DE19916960C2 - Mikrowerkzeug und Verfahren zur Manipulation von Bauteilen mit diesem Mikrowerkzeug - Google Patents
Mikrowerkzeug und Verfahren zur Manipulation von Bauteilen mit diesem MikrowerkzeugInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Mikrowerkzeug, insbesondere zur
Manipulation oder präzisen Positionierung von Mikrobautei
len, und ein Verfahren zur Manipulation von Bauteilen, ins
besondere zur präzisen Positionierung von Mikrobauteilen,
nach der Gattung der unabhängigen Ansprüche 1 und 8.
Bei der Montage von miniaturisierten Systemen oder Mikrobau
teilen, beispielsweise in der Mikrooptik, werden spezielle
Anforderungen an die Greifer für die Manipulation der zu
montierenden Komponenten gestellt. Anders als Greifer für
großflächige Teile, die aus der Mikroelektronik bekannt
sind, müssen beispielsweise mikrooptische Greifer Bauteile
dreidimensionaler Ausdehnung an Flächen unterschiedlicher
Geometrie fassen und definiert absetzen können. Diese sehr
kleinen Bauteile zeigen jedoch ein ungewohntes Verhalten,
das durch die Abnahme von Volumeneffekten und die Zunahme
von Oberflächeneffekten gekennzeichnet ist.
Konventionelle Mikrogreifer, wie sie beispielsweise aus
DE 197 17 142 A1 in Form eines Robotersystems zur Manipula
tion von Kleinstobjekten bekannt sind, werden feinmechanisch
hergestellt. Die Aufnahme des zu manipulierenden Mikrobau
teiles erfolgt dabei üblicherweise durch Unterdruck in einem
integrierten Kanal (Vakuumgreifer), durch Adhäsion an einem
Flüssigkeitsfilm oder -tropfen oder durch piezoelektrisch
aktuierte Steller.
Allen diesen Methoden oder Werkzeugen ist gemeinsam, dass
aufgrund der sehr kleinen Masse des zu manipulierenden Bau
teiles das definierte Lösen des zunächst fixierten Bauteiles
sehr problematisch ist. Die am Greifer auftretenden Abhäsi
onskräfte können auch nach Abschalten des Vakuumsaugers, dem
Absaugen des Flüssigkeitsfilmes oder dem Lösen der Piezo
steller größer als die Gewichtskraft des Bauteiles sein und
dadurch das Freigeben erheblich behindern. Insbesondere kann
durch ein dadurch erforderliches Abstreifen am Zielsystem
oder ein Abblasen des Bauteils eine passgenaue präzise Posi
tionierung vielfach nicht gewährleistet werden.
Bei der bekannten Herstellung der Greifer als Mikrowerkzeug
werden feinmechanische Fertigungsverfahren wie Bohren oder
Fräsen eingesetzt. Im Fall von Mikrowerkzeugen mit einer ty
pischen Größe von weniger als 2 mm ist eine derartige fein
mechanische Einzelbearbeitung jedoch sehr aufwendig und teu
er.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Manipulation von Bautei
len und das erfindungsgemäße Mikrowerkzeug zur Durchführung
dieses Verfahrens hat gegenüber dem Stand der Technik den
Vorteil, dass damit eine einfache, präzise und kostengünsti
ge Manipulation, Positionierung und insbesondere Mikromonta
ge von Bauteilen mit typischen Dimensionen im Mikrometerbe
reich und unteren Millimeterbereich ermöglicht wird.
Die Herstellung des Mikrowerkzeuges oder einzelner Mikro
werkzeugteile, insbesondere des Greifarmes oder Mikrogrei
fers, kann dabei in einer konventionellen Siliziumferti
gungslinie erfolgen, wobei gleichzeitig die konkrete Ausges
taltung der Greifarme oder der Greiffläche des Mikrowerkzeu
ges in beliebigen zweidimensionalen Formen ermöglicht wird,
so dass das Mikrowerkzeug in dieser Hinsicht in seiner Geo
metrie sehr einfach dem jeweiligen, zu manipulierenden Bau
teil angepasst werden kann. Weiterhin eignet sich das Her
stellungsverfahren des Mikrowerkzeuges für die Batch-
Fertigung bzw. die Serienfertigung und ist damit sehr kos
tengünstig.
Weitere Vorteile und vorteilhafte Weiterbildungen der Erfin
dung ergeben sich aus den in den Unteransprüchen aufgeführ
ten Maßnahmen.
