isolationsplatte haf­ tet, eine zugehörige Buchse zur Aufnahme eines Stifts von der Steckeinrichtung 123 geschaffen wird. Anschließend wird eine metallische Platte oder Folie aus dem gewählten Elektrodenma­ terial mit den gewünschten Außendurchmesser- bzw. Dickenpara­ metern auf eine Platte aus Isolationsmaterial mit einer Dicke entsprechend der gewünschten Dicke der Isolationsplatte 122 geklebt. Dann erfolgt ein Materialabtrag aus der metallischen Elektrodenfolie zur Bildung der Punktelektroden 115, wobei die entsprechenden Positionen der Punktelektroden über den Löchern in der Isolationsplatte angeordnet werden. Zum Materialabtrag werden kanalförmige Freiräume entsprechend dem Muster der Iso­ lationsstege 116 (vgl. Fig. 5) ausgebildet. Dieser Materialab­ trag erfolgt beispielsweise durch einen maskierten Ätzvorgang, bei dem die metallische Folie außer an den gewünschten Posi­ tionen der Punktelektroden durchgehend bis zur Isolationsplat­ te abgetragen wird. Anschließend werden die Kanäle zur Bildung der Isolationsstege 116 mit einem Isolationsmaterial gefüllt. Dies erfolgt beispielsweise durch Ausgießen mit einem aushärt­ baren Harz.

Bei alternativen Verfahrensweisen werden mit entsprechenden Strukturierungsverfahren Buchsen in der Isolationsplatte 122 ausgebildet, die jeweils zur adaptiven Elektrode hin geschlos­ sen und elektrisch mit der jeweiligen Punktelektrode 115 ver­ bunden sind. In jedem Fall bildet die segmentierte Elektrode einen vakuumdichten Abschluß des Reaktionsraumes.

An der von der segmentierten Elektrode abgewandten Seite der Steckereinheiten 123 sind Platinen 124 angebracht, die Verbin­ dungsstecker 126 zur externen Elektronik und Adress-Decoder-, Multiplex- und Demultiplex-Schaltkreise 127, 128, 129 tragen, deren Funktionen im einzelnen unten unter Bezug auf Fig. 7 er­ läutert wird. Bei der dargestellten Ausführungsform der Erfin­ dung sind vier Steckereinheiten 123 (inklusive der Platinen 124) für jeweils 2.32 Punktelektroden 115 zu je einem MUX- Modul zur Ansteuerung von 8.32 Punktelektroden zusammenge­ faßt. Der Abstand der vier entsprechenden Platinen 124 wird durch das Rastermaß bestimmt und ist geringfügig größer als die Höhe der aufgesetzten Schaltkreise 127, 128, 129. Wiederum kann diese Dimensionierung größen- und anwendungsabhängig ver­ ändert werden. Die vier Platinen 124 sind durch z. T. leitfä­ hige Stabilisationseinheiten 126a miteinander verbunden.

Zur vereinfachten Handhabung (Bestückung der segmentierten Elektrode mit Steckereinheiten) können an der Unterseite der Isolationsplatte 122 für jede Elektrodensubeinheit 113 eine Farbcodierung 117 vorgesehen sein. Die Platinen 124 sind der­ art ausgelegt, daß die in Fig. 7 illustrierten elektronischen Schaltelemente integriert werden können.

Im folgenden wird die elektrische Steuerung der erfindungsge­ mäßen adaptiven Elektrode 11 unter Bezug auf das Blockschalt­ bild gemäß Fig. 7 erläutert. Fig. 7 zeigt im Reaktionsgefäß 20 (s. Fig. 4) Punktelektroden 115 als Teil der HF-Elektrode (ad­ aptive Elektrode 11) und die Gegenelektrode 12 (s. auch z. B. Fig. 1). Von den (insgesamt 256) Punktelektroden 115 einer Elektrodensubeinheit 113 sind vergrößert die erste und letzte Punktelektrode jeweils der ersten und vierten Platine 124 (Ma­ trixpositionen (1, 1), (2, 64), (7, 1), (8, 64) dargestellt. Ferner ist die Ringelektrode 112 dargestellt.

