DE19829172A1 - Verfahren zur Herstellung von Antireflexschichten - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von Antireflexschichten

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Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Antireflexschichten, die insbesondere zur Vergütung von optischen Linsen, Spiegeln oder anderen optischen Bau­ elementen geeignet sind.
Die Verwendung dünner Schichten zur Vergütung von optischen Bauelementen ist bekannt. Zur Reduktion des reflektierten Lichts an der Grenzfläche zweier optischen Medien mit unter­ schiedlichen Brechungskoeffizienten wird an dieser Grenz­ fläche eine optische Schicht aufgebracht, deren Brechungs­ index zwischen dem der beiden optischen Medien liegt.
Weiterhin ist bekannt, daß sich diese Vergütung dadurch ver­ bessern läßt, indem statt einer Schicht mehrere Schichten verwendet werden und sich hierbei Schichten mit hohem und niedrigen Brechungsindex abwechseln. Eine Vergütung mit drei Schichten reduziert zum Beispiel die Reflektivität einer Glas-Luft-Grenzfläche von 4.3% der Gesamtintensität auf weniger als 1% über den gesamten sichtbaren Spektralbereich. Optische Vergütungen sind vor allem für Linsensysteme mit mehreren Luft-Glas-Übergängen wichtig, da sich die Refle­ xionsverluste an jeder Grenzfläche aufsummieren.
Berechnungen der Reflektivität der Grenzfläche zwischen zwei Medien mit den Brechungskoeffizienten n0 und n1 erlauben die Bestimmung der optischen Eigenschaften einer Antireflex­ schicht. Optimal ist eine Schicht, deren Brechungsindex die Wurzel aus dem Produkt n1 x n0 beträgt. Für monochromatisches Licht geht die Reflektivität dann auf 0 zurück, wenn die optische Dicke der Schicht ein Viertel der Wellenlänge des eingestrahlten Lichts beträgt. Für Luft und Glas mit n0 = 1 und n1 = 1,52 zum Beispiel beträgt der optimale Brechungs­ index einer Entspiegelungsschicht 1,23. Das für Antireflex­ schichten häufig verwendete Material Magnesiumfluorid hat jedoch einen Brechungskoeffizienten von 1,38 und bewirkt so­ mit lediglich eine Reduktion der Reflektivität an der Glas- Luft-Grenzfläche auf 1,3-2%. Materialien, die im sichtbaren Wellenlängenbereich oder im angrenzenden Infrarot bzw. Ultra­ violett Brechungsindizes kleiner als 1,3 besitzen, sind nicht bekannt.
Eine Vergütung mit einer Antireflexschicht verringert die Reflektivität der Grenzfläche optimal bei derjenigen Wellen­ länge, die einem Viertel der optischen Dicke der Antireflex­ schicht entspricht. Für andere Wellenlängen kommt es zu einer höheren Reflektivität des einfallenden Lichts. Durch Verwen­ dung von mehreren Antireflexschichten läßt sich die Reflek­ tivität in einem breiteren Wellenlängenbereich gleichmäßig reduzieren. Mittels Berechnungen können auch hier die opti­ schen Eigenschaften einer Schicht folge von Antireflexschich­ ten bestimmt werden. Optimal sind mehrere Schichten, deren optische Dicke jeweils ein Viertel einer sogenannten Referenzwellenlänge beträgt. Der Brechungsindex des Mehr­ schichtensystems sollte idealerweise schrittweise zwischen den Brechungskoeffizienten der beiden Medien variieren.
Für eine Glas-Luft-Grenzfläche ist dies derzeit mit bekannten Mitteln nicht durchführbar, da Materialien mit Brechungs­ indizes kleiner als 1.3 nicht zur Verfügung stehen.
Ein neuerer Ansatz zur beschriebenen Technologie besteht in der Verwendung von sogenannten nanoporösen Materialien.
Materialien, die Lufteinschlüsse (Poren) aufweisen, deren Dimensionen unterhalb der Wellenlänge des sichtbaren Lichts liegen, weisen einen effektiven Brechungsindex auf, der durch das Mittel über den Brechungsindex des Materials und denjeni­ gen der Luft gegeben ist. Durch Variation der Anzahl der Poren pro Volumen und/oder durch Variation des gesamten Volumenanteils der Poren läßt sich somit der Brechungsindex kontinuierlich vom Brechungsindex des Substrats auf einen Brechungsindex, der nahe bei 1 liegt, einstellen.