So erfolgt das Lösen des mit dem Mikrowerkzeug fixierten
Bauteiles vorteilhaft über eine in der Umgebung eines Greif
armes angeordnete Plattenstruktur, eine zumindest bereichs
weise mit dem Greifarm verbundene Aktorschicht, insbesondere
eine piezoelektrische oder piezoresistive Schicht, einen in
einer Umgebung des Greifarmes angeordneten Ultraschallgeber
oder einen mit dem Greifarm verbundenen und/oder wechselwir
kenden Aktor.
Weiterhin weist das Mikrowerkzeug vorteilhaft zumindest zwei
einander entgegengesetzte, insbesondere symmetrisch aufge
baute Greifarme zum Fixieren eines Bauteils auf. Die Greif
arme sind weiter vorteilhaft über einen beweglichen Steg o
der eine weiche Feder mit einer Verankerung verbunden, die
darüber als Fixpunkt die ansonsten weitgehend frei bewegli
chen Greifarme trägt.
Außerdem ist es vorteilhaft, wenn die vorgesehene, mit den
Greifarmen verbundene Aktorstruktur in Form einer veranker
ten Kammstruktur und einer zugeordneten Schenkelkammstruktur
der Schenkel der Greifarme ausgebildet ist, so dass sich ein
an sich bekannter Interdigitalkondensator bildet, über den
eine ein kontrolliertes Fixieren und Lösen des Bauteils be
wirkende Bewegung der Greifarme hervorgerufen werden kann.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden anhand der Zeich
nungen und in der nachfolgenden Beschreibung näher erläu
tert. Es zeigt Fig. 1 ein Mikrowerkzeug mit einem ersten
Mikrogreifer, Fig. 2 einen zeitlichen Verlauf von an ein
zelnen Komponenten des Mikrowerkzeugs anliegenden Span
nungen, sowie einer damit erzeugten Auslenkung der Greifarme
des Mikrowerkzeuges gemäß Fig. 1, Fig. 3 einzelne Verfah
rensschritte zur Herstellung des Mikrogreifers und Fig. 4
einen zweiten Mikrogreifer in einer alternativen Ausfüh
rungsform.
Die Fig. 1 zeigt ein erstes Ausführungsbeispiel eines er
findungsgemäßen Mikrowerkzeuges 5 mit dem das erfindungsge
mäße Verfahren zur Manipulation von Bauteilen 10, insbeson
dere von Mikrobauteilen, vorgenommen werden kann und das
vollständig oder zumindest in einzelnen Mikrowerkzeugteilen,
insbesondere hinsichtlich der Greifarme 11, mit einem im Zu
sammenhang mit Fig. 3 erläuterten Verfahren zur Herstellung
des Mikrowerkzeuges 5 oder der Mikrowerkzeugteile herge
stellt wurde.
Das Mikrowerkzeug 5 weist einen ersten Mikrogreifer 6 auf,
der von zwei symmetrisch aufgebauten einander gegenüberste
henden, über eine Aktorstruktur 19 bewegbaren Greifarmen 11
gebildet wird, die ein Bauteil 10 in Form eines Mikrobautei
les zangenförmig fixieren. Das Mikrobauteil ist beispiels
weise eine optische Mikrolinse mit einem typischen Durchmes
ser von 500 µm. Die Greifarme 11 weisen jeweils einen Schen
kel 12 auf, der an einem federnden Steg 15 oder einer wei
chen Feder als Fixpunkt mit einer
Verankerung 14 verbunden ist. Über die Stege 15 und die
Verankerungen 14 sind somit die Greifarme 11 freitragend und
drehbar beweglich befestigt. Das dem Bauteil 10
entgegengesetzte Ende der Schenkel 12 weist weiterhin eine
fingerartige Schenkelkammstruktur 17 auf, die in eine
entsprechend angepaßte, zugeordnete, fingerartige und
verankerte Kammstruktur 16 hineingreift oder hineinragt, so
daß dadurch ein an sich bekannter Interdigitalkondensator 18
als Aktorstruktur 19 gebildet wird. Die Länge der Schenkel
12 beträgt im erläuterten Beispiels ca. 100 µm bis 1 mm.
Über an dem Interdigitalkondensator 18 über nicht
dargestellte Baugruppen angelegte Spannungen U1 kann somit
beispielsweise über eine elektrostatische Wechselwirkung ein
Fassen und Lösen des Bauteils 10 über die Greifarme 11
bewirkt werden. Die Verankerung 14, die Aktorstruktur 19,
die Plattenstruktur 13 und die Greifarme 11 sind im übrigen
auf einem nicht dargestellten Träger bei der Montage
hochgenau zueinander positioniert worden.
Weiterhin ist jeweils eine in einer Umgebung eines Schenkels
12 symmetrisch angeordnete Plattenstruktur 13 angebracht,
die mit nicht dargestellten Baugruppen zur
Spannungsversorgung und insbesondere zur Beaufschlagung der
Plattenstruktur mit einer elektrischen Ladung in Verbindung
steht.