Der Elektronikbereich 130 umfaßt sämtliche Platinen 124 (s. Fig. 6), die den Punktelektroden 115 zugeordnet sind. Bei­ spielhaft ist hier eine Platine 124 für 8.32 Punktelektroden 115 dargestellt. Der Elektronikbereich 130, der die vom Reak­ tionsraum abgewandte Rückseite der adaptiven Elektrode 11 dar­ stellt, wird zur Vermeidung einer übermäßigen Druckbelastung der adaptiven Elektrode 11 mit einem Unterdruck beaufschlagt. Der Druck im Elektronikbereich 130 kann beispielsweise im Be­ reich von 10 bis 100 mbar liegen. Alternativ kann der Elektro­ nikbereich zur Druckentlastung der adaptiven Elektrode auch mit einer isolierenden Flüssigkeit, wie z. B. einem Öl, ausge­ gossen sein, die auch eine Kühlfunktion übernehmen kann. Vom Elektronikbereich 130 getrennt sind unter atmosphärischen Be­ dingungen Versorgungsschaltungen 140 und eine Steuereinrich­ tung 150 vorgesehen. Die Versorgungsschaltungen 140 umfassen einen HF-Generator 141, eine Versorgungsspannungschaltung 142 für die Ringelektrode 12, und eine Steuerspannungschaltung 143.

Die Platine 124 besitzt für jede der Punktelektroden 115 je­ weils eine Einkoppelschaltung 131. Die Einkoppelschaltung 131 ist dazu vorgesehen, jede Punktelektrode (bzw. allgemein jedes Elektrodensegment) der adaptiven Elektrode 11 gleichzeitig mit der Ausgangsspannung des HF-Generators 141 und mit einer seg­ mentspezifischen Ausgangsspannung der Steuerspannungsschaltung 143 zu beaufschlagen. Hierbei wird erfindungsgemäß mit beson­ derem Vorteil die Tatsache ausgenutzt, daß die HF-Versorgung hochfrequent und die ortsselektive Erzeugung einer Feldvertei­ lung im Reaktionsraum niederfrequent bzw. mit einem statischen elektrischen Feld erfolgt. So sind die Ausgangsparameter des HF-Generators 141 beispielsweise eine Ausgangsfrequenz im MHz- Bereich (entsprechend den üblichen Frequenzen zur Erzeugung und Aufrechterhaltung von Plasmen, z. B. 12 bis 15 MHz) und ein Spannungsbereich von ± 150 V_ss (sinusförmig). Hingegen erfolgt die Beaufschlagung der Punktelektroden 115 mit Steuerspannun­ gen niederfrequent (≦ 100 Hz) oder statisch (Gleichspannung, DC). Dementsprechend enthält jede Einkoppelschaltung 131 eine Kondensator-Widerstand-Kombination (C1-C256, R1-R256), wobei die HF-Leistung über alle Kondensatoren gemeinsam eingekoppelt wird.

Auf jeder Platine ist ferner eine Adressierungsschaltung 132 vorgesehen, die die oben genannten (s. Fig. 6) Adress-Decoder, Multiplexer- und Demultiplexer-Schaltkreise 127, 128, 129 um­ faßt, die wie folgt zusammenwirken.

Der Adress-Decodier-Schaltkreis 127 wählt in Abhängigkeit von den Schaltsignalen (DEMUX CONTROL und MUX CONTROL) der Steuer­ schaltung 150 mit einer Schaltfrequenz von 256 kHz aus, wel­ cher Spannungswert von der Steuerspannungschaltung 143 mit dem Multiplex-Schaltkreis 128 auf eine Zentralleitung 133 und von dieser mit dem Demultiplex-Schaltkreis 129 auf einen, wiederum vom Adress-Decodier-Schaltkreis 127 ausgewählten, Einkoppel­ kreis 131 gemäß einer Punktelektrode 115 geschaltet wird. Bei der dargestellten Ausführungsform liefert die Steuerspannung­ schaltung 143 vierundsechzig Steuerspannungswerte entsprechend auf vierundsechzig Versorgungsleitungen (vgl. auch Fig. 7). Die Steuerspannungswerte auf dem Spannungsversorgungsbus 143a unterscheiden sich beispielsweise mit Spannungsschritten von 0.625 V und überdecken den Bereich von ± 20 V (Gleichspannung) Dementsprechend trifft der Multiplex-Schaltkreis 128 eine 1 : 64-Auswahl zur Verbindung einer der vierundsechzig Versor­ gungsleitungen 143a mit der Zentralleitung 133. Bei der darge­ stellten Ausführungsform sind ferner 256 Einkoppelschaltkreise 131 entsprechend den 256 Punktelektroden 115 vorgesehen, so daß der Demultiplex-Schaltkreis 129 eine 256 : 1-Auswahl von der Zentralleitung 133 auf einen der Einkoppelschaltkreise 131 trifft.