Ein derartiges Verfahren wurde von D. Sporn, V. Wittwer, A. Gombert, W. Glaubitt und K. Rose, Spektrum der Wissenschaft, August 1997, Seite 20-22 vorgeschlagen. Die Autoren verwenden dazu ein Sol-Gel-Verfahren bzw. ein sogen. Prägeverfahren. Beide Verfahren weisen jedoch den entscheidenden Nachteil auf, daß die Herstellung von Schichten mit den gewünschten Eigenschaften sehr aufwendig ist, und erlauben zudem ledig­ lich die Herstellung von Einfachschichten.
Die der vorliegenden Erfindung zugrundeliegende Aufgabe be­ steht nun darin, ein möglichst einfach, schnell und kosten­ günstig durchzuführendes Verfahren zur Herstellung von re­ flektionsmindernden Einzel- oder Mehrfachschichten zur Ver­ fügung zu stellen, das eine wesentlich verbesserte optische Vergütung von optischen Linsen, Spiegeln und weiteren Bau­ elementen erlaubt.
Diese Aufgabe wird gemäß dem kennzeichnenden Teil des An­ spruchs 1 dadurch gelöst, daß in einer nicht mischbaren zwei- oder mehrkomponentigen ("inkompatiblen") Mischung makromole­ kularer Substanzen in einem ersten Schritt eine Phasentren­ nung stattfindet. Dafür geeignete makromolekulare Substanzen sind insbesondere Polymere oder Oligomere - im folgenden als Polymere bezeichnet. Die ausgewählten Polymere werden in einer, auf sämtliche Komponenten als Lösungsmittel wirkenden Substanz derart gelöst, daß eine gemeinsame durchmischte Pha­ se entsteht. Aus dieser Lösung wird dann durch Aufschleudern ("spin coating"), Eintauchen ("dip coating"), Aufsprühen oder anderweitiges Aufbringen auf einem geeigneten Substrat eine Schicht (Film) erzeugt. Unter der Voraussetzung, daß die ausgewählten Polymere untereinander nicht mischbar sind, setzt während der Schichtherstellung die Phasentrennung ein.
Die so erzeugte Schicht enthält nach der Herstellung zwei oder mehrere, meist in lateralen Anordnung vorliegende Pha­ sen. Um nun eine Antireflexschicht zu erhalten, wird vorge­ schlagen, in einem zweiten Schritt unter Verwendung eines selektiven Lösungsmittels, das nur eines der eingesetzten Polymere löst, diejenige Phase zu entfernen, die zum größten Teil aus diesem Polymer besteht. Bei einer mehrkomponentigen Mischung kann dieser Schritt bei Bedarf mehrfach wiederholt werden. Durch Variation des Mengenverhältnisses der Kompo­ nenten, die im zweiten Schritt aufgelöst werden, läßt sich auf diese Weise der effektive Brechungsindex der Antireflex­ schicht einstellen.
Ein derartiges Verfahren ist aus der Schrift S. Walheim, M. Böltau, J. Mlynek, G. Krausch und U. Steiner, Macromolecules, Band 30, Seite 4995-5003 (1997) prinzipiell bekannt. In die­ ser Schrift wird das Entmischungsverhalten einer Mischung aus Polystyrol und Polymethylmethacrylat aus einem Lösungsmittel während der Schichtbildung beschrieben. Die dort dargestell­ ten Entmischungsprozesse können als physikalische Grundlage für die hier vorgeschlagene Herstellung von Antireflexschich­ ten angesehen werden. Allerdings liegt die Dimension der ge­ bildeten Strukturen, die gemäß den im genannten Artikel be­ schriebenen Prozessen hergestellt werden, im Bereich von 1-6 µm, das heißt sie sind sehr viel (etwa eine Größenord­ nung) größer als die optische Wellenlänge und eignen sich daher grundsätzlich nicht für Vergütung von optischen Linsen, Spiegeln oder dgl. Derart beschichtete optische Bauelemente erscheinen nämlich trübe, da eingestrahltes Licht an den erzeugten Entmischungsstrukturen gestreut wird.
Unter Verwendung von bekannten Polymeren, wie zum Beispiel Polystyrol, Polymethylmethacrylat, Polyvinylpyridin oder Polyvinylchlorid, die allesamt Brechungsindizes um 1,5 auf­ weisen, lassen sich auf erfindungsgemäße Weise Antireflex­ schichten mit Brechungskoeffizienten unter 1,2 erzeugen.
Werden fluorierte Polymere mit einem Brechungsindex um 1,3 verwendet, so sind sogar Antireflexschichten mit Brechungs­ koeffizienten unterhalb von 1,1 möglich.
Die auf die vorgeschlagene Weise hergestellte optische Vergü­ tung besteht somit in einer erfindungsgemäßen Ausgestaltung direkt aus einem oder mehreren nanoporösen Polymerschichten. In einer weiteren erfindungsgemäßen Ausgestaltung besteht die optische Vergütung aus einer nanoporösen Struktur innerhalb eines Substrats, die unter Verwendung der wie oben herge­ stellten nanoporösen Polymerschichten erzeugt wird. Auch bei der Herstellung dieser Schichten läßt sich durch die geeig­ nete Wahl der Parameter erreichen, daß die Dimension der Po­ ren in der Phasenmorphologie unter der Wellenlänge des sicht­ baren Lichts liegt.
In den Fig. 1 und 2 ist ein Vergleich der berechneten optischen Transmission nanoporöser Polymerschichten mit her­ kömmlichen Antireflexbeschichtungen dargestellt.
In Fig. 1 wird eine nanoporöse Einzelschicht mit einem Brechungsindex n = 1,225 einer herkömmlichen Schicht aus Magnesiumfluorid gegenübergestellt. Dazu ist dort die berech­ nete Transmission einer Grenzfläche zwischen Luft mit n0 = 1 und Glas mit n1 = 1,5 als Funktion der Wellenlänge des einge­ strahlten Lichts aufgetragen. Die runden Symbole entsprechen einer Antireflexbeschichtung aus Magnesiumfluorid, die durch­ gezogene Linie einer erfindungsgemäßen Polymerschicht mit n = 1,225. Zum Vergleich demonstriert die gepunktete Linie die Reflektivität einer unbeschichteten Glasoberfläche. Die opti­ sche Dicke der betrachteten Schichten beträgt ein Viertel der Referenzwellenlänge von 510 nm. Aus Fig. 1 ist zu entnehmen, daß eine erfindungsgemäße Polymerschicht gegenüber der her­ kömmlichen Beschichtung eine wesentlich erhöhte Transmission von 98-98,5% auf 99,5-100% über den gesamten sichtbaren Spektralbereich zeigt.
In Fig. 2 werden herkömmliche Mehrfachschichten nanoporösen Einzel- und Mehrfachschichten gegenübergestellt. Dazu ist dort ebenfalls die berechnete Transmission einer Grenzfläche zwischen Luft mit n0 = 1 und Glas mit n1 = 1,5 als Funktion der Wellenlänge des eingestrahlten Lichts aufgetragen. Dabei zeigt sich, daß bereits eine erfindungsgemäße Einzelschicht (durchgezogene Linie) vergleichbare Antireflexeigenschaften wie eine Dreifachschicht aus MgF2, Nd2O3 und ThO2 (runde Sym­ bole), eine der gebräuchlichen Antireflexmehrfachschichten, besitzt. Die gestrichelte Linie entspricht einer nanoporösen Polymerdoppelschicht mit Brechungsindizes von n = 1,107 bzw. 1,355 und die gepunktete Linie eine nanoporöse Polymer­ dreifachschicht mit n = 1,060; 1,234 bzw. 1,426. Die Symbole entsprechen herkömmlichen Dreifachschichten mit n = 1,38; 2,02 bzw. 1,80 (runde Symbole) und n = 1,38; 2,20 bzw. 1,70 (dreieckige Symbole). Die optische Dicke der betrachteten Schichten beträgt ein Viertel der Referenzwellenlänge von 510 nm; lediglich im Fall der Schicht mit n = 2,20 (dreieckige Symbole) beträgt die optische Dicke die Hälfte der Referenzwellenlänge. Fig. 2 zeigt deutlich, daß eine erfindungsgemäße Polymerdoppelschicht die Reflexion im gesamten sichtbaren Wellenlängenbereich auf unter 0,1%, eine Polymerdreifachschicht sogar auf unter 0,01% reduziert. Die Reflexionswerte von erfindungsgemäßen Doppel- und Dreifachschichten liegen somit mehrere Größenordnungen unter denjenigen bekannter Beschichtungen.
Abschließend wird betont, daß die Polymerschichten direkt auf dem zu beschichtenden Substrat, das heißt auf der optischen Linse, auf dem Spiegel- oder dgl., präpariert werden können oder daß in einer weiteren erfindungsgemäßen Ausgestaltung jeder der beschriebenen Schritte auf einem Trägersubstrat durchgeführt werden kann, von dem die Schichten dann abgelöst und auf das eigentliche Substrat übertragen werden.
Im folgenden wird die Erfindung nun anhand von sieben Aus­ führungsbeispielen näher erläutert.
1. Herstellung einer Einzelschicht, deren Dicke ein Viertel einer Referenzwellenlänge des sichtbaren Lichts entspricht
Zwei oder mehrere inkompatible makromolekulare Substanzen (Polymere) werden in einem geeigneten Lösungsmittel aufge­ löst, das alle verwendeten Polymere löst. Eine Schicht wird hergestellt, die derart präpariert wird, daß die Größe der phasenseparierten Domänen, die bei der Schichtherstellung entstehen, unterhalb der Referenzwellenlänge liegt. Diese Schicht wird dann in einem zweiten Schritt einem Lösungs­ mittel ausgesetzt, das selektiv nur eines (oder einige weni­ ge) der Polymere löst. Besteht diese Schicht aus mehr als zwei verschiedenen Polymeren, so kann dieser Schritt unter Umständen mehrfach, ggf. mit mehreren unterschiedlichen Lösungsmitteln erfolgen.
2. Herstellung von Mehrfachschichten durch Überlagerung von Einzelschichten
Eine erste Polymerschicht wird wie im ersten Ausführungs­ beispiel direkt auf die zu entspiegelnde Oberfläche aufge­ bracht, ohne daß diese in einem zweiten Schritt bereits einem Lösungsmittel ausgesetzt wird. Weitere Schichten werden ent­ sprechend separat auf anderen Substraten hergestellt, wobei jeweils das Mischungsverhältnis der Polymere so gewählt wird, daß die schließlich durch das erfindungsgemäße Verfahren her­ gestellten Antireflexschichten den gewünschten Brechungsindex aufweisen.
Die Schichten werden von den jeweiligen Substraten abgelöst und auf die erste, zweite usw. Schicht aufgebracht. Die so hergestellte Mehrfachschicht wird dann einem Lösungsmittel ausgesetzt, das selektiv nur eines (oder einige wenige) der Polymere löst. Besteht die Mehrfachschicht aus mehr als zwei verschiedenen Polymeren, so kann dieser Schritt unter Umständen mehrfach, ggf. mit mehreren unterschiedlichen Lösungsmitteln erfolgen.
3. Herstellung von Mehrfachschichten durch sequentielles Aufbringen von Einzelschichten
Eine erste Polymerschicht wird wie im ersten Ausführungs­ beispiel direkt auf die zu entspiegelnde Oberfläche aufge­ bracht, ohne daß diese in einem zweiten Schritt bereits einem Lösungsmittel ausgesetzt wird. Für eine zweite Schicht werden zwei oder mehrere Polymere in einem Lösungsmittel gelöst, das keines der Polymere in der ersten Schicht löst. Die zweite Schicht wird direkt auf die erste aufgebracht. Dieses Ver­ fahren wird iterativ angewandt, wobei darauf zu achten ist, daß das Lösungsmittel der zu präparierenden Schicht nicht die darunterliegende Schicht anlöst. Wie in den ersten beiden Ausführungsbeispielen wird die Mehrfachschicht einem selekti­ ven Lösungsmittel ausgesetzt, das nur eines (oder einige we­ nige) der Polymere löst. Dieser Schritt muß auch hier ggf. mehrfach, ggf. mit unterschiedlichen Lösungsmitteln wieder­ holt werden.
4. Herstellung einer antireflektierenden Mehrfachschicht, die einen Gradienten im Brechungsindex normal zur Schicht­ oberfläche aufweist
Eine Schicht wird zunächst wie im ersten Ausführungsbeispiel hergestellt. Im Unterschied zum ersten Ausführungsbeispiel wird diese Schicht jedoch nicht solange einem selektiven Lösungsmittel ausgesetzt, bis eine der Komponenten vollstän­ dig entfernt ist, sondern nur für eine kürzere Zeitspanne. Auf diese Weise ist der Volumenanteil der herausgelösten Poren eine Funktion des Abstands von der Schichtoberfläche. Die so hergestellte Schicht weist einen Brechungsindex auf, der nach und nach vom Brechungsindex des einen Mediums in denjenigen des anderen Mediums übergeht.
5. Übertragung der Poren in das optische Substrat
Eine nanoporöse Schicht wird wie im ersten Ausführungsbei­ spiel hergestellt, wobei darauf geachtet wird, daß die Poren von der Luft bis zur Oberfläche des Subtrats durchgängig sind. Die so beschichtete Oberfläche wird einer Ätzlösung (z. B. Flußsäure) ausgesetzt, die das optische Substrat (z. B. Glas) anätzt. Die Ätzlösung ätzt das Substrat nur an denjenigen Stellen an, die nicht durch das Polymer bedeckt sind. Es werden also Löcher (Poren) in das Substrat geätzt.
Die Ätzdauer bestimmt die Dicke der geätzten Schicht; d. h. sie muß so gewählt werden, daß die Porentiefe einem Viertel der Referenzwellenlänge entspricht. Nach Entfernen der Oberfläche aus der Ätzlösung kann die Polymerschicht ggf. mit Hilfe eines geeigneten Lösungsmittels entfernt werden. Zusammengefaßt wird hier also die nanoporöse Struktur der zunächst erzeugten und schließlich wieder entfernten Polymer­ schicht in das Substrat übertragen; die Poymerschicht hat lediglich die Funktion einer Schablone.
Das Aufbringen einer nanoporösen Polymerschicht und das nach­ folgende Ätzen des Substrats kann mehrfach wiederholt werden.
6. Mineralisierung der Antireflexschichten
Eine Einfach- oder Mehrfachschicht wird nach einem der Aus­ führungsbeispiele 1-4 hergestellt. Die Schicht wird anschlie­ ßend einer Lösung ausgesetzt, die anorganische sogenannte "Precursor-Moleküle" enthält, die dazu dienen, in einem Sol- Gel-Verfahren in einen, in der Regel porösen Festkörper umgewandelt zu werden. Dies geschieht durch eine chemische Reaktion, die entweder chemisch oder thermisch (etwa durch Erhitzen) eingeleitet wird. Dieses Verfahren ist auch unter der Bezeichnung "Mineralisierung" bekannt.
Die Lösung aus Precurser-Molekülen wird nun so gewählt, daß sie nur in eine (oder einige wenige) der Polymerphasen hin­ eindiffundieren kann, d. h. nur diese Polymerphase(n) an­ schwillt (anschwillen). Anschließend wird das Sol-Gel-Ver­ fahren eingeleitet, und die Precursor-Moleküle werden minera­ lisiert. Danach werden ggf. sämtliche Polymere entfernt, und es verbleibt eine nanoporöse, mineralisierte Schicht, deren Poren kleiner als die Wellenlänge des sichtbaren Lichts sind, auf der Oberfläche des Substrats.
Eine besonders vorteilhafte Ausgestaltung des beschriebenen Ausführungsbeispiels besteht darin, bereits dem Lösungs­ mittel, aus dem die Schicht hergestellt wird, geeignete Pre­ cursor-Moleküle beizugeben, die dazu dienen, in einem Sol- Gel-Verfahren, in einen, in der Regel porösen Festkörper umgewandelt zu werden.
Auch in diesem Ausführungsbeispiel hat die Poymerschicht lediglich die Funktion einer Schablone.
7. Nanoporöse Schichten als Schablonen für Aufdampfprozesse
Eine Einfach- oder Mehrfachschicht wird nach einem der Aus­ führungsbeispiele 1-4 hergestellt, wobei darauf geachtet wird, daß die Poren von der Luft bis zur Oberfläche des Sub­ strats durchgängig sind. Anschließend werden eine oder mehrere Phasen durch geeignete Lösungsmittel herausgelöst. Die so erhaltene Schicht wird dann mit einem anorganischen Material derart bedampft, daß die Poren ausgefüllt werden. Das verbleibende Polymer wird entfernt. Die so entstandene Schicht besteht nun aus einem anorganischen Material und weist Poren auf, deren Größen unterhalb der Wellenlänge des sichtbaren Lichts liegen.

Claims (12)

1. Verfahren zur Herstellung einer antireflektierenden Schicht auf einem Substrat, insbesondere einer optischen Linse, einem Spiegel oder dgl., die Lufteinschlüsse aufweist, deren Dimensionen unterhalb der Wellenlänge des sichtbaren Lichts oder angrenzender Spektralbereiche liegen, mit den Schritten
  • - Aufbringen einer Lösung aus mindestens zwei inkompatiblen Polymeren, die in einem gemeinsamen Lösungsmittel derart gelöst sind, daß eine gemeinsame durchmischte Phase besteht, auf das Substrat, so daß mittels Phasentrennung auf dessen Oberfläche eine vorzugsweise laterale Schicht alternierender Polymerphasen entsteht,
  • - Aussetzen dieser Schicht einem weiteren Lösungsmittel, so daß mindestens ein Polymer ungelöst bleibt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die antireflektierende Schicht zunächst auf einem Trägersubstrat hergestellt wird, anschließend von diesem abgelöst und dann auf das zu beschichtende Substrat übertragen wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Mischungsverhältnis der Polymere so eingestellt wird, daß die antireflektierende Schicht den gewünschten Brechungsindex erhält.
4. Verfahren zur Herstellung einer antireflektierenden Mehr­ fachschicht auf einem Substrat nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens zwei Schichten auf jeweils verschiedenen Oberflächen hergestellt werden und die zweite Schicht und ggf. alle weiteren Schichten anschließend von den jeweiligen Substraten abgelöst und dann der ersten Schicht überlagert werden.
5. Verfahren zur Herstellung einer antireflektierenden Mehr­ fachschicht auf einem Substrat nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst eine erste Schicht hergestellt wird, daran anschließend eine zweite Schicht direkt auf die erste Schicht aufgebracht wird und dann in der zweiten Schicht mindestens ein weiteres Polymer in einem Lösungsmittel gelöst werden, das keines der Poly­ mere in der ersten Schicht löst.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß dieses Verfahren mehrfach so wiederholt wird, daß das Lösungsmittel der zu präparierenden Schicht nicht die darunterliegende Schicht anlöst.
7. Verfahren zur Herstellung einer antireflektierenden Gradientenschicht auf einem Substrat nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß eine Schicht hergestellt wird, die nur solange einem selektiven Lösungsmittel ausgesetzt wird, daß keine Komponente des Polymers voll­ ständig entfernt wird.
8. Verfahren zur Herstellung einer antireflektierenden Gradientenschicht auf einem Substrat nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Volumenanteil der heraus­ gelösten Poren eine derartige Funktion des Abstands von der Schichtoberfläche darstellt, daß die so hergestellte Schicht einen Gradienten des Brechungsindexes aufweist, so daß der Brechungsindex nach und nach vom Brechungs­ index des einen Mediums in denjenigen des anderen Mediums übergeht.
9. Verfahren zur Herstellung einer antireflektierenden Schicht nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst eine Ein­ fach- oder Mehrfachschicht hergestellt wird, anschließend eine oder mehrere Phasen durch geeignete Lösungsmittel herausgelöst werden und dann so lange einer Ätzlösung ausgesetzt werden, daß auf dem Substrat an den nicht durch das oder die Polymere bedeckten Stellen Löcher geeeigneter Tiefe entstehen.
10. Verfahren zur Herstellung einer antireflektierenden Schicht nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst eine Ein­ fach- oder Mehrfachschicht hergestellt wird, anschließend eine oder mehrere Phasen durch geeignete Lösungsmittel herausgelöst werden, dann einer geeigneten Lösung aus Precurser-Molekülen ausgesetzt werden, so daß mindestens eine, jedoch nicht sämtliche Polymerphasen anschwillen, und anschließend ein Sol-Gel-Verfahren eingeleitet wird, wodurch die Precursor-Moleküle mineralisiert werden.
11. Verfahren zur Herstellung einer antireflektierenden Schicht nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst eine Ein­ fach- oder Mehrfachschicht hergestellt wird, anschließend eine oder mehrere Phasen durch geeignete Lösungsmittel herausgelöst werden, dem bereits geeignete Precurser- Moleküle beigesetzt wurden, so daß mindestens eine, jedoch nicht sämtliche Polymerphasen anschwillen, und anschließend ein Sol-Gel-Verfahren eingeleitet wird, wodurch die Precursor-Moleküle mineralisiert werden.
12. Verfahren zur Herstellung einer antireflektierenden Schicht nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst eine Ein­ fach- oder Mehrfachschicht hergestellt wird, anschließend eine oder mehrere Phasen durch geeignete Lösungsmittel herausgelöst werden und dann die so erhaltene Schicht derart mit einem anorganischen Material bedampft wird, daß die in der Schicht vorhandenen Poren ausgefüllt werden.
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