Die Greifarme 11 fixieren das Bauteil 10 zangenförmig über
die durch die Interdigitalkondensatoren 18 ausgeübten Kräfte
und berühren das Bauteil 10 an Greifflächen 25. Neben den
zum Fixieren des Bauteils 10 ausgeübten Kräften wirken
zwischen diesem und den Greifflächen 25 jedoch ständig
unvermeidbar auch sogenannte Adhäsionskräfte d. h. anziehende
Kräfte, die zwischen der Greiffläche 25 und der diese
berührenden Oberfläche des Bauteils 10 wirken und dadurch
ein Anhaften des Bauteils 10 an den Greifarmen 11 verursa
chen. Diese Kräfte sind beim Lösen des Bauteils 10 von den
Greifflächen 25 unerwünscht, da sie ein präzises Lösen und
eine präzise hochgenaue Positionierung des Bauteils 10 er
heblich beeinträchtigen.
Beim Lösen des Bauteils 10 in einer gewünschten, insbesonde
re mit einem Roboter angefahrenen Position wird daher gemäß
Fig. 2 die Plattenstruktur 13 jeweils mit einer kurzzeitig
anliegenden Spannung U2 beaufschlagt. In Fig. 2 ist dazu
zunächst erläutert, dass während der Dauer eines Haltepulses
20 über eine an den Interdigitalkondensatoren 18 jeweils an
liegende Spannung U1 ein Fassen und Fixieren des Bauteils 10
bewirkt wird. Sobald diese Spannung U1 abgeschaltet wird,
wird das Bauteil 10 von dem Mikrogreifer 6 bzw. den Greifar
men 11 freigegeben. Um in diesem Moment des Öffnen des Mik
rogreifers 6 beispielsweise eine unerwünschte Deplazierung
des Bauteils 10 durch Adhäsionskräfte zu vermeiden, wird an
der Plattenstruktur 13 jeweils gleichzeitig ein kurzzeitiger
Lösepuls 21 in Form eines angelegten Spannungspulses U2 in
duziert. Durch diesen Lösepuls 21 wird bei geeigneter Polung
und Spannungsstärke über eine erzeugte elektrostatische
Kraft eine kurzzeitige Beschleunigung auf beide Greifarme 11
derart ausgeübt, dass die von der trägen Masse des Bauteils
10 und der ausgeübten Beschleunigung hervorgerufene Träg
heitskraft größer, insbesondere deutlich größer, ist, als
die zwischen dem Bauteil 10 und der Greiffläche 25 wirkenden
Adhäsionskräfte. Die durch die Plattenstruktur 13 und den
Lösepuls 21 hervorgerufene Trägheitskraft ist dabei den wir
kenden Adhäsionskräften entgegengerichtet.
Die induzierte Beschleunigung führt dabei insbesondere zu
einer hochfrequenten Vibration oder Schwingung der Greifarme
11 und bewirkt damit ein effektives und hochgenaues
Abschütteln des Bauteils 10 vom Mikrogreifer 6. Damit wird
eine unerwünschte Deplazierung des Bauteils 10 im Moment des
Lösens aus dem Mikrogreifer 6 vermieden, was ein hochgenaues
Manipulieren derartiger Bauteile erlaubt.
Die Fig. 2 erläutert weiter, wie während der Phase des
Fixierens des Bauteils 10 in einer Haltephase 22 die
Greifarme 11 des Mikrogreifers 6 jeweils konstant mit einer
von der Aktorstruktur 19 über die anliegende Spannung U1
hervorgerufenen Auslenkung x ausgelenkt sind. Beim Lösen des
Bauteils 10 geht diese Auslenkung durch von den Stegen 15
verursachte Federkräfte auf die Ausgangs- oder Ruhelage
zurück, wobei jedoch gleichzeitig durch die Plattenstruktur
13 und den darüber induzierten Lösepuls 21 eine gedämpfte
Löseschwingung 23 in Form einer hochfrequenten Vibration der
Greifarme 11 hervorgerufen wird.
Neben der Plattenstruktur 13, die im erläuterten Beispiel
mit dem zugeordneten Schenkel 12 einen Kondensator bildet,
kann der Lösepuls 21 oder allgemein die erforderliche
Beschleunigung der Greifarme 11 völlig analog auch durch
eine zumindest bereichsweise mit dem Greifarm 11 verbundene
Aktorschicht, insbesondere eine piezoelektrische oder
piezoresistive Schicht, einen in einer Umgebung des
Greifarmes 11 angeordneten Ultraschallgeber oder einen mit
dem Greifarm 11 verbundenen und/oder wechselwirkenden Aktor
hervorgerufen werden. Kern der Erfindung ist jeweils die zum
richtigen Zeitpunkt erzeugte, ausreichend große
Beschleunigung, die auf vielfältige Art erzeugt werden kann.