Die zu einer Platine 124 gehörigen Punktelektroden 115 (ent­ sprechend einer Elektrodensubeinheit) werden vorzugsweise se­ riell entsprechend einem bestimmten Ablaufmuster angesteuert. Dabei wird mit besonderem Vorteil eine Doppelfunktion der Ein­ koppelkondensatoren C1-C256 genutzt. Diese dienen nämlich nicht nur der Einkoppelung der HF-Leistung, sondern auch der Aufrechterhaltung des Elektrodenpotentials an den einzelnen Punktelektroden, solange entsprechend dem seriellen Ansteuer­ ablauf keine Verbindung mit der Steuerspannungsschaltung 143 besteht. Da von jeder Punktelektrode 115 laufend durch Strom­ verluste über das Plasma ein Leistungsverlust entsteht, sind die Einkoppelkondensatoren C1-C256 zyklisch auf den gewünsch­ ten Spannungswert nachzuladen. Die Einkoppelkondensatoren sind so ausgelegt, daß bei den anwendungsabhängigen Elektrodenspan­ nungen bzw. Verlustleistungen der Ladungsverlust am jeweiligen Einkoppelkondensator und somit der Spannungsabfall an der zu­ gehörigen Punktelektrode während eines Ansteuerzyklus (≦ 1%) in Bezug auf die Elektrodenspannung ist.

Die Schaltfrequenz des Adress-Decodier-Schaltkreises 127 wird in Abhängigkeit von der Zahl der zu einer Subeinheit 113 gehö­ rigen Punktelektroden 115, von der Frequenz der Steuerspan­ nungsänderungen und von der Spannungskonstanz während eines Zyklus an den Punktelektroden so gewählt, daß der serielle Zy­ klendurchlauf durch die Subeinheit oder Segmentgruppe 113 eine wesentlich höhere Frequenz als die Niederfrequenzspannung der Steuerspannungsänderung besitzt. Dies bedeutet beispielsweise bei 256 Punktelektroden und einer angestrebten Zyklenfrequenz von rund 1 kHz (entsprechend 1.000 Nachladevorgängen pro Punk­ telektrode pro Sekunde) eine Schaltfrequenz von 256 kHz. Die­ ses schnelle Schalten zwischen den Spannungsstufen der Steuer­ spannungschaltung 143 erlaubt auch eine ortsselektive Model­ lierung des Feldverlaufs im Reaktionsraum 20 entsprechend ei­ nem Wechselfeldverhalten.

Die gesamte Steuerelektronik 140, 150 gemäß Fig. 7 ist poten­ tialmäßig dem HF-Signal überlagert und deshalb schaltungstech­ nisch kapazitätsarm vom Steuerrechner, dem Netz und anderen Schnittstellen für Kühlzwecke usw. entkoppelt. Die Eingabe von Steuersignalen über die Steuereinrichtung 150 erfolgt vorzugs­ weise über einen Optokoppler.

Die oben beschriebene adaptive Elektrode 11 und die zugehörige Steuerelektronik können wie folgt modifiziert werden. Die Zahl, Form und Anordnung der Elektrodensegmente kann anwen­ dungsabhängig verändert werden. Bei Realisierung einer Matrix mit Punktelektroden kann die Zusammenfassung in Segmentgruppen anwendungsabhängig verändert werden. Entsprechendes gilt für den Spannungsbereich der Steuerspannungschaltung 143 und die Größe der einstellbaren Spannungsschritte oder -stufen. Schließlich kann der Aufbau im Reaktionsgefäß (s. Fig. 4) um­ gekehrt werden, indem die geerdete Elektrode 12 auf der unte­ ren und die HF-Elektrode 11 (insbesondere die adaptive Elek­ trode 11) auf der oberen Seite angebracht werden.