Die Spannungen U1 und U2 liegen, abhängig von den
Bauteilabmessungen, im erläuterten Beispiel bei Werten von
0,5 Volt bis 100 Volt, die Dauer des Lösepulses 21 beträgt
beispielsweise 0,01 ms bis 100 ms. Dabei ist die Zeitdauer
während der der Lösepuls 21 die gewünschte Beschleunigung
beim Lösen des Bauteils 10 induziert bevorzugt jedoch so
gewählt, daß dadurch in dem Greifarm 11 eine Vibration oder
Schwingung, insbesondere eine hochfrequente Vibration oder
Schwingung induziert wird. Besonders bevorzugt ist diese
Zeitdauer derart abgestimmt, daß die darüber erzeugte
Beschleunigung lediglich während einer Zeitdauer induziert
wird, die ausreicht, in dem jeweiligen Greifarm 11 eine
Resonanzschwingung einer Schwingungseigenmode, insbesondere
einer höheren Schwingungseigenmode des Greifarmes 11
anzuregen. Sie ist somit bevorzugt insbesondere größer, als
die Frequenz einer ersten Schwingungseigenmode des
Greifarmes 11, so daß der Greifarm 11 einerseits Energie
aufnimmt und in Resonanz schwingt, andererseits aber
gleichzeitig auch eine hochfrequente Schwingung oder
Vibration des Greifarmes angeregt wird, die lediglich eine
kleine Amplitude aufweist, so daß das Bauteil 10 mit
maximaler Positioniergenauigkeit abgeschüttelt wird. In
diesem Fall kann überdies ein ohnehin vorhandener
Rückschwung des Schenkels 12 genutzt werden, um eine
rückwärtige Auslenkung zu verstärken.
Durch die Anregung einer höheren Schwingungseigenmode des
Greifarmes 11 wird somit einerseits eine hohe Beschleunigung
erzeugt, die andererseits gleichzeitig mit einer lediglich
geringen Auslenkung der Greifarme 11 verbunden ist.
Konkrete Werte hinsichtlich der anzuwendenden
Schwingungsfrequenz sind vom Fachmann im Einzelfall anhand
der trägen Masse des Bauteils 10 zu ermitteln. Insbesondere
ist die Dimensionierung des Greifarmes 11 und/oder die Fre
quenz der beispielsweise über die Plattenstruktur 13 hervor
gerufenen hochfrequenten Vibration oder Schwingung an diese
träge Masse des fixierten Bauteiles 10 anzupassen, da über
die träge Masse des Bauteils 10 und die Größe der jeweils
wirkenden Adhäsionskräfte die erforderliche Beschleunigung
bestimmt ist.
Auf weitere Erläuterungen und Details zur Bewegung der
Greifarme 11 über die Interdigitalkondensatoren 18, hin
sichtlich der Befestigung der Greifarme 11 über die Stege 15
und die detaillierte Form der Schenkel 12 wird verzichtet,
da sie dem Fachmann bekannt sind.
Es ist selbstverständlich, dass die Aktorstruktur 19, die
Plattenstruktur 13, die Verankerung 14, die Stege 15 und die
Greifarme 11 bei Bedarf in an sich bekannter Weise mit Lei
terbahnen und/oder Anschlusskontaktflächen zur elektrischen
Kontaktierung oder Spannungsversorgung bzw. Spannungsbeauf
schlagung in Verbindung stehen oder versehen sein können.
Dazu kann das Mikrowerkzeug 5 oder Teile des Mikrowerkzeuges
5 vollständig oder bereichsweise oberflächlich in bekannter
Weise metallisiert sein.
Im übrigen besteht das Mikrowerkzeug 5, insbesondere der
Mikrogreifer 6 mit den Greifarmen 11, der Aktorstruktur 19,
der Plattenstruktur 13, den Stegen 15 und der Verankerung 14
bevorzugt aus Silizium, insbesondere aus Polysilizium. Es
kommen jedoch auch andere Materialien wie Germanium, Metalle
wie Nickel oder Cobalt oder allgemein mikrotechnisch struk
turierbare Materialien dafür in Frage.
Die Fig. 4 erläutert als zweites Ausführungsbeispiel eine
weitere Ausführungsform eines zweiten Mikrogreifers 6' mit
Schenkeln 44, Greifarmen 43, einer Aktorschicht 42,
Leiterbahnen 41 und Anschlußkontaktflächen 40 in einer
gegenüber dem ersten Mikrogreifer 6 modifizierten Bauform.
In Fig. 4 ist dabei jedoch lediglich der in der Umgebung
des Bauteiles 10 befindliche Teil (in Fig. 1 mit Hilfe
einer gestrichelten Linie angedeutet) des zweiten
Mikrogreifers 6' dargestellt. Insbesondere sind die
Aktorstruktur 19, die Verankerung 14 und die Stege 13 nicht
dargestellt, die jedoch völlig analog der Fig. 1 im
weiteren Verlauf der Schenkel 44 ausgeführt sind. Der zweite
Mikrogreifer 6' als Teil des Mikrowerkzeuges 5 ist im
übrigen ebenfalls aus Silizium oder Polysilizium gefertigt
und seine vollständige Größe entspricht in etwa der Größe
des ersten Mikrogreifers 6 gemäß Fig. 1.
Wesentliche Unterschiede zwischen dem zweiten Mikrogreifer
6' und dem ersten Mikrogreifer 6 bestehen lediglich in der
Art der Anregung der erforderlichen kurzzeitigen
Beschleunigung beim Lösen oder Abschütteln des Bauteils 10.
Dazu ist an der Oberfläche des zweiten Mikrogreifers 6' eine
Aktorstruktur 42 aufgebracht, die bevorzugt in Form von
insbesondere diffundierten Piezowiderständen, einer
piezoresistiven Schicht oder einer deponierten
piezoelektrischen Schicht, beispielsweise aus ZnO, gebildet
wird. Derartige piezoresistive oder piezoelektrische
Schichten, Widerstände oder Aktoren, sowie Verfahren zu
deren Herstellung sind vielfältig bekannt.
Die Leiterbahnen 41 werden durch eine strukturierte
Metallisierung beispielsweise aus Aluminium aufgebracht. Die
Anschlußkontaktflächen 40 dienen beispielsweise der
elektrischen Ansteuerung der Aktorschicht 42 und stehen mit
dieser über die Leiterbahnen 41 in Verbindung. In der
Ausführungsform gemäß Fig. 4 wird somit die erforderliche
Beschleunigung durch eine an der Aktorschicht 42 kurzzeitig
anliegende Spannung U2 erzeugt, wobei die angelegte Spannung
U2 - analog dem ersten Ausführungsbeispiel - über den piezo
elektrischen Effekt eine hochfrequente Schwingung oder Vib
ration in den Greifarmen 42 induziert. Daher kann in diesem
Fall auf die Plattenstruktur 13 verzichtet werden.
Im übrigen gelten die vorangehenden Ausführungen, insbeson
dere hinsichtlich des Aufbaues des Mikrowerkzeuges 5 und des
Mikrogreifers 6, sowie des damit durchgeführten Verfahrens
zur Manipulation von Bauteilen, auch für die Ausführungsform
mit dem zweiten Mikrogreifer 5' gemäß Fig. 4.
Eine alternative Ausführungsform des Mikrogreifers 6 sieht
weiter vor, dass anstelle der Plattenstruktur 13 jeweils in
an sich bekannter Weise ein Ultraschallgeber in der Umgebung
der Greifarme 11 angeordnet ist, um damit die erforderliche
Schwingung oder Vibration der Greifarme 11 und darüber die
erforderliche Beschleunigung zu erzeugen.
Ein Verfahren zur Herstellung des Mikrowerkzeuges 5 oder von
Mikrowerkzeugteilen für das Mikrowerkzeug 5, insbesondere
des Mikrogreifers 6 oder 6', des Greifarmes 11, 44, der
Plattenstruktur 13 und der Aktorstruktur 19, wird mit Hilfe
der Fig. 3 erläutert.
Als Ausgangsmaterial wird zunächst eine Schichtstruktur 30,
insbesondere ein an sich bekannter SOI-Wafer, verwendet, auf
der über ein Standardlithographieverfahren unter Einsatz ei
ner Maskierschicht 36 die gewünschten Strukturen des herzu
stellenden Mikrowerkzeuges 5 oder Mikrowerkzeugteiles defi
niert werden. Die Schichtstruktur 30 besteht dabei bevorzugt
aus einer Grundschicht 31 aus Silizium oder
Polysilizium, einer Zwischenschicht 32 aus Siliziumoxid oder
einem sonstigen Oxid und einer Strukturierungsschicht 33 aus
Silizium oder Polysilizium.