Der wichtigste Vorteil der adaptiven Elektrode 11 ist die Schaffung eines programmierbaren räumlichen stationären oder niederfrequenten elektrischen Feldverlaufes im Reaktionsraum, mit den geladenen Teilchen an bestimmten Orten festgehalten oder in bestimmter Weise bewegt werden können. Dadurch sind die zu manipulierenden Teilchen in beliebiger Weise positio­ nierbar.

Fig. 8 zeigt eine schematische Seitenansicht von Teilen einer erfindungsgemäßen Anordnung, bei der die Plasmapartikelanord­ nung 50 zwischen der HF-Elektrode 11 und dem Substrat 30 mit der Verstelleinrichtung 31 einerseits und der Gegenelektrode 12 andererseits stufenförmig ausgebildet ist. Diese Form läßt sich beispielsweise durch Einsatz einer Ent- oder Umladevor­ richtung gemäß Fig. 2 erzielen. Durch eine teilweise Bestrah­ lung der Partikel mit UV-Licht wird ein Teil der Teilchen (in Fig. 8 der linke Bereich) entladen, so daß das Gleichgewicht bei unveränderten Plasmabedingungen in einer geringen Höhe über der HF-Elektrode 11 eingestellt wird. Durch eine entspre­ chende Änderung der relativen Lage der Partikelanordnung 50 und/oder des Substrats 30 läßt sich eine teilweise Beschich­ tung des Substrats 30 erzielen, wie es im unteren Teil von Fig. 8 illustriert ist.

Durch eine Strukturierung der HF-Elektrode 11 mit Strukturele­ menten 61 gemäß Fig. 8 kann das elektrische Feld zwischen der HF-Elektrode 11 und der Gegenelektrode 12 derart beeinflußt werden, daß sich die Partikelanordnung nur in einem Bereich mit einem Potentialminimum anordnen, der sich über den Teilen der HF-Elektrode 11 befindet, die nicht von den Strukturele­ menten 61 bedeckt sind. Werden die Strukturelemente 61 bei­ spielsweise durch Abdeckbalken gebildet, die einen streifen­ förmigen Zwischenraum lassen, so besitzt die Partikelanordnung 60 eine Streifenform (Erstreckungsrichtung senkrecht zur Zei­ chenebene von Fig. 9). Die Partikelanordnung 60 läßt sich wie­ derum erfindungsgemäß auf dem Substrat 30 ablagern.

Alternativ zu der Streifengestaltung gemäß Fig. 9 läßt sich die HF-Elektrode 11 mit beliebigen Strukturelementen 61 struk­ turieren oder maskieren.

Fig. 10 zeigt eine zusätzliche Möglichkeit der Ausübung äuße­ rer Verstellkräfte auf die Partikelanordnung. Die schematische Draufsicht auf eine erfindungsgemäße Anordnung zeigt die HF- Elektrode 11 mit der Steuereinrichtung 13 und das Substrat 30 mit der Verstelleinrichtung 31. Die HF-Elektrode 11 trägt Strukturelemente (nicht dargestellt) gemäß Fig. 10, so daß sich eine streifenförmige Partikelanordnung ausbildet. Die Ge­ stalt der Partikelanordnung 70 läßt sich weiter verändern, in­ dem Ablenkelektroden 71 synchron mit einer Wechselspannung be­ aufschlagt werden. Die Ablenkelektroden 71 sind zu einer late­ ralen Auslenkung einer schichtförmigen Partikelanordnung in der Schichtebene eingerichtet. So läßt sich beispielsweise ei­ ne schlangenförmige Schwingung der Teilchen erzielen, wie sie im unteren Teil von Fig. 10 skizziert ist. Diese Anordnung kann wiederum auf dem Substrat 30 aufgetragen werden.

In Fig. 11 ist eine Oberflächenbeschichtung mit langgestreck­ ten Partikeln gezeigt, die insbesondere zur Erzielung anio­ sotroper optischer Oberflächeneigenschaften eingerichtet ist. Die langgestreckten Teilchen sind beispielsweise sogenannte Bucky-Tubes (mikroskopische, rohrförmige Teilchen bestehend aus einer regelmäßigen Anordnung von Kohlenstoffatomen). Die Bucky-Tubes können beispielsweise eine Länge von einigen Mi­ krometern und einen Durchmessern von rund 10 bis 20 nm besit­ zen. Diese Teilchen besitzen eine verhältnismäßig große Ober­ fläche, die zu einer starken Aufladung im Plasma und zu einer Polarisation führt. Durch eine durch energetische Bestrahlung induzierte Entladung erfolgt eine entsprechende Annäherung an das Substrat 30 und die Adsorption der langgestreckten Teil­ chen mit einer vertikalen Vorzugsrichtung, wie es im unteren Teil von Fig. 11 illustriert ist. Diese Adsorbate können gege­ benenfalls in einem Zusatzschritt in ihrer Lage durch eine Zu­ satzbeschichtung fixiert werden.

Gemäß Fig. 12, die eine Draufsicht auf Teile einer erfindungs­ gemäßen Anordnung zeigt, ist eine Manipulierung der Partike­ lanordnung 90 auch durch Ausübung eines Strahlungsdrucks von einer äußeren Lichtquelle 91 möglich. Die äußere Steuerlicht­ quelle kann beispielsweise durch einen Helium-Neon-Laser mit einer Leistung von rund 10 mW gebildet werden. Der mit dem La­ serstrahl auf die Partikel ausgeübte Strahlungsdruck erlaubt eine präzise Positionskontrolle, die mit einer Beobachtungs­ einrichtung 17 (s. Fig. 1) überwacht werden kann. Mit Hilfe des Strahlungsdrucks lassen sich Partikelanordnungen vorzugs­ weise drehen (siehe Pfeil), oder auch auf ein seitlich ange­ ordnetes Substrat bewegen.

Neben den illustrierten Ausführungsformen der Erfindung sind weitere Modifizierungen der erfindungsgemäßen Anordnung durch Einrichtung von Mitteln denkbar, mit denen durch Ausübung äu­ ßerer Kräfte die Bedingungen der Partikelanordnungen ortsse­ lektiv verändert werden können. Beispielsweise ist es möglich, zusätzlich eine Magnetfeldeinrichtung zur gezielten Steuerung des Plasmas beispielsweise durch eine senkrecht zu den Elek­ trodenebenen ausgerichtete Magnetfeldrichtung zu erzielen. Es ist ferner möglich, das Beschichtungsverfahren dynamisch durchzuführen, wobei kontinuierlich Teilchen dem Plasmaraum zugeführt und ortsselektiv auf die Substratoberfläche aufge­ tragen werden. Weitere Modifizierungen beziehen sich auf das Substrat. Das Substrat muß nicht eben sein, sondern kann eine gekrümmte Oberflächen aufweisen. Es können mehrere Substrate vorhanden sein.

Es ist auch möglich, eine erfindungsgemäße Vorrichtung ohne Auftragung auf einem Substrat als Anzeigevorrichtung zu be­ treiben, bei der anisotrope Teilchen zur Anzeige vorbestimmter Muster zwischen verschiedenen Ausrichtungen umstellbar sind, die beispielsweise jeweils einen Zustand "Schwärzung" oder "Transparenz" repräsentieren. Es ist auch möglich, verschieden große Teilchen in verschiedenen Höhen eines Plasmas zu manipu­ lieren und seitlich mit Anregungslichtquellen verschiedener Wellenlängen zu beleuchten, so daß farbige Anzeigen hoher Auf­ lösung aufgebaut werden können.

Ein besonderer Vorteil der Erfindung besteht darin, daß sie durch eine unaufwendige Modifizierung herkömmlicher Plasmare­ aktoren (z. B. aus der Schaltkreis-Herstellung) realisiert wer­ den kann, dessen Betriebsbedingungen gut bekannt und steuerbar sind. Die Erfindung ist zur Herstellung von sogenannten Designermaterialien mit besonderen Oberflächeneigenschaften verwendbar.

Zweite Ausführungsform

Die zweite Ausführungsform unterscheidet sich von der oben be­ schriebenen ersten Ausführungsform lediglich dadurch, daß die Partikel nicht extern über einen Dispenser oder dgl. in den Reaktionsraum geliefert werden, sondern in diesem durch Aggre­ gationsvorgänge im Reaktionsgas entstehen. Hierzu zählt bei­ spielsweise die oben erwähnte Partikelbildung in silanhaltigen Reaktionsgasen bei der CVD-Abscheidung von amorphen Silizium­ schichten. Es sind jedoch entsprechende Anwendungen bei allen anderen CVD-Abscheideverfahren, insbesondere von Halbleitern, möglich.

Erfindungsgemäß werden Partikel, die während der Plasmaab­ scheidung im Reaktionsgas entstehen, mit den gleichen Mitteln manipuliert, wie dies oben unter Bezug auf die erste Ausfüh­ rungsform beschrieben wurde. Es ist insbesondere vorgesehen, durch eine ortsselektive, energiereiche Bestrahlung die Parti­ kel in vorbestimmten Teilbereichen ihrer Entstehung zu entla­ den oder umzuladen. Die Teilbereiche entsprechen bestimmten Depositionsmustern, nach denen die Partikel in die auf einem Substrat im Reaktionsgefäß aufwachsende Schicht eingebettet werden sollen. Die Depositionsmuster sind zur Erzielung der gewünschten optischen oder photoelektrischen Eigenschaften der abgeschiedenen Schicht ausgewählt. Charakteristische Dimensio­ nen der Depositionsmuster reichen von der Auflösungsgrenze der jeweils gewählten energiereichen Bestrahlung (nm-Bereich) bis zu den Größendimensionen der Plasmaelektroden. Die ortsse­ lektive Deposition simultan zur Schichtabscheidung erfolgt da­ durch, daß die Partikel durch das Ent- oder Umladen im Kräf­ tegleichgewicht der Felder im Reaktionsraum gestört werden und damit auf das Substrat absinken können. Falls nicht, wie oben beschrieben ein zusätzliches, statisches elektrisches Feld zur Herstellung des Kräftegleichgewichts vorgesehen ist, erlaubt der Ent- oder Umladevorgang an den Partikeln, daß diese die Raumladungszone in Elektroden- bzw. Substratnähe, die die ne­ gativ geladenen Partikel abschirmen würde, durchlaufen können.

Gegenstand der Erfindung ist somit auch eine amorphe Halblei­ terbeschichtung mit eingebetteten Partikeln, wobei die Parti­ kel entsprechend einem vorbestimmten Depositionsmuster auf be­ stimmte Teilbereiche der Schicht beschränkt sind. Die Deposi­ tionsmuster umfassen sowohl die laterale Partikelverteilung in der Schichtebene als auch bei zeitabhängiger Änderung der ortsselektiven Ent- oder Umladevorgänge an den Partikeln im Reaktionsgas eine Partikelverteilung senkrecht zur Schichtebe­ ne. Es lassen sich somit beliebige Raumverteilungen von Parti­ keln in Schichten erzeugen, die durch Plasmabscheidung herge­ stellt sind.

Bei der zweiten Ausführungsform ist es insbesondere auch mög­ lich, die Partikel im Reaktionsgas vor der Abscheidung zu be­ arbeiten, wie dies oben unter Bezug auf die erste Ausführungs­ form beschrieben wurde. Es ist möglich, die Partikel unter Einwirkung elektrischer Steuerfelder und der energiereichen Bestrahlung zur Ent- oder Umladung in einen Plasmabereich zu überführen, in dem ein Abtrag von der Oberfläche der Partikel oder eine Beschichtung der Partikel mit einem zusätzlichen Ma­ terial erfolgt, wobei die Deposition in der Schicht auf dem Substrat nach diesem Bearbeitungsschritt folgt.

Claims (29)

1. Verfahren zur Manipulierung von Partikeln (10, 40, 50, 60, 70, 80, 90), die unregelmäßig in einem Plasma eines Träger- oder Reaktionsgases verteilt sind, dadurch gekennzeichnet, daß die Partikel mindestens teilweise ortselektiv durch eine Ein­ wirkung äußerer Verstellkräfte und/oder eine Änderung der Plasmabedingungen auf einer Substratoberfläche (30) aufgetra­ gen werden.

2. Verfahren zur Manipulierung von Partikeln (10, 40, 50, 60, 70, 80, 90) die unregelmäßig in einem Plasma eines Träger- oder Reaktionsgases verteilt sind dadurch gekennzeichnet, daß die Partikel mindestens teilweise ortsselektiv einer Plasmabe­ handlung unterzogen werden.

3. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem die Partikel mindestens teilweise durch eine Einwirkung äußerer Verstellkräfte und/oder eine Änderung der Plasmabedingungen zur Plasmabehand­ lung in eine Behandlungsposition bewegt werden.

4. Verfahren gemäß Anspruch 3, bei dem nach der Plasmabehand­ lung die Partikel mindestens teilweise auf einer Substrat­ oberfläche (30) aufgetragen werden.

5. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 4, bei dem ein Abstand der Partikel von der Substratoberfläche durch eine Bewegung der Substratoberfläche, eine Einwirkung äußerer Verstellkräfte und/oder eine Änderung der Plasmabedingungen geändert wird, bis die Partikel mindestens teilweise auf der Substrat­ oberfläche anhaften.

6. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 2 bis 5, bei dem die äußeren Verstellkräfte ortsselektiv durch eine Teilchenentla­ dung, eine Teilchenumladung oder einen Licht-Strahlungsdruck bewirkt werden.

7. Verfahren gemäß Anspruch 6, bei dem die Teilchenentladung oder Teilchenumladung durch eine ortsselektive UV- oder Elek­ tronenbestrahlung oder eine Laserumladung der Partikel er­ folgt.

8. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 3 bis 5, bei dem die Änderung der Plasmabedingungen eine Änderung des Plasmadrucks, der Plasmatemperatur, des Trägergases, der Plasmaenergie und/oder der Betriebsfrequenz des Plasmas, ein Abschalten der Plasmaerzeugung und/oder eine Feldbeeinflussung von elektri­ schen Feldern im Bereich der Partikel umfaßt.

9. Verfahren gemäß Anspruch 8, bei dem die Feldbeeinflussung die Einstellung eines statischen oder niederfrequent veränder­ lichen elektrischen Feldes derart umfaßt, daß sich die Parti­ kel entlang einer vorbestimmten gekrümmten Fläche oder in ei­ nem in vorbestimmter Weise abgegrenzten Bereich anordnen oder niederfrequent bewegen.

10. Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die Partikel (80) eine längliche, stabförmige Gestalt besitzen und so auf der Substratoberfläche aufgetragen werden, daß sich die stabförmige Gestalt im wesentlichen senkrecht von der Substratoberfläche erstreckt.

11. Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die Partikel im Reaktionsgas gebildet oder extern in das Plasma eingeführt werden.

12. Verfahren, bei dem, während mit einem Plasma-CVD- Abscheideverfahrens auf einem Substrat aus einem Reaktionsgas eine Beschichtung erfolgt, im Reaktionsgas gebildete Partikel nach einem Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche manipuliert werden und/oder simultan in der Beschichtung ein­ gebettet werden.

13. Verfahren gemäß Anspruch 12, bei dem nanokristalline Halb­ leiterpartikel entsprechend einem vorbestimmten Depositionsmu­ ster in eine Halbleiterschicht eingebettet werden.

14. Verfahren gemäß Anspruch 13, bei dem die Halbleiterschicht mit den eingebetteten nanokristallinen Halbleiterpartikeln Teil einer photovoltaischen Einrichtung ist.

15. Vorrichtung zur Manipulierung von Partikeln (10, 40, 50, 60, 70, 80, 90), die sich unregelmäßig verteilt in einem Plas­ ma eines Trägergases in einem Reaktionsgefäß mit Mitteln zur Plasmaausbildung befinden, dadurch gekennzeichnet, daß im Reaktionsgefäß mindestens ein Substrat (30) angeordnet ist.

16. Vorrichtung gemäß Anspruch 15, bei dem die Mittel zur Plasmaausbildung flächige, im wesentlichen parallele Plasma­ elektroden (11, 12) sind, die zur Ausbildung einer Gas- oder Glimmentladung im Trägergas eingerichtet sind und zwischen de­ nen das Substrat beweglich angeordnet ist.

17. Vorrichtung gemäß Anspruch 15 oder 16, bei der im Reak­ tionsgefäß feldformende Strukturen (41) zur ortsselektiven Ma­ nipulierung der Partikel angeordnet sind.

18. Vorrichtung gemäß einem der Ansprüche 15 bis 17, die fer­ ner Mittel zur ortsselektiven Teilchenent- oder -umladung, Mittel zur Ausübung eines Strahlungsdruckes, Beobachtungsmit­ tel und/oder Steuermittel aufweist.

19. Hochfrequenzelektrodeneinrichtung (11) mit einer Vielzahl von Elektrodensegmenten, die dazu eingerichtet sind, gemeinsam mit einer Hochfrequenzspannung und jeweils einzeln mit einer spezifischen Gleichspannung oder Niederfrequenzspannung beauf­ schlagt zu werden.

20. Hochfrequenzelektrodeneinrichtung gemäß Anspruch 19, bei der jedes Elektrodensegment mit einer Einkoppelschaltung ver­ bunden ist, die jeweils einen Einkoppel- und Ladekondensator (C1, . . ., C256) enthält, der simultan zur Einkopplung der Hochfrequenzspannung von einem Hochfrequenzgenerator (141) und zur Aufladung entsprechend einer vorbestimmten Ausgangsspan­ nung einer Steuerspannungsschaltung (143) eingerichtet ist.

21. Hochfrequenzelektrodeneinrichtung gemäß Anspruch 19 oder 20, bei der die Elektrodensegmente matrixartig reihen- und spaltenweise in einer Ebene angeordnet sind.

22. Hochfrequenzelektrodeneinrichtung gemäß einem der Ansprü­ che 19 bis 21, bei der die Elektrodensegmente Punktelektroden (115) umfassen, deren Elektrodenflächen wesentlich kleiner als die Gesamtfläche der Hochfrequenzelektrodeneinrichtung ist.

23. Hochfrequenzelektrodeneinrichtung gemäß einem der Ansprü­ che 19 bis 22, bei der die Elektrodensegmente (115) zu Elek­ trodensubeinheiten (113) zusammengefaßt sind.

24. Hochfrequenzelektrodeneinrichtung gemäß einem der Ansprü­ che 19 bis 23, bei der die Elektrodensegmente (115) mit einer Isolationsplatte (122) vorgesehen sind, deren Vorderseite zu einem Reaktionsgefäß zur Ausbildung eines Plasmas weist und für jedes Elektrodensegment eine Buchse aufweist, wobei die Buchsen zur Aufnahme von Steckeinheiten (123) eingerichtet sind.

25. Hochfrequenzelektrodeneinrichtung gemäß Anspruch 24, bei der jede Steckeinheit (123) eine Platine (124) mit Einkoppel- und Steuerschaltkreisen (131, 127, 128, 129) trägt.

26. Hochfrequenzelektrodeneinrichtung gemäß Anspruch 25, bei der die Platinen (124) in einem Raum angeordnet sind, der mit einem Unterdruck beaufschlagt ist.

27. Hochfrequenzelektrodeneinrichtung gemäß Anspruch 25, bei der die Platinen (124) in einem Raum angeordnet sind, der mit einer isolierenden Flüssigkeit gefüllt ist.

28. Hochfrequenzelektrodeneinrichtung gemäß einem der Ansprü­ che 23 bis 26, bei der die Elektrodensubeinheiten (113) je­ weils mit einer Kombination aus einem Multiplexschaltkreis (129) und einem Demultiplexschaltkreis (128) verbunden sind, wobei der Multiplexschaltkreis (129) in Abhängigkeit von Steuersignalen eine Verbindung zwischen einer von einer Viel­ zahl von Ausgangsspannungen einer Steuerspannungsschaltung (143) und dem Eingang des Demultiplex-Schaltkreises (128) her­ stellt und dieser die ausgewählte Ausgangsspannung an eine der Elektrodensegmente (115) der jeweiligen Elektrodensubeinheit (113) gibt.

29. Hochfrequenzelektrodeneinrichtung gemäß Anspruch 28, bei der die Elektrodensegmente (113) sequentiell mit Ausgangsspan­ nungen der Steuerspannungsschaltung (143) beaufschlagt werden.