Nach der gewünschten Strukturierung der Maskierschicht 36
erfolgt in einem ersten Ätzverfahren zunächst ein Ätzen der
Strukturierungsschicht 33 über Trenchgräben 34, die durch
die Maskierschicht 36 definiert sind. Das erste Ätzverfahren
ist beispielsweise ein bekanntes Plasmatrockenätzverfahren,
das eine isotrope senkrechte Ätzung der
Strukturierungsschicht 33 über die Trenchgräben 34 bewirkt
und das die Strukturierungsschicht 33 selektiv ätzt, so daß
der erste Ätzprozeß beim Erreichen der Zwischenschicht 32
zumindest nahezu vollständig zum Erliegen kommt. Die
Zwischenschicht 32 dient somit in diesem Prozeß als
Stoppschicht.
Danach wird in an sich bekannter Weise die Maskierschicht 36
wieder entfernt und die Schichtstruktur 30 wird bevorzugt
kopfüber, das heißt mit der Strukturierungsschicht 33 nach
unten orientiert, in einem isotropen Standard-
Gasphasenätzverfahren als zweitem Ätzprozeß geätzt. Dabei
ätzt dieses zweite Ätzverfahren, ausgehend von den
Trenchgräben 34, selektiv lediglich die Zwischenschicht 32,
die nun als Opferschicht dient, so daß die
Strukturierungsschicht 33 zumindest im Bereich des
Mikrowerkzeuges bzw. -teiles unterätzt wird. Das zweite
Ätzverfahren greift dabei das herausstrukturierte
Mikrowerkzeug 5 oder -teil nicht an bzw. ätzt dieses nicht.
Beim Unterätzen der Strukturierungsschicht 33 bildet sich
ein Hohlraum 35 aus, so daß das herzustellende Mikrowerkzeug
5 oder Mikrowerkzeugteil freigelegt wird und sich aufgrund
der Schwerkraft von der verbleibenden Schichtstruktur 30
löst und herausfällt.
Abschließend kann das derart hergestellte Mikrowerkzeug 5
oder Mikrowerkzeugteil in einem ebenfalls an sich bekannten
Prozeß zur Strukturverbesserung zusätzlich kurz überätzt
werden und ist dann montagefertig. Weiterhin kann die
Strukturierungsschicht 33 oberflächlich beispielsweise
bereits vor dem Aufbringen der Maskierschicht 36
oberflächlich zumindest bereichsweise metallisiert oder
beschichtet sein, so daß dadurch Leiterbahnen 41 und/oder
Anschlußflächen 40 und/oder die Aktorschicht 42 vorgegeben
sind. Die Aktorschicht 42 ist beispielsweise die bereits
erläuterte deponierte piezoresistive oder piezoelektrische
Schicht. Alternativ können die Aktorschicht 42, die
Leiterbahnen 41 und die Abschlußkontaktflächen 40 jedoch
ebenso auch nach dem Herausstrukturieren der
Strukturierungsschicht 33 auf diese in an sich bekannter
Weise aufgebracht werden.
5
Mikrowerkzeug
6
erster Mikrogreifer
6
' zweiter Mikrogreifer
10
Bauteil
11
Greifarm
12
Schenkel
13
Plattenstruktur
14
Verankerung
15
Steg
16
verankerte Kammstruktur
17
Schenkelkammstruktur
18
Interdigitalkondensator
19
Aktorstruktur
20
Haltepuls
21
Lösepuls
22
Haltephase
23
Löseschwingung
25
Greiffläche
30
Schichtstruktur
31
Grundschicht
32
Zwischenschicht
33
Strukturierungsschicht
34
Trenchgraben
35
Hohlraum
36
Maskierschicht
40
Anschlußkontaktfläche
41
Leiterbahn
42
Aktorschicht
43
Greifarm
44
Schenkel
Claims (13)
1. Mikrowerkzeug, insbesondere zur Manipulation oder
präzisen Positionierung von Mikrobauteilen, mit mindestens
einem über mindestens eine Aktorstruktur (19) bewegbaren
Greifarm (11, 43) mit mindestens einer Greiffläche (25),
über die mindestens ein Bauteil (10) mit dem Greifarm (11,
43) insbesondere zangenförmig fixierbar ist, dadurch gekenn
zeichnet, daß mindestens ein Mittel vorgesehen ist, das auf
mindestens einen der Greifarme (11, 43) zumindest zeitweilig
eine Beschleunigung derart ausübt, daß die aus träger Masse
des fixierten Bauteils (10) und ausgeübter Beschleunigung
hervorgerufene Trägheitskraft größer ist als eine zwischen
dem fixierten Bauteil (10) und der Greiffläche (25) wirkende
Adhäsionskraft.
2. Mikrowerkzeug nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß zumindest zeitweilig die durch das Mittel hervorge
rufene Trägheitskraft der Adhäsionskraft entgegengerichtet
ist.
3. Mikrowerkzeug nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß das Mittel eine bereichsweise in einer Umgebung des
Greifarmes (11) angeordnete Plattenstruktur (13), eine zu
mindest bereichsweise mit dem Greifarm (43) verbundene Ak
torschicht (42), insbesondere eine piezoelektrische oder
piezoresistive Schicht, ein in einer Umgebung des Greifarmes
(11, 43) angeordneter Ultraschallgeber oder ein mit dem
Greifarm (11, 43) verbundener und/oder wechselwirkender Ak
tor ist.
4. Mikrowerkzeug nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß der Greifarm (11) über einen beweglichen Steg (15)
oder eine weiche Feder mit einer Verankerung (14) verbunden
ist.
5. Mikrowerkzeug nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß die Aktorstruktur (19) ein von einer verankerten
Kammstruktur (16) und einer Schenkelkammstruktur (17) eines
Schenkels (12) des Greifarmes (11) gebildeter Interdigital
kondensator (18) ist.
6. Mikrowerkzeug nach Anspruch 3, dadurch gekennzeich
net, daß die Aktorschicht (42) über mindestens eine Leiter
bahn (41) mit mindestens einer Anschlußkontaktfläche (40)
zur elektrischen Kontaktierung in Verbindung steht.
7. Mikrowerkzeug nach einem der vorangehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß das Mikrowerkzeug (5) zwei ein
ander entgegengesetzte, insbesondere symmetrisch aufgebaute
Greifarme (11, 43) in Form eines Mikrogreifers (6, 6') auf
weist.
8. Verfahren zur Manipulation von Bauteilen, insbesonde
re zur präzisen Positionierung von Mikrobauteilen, mit einem
Mikrowerkzeug (5) mit mindestens einem über mindestens eine
Aktorstruktur (19) beweglichen Greifarm (11, 43) mit einer
Greiffläche (25), über die mindestens ein Bauteil (10) mit
dem Greifarm (11, 43) fixiert wird, sowie mindestens einem
Mittel zum Lösen des fixierten Bauteils (10) von der
Greiffläche (25), dadurch gekennzeichnet, daß von dem Mittel
in dem Greifarm (11, 43) zumindest zeitweilig eine Beschleu
nigung derart induziert wird, daß die durch die träge Masse
des fixierten Bauteils (10) und die ausgeübte Beschleunigung
hervorgerufene Trägheitskraft größer wird, als eine zwischen
dem fixierten Bauteil (10) und der Greiffläche (25) wirkende
Adhäsionskraft.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet,
daß das Mittel in dem Greifarm (11, 43) die Beschleunigung
lediglich kurzzeitig induziert.
10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Mittel in dem Greifarm (11, 43) die Be
schleunigung lediglich während einer Zeitdauer induziert,
die ausreicht, in dem Greifarm eine Resonanzschwingung einer
Schwingungseigenmode des Greifarmes (11, 43) zu induzieren.
11. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet,
daß durch das Mittel in dem Greifarm (11, 43) eine insbeson
dere hochfrequente Vibration oder Schwingung induziert wird.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet,
daß die Frequenz der Vibration oder Schwingung größer ist,
als die Frequenz einer ersten Schwingungseigenmode des Grei
farmes (11, 43).
13. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet,
daß die Dimensionierung des Greifarmes (11, 43) und/oder die
Frequenz der durch das Mittel hervorgerufenen Vibration oder
Schwingung an die träge Masse des fixierten Bauteiles (10)
angepaßt wird.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19916960A DE19916960C2 (de) | 1999-04-15 | 1999-04-15 | Mikrowerkzeug und Verfahren zur Manipulation von Bauteilen mit diesem Mikrowerkzeug |
US09/550,789 US6648389B2 (en) | 1999-04-15 | 2000-04-17 | Process for manipulating components, a microtool for implementing the process, and a process for manufacturing the microtool or microtool parts |
JP2000115376A JP2000317899A (ja) | 1999-04-15 | 2000-04-17 | 構成部材を操作する方法、この方法を実施するマイクロ工具及びマイクロ工具又はマイクロ工具部分を製造する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19916960A DE19916960C2 (de) | 1999-04-15 | 1999-04-15 | Mikrowerkzeug und Verfahren zur Manipulation von Bauteilen mit diesem Mikrowerkzeug |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19916960A1 DE19916960A1 (de) | 2000-10-26 |
DE19916960C2 true DE19916960C2 (de) | 2002-12-05 |
Family
ID=7904611
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19916960A Expired - Fee Related DE19916960C2 (de) | 1999-04-15 | 1999-04-15 | Mikrowerkzeug und Verfahren zur Manipulation von Bauteilen mit diesem Mikrowerkzeug |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6648389B2 (de) |
JP (1) | JP2000317899A (de) |
DE (1) | DE19916960C2 (de) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10136581B4 (de) * | 2001-07-27 | 2004-09-09 | Stiftung Caesar | Kraftsensitiver Mikromanipulator |
DE10200834A1 (de) * | 2002-01-04 | 2003-07-24 | Univ Eberhard Karls | Abtast- und Greifvorrichtung |
KR100450743B1 (ko) * | 2002-06-18 | 2004-10-01 | 학교법인 포항공과대학교 | 정전력을 이용한 초소형 그리퍼 |
US20040066514A1 (en) * | 2002-10-08 | 2004-04-08 | Kardos Victor J. | Upper compliant tooling |
US20070090722A1 (en) * | 2004-03-11 | 2007-04-26 | Jong-I Mou | Micro parallel kinematic mechanism design and fabrication |
JP2005342846A (ja) * | 2004-06-03 | 2005-12-15 | Nisca Corp | マイクロマニュピュレータ |
US7461882B2 (en) * | 2004-11-12 | 2008-12-09 | Georgia Tech Research Corp. | Microfabricated mechanically actuated microtool and methods |
US20070057522A1 (en) * | 2005-02-14 | 2007-03-15 | Keller Christpher G | Tool to pick up microparts |
JP4562614B2 (ja) * | 2005-08-09 | 2010-10-13 | アオイ電子株式会社 | ナノピンセット装置 |
JP4562615B2 (ja) * | 2005-08-09 | 2010-10-13 | アオイ電子株式会社 | 微小試料把持装置 |
US20070176514A1 (en) * | 2006-01-27 | 2007-08-02 | Taiwan Advanced Materials Technologies Corp. | Electromechanical actuator structure |
EP1855166B1 (de) * | 2006-05-12 | 2009-08-12 | ETA SA Manufacture Horlogère Suisse | Pinzette und Greifsystem |
CA2551191C (en) * | 2006-06-23 | 2016-04-05 | Keekyoung Kim | Electrothermally-driven mems microgrippers with integrated dual-axis capacitive force sensors |
US8979149B2 (en) | 2009-02-17 | 2015-03-17 | Yu Sun | Device for grasping and active release of micro and nano objects |
JP5961366B2 (ja) * | 2011-11-28 | 2016-08-02 | 東芝機械株式会社 | ワーク設置装置およびワーク設置方法 |
CN103056887B (zh) * | 2013-01-17 | 2015-05-13 | 苏州大学 | 一种多指型微夹持器 |
WO2015069709A1 (en) * | 2013-11-06 | 2015-05-14 | Abb Technology Ag | Method and apparatus for using vibration to release parts held by a robotic gripper |
IT201800002364A1 (it) * | 2018-02-02 | 2019-08-02 | St Microelectronics Srl | Dispositivo micro-manipolatore micro-elettro-meccanico con comando piezoelettrico, mobile nel piano |
US11733020B2 (en) * | 2019-11-01 | 2023-08-22 | Nanyang Technological University | First object for assembly with a second object and method of assembly thereof |
JP2022073193A (ja) * | 2020-10-30 | 2022-05-17 | セイコーエプソン株式会社 | ハンドの駆動方法およびハンド |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19717142A1 (de) * | 1997-04-23 | 1998-10-29 | Fraunhofer Ges Forschung | Robotersystem zur Manipulation und/oder räumlichen Handhabung von Objekten |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4610475A (en) * | 1984-09-06 | 1986-09-09 | Microflex Technology, Inc. | Piezoelectric polymer micromanipulator |
SU1579775A1 (ru) * | 1988-10-24 | 1990-07-23 | Рыбинский Авиационный Технологический Институт | Схват промышленного робота |
-
1999
- 1999-04-15 DE DE19916960A patent/DE19916960C2/de not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-04-17 US US09/550,789 patent/US6648389B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-04-17 JP JP2000115376A patent/JP2000317899A/ja not_active Withdrawn
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19717142A1 (de) * | 1997-04-23 | 1998-10-29 | Fraunhofer Ges Forschung | Robotersystem zur Manipulation und/oder räumlichen Handhabung von Objekten |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
BUSER, Rudolf: Mikrofinger-Greifer für Nanorobo- ter. In: Transfer Nr. 29/30, 1995, S. 26-28 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19916960A1 (de) | 2000-10-26 |
US6648389B2 (en) | 2003-11-18 |
US20030072646A1 (en) | 2003-04-17 |
JP2000317899A (ja) | 2000-11-21 |
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8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |