DE2816139A1 - Dosierventil - Google Patents
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Description
Beschreibung
Die Erfindung beschäftigt sich mit Dosierventilen und insbesondere mit einem Dosierventil für axiale Strömung
von verbesserter Konstruktion und verbessertem Betriebsverhalten·
Dosierventile haben gewöhnlich einen Ventilkonus oder eine sogenannte Ventilnadel als Ventilkörper, der relativ zu
einem entsprechend als Konus ausgebildeten Ventilsitz mittels einer Dosiervorrichtuna näher oder weiter weg positioniert
werden kann, um auf diese Weise den Durchfluß durch das Ventil zu regulieren. Diese Dosierventile speziell
bei ihrer Verwendung für hohe Drücke zeigen zahlreiche Nachteile im Betrieb. Eine Schwierigkeit besteht
beispielsweise darin, für eine vorgegebene Einstellung der Dosiervorrichtung eine gleichbleibende, genau regulierte
Durchflußmenge vorherzusagen. Eine Ursache dieser
Schwierigkeit sowie mancher anderer Unzulänglichkeiten bei Dosierventilen besteht in dem Unvermögen, den konischen
Dichtabschnitt des Ventilkörpers fest konzentrisch zum Ventilsitz zu halten. Wenn der Ventilkörper vorgeschoben
oder zurückgezogen wird, findet in gewissem Ausmaß ein Kippen, eine Schrägstellung oder ein Herauslaufen aus der
Achse statt, was die Konzentrizität des Ventilkörpers mit dem Ventilsitz nachteilig beeinflußt. Eine dieser Art unerwünschte
Bewegung des Ventilkörpers tritt wegen der unzureichenden Stabilisierung des Ventilkörpers auf und
verstärkt sich noch in Fällen, in denen der Ventilkörper hohen Mediumdrücken ausgesetzt ist.
Eine weitere Schwierigkeit vieler zur Zeit vorhandener Dosierventile mit kegelförmigem Ventilkörper besteht darin,
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daß die Ventile zunehmend schwieriger geöffnet werden können, was eine Punktion des Systemdrucks ist, und zwar
wegen des auf die Ventilsitzfläche wirkenden System-Mediumdruckes.
Weiter besitzen Dosierventile reduzierte Durchflußkanalgrößen verglichen mit anderen Ventilarten,
und soweit sie mit ihrem Ventilsitz und der Dosiervorrichtung senkrecht zur Hauptdurchflußachse angeordnet sind,
bewirken diese Beschränkungen und plötzliche Richtungsänderungen der Strömung, was zu einem relativ hohen Druckabfall
führt. Weiter berücksichtigen die meisten Dosierventile nicht die Größe des undosierten Rückstromes,
entweder um ihn zu sperren oder ihn zu schaffen.
Der Erfindung liecrt daher die Aufgabe zugrunde, ein Dosierventil
zu schaffen, das die genannten Nachteile nicht mehr oder jedenfalls nicht mehr in dem erwähnten Ausmaß besitzt.
In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung weist
dazu das erfindungsgemäße Dosierventil ein Ventilgehäuse mit Einlaß und Auslaß, eine Ventilkammer zwischen Einlaß
und Auslaß, einen Mediumkanal zwischen Einlaß und Ventilkammer sowie einen Ventilsitz in der Ventilkammer auf.
Wenigstens zwei sich axial erstreckende Führungsschlitze sind in dem Ventilgehäuse mit radialem Abstand vom Mediumkanal
vorgesehen. Ein Ventilkörper ist in der Ventilkammer auf den Ventilsitz zu und von diesem weg beweglich. Der
Ventilkörper hat einen Rumpfabschnitt und wenigstens zwei Führungsstifte, die sich axial vom Rumpfabschnitt durch
die Führungsschlitze im Ventilgehäuse erstrecken. Vorzugsweise sind mehr als zwei Führungsstifte und eine entsprechende
Anzahl von Führungsschlitzen in dem Ventilgehäuse vorgesehen. Ein Bedienungselement umgibt mit Schraubgewinde
die Führungsstifte, wobei zweckmäßig ein Gewinde mit mehreren Steigungen verwendet wird, und ist so drehbar, daß die Bewegung
des Ventilkörpers auf den Ventilsitz zu und von diesem weg schnell und genau beherrscht werden kann. Der Ventil-
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körper wird bei seiner Bewegung auf den Ventilsitz zu und von diesem weg durch die Führungsstifte und die Führungsschlltze
geführt, so daß ein Verkanten und Außer-Mitte-gehen des Ventilkörpers im wesentlichen vermieden ist.
Gemäß einem mehr ins einzelne gehenden Merkmal der Erfindung hat der Rumpfabschnitt des Ventilkörpers im wesentlichen
den gleichen Durchmesser wie die Ventilkammer und besitzt mehrere Mediumkanäle, die sich durch ihn erstrecken
und so orientiert sind, daß die Strömung in die Ventilkammer auf die Aufstromseite des Ventilsitzes geleitet
wird.
Gemäß einem weiteren spezielleren Merkmal der Erfindung sinddie jeweiligen Flächen des Ventilkörperrumpfabschnittes
auf der Aufstromseite und auf der Abstromseite desselben
im wesentlichen gleich, so daß die auf diese Flächen wirkenden Mediumkräfte in der geschlossenen Stellung des
Ventils im wesentlichen gleich sind. Der Ventilkörper ist im Hinblick auf den Mediumdruck somit im wesentlichen
ausbalanciert, so daß sich das Ventil leichter öffnen läßt.
Gemäß einem weiteren spezielleren Merkmal der Erfindung ist das Betätigungselement mit Anzeigemarken versehen,
und ein einstellbarer Zeiger neben den Anzeigemarken des Betätxgungselementes angeordnet, so daß die relative Stellung
des Ventils angezeigt wird. Die volle öffnung und das
volle Schließen des Ventils sollte innerhalb einer vollen Umdrehung des Betatigungselementes erreichbar sein, um die
Einstellzeit klein zu halten und gleichzeitig zu ermöglichen, daß die Anzeigemarken und der Zeiger den tatsächlichen
Öffnungsgrad des Ventils anzeigen können.
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Gemäß einer weiteren speziellen Variation der Erfindung trägt der Ventilkörper eine Rückschlagklappe, die normalerweise
in eine Sitzstellung gedrückt wird, die den Mediumkanal für die Umkehrströmung schließt/ umd die durch
eine Vorwärts-Mediumströmung geöffnet wird.
Entsprechend einer weiteren Variation der Erfindung kann der Ventilkörper ein inneres Ventilteil tragen, das während
normalem Mediumstrom nicht v/irksam ist, das jedoch vollen Mediumstrom in der umaekehrten Richtung durch das Ventil
erlaubt.
Gemäß einem weiteren speziellen Aspekt der Erfindung sind Einrichtungen für den Ventilkörper, die Ventilklappe
sowie das innere Ventilteil vorgesehen, die deren relative Drehung verhindern.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung sind
sowohl die Ventilklappe wie auch das innere Ventilteil mit radial sich erstreckenden Flanschen ausgerüstet, die
die Führungsstifte kontaktieren, so daß die Ventilklappe bzw. das innere Ventilteil während der Bewegung axial
geführt werden.
Gemäß einer weiteren Ausfiihrungsform der Erfindung sind der Ventilkörper, die Ventilklappe und das innere Ventilteil
mit einem konischen Dichtabschnitt versehen, der mit einer elastischen Beschichtung ausgerüstet ist, um eine positive
Dichtung mit den zugehörigen Ventilsitzen zu verbessern.
Die vorstehend erläuterten Eigenschaften der Erfindung
gehen aus der nachfolgenden Beschreibung noch deutlicher hervor, bei der auf die beigefügten Zeichnung Bezug genommen
wird. Es zeigen:
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Fig. 1 eine Draufsicht auf ein mit den Merkmalen der Erfindung ausgerüstetes Dosierventil;
Fig. 2 eine stirnseitige Ansicht, teilweise im Schnitt des Ventils aus Fig. 1;
Fig. 3 einen Längsschnitt des Ventils gemäß Fig. 1 und 2 längs der Linie 3-3 aus
Fig. 6 bei voll geöffneter Ventilstellung;
Fig. 4 eine der Fig. 3 ähnliche Darstellung in voll geschlossener Ventilstellung;
Fig. 5 einen Querschnitt längs der Linie 5-5 aus Fig. 3;
Fig. 6 einen Querschnitt längs der Linie 6-6 aus Fig. 3;
Fig. 7 einen Längsschnitt längs der Linie 7-7 aus Fig. 10 einer alternativen Ausführungsform eines Ventils mit Hilfs-Ventilklappe,
wobei das Ventil in voll geschlossener Stellung gezeigt ist;
Fig. 8 eine der Fig. 7 ähnliche Darstellung eines Ventils in voll geschlossener Stellung;
Fig. 9 einen Ouerschnitt durch das Ventil längs
der Linie 9-9 aus Fig. 8;
Fig. 10 einen Querschnitt längs der Linie 10-10 aus Fig. 8;
Fig. 11 einen Längsschnitt längs der Linie 11-11
aus Fig. 13 einer zweiten Alternative für ein Ventil mit einem inneren Ventilteil
für volle Rückströmung, wobei das Ventil in voll geöffnetem Zustand dargestellt ist;
Fig. 12 eine der Fig. 11 ähnliche Darstellung des Ventils in voll geschlossener Stellung;
Fig. 13 einen Querschnitt längs der Linie 13-13 aus Fig. 12; und
Fig. 14 einen Querschnitt längs der Linie 14-14 aus Fig. 12.
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In den Fig. 1 bis 6 ist die Grundform des mit den Merkmalen der Erfindung ausgestatteten Ventils dargestellt,
die ein Ventilgehäuse B mit einem hinteren Gehäuseabschnitt 10 und einem vorderen Gehäuseabschnitt 12 umfaßt. Der
hintere Gehäuseabschnitt 10 besitzt einen vorderen mit Außengewinde versehenen Abschnitt 14 von größerem Durchmesser
sowie einen Mittelabschnitt 15. Der vordere Abschnitt 14 des hinteren Gehäuseteils 10 definiert mit dem vorderen
Ventilgehäuseabschnitt 12 eine Ventilkammer 16. Ein mittlerer Mediumkanal 17 erstreckt sich durch den hinteren
Gehäuseabschnitt 10 zwischen der Ventilkammer 16 und einem
Ventileinlaß 19. Der Mediumkanal 17 ist an der Stelle 20, in der er sich in die Ventilkammer öffnet, aufgeweitet.
Eine Anzahl in ümfangsrichtung verteilter Führungsschlitze 25 erstreckt sich durch den vorderen Abschnitt 14 des
hinteren Gehäuseteils 10 in den Mittelabschnitt 15; man erkennt, daß vier Schlitze dargestellt sind. Die Peripherie
des Mittelabschnittes 15 ist mit in Ümfangsrichtung
verteilten Nuten 35 ausgerüstet, die mit den Führungsschlitzen 25 zusammenhängen. Schiaale, ringförmige öffnungen
45 sind in den Wänden des hinteren Gehäuseabschnitts vorgesehen, die jeden Führungsschlitz 25 mit einer O-Ringdichtung
47 umgeben, die in jeder der öffnungen sitz.
Der vordere Gehäuseteil 12 des Ventilgehäuses B weist einen
Abschnitt 50 von großem Durchmesser und Innengewinde auf, der auf den Vorderabschnitt 14 des hinteren Gehäuseteils
aufgeschraubt ist. Eine kreisförmige V-Nut 21 ist am vorderen Abschnitt 14 des hinteren Ventilgehäuseteils 10 vorgesehen,
und zwar außerhalb der O-Ringdichtungszone, in welche eine konisch zulaufende Stellschraube 22 eingreift,
die durch den Wandabschnitt 50 des Gehäuseteils 12 sich hindurcherstreckt, um die beiden Gehäuseteile mechanisch
miteinander zu verbinden. Die Arretierschraube 22 wird von
einer Halteklammer 130 überdeckt. Ein konischer Abschnitt
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und ein zylindrischer Endabschnitt 55 erstrecken sich von dem Abschnitt 50 mit großem Durchmesser des vorderen
Gehäuseteils nach vorn. Eine O-Ringdichtung 57 verhindert Leckage zwischen den beiden Ventilgehäuseteilen. Der vordere
Gehäuseteil 12 bildet mit dem Vorderabschnitt des hinteren Gehäuseteils 10 die Ventilkammer 16. Am vorderen
Ende der Ventilkammer ist ein konischer Ventilsitz 63 ausgebildet. Vor dem Ventilsitz befindet sich ein Auslaßkanal
65, der zum Ventilauslaß 69 führt.
Ein konischer allgemein mit 80 bezeichneter Ventilkörper
sitzt in der Ventilkammer 16 und ist innerhalb derselben auf den Ventilsitz 63 zu und von diesem weg bewegbar. Der
Ventilkörper 80 besteht aus einem im wesentlichen zylindrischen Rumpfabschnitt 82 und einem sich nach vorn erstreckenden
Ventilkopf 85 sowie einer Anzahl sich nach rückwärts erstreckender in ümfangsrichtung verteilter
Führungsstifte 87. Der Ventilkopf 85 besitzt einen konischen
Dichtabschnitt 90, der mit dem Ventilsitz 63 zur Regulierung oder Verhinderung des Durchflusses durch das
Ventil mit dem Ventilsitz 63 kooperiert. Vorzugsweise ist wenigstens der konische Abschnitt 90 des Ventilkopfes mit
einer Schicht aus Kunststoff, Vinyl oder ähnlichem Material überzogen, um die Dichtung mit dem Ventilsitz 63 zu verbessern.
Der Rumpfabschnitt des Ventilkörpers ist mit einer Anzahl in ümfangsrichtung verteilten geneigten Kanälen 93 ausgerüstet,
von denen vier dargestellt sind, die sich von der AufStromseite 94 des Ventilkörpers durch diesen hindurch
zur Abstromseite 95 in der Nähe des Ventilkopfes 85 erstrecken. Vorzugsweise ist die projizierte Fläche der
Abstromseite 95 des Ventilkörper-Rumpfabschnittes 82 im
wesentlichen gleich der Fläche der AufStromseite 94. Dies
ist erwünscht, damit in der geschlossenen Stellung des
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Ventils der gleiche Mediumdruck auf diese im wesentlichen gleichen Flächen wirkt. Als Folge unterliegt der Ventilkörper
keinerlei unausgeglichenen Kräften, die dazu führen könnten, ihn auf den Sitz zu drücken und das öffnen des
Ventils erschweren würden.
Die Führungsstifte 87 erstrecken sich vom Rumpfabschnitt des Ventilkörpers durch die Führungsschlitze 25 im hinteren
Ventilgehäuseteil 10 nach rückwärts und in die Nuten 35. Jeder Führungsstift 87 ist teilweise wie bei 99 dargestellt
mit Gewinde versehen und greift in entsprechende Gewindegänge des Ventilstellhebels 102, der die Führungsstifte
und den rückwärtigen Ventilgehäuseteil 10 umgibt. Der
Stellhebel 102 kann mit Hilfe eines beweglichen Handgriffs 105 so gedreht werden, daß die Führungsstifte 87 und der
Ventilkörper 80 sich vorwärts oder alternativ rückwärts bewegen. Der Handgriff 105 kann um 90° in eine angelegte
Stellung verschwenkt wer-den, so daß er räumlichen Beschränkungen angepaßt werden kann und auch die Gefahr mindert,
zufällig aus der gewünschten Stellung herausbewegt zu werden. Der Stellhebel 102 ist zwischen einem am vorderen
Abschnitt 14 des hinteren Gehäuseteils 10 anliegenden Nadellager 108 und einem zweiten Nadellager 110 drehbar.
Der Betätigungshebel 102 und die Lager sind von einem Stützring 112 zusammengehalten, der auf den rückwärtigen
Gehäuseteil 10 aufgeschraubt ist. Der Stützring wird von einem Gegenring 115 gehalten, der auf das Ende des Gehäuseteil
10 hinter dem Stützring aufgeschraubt ist. O-Ringdichtungen 119 und 120 sind neben den jeweiligen Nadellagern
108 und 110 zur Erzeugung des Reibungswiderstandes und als Schmutzsperre angeordnet.
Die Außenfläche des Stellhebels 102 ist bei 123 mit einer Mikrometerteiluna in der Form einer von 0 bis 100 unter-
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teilten Skala versehen. Ein Zeigerring 125 umgibt den vorderen Gehäuseteil 12 unmittelbar neben der Mikrometerskala
23 des Stellhebels 102. 'Der Ringzeiger wird von einer geschlitzten Halteklammer 130 gehalten. Die Halteklammer
ist mit dem vorderen Gehäuseteil 12 des Ventilgehäuses mittels Schrauben 132 befestigt und kann zur Befestigung
des Ventils dienen.
Für den Betrieb wird das Ventil dadurch kalibriert, daß bei voll geschlossener Stellung des Ventils der Zeiger
des Ringzeigers auf der Mikrometerskala 123 auf 0 zeigt,
und auf 100 zeigt, wenn das Ventil voll geöffnet ist. Mit der Skala 123 können daher von 0 bis 100 die Hundertstel
der Ventilöffnung bzw. der vom Sitz weg nach rückwärts ausgeführten Verschiebung des Ventilkörpers angezeigt
werden. Das Ventil kann in eine Leitung mit Hilfe der Gewinde in der Einlaßöffnung 19 und der Auslaßöffnung 69
eingeschaltet v/erden. Medium tritt in das Ventil durch den Einlaß 19 ein und strömt durch den Kanal 17 sowie die
geneigten Kanäle 93 im Ventilkörper 80 und dann in den vorderen Abschnitt der Ventilkamner 16. Von der Ventilkammer
strömt das Medium durch den Raum zwischen Ventilkopf 85 und Ventilsitz 63 und verläßt das Ventil durch Auslaß
Die Volumenrate der Strömung wird durch die Mikrometereinstellung des Stellhebels 102 bestimmt und kann je nach
Wunsch geändert werden.
Das erfindungsgemäße Ventil ist besonders für Hochdruck-Anwendungen
geeignet, und es wird bei zunehmendem Mediumdruck nicht zunehmend schwieriger, das Ventil zu öffnen.
Dies deshalb, weil der Ventilkörper in bezug auf den Mediumdruck im wesentlichen ausbalanciert ist, wenn das Ventil
geschlossen ist, wie oben erwähnt. Weiter ist in dem erfindungsgemäßen
Ventil der axiale Weg des Ventilkörpers
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sowie seine Konzetitrizität mit dem Ventilsitz durch hohen
Mediumdruck oder andere Mittel nicht zu beeinträchtigen. Die Verwendung von Führungsstiften, die in Führungsschlitzen sich bewegen und radial aus der Mitte des Ventilgehäuses
verteilt angeordnet sind, erlauben eine genaue Zentrierung des Veiitilkopfes bezüglich des Ventilsitzes.
Die durch die Führungsschlitze geschaffene Unterstützung stellt ausgezeichnete Wiederholbarkeit der Ventilkörperbewegung
sicher, wobei praktisch kein Rollen, keine Neigung oder kein Aus-dem-Zentrum-Laufen auftritt. Der Dichtabschnitt
des Ventilkopfes bleibt daher stets mit dem konischen Ventilsitz konzentrisch. Die Verwendung eines Gewindeabschnitts
zwischen dem Stellhebel und den Führungsstiften ermöglicht ausgezeichnete Wiederholbarkeit der gewünschten
Ventilöffnung.
Eine zweite Ausführungsform des erfindungsgemäßen Ventils zeigen die figuren 7 bis 10, in welchen die gleichen Bezugszeichen wie in Figuren 1 bis 6 gleiche gemeinsame Teile
bezeichnen. Der Aufbau des Ventils gemäß Fig. 7 bis 10 ist im wesentlichen demjenigen des Ventils gemäß Fig. 1 bis 6
ähnlich, mit Ausnahme des mit dem Bezugszeichen 135 in Fig. 7 bis 10 bezeichneten Ventilkörpers.
Der Ventilkörper 135 weist einen Ventilkopf 136 auf, ferner
einen Rumpfabschnitt 137 und Führungsstifte 140. Wie
bei dem Ventil gemäß Fig. 1 bis 6 erstrecken sich die Führungsstifte
140 durch Führungsschlitze 125, die radial
außerhalb des Mediumkanals 17 im rückwärtigen Ventilgehäuseteil 10 verteilt angeordnet sind. Der Ventilkopf 136
weist einen konischen Dichtabschnitt 142 auf, der wie bei der Ausführungsform gemäß Fig. 1 bis 6 mit einer elastischen
Beschichtung versehen sein kann, um eine positivere Dichtung mit dem Ventilsitz 63 zu ergeben. Der zentrale
Rumpfabschnitt 137 des Ventilkörpers 135 ist mit einer
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Anzahl von schrägen Mediumkanälen T43 versehen, die sich
von der Aufstromseite 145 des Ventilkörperrumpfabschnittes
zur Abstrontseite 147 erstrecken. Diese Kanäle entsprechen
den Kanälen 93 im Ventil der Figuren 1 bis 6.
Axial einwärts von der Aufstromseite 145 des Rumpfabschnittes
137 des Ventilkörpers erstreckt sich eine Gegenbohrung 150, in welcher elfte Ventilklappe 152 angeordnet ist. Die
Ventilklappe besitzt eine konische Fläche 153, die in einem konisch aufgeweiteten Abschnitt 20 des Mediumkanals
17 zu dessen Verschluß sitzt. Die Ventilklappe 152 wird in die Geschlossenstellung durch eine Spiralfeder 155 gedrückt,
die in eitler axialen Gegenbohrung 157 der Ventilklappe
sitzt. Elfi Ende der Feder 155 ist in der Gegenbohrung
157 mittels einer Aussparung 158 am Ende der Gegenbohrung
verankert, während das gegenüberliegende Ende in einer ähnlichen Aussparung 159 am Ende der Gegenbohrung
150 verankert ist. Die Feder 155 verhindert somit, daß die Ventilklappe 152 dreht, wenn sie sich auf den Mediumkanal
zu und von diesem weg bewegt.
Die Ventilklappe 152 ist mit einem radial abstehenden Führungsflansch
160 versehen, dessen Peripherie die unteren Flächen der Führungsstifte 140 kontaktiert, wie Fig. 10
zeigt. Dieser Kontakt zwischen Führungsflansch 160 und den
Führungsstiften 140 stellt sicher, daß die Ventilklappe 152 sich ohne Kippen oder Äus-der-Mitte-Laufen axial bewegt,
so daß die Konusfläche 153 stets konzentrisch mit
dem konisch aufgeweiteten Abschnitt 20 des Mediumkanals bleibt. Der Führungsflansch 160 ist mit einer Anzahl von
peripheren Nuten 163 (Fig. 10) versehen, die zwischen den Führungsstiften 140 verteilt sind und mit den schrägen
Kanälen 143 im Ventilkörper 135 ausgerichtet sind. Diese Nuten ermöglichen es dem Medium, ohne Behinderung durch
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den Führungsflansch 160 den Kanälen 143 zuzuströmen. Eine Anzahl von Kanälen 166 erstreckt sich, radial von einer
Blindbohrung 168 Von kleinem Durchmesser im Zentrum der Ventilklappe zu den Nuten 163. Die Blindbohrung 168 steht
mit Gegenbohrungen 150 uv\ 157 in den Ventilklappen in Verbindung.
Die Radialkanale 166 ergeben einen Ausweichpfad für das Medium aus den Gegenbohrungen 150 und 157 in die
Ventilkammer T6 und die schrägen Kanäle 143r wenn die
Ventilklappe aus ihrem Sitz 20 heraus bewegt wird. Dies verhindert, daß die Beweaung der Ventilklappe durch in
den Gegenbohrungen 150 und 157 angesammeltes Medium unerwünscht
verzögert wird.
Im Normalbetrieb wird die Ventilklappe aus ihrem Sitz in die in Fig. 7 dargestellte Stellung durch den Druck des
ankommenden Mediums beweat. Dieses Medium läuft dann durch die schrägen Kanäle 143 und durch die öffnung zwischen Ventilkopf
136 und Ventilsitz 63 und verläßt das Ventil durch den Auslaß. Wenn der Mediumdruck am Auslaß des Ventils
größer als am Einlaß wird, schließt die Ventilklappe 152 und verhindert Rückströmung durch das Ventil. Wie bei dem
Ventil gemäß Fig. 1 bis 6 sind die Aufstrom- und Abstromflachen
des Ventilkörpers, auf welche der Mediumdruck in der Geschlossenstellung des Ventils wirkt, vorzugsweise
im wesentlichen gleich. Der Ventilkörper ist daher aus der geschlossenen in die Offenstellung ohne übermäßige
Kraft selbst bei hohen Mediumdrncken bewegbar.
Eine dritte Äusführungsform des erfindungsgemäßen Ventils
zeigen Fig. 11 bis 14, in denen gleiche Bezugszeichen wie
in den Fig. 1 bis 6 und 7 bis 10 für gleiche Teile verwendet
sind. Das Ventil gemäß Fig. 11 bis 14 ist im wesentlichen
gleich dem Ventil gemäS Fig. 1 bis 6 und 7 bis 10 mit der
Ausnahme des Ventilkörpers 175. Der Ventilkörper 175 besitzt
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einen tubusförmigeh äußeren Ventilkörper 176 mit konischem
Ventilkopf 177, der mit dem Ventilsitz 63 zur Dosierung der Mediumströmung in Vorwärtsrichtung vom Einlaß 19 zum
Auslaß 69 kooperiert. Der äußere Ventilkörper 176 weist ferner einen zentralen Gehäuseabschnitt 179 mit einer Anzahl
von schrägen Kanälen 181 auf, die durch ihn führen. Eine Anzahl von Ftihrungsstiften 185, von denen vier dargestellt
sind, erstreckt sich rückwärts vom Gehäuseabschnitt 179 des äußeren Ventilkörpers und durch Führungsschlitze
wie in den vorher beschriebenen Ausführungsformen.
Das hohle Innere des äußeren Ventilkörpers 176 weist eine
innere Ventilkammer 187 mit einem konischen inneren Ventilsitz
189 und einen inneren Ventilauslaß 192 auf. In der inneren Ventilkammer 187 befindet sich ein innerer Ventilkörper
194 mit einem konischen Abschnitt, der auf dem inneren Ventilsitz 189 sitz. Die innere Ventilkammer ist
mit einer Anzahl von schrägen Kanälen 196 versehen, deren Anzahl gleich der Anzahl der schrägen Kanäle 181 durch
den äußeren Ventilkörper 176 entspricht. Die Kanäle 196
erstrecken sich von der Aufstromseite des inneren Ventilkörpers
194 durch den inneren Ventilkörper in Ausrichtung mit den jeweiligen schrägen Kanälen 181 im äußeren Ventilkörper
176.
Am rückwärtigen Ende des inneren Ventilkörpers 194 befindet
sich ein radial vorstehender Flansch 199 mit einer Anzahl von Nuten oder Ausnehmungen 201 (Fig. 13), die in der
Peripherie ausgebildet sind. Die Anzahl und Größe der Nuten 201 entspricht der Anzahl und Größe der Führungsstifte 185, die in die Nuten bzw. Ausnehmungen passen, und
sind beweglich relativ zu den Nuten. Der innere Ventilkörper 194 wird normalerweise auf den inneren Ventilsitz
189 mittels Spiralfedern 204 gedrückt, die in Gegenbohrungen 205 im hinteren Ventilgehäuseteil 10 positioniert
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sind. Die Federn Werden in den Löchern 206 in der Aufstromseite
des inneren Ventilkörpers 194 gehalten. Vorzugsweise ist die Anzahl der Federn 204 'gleich der Anzahl der Führungsstifte
185.
Wie in den vorstehend beschriebenen Ventilausführungen verhindert die Positionierung der Führungsstifte 185 in
den Führungsschlitzen 25 eine Drehung des äußeren Ventilkörpers 186 und führt die Axialbewegung des Ventilkörpers
so, daß der Ventilkopf stets konzentrisch mit dem Ventilsitz ist. Die Führungsstifte 185 verhindern wegen ihres
Eingriffes in die Nuten 201 außerdem eine Drehung des
inneren Ventilkörpers und führen ihn so, daß er stets konzentrisch mit dem inneren Ventilsitz 189 ist. Das Verhindern
der Drehung des inneren Ventilkörpers ist wichtig für das Aufrechterhalten der gewünschten Ventilsitzstellung
sowie zur Ausrichtuna der Strömungskanäle 196 im inneren
Ventilkörper mit den Strömungskanälen 181 im äußeren Ventilkörper, und zur Verhinderung eines Verbiegens oder
einer ünausrichtung der Federn 204 in den Gegenbohrungen
Im Betrieb werden die Federn 204 beim Sitzen des inneren Ventilkörpers 194 während der dosierten Vorwärtsströmung
durch den Mediumdruck durch den Kanal 17 unterstützt, der auf die Aufstromseite des inneren Ventilkörpers wirkt. Der
Betrieb des Ventils wird durch den inneren Ventilkörper während der normalen Vorwärtsströmung nicht beeinträchtigt.
Der Ventilkörper 175 kann für die gewünschte Strömungsrate durch den oben erwähnten Einstellhebel 102 positioniert
werden. Sollte jedoch der Druck am Ventilauslaß 69 größer werden als am Ventileinlaß 19, tritt umgekehrte Strömung
ein. Solche Strömung findet insgesamt durch die innere Ventilkammer 187 statt, wenn die äußere Ventilkammer 176
geschlossen wird, wobei etwas geringere Strömung in jenem Pfad vorliegt, als wenn das äußere Ventil voll geöffnet ist.
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Somit wird in der Ventilausführung gemäß Fig. 11 bis 14
eine volle Strömuhg in der umgekehrten Richtung durch
die Wege ermöglicht, die durch, die DosierStellung des
äußeren Ventilkörjpers 176 und das Absitzen des inneren
Ventilkörpers 194 geschaffen werden.
Die Erfindung ist selbstverständlich auf Einzelheiten der vorstehend beschriebenen Ausführungsformen nicht beschränkt,
dem Fachmann sind Abweichungen davon geläufig, ohne daß dadurch vom Erfindungsgedanken abgewichen wird.
Insgesamt wurde ein Dosierventil für axiale Strömung beschrieben, das ein Ventilgehäuse mit Einlaß, Auslaß,
einer zwischen Einlaß und Auslaß vorhandenen Ventilkammer und einem Mediumkanal zwischen Einlaß und Ventilkammer
aufweist. Ein Ventilkörper ist in der Ventilkammer beweglich und weist mehrere Führungsstifte auf, die sich axial
durch Führungsschlitze und in Nuten des Ventilgehäuses erstrecken. Die Führungsstifte stehen mit einem drehbaren
Betätigungselement in Schraubeingriff 1 welches sie umgreift.
Eine Drehung des Betätigungselementes bewegt den Ventilkörper auf den Ventilsitz zu und von diesem weg und reguliert
die Mediumströmung. Der Ventilkörper kann eine Ventilklappe tragen, die die umgekehrte Strömung blockiert
oder kann einen inneren Parallel-Ventilkörper enthalten, der eine volle unregulierte Gegenströmung erlaubt.
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Claims (24)
1. Dosierventil für axiale Strömung mit einem Ventilgehäuse,
das einen Einlaß, einen Auslaß und eine dazwischen angeordnete Ventilkammer sowie einen Mediumkanal
zwischen Einlaß und Ventilkammer und einen Ventilsitz in der Ventilkammer aufweist, sowie mit wenigstens
zwei sich axial in radialem Abstand zum Mediumkanal (17) erstreckenden Führungsschlitzen (25, 35) im Ventilgehäuse,
wobei der Ventilkörper in der Ventilkammer auf den Ventilsitz (63) zu und von diesem weg bewegbar ist und
einen Rumpfabschnitt (82) besitzt, der wenigstens zwei
Führungsstifte (87) hat, die sich von diesem axial weg in die Führungsschlitze erstrecken, wobei die Anzahl der
Führungsstifte der Anzahl der Führungsschlitze entspricht
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und jeder Führungsstift einen äußeren Gewindeabschnitt
trägt sowie mit einem Betätigungselement (102), das in
den Gewindeabschnitt der Führunasstifte eingreift und
die Gewindestifte umgibt und zur Bewegung des Ventilkörpers
axial unverschieblich drehbar ist.
2. Ventil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Betätigungselement (102) und die Führungsstifte durch
ein mehrere Gänge aufweisendes Gewinde verbunden sind, so daß der Übergang von voller Ventilöffnung zu voller
Schließstellung des Ventils in einer vollen Umdrehung des Betätigungselements ausführbar ist.
3. Ventil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Ventilgehäuse einen ersten und einen zweiten Teil
(10, 12) aufweist, wobei der erste Teil (10) den Mediumkanal
(17) und die Führungsschlitze (35) enthält und der zweite Gehäuseteil (12) den Ventilsitz (63) enthält.
4. Ventil nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der erste Ventilgehäuseteil einen axial vorderen Teil
größeren Durchmessers sowie einen angrenzenden Teil kleineren Durchmessers aufweist, wobei die Führungsschlitze in dem größeren Teil ausgebildet sind.
5. Ventil nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Nuten in der Peripherie des kleineren ersten
Gehäuseteils in Verlängerung der Führungsschlitze ausgebildet sind, wobei die Führungsstifte sich durch die Führungsschlitze
in jene Nuten (35) erstrecken, und daß das Betätigungselement (102) den kleineren Abschnitt des
ersten Gehäuseteils unter Schraubeingriff in die Führungsstifte umgibt.
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6. Ventil nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß es einen kegelförmiaen
Ventilkörper besitzt.
7. Ventil nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Ventilkörper-Rumpfabschnitt
im wesentlichen den nleichen Durchmesser wie die Ventilkammer hat und mehrere Mediumkanäle aufweist, die sich
durch den Vontilkörpcr-Rumnfabschnitt erstrecken und so
orientiert sind, daß sie Medium in die Ventilkammer auf der Aufstromseite des Ventilsitzes leiten.
8. Ventil nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Flächen des Ventilkörper-Rumpf
abschnittes auf der Aufstromseite und auf der Abstromseite, die dem Mediumdruck ausgesetzt sind, im wesentlichen
gleich sind.
9. Ventil nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Ventilkörper-Rumpfabschnitt
einen sich nach vorn erstreckenden konischen Dichtabschnitt (90) zur Wechselwirkung mit dem Ventilsitz (63) aufweist,
wobei der Dichtabschnitt mit einer elastischen Beschichtung zur Verbesserung der Dichtwirkung versehen ist.
10. Ventil nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß das Betätigungselement mit einer Skala (123) und einem Ringzeiger (125) ausgerüstet
ist.
11. Ventil nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Betätigungselement mit einem
Handgriff (105) versehen ist.
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12. Ventil nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß der Handgriff verschwenkbar ist.
13. Ventil nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß der Ventilkörper eine Ventilklappe (153, 199) trägt, die normalerweise in eine Sitzstellung
vorgespannt ist und den Mediumkanal gegenüber Rückströmung verschließt und für Medium-Vorwärtsströmung öffnet.
14. Ventil nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Ventilklappe in einer zentralen axialen Gegenbohrung
des Ventilkörpers positioniert ist und eine federaufnehmende Gegenbohrung aufweist, wobei eine Feder in der
federaufnehmenden Gegenbohrung zur Vorspannung der Ventilklappe angeordnet ist.
15. Ventil nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Feder in der Klappengegenbohrung und in der Ventilkörper-Gegenbohrung
zur Verhinderung einer Drehung der Ventilklappe bezüglich des Ventilkörpers verankert ist.
16. Ventil nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß
die Ventilklappe mit mehreren sich radial erstreckenden Kanälen versehen ist, die die federaufnehmende Gegenbohrung
schneiden und das Entweichen von Medium und ein schnelles öffnen der Ventilklappe erlauben.
17. Ventil nach einem der Ansprüche 13 - 16, dadurch gekennzeichnet,
daß die Ventilklappe einen sich radial erstreckenden Flansch (160) aufweist, der die Führungsstifte (140) zur axialen Führung während der Bewegung
der Ventilklappe kontaktiert.
18. Ventil nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet,
daß mehrere Mediumkanäle sich durch den Ventilkörper-
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Rumpfabschnitt erstrecken und so orientiert sind, daß
Medium in die Vetitilkammer aufstromseitig des Ventilsitzes
geleitet Wird, und daß' der Flansch mit mehreren peripheren Ausnehmungen (163) versehen ist, die auf die
Mediumkanäle ausgerichtet sind.
19. Ventil nach einem der Ansprüche 13 - 18, dadurch
gekennzeichnet, daß die Ventilklappe einen konischen Dichtabschnitt (153) aufweist, der mit einer elastischen
Beschichtung zur Verbesserung der Dichtungswirkung versehen ist.
20. Ventil nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Rumpfabschnitt des Ventilkörpers
tubusförmige Gestalt hat und eine innere Ventilkammer und einen inneren Ventilsitz (189) aufweist, wobei
ein innerer Ventilkörper (199) in der. inneren Ventilkammer angeordnet ist, und wobei eine Vorspannungseinrichtung
für den inneren Ventilkörper vorgesehen ist, die diesen auf den inneren Ventilsitz vorspannt so, daß
der innere Ventilkörper bei Mediumströmung vom Auslaß zum Einlaß des Ventils geöffnet ist.
21. Ventil nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß
die Vorspanneinrichtung wenigstens eine Tasche in dem Ventilgehäuse in der Nähe jedes Mediumkanals aufweist,
und daß Federn in den Taschen angeordnet sind, die den inneren Ventilkörper gegen den inneren Ventilsitz vorspannen
.
22. Ventil nach Anspruch 20 oder 21, dadurch gekennzeichnet, daß der innere Ventilkörper einen konischen Dichtabschnitt
an einem Ende besitzt, der mit einer elastischen Beschichtung zur Verbesserung der Dichtwirkung gegen den
inneren Ventilsitz versehen ist, und daß der innere
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Ventilkörper einen radial sich erstreckenden Flansch an seinem gegenüberliegenden Ende aufweist.
23. Ventil nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß der radial sich erstreckende Flansch mit mehreren
peripheren Nuten an Stellen versehen ist, die den Führungsstiften entsprechen, wobei die Nuten die Führungsstifte zur Aufrechterhaltunq der axialen Ausrichtuncf
des inneren Ventilkörpers mit dem inneren Ventilsitz während der Bewegung des inneren Ventilkörpers kontaktieren.
24. Ventil nach einem der Ansprüche 20 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Mediumkanäle sich durch den
Ventilkörper-Rumpfabschnitt erstrecken und so orientiert sind, daß sie Medium in die Ventilkammer auf die aufstromseitige
Seite des Ventilsitzes richten, daß der innere Ventilkörper mit Mediumkanälen versehen ist, die
auf jene in dem Ventilkörper-Rumpfabschnitt ausgerichtet
sind, wenn der innere Ventilkörper auf seinem Ventilsitz sitzt oder von dem inneren Ventilsitz zurückgezogen ist.
SG9 843/Q78S
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/787,906 US4164959A (en) | 1977-04-15 | 1977-04-15 | Metering valve |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2816139A1 true DE2816139A1 (de) | 1978-10-26 |
Family
ID=25142882
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19782816139 Pending DE2816139A1 (de) | 1977-04-15 | 1978-04-14 | Dosierventil |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4164959A (de) |
JP (1) | JPS5448330A (de) |
BE (1) | BE866014A (de) |
CA (1) | CA1079254A (de) |
DE (1) | DE2816139A1 (de) |
FR (1) | FR2387404A1 (de) |
GB (1) | GB1573999A (de) |
NL (1) | NL7804002A (de) |
SE (1) | SE7804272L (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3136895A1 (de) * | 1981-09-17 | 1983-03-31 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | "vorrichtung zum verdampfen von ausgangsstoffen fuer die reaktive abscheidung aus der gasphase" |
Families Citing this family (316)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56134672A (en) * | 1980-03-25 | 1981-10-21 | Fuji Kinzoku Kosaku Kk | Ball valve |
JPS58119866U (ja) * | 1981-12-25 | 1983-08-15 | カンペ家庭塗料株式会社 | エアゾ−ル用傾動ノズル |
US5810031A (en) * | 1996-02-21 | 1998-09-22 | Aeroquip Corporation | Ultra high purity gas distribution component with integral valved coupling and methods for its use |
US5664759A (en) * | 1996-02-21 | 1997-09-09 | Aeroquip Corporation | Valved coupling for ultra high purity gas distribution systems |
US20080087860A1 (en) * | 2006-10-16 | 2008-04-17 | Michael Vaillancourt | Valve assembly and system |
US10378106B2 (en) | 2008-11-14 | 2019-08-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming insulation film by modified PEALD |
US9394608B2 (en) | 2009-04-06 | 2016-07-19 | Asm America, Inc. | Semiconductor processing reactor and components thereof |
US8802201B2 (en) | 2009-08-14 | 2014-08-12 | Asm America, Inc. | Systems and methods for thin-film deposition of metal oxides using excited nitrogen-oxygen species |
EP2614280A1 (de) * | 2010-09-07 | 2013-07-17 | Gerry C. Wolter | Gasmodulations- und temperatursteuerungsventil |
US9312155B2 (en) | 2011-06-06 | 2016-04-12 | Asm Japan K.K. | High-throughput semiconductor-processing apparatus equipped with multiple dual-chamber modules |
US10364496B2 (en) | 2011-06-27 | 2019-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Dual section module having shared and unshared mass flow controllers |
US10854498B2 (en) | 2011-07-15 | 2020-12-01 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer-supporting device and method for producing same |
US20130023129A1 (en) | 2011-07-20 | 2013-01-24 | Asm America, Inc. | Pressure transmitter for a semiconductor processing environment |
US9017481B1 (en) | 2011-10-28 | 2015-04-28 | Asm America, Inc. | Process feed management for semiconductor substrate processing |
US9558931B2 (en) | 2012-07-27 | 2017-01-31 | Asm Ip Holding B.V. | System and method for gas-phase sulfur passivation of a semiconductor surface |
US9659799B2 (en) | 2012-08-28 | 2017-05-23 | Asm Ip Holding B.V. | Systems and methods for dynamic semiconductor process scheduling |
US9021985B2 (en) | 2012-09-12 | 2015-05-05 | Asm Ip Holdings B.V. | Process gas management for an inductively-coupled plasma deposition reactor |
US10714315B2 (en) | 2012-10-12 | 2020-07-14 | Asm Ip Holdings B.V. | Semiconductor reaction chamber showerhead |
US20160376700A1 (en) | 2013-02-01 | 2016-12-29 | Asm Ip Holding B.V. | System for treatment of deposition reactor |
US9484191B2 (en) | 2013-03-08 | 2016-11-01 | Asm Ip Holding B.V. | Pulsed remote plasma method and system |
US9589770B2 (en) | 2013-03-08 | 2017-03-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method and systems for in-situ formation of intermediate reactive species |
US8993054B2 (en) | 2013-07-12 | 2015-03-31 | Asm Ip Holding B.V. | Method and system to reduce outgassing in a reaction chamber |
US9793115B2 (en) | 2013-08-14 | 2017-10-17 | Asm Ip Holding B.V. | Structures and devices including germanium-tin films and methods of forming same |
US9240412B2 (en) | 2013-09-27 | 2016-01-19 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor structure and device and methods of forming same using selective epitaxial process |
US9605343B2 (en) | 2013-11-13 | 2017-03-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming conformal carbon films, structures conformal carbon film, and system of forming same |
US10683571B2 (en) | 2014-02-25 | 2020-06-16 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply manifold and method of supplying gases to chamber using same |
US10167557B2 (en) | 2014-03-18 | 2019-01-01 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution system, reactor including the system, and methods of using the same |
US11015245B2 (en) | 2014-03-19 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase reactor and system having exhaust plenum and components thereof |
US10858737B2 (en) | 2014-07-28 | 2020-12-08 | Asm Ip Holding B.V. | Showerhead assembly and components thereof |
US9890456B2 (en) | 2014-08-21 | 2018-02-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method and system for in situ formation of gas-phase compounds |
US9657845B2 (en) | 2014-10-07 | 2017-05-23 | Asm Ip Holding B.V. | Variable conductance gas distribution apparatus and method |
US10941490B2 (en) | 2014-10-07 | 2021-03-09 | Asm Ip Holding B.V. | Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same |
KR102300403B1 (ko) | 2014-11-19 | 2021-09-09 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 증착 방법 |
KR102263121B1 (ko) | 2014-12-22 | 2021-06-09 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 소자 및 그 제조 방법 |
US10529542B2 (en) | 2015-03-11 | 2020-01-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Cross-flow reactor and method |
US10276355B2 (en) | 2015-03-12 | 2019-04-30 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same |
US10458018B2 (en) | 2015-06-26 | 2019-10-29 | Asm Ip Holding B.V. | Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same |
US10600673B2 (en) | 2015-07-07 | 2020-03-24 | Asm Ip Holding B.V. | Magnetic susceptor to baseplate seal |
US10043661B2 (en) | 2015-07-13 | 2018-08-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method for protecting layer by forming hydrocarbon-based extremely thin film |
US10083836B2 (en) | 2015-07-24 | 2018-09-25 | Asm Ip Holding B.V. | Formation of boron-doped titanium metal films with high work function |
US10087525B2 (en) | 2015-08-04 | 2018-10-02 | Asm Ip Holding B.V. | Variable gap hard stop design |
US9647114B2 (en) | 2015-08-14 | 2017-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of forming highly p-type doped germanium tin films and structures and devices including the films |
US9960072B2 (en) | 2015-09-29 | 2018-05-01 | Asm Ip Holding B.V. | Variable adjustment for precise matching of multiple chamber cavity housings |
US10211308B2 (en) | 2015-10-21 | 2019-02-19 | Asm Ip Holding B.V. | NbMC layers |
US10322384B2 (en) | 2015-11-09 | 2019-06-18 | Asm Ip Holding B.V. | Counter flow mixer for process chamber |
US9905420B2 (en) | 2015-12-01 | 2018-02-27 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of forming silicon germanium tin films and structures and devices including the films |
US11139308B2 (en) | 2015-12-29 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices |
US10468251B2 (en) | 2016-02-19 | 2019-11-05 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming spacers using silicon nitride film for spacer-defined multiple patterning |
US10529554B2 (en) | 2016-02-19 | 2020-01-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches |
US10501866B2 (en) | 2016-03-09 | 2019-12-10 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution apparatus for improved film uniformity in an epitaxial system |
US10343920B2 (en) | 2016-03-18 | 2019-07-09 | Asm Ip Holding B.V. | Aligned carbon nanotubes |
US9892913B2 (en) | 2016-03-24 | 2018-02-13 | Asm Ip Holding B.V. | Radial and thickness control via biased multi-port injection settings |
US10087522B2 (en) | 2016-04-21 | 2018-10-02 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of metal borides |
US10190213B2 (en) | 2016-04-21 | 2019-01-29 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of metal borides |
US10865475B2 (en) | 2016-04-21 | 2020-12-15 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of metal borides and silicides |
US10367080B2 (en) | 2016-05-02 | 2019-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a germanium oxynitride film |
US10032628B2 (en) | 2016-05-02 | 2018-07-24 | Asm Ip Holding B.V. | Source/drain performance through conformal solid state doping |
KR102592471B1 (ko) | 2016-05-17 | 2023-10-20 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 금속 배선 형성 방법 및 이를 이용한 반도체 장치의 제조 방법 |
US11453943B2 (en) | 2016-05-25 | 2022-09-27 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming carbon-containing silicon/metal oxide or nitride film by ALD using silicon precursor and hydrocarbon precursor |
US10388509B2 (en) | 2016-06-28 | 2019-08-20 | Asm Ip Holding B.V. | Formation of epitaxial layers via dislocation filtering |
US10612137B2 (en) | 2016-07-08 | 2020-04-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Organic reactants for atomic layer deposition |
US9859151B1 (en) | 2016-07-08 | 2018-01-02 | Asm Ip Holding B.V. | Selective film deposition method to form air gaps |
US9793135B1 (en) | 2016-07-14 | 2017-10-17 | ASM IP Holding B.V | Method of cyclic dry etching using etchant film |
US10714385B2 (en) | 2016-07-19 | 2020-07-14 | Asm Ip Holding B.V. | Selective deposition of tungsten |
US10381226B2 (en) | 2016-07-27 | 2019-08-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method of processing substrate |
US10395919B2 (en) | 2016-07-28 | 2019-08-27 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
US9887082B1 (en) | 2016-07-28 | 2018-02-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
US10177025B2 (en) | 2016-07-28 | 2019-01-08 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
US9812320B1 (en) | 2016-07-28 | 2017-11-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
KR102532607B1 (ko) | 2016-07-28 | 2023-05-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 가공 장치 및 그 동작 방법 |
KR102613349B1 (ko) | 2016-08-25 | 2023-12-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 배기 장치 및 이를 이용한 기판 가공 장치와 박막 제조 방법 |
US10090316B2 (en) | 2016-09-01 | 2018-10-02 | Asm Ip Holding B.V. | 3D stacked multilayer semiconductor memory using doped select transistor channel |
CN109890512B (zh) | 2016-09-08 | 2021-10-15 | 洁碧有限公司 | 用于淋浴头的暂停组件 |
US10410943B2 (en) | 2016-10-13 | 2019-09-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method for passivating a surface of a semiconductor and related systems |
US10643826B2 (en) | 2016-10-26 | 2020-05-05 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for thermally calibrating reaction chambers |
US11532757B2 (en) | 2016-10-27 | 2022-12-20 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of charge trapping layers |
US10643904B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-05-05 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for forming a semiconductor device and related semiconductor device structures |
US10229833B2 (en) | 2016-11-01 | 2019-03-12 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
US10435790B2 (en) | 2016-11-01 | 2019-10-08 | Asm Ip Holding B.V. | Method of subatmospheric plasma-enhanced ALD using capacitively coupled electrodes with narrow gap |
US10714350B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-07-14 | ASM IP Holdings, B.V. | Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
US10134757B2 (en) | 2016-11-07 | 2018-11-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method of processing a substrate and a device manufactured by using the method |
KR102546317B1 (ko) | 2016-11-15 | 2023-06-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
US10340135B2 (en) | 2016-11-28 | 2019-07-02 | Asm Ip Holding B.V. | Method of topologically restricted plasma-enhanced cyclic deposition of silicon or metal nitride |
KR20180068582A (ko) | 2016-12-14 | 2018-06-22 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US11447861B2 (en) | 2016-12-15 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure |
US9916980B1 (en) | 2016-12-15 | 2018-03-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
US11581186B2 (en) | 2016-12-15 | 2023-02-14 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus |
KR20180070971A (ko) | 2016-12-19 | 2018-06-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US10269558B2 (en) | 2016-12-22 | 2019-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
US10867788B2 (en) | 2016-12-28 | 2020-12-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
US11390950B2 (en) | 2017-01-10 | 2022-07-19 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process |
US10655221B2 (en) | 2017-02-09 | 2020-05-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing oxide film by thermal ALD and PEALD |
US10468261B2 (en) | 2017-02-15 | 2019-11-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
CN106895157B (zh) * | 2017-03-21 | 2018-11-23 | 湖州师范学院 | 一种带隔水环的软木调水机构 |
US10529563B2 (en) | 2017-03-29 | 2020-01-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Method for forming doped metal oxide films on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
US10283353B2 (en) | 2017-03-29 | 2019-05-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method of reforming insulating film deposited on substrate with recess pattern |
US10103040B1 (en) | 2017-03-31 | 2018-10-16 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus and method for manufacturing a semiconductor device |
USD830981S1 (en) | 2017-04-07 | 2018-10-16 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor for semiconductor substrate processing apparatus |
KR102457289B1 (ko) | 2017-04-25 | 2022-10-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법 |
US10892156B2 (en) | 2017-05-08 | 2021-01-12 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
US10446393B2 (en) | 2017-05-08 | 2019-10-15 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming silicon-containing epitaxial layers and related semiconductor device structures |
US10770286B2 (en) | 2017-05-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
US10504742B2 (en) | 2017-05-31 | 2019-12-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method of atomic layer etching using hydrogen plasma |
US10886123B2 (en) | 2017-06-02 | 2021-01-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming low temperature semiconductor layers and related semiconductor device structures |
US11306395B2 (en) | 2017-06-28 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus |
US10685834B2 (en) | 2017-07-05 | 2020-06-16 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for forming a silicon germanium tin layer and related semiconductor device structures |
KR20190009245A (ko) | 2017-07-18 | 2019-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 소자 구조물 형성 방법 및 관련된 반도체 소자 구조물 |
US11018002B2 (en) | 2017-07-19 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a Group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
US11374112B2 (en) | 2017-07-19 | 2022-06-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
US10541333B2 (en) | 2017-07-19 | 2020-01-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
US10605530B2 (en) | 2017-07-26 | 2020-03-31 | Asm Ip Holding B.V. | Assembly of a liner and a flange for a vertical furnace as well as the liner and the vertical furnace |
US10590535B2 (en) | 2017-07-26 | 2020-03-17 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same |
US10312055B2 (en) | 2017-07-26 | 2019-06-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing film by PEALD using negative bias |
US10770336B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate lift mechanism and reactor including same |
US10692741B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-06-23 | Asm Ip Holdings B.V. | Radiation shield |
US10249524B2 (en) | 2017-08-09 | 2019-04-02 | Asm Ip Holding B.V. | Cassette holder assembly for a substrate cassette and holding member for use in such assembly |
US11139191B2 (en) | 2017-08-09 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith |
US11769682B2 (en) | 2017-08-09 | 2023-09-26 | Asm Ip Holding B.V. | Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith |
US10236177B1 (en) | 2017-08-22 | 2019-03-19 | ASM IP Holding B.V.. | Methods for depositing a doped germanium tin semiconductor and related semiconductor device structures |
USD900036S1 (en) | 2017-08-24 | 2020-10-27 | Asm Ip Holding B.V. | Heater electrical connector and adapter |
US11830730B2 (en) | 2017-08-29 | 2023-11-28 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method and apparatus |
KR102491945B1 (ko) | 2017-08-30 | 2023-01-26 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US11295980B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
US11056344B2 (en) | 2017-08-30 | 2021-07-06 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method |
US10607895B2 (en) | 2017-09-18 | 2020-03-31 | Asm Ip Holdings B.V. | Method for forming a semiconductor device structure comprising a gate fill metal |
KR102630301B1 (ko) | 2017-09-21 | 2024-01-29 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 침투성 재료의 순차 침투 합성 방법 처리 및 이를 이용하여 형성된 구조물 및 장치 |
US10844484B2 (en) | 2017-09-22 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods |
US10658205B2 (en) | 2017-09-28 | 2020-05-19 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber |
US10403504B2 (en) | 2017-10-05 | 2019-09-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a metallic film on a substrate |
US10319588B2 (en) | 2017-10-10 | 2019-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a metal chalcogenide on a substrate by cyclical deposition |
US10923344B2 (en) | 2017-10-30 | 2021-02-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a semiconductor structure and related semiconductor structures |
KR102443047B1 (ko) | 2017-11-16 | 2022-09-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 방법 및 그에 의해 제조된 장치 |
US10910262B2 (en) | 2017-11-16 | 2021-02-02 | Asm Ip Holding B.V. | Method of selectively depositing a capping layer structure on a semiconductor device structure |
US11022879B2 (en) | 2017-11-24 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming an enhanced unexposed photoresist layer |
WO2019103610A1 (en) | 2017-11-27 | 2019-05-31 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus including a clean mini environment |
CN111316417B (zh) | 2017-11-27 | 2023-12-22 | 阿斯莫Ip控股公司 | 与批式炉偕同使用的用于储存晶圆匣的储存装置 |
US10290508B1 (en) | 2017-12-05 | 2019-05-14 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming vertical spacers for spacer-defined patterning |
US10872771B2 (en) | 2018-01-16 | 2020-12-22 | Asm Ip Holding B. V. | Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures |
TW202325889A (zh) | 2018-01-19 | 2023-07-01 | 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 | 沈積方法 |
WO2019142055A2 (en) | 2018-01-19 | 2019-07-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a gap-fill layer by plasma-assisted deposition |
USD903477S1 (en) | 2018-01-24 | 2020-12-01 | Asm Ip Holdings B.V. | Metal clamp |
US11018047B2 (en) | 2018-01-25 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Hybrid lift pin |
US10535516B2 (en) | 2018-02-01 | 2020-01-14 | Asm Ip Holdings B.V. | Method for depositing a semiconductor structure on a surface of a substrate and related semiconductor structures |
USD880437S1 (en) | 2018-02-01 | 2020-04-07 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply plate for semiconductor manufacturing apparatus |
US11081345B2 (en) | 2018-02-06 | 2021-08-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method of post-deposition treatment for silicon oxide film |
EP3737779A1 (de) | 2018-02-14 | 2020-11-18 | ASM IP Holding B.V. | Verfahren zum abscheiden eines ruthenium-haltigen films auf einem substrat durch ein zyklisches abscheidungsverfahren |
US10896820B2 (en) | 2018-02-14 | 2021-01-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process |
US10731249B2 (en) | 2018-02-15 | 2020-08-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process, a method for supplying a transition metal halide compound to a reaction chamber, and related vapor deposition apparatus |
US10658181B2 (en) | 2018-02-20 | 2020-05-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method of spacer-defined direct patterning in semiconductor fabrication |
KR102636427B1 (ko) | 2018-02-20 | 2024-02-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 및 장치 |
US10975470B2 (en) | 2018-02-23 | 2021-04-13 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment |
US11473195B2 (en) | 2018-03-01 | 2022-10-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate |
US11629406B2 (en) | 2018-03-09 | 2023-04-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate |
US11114283B2 (en) | 2018-03-16 | 2021-09-07 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor, system including the reactor, and methods of manufacturing and using same |
KR102646467B1 (ko) | 2018-03-27 | 2024-03-11 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 상에 전극을 형성하는 방법 및 전극을 포함하는 반도체 소자 구조 |
US10510536B2 (en) | 2018-03-29 | 2019-12-17 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing a co-doped polysilicon film on a surface of a substrate within a reaction chamber |
US11230766B2 (en) | 2018-03-29 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
US11088002B2 (en) | 2018-03-29 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate rack and a substrate processing system and method |
KR102501472B1 (ko) | 2018-03-30 | 2023-02-20 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 |
TWI811348B (zh) | 2018-05-08 | 2023-08-11 | 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 | 藉由循環沉積製程於基板上沉積氧化物膜之方法及相關裝置結構 |
TW202349473A (zh) | 2018-05-11 | 2023-12-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於基板上形成摻雜金屬碳化物薄膜之方法及相關半導體元件結構 |
KR102596988B1 (ko) | 2018-05-28 | 2023-10-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 및 그에 의해 제조된 장치 |
US11718913B2 (en) | 2018-06-04 | 2023-08-08 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution system and reactor system including same |
US11270899B2 (en) | 2018-06-04 | 2022-03-08 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer handling chamber with moisture reduction |
US11286562B2 (en) | 2018-06-08 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase chemical reactor and method of using same |
KR102568797B1 (ko) | 2018-06-21 | 2023-08-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 시스템 |
US10797133B2 (en) | 2018-06-21 | 2020-10-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures |
JP2021529254A (ja) | 2018-06-27 | 2021-10-28 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 金属含有材料ならびに金属含有材料を含む膜および構造体を形成するための周期的堆積方法 |
US11499222B2 (en) | 2018-06-27 | 2022-11-15 | Asm Ip Holding B.V. | Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material |
US10612136B2 (en) | 2018-06-29 | 2020-04-07 | ASM IP Holding, B.V. | Temperature-controlled flange and reactor system including same |
KR20200002519A (ko) | 2018-06-29 | 2020-01-08 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법 |
US10388513B1 (en) | 2018-07-03 | 2019-08-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
US10755922B2 (en) | 2018-07-03 | 2020-08-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
US10767789B2 (en) | 2018-07-16 | 2020-09-08 | Asm Ip Holding B.V. | Diaphragm valves, valve components, and methods for forming valve components |
US10483099B1 (en) | 2018-07-26 | 2019-11-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming thermally stable organosilicon polymer film |
US11053591B2 (en) | 2018-08-06 | 2021-07-06 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-port gas injection system and reactor system including same |
US10883175B2 (en) | 2018-08-09 | 2021-01-05 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical furnace for processing substrates and a liner for use therein |
US10829852B2 (en) | 2018-08-16 | 2020-11-10 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution device for a wafer processing apparatus |
US11430674B2 (en) | 2018-08-22 | 2022-08-30 | Asm Ip Holding B.V. | Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods |
KR20200030162A (ko) | 2018-09-11 | 2020-03-20 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 증착 방법 |
US11024523B2 (en) | 2018-09-11 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
US11049751B2 (en) | 2018-09-14 | 2021-06-29 | Asm Ip Holding B.V. | Cassette supply system to store and handle cassettes and processing apparatus equipped therewith |
CN110970344A (zh) | 2018-10-01 | 2020-04-07 | Asm Ip控股有限公司 | 衬底保持设备、包含所述设备的系统及其使用方法 |
US11232963B2 (en) | 2018-10-03 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
KR102592699B1 (ko) | 2018-10-08 | 2023-10-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 박막 증착 장치와 기판 처리 장치 |
US10847365B2 (en) | 2018-10-11 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming conformal silicon carbide film by cyclic CVD |
US10811256B2 (en) | 2018-10-16 | 2020-10-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method for etching a carbon-containing feature |
KR102605121B1 (ko) | 2018-10-19 | 2023-11-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
KR102546322B1 (ko) | 2018-10-19 | 2023-06-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
USD948463S1 (en) | 2018-10-24 | 2022-04-12 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor for semiconductor substrate supporting apparatus |
US10381219B1 (en) | 2018-10-25 | 2019-08-13 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a silicon nitride film |
US11087997B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
KR20200051105A (ko) | 2018-11-02 | 2020-05-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
US11572620B2 (en) | 2018-11-06 | 2023-02-07 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate |
US11031242B2 (en) | 2018-11-07 | 2021-06-08 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a boron doped silicon germanium film |
US10818758B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-10-27 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures |
US10847366B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal chalcogenide film on a substrate by a cyclical deposition process |
US10559458B1 (en) | 2018-11-26 | 2020-02-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming oxynitride film |
US11217444B2 (en) | 2018-11-30 | 2022-01-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film |
KR102636428B1 (ko) | 2018-12-04 | 2024-02-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치를 세정하는 방법 |
US11158513B2 (en) | 2018-12-13 | 2021-10-26 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
JP2020096183A (ja) | 2018-12-14 | 2020-06-18 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 窒化ガリウムの選択的堆積を用いてデバイス構造体を形成する方法及びそのためのシステム |
TWI819180B (zh) | 2019-01-17 | 2023-10-21 | 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 | 藉由循環沈積製程於基板上形成含過渡金屬膜之方法 |
KR20200091543A (ko) | 2019-01-22 | 2020-07-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
CN111524788B (zh) | 2019-02-01 | 2023-11-24 | Asm Ip私人控股有限公司 | 氧化硅的拓扑选择性膜形成的方法 |
KR102626263B1 (ko) | 2019-02-20 | 2024-01-16 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 처리 단계를 포함하는 주기적 증착 방법 및 이를 위한 장치 |
US11482533B2 (en) | 2019-02-20 | 2022-10-25 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus and methods for plug fill deposition in 3-D NAND applications |
JP2020136678A (ja) | 2019-02-20 | 2020-08-31 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 基材表面内に形成された凹部を充填するための方法および装置 |
TW202104632A (zh) | 2019-02-20 | 2021-02-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用來填充形成於基材表面內之凹部的循環沉積方法及設備 |
TW202100794A (zh) | 2019-02-22 | 2021-01-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基材處理設備及處理基材之方法 |
US11742198B2 (en) | 2019-03-08 | 2023-08-29 | Asm Ip Holding B.V. | Structure including SiOCN layer and method of forming same |
KR20200108242A (ko) | 2019-03-08 | 2020-09-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 질화물 층을 선택적으로 증착하는 방법, 및 선택적으로 증착된 실리콘 질화물 층을 포함하는 구조체 |
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US11447864B2 (en) | 2019-04-19 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method and apparatus |
KR20200125453A (ko) | 2019-04-24 | 2020-11-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기상 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법 |
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JP2020188255A (ja) | 2019-05-16 | 2020-11-19 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法 |
USD975665S1 (en) | 2019-05-17 | 2023-01-17 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
USD947913S1 (en) | 2019-05-17 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
USD935572S1 (en) | 2019-05-24 | 2021-11-09 | Asm Ip Holding B.V. | Gas channel plate |
USD922229S1 (en) | 2019-06-05 | 2021-06-15 | Asm Ip Holding B.V. | Device for controlling a temperature of a gas supply unit |
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CN112081928A (zh) * | 2019-06-12 | 2020-12-15 | 浙江盾安禾田金属有限公司 | 电子膨胀阀 |
USD944946S1 (en) | 2019-06-14 | 2022-03-01 | Asm Ip Holding B.V. | Shower plate |
USD931978S1 (en) | 2019-06-27 | 2021-09-28 | Asm Ip Holding B.V. | Showerhead vacuum transport |
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CN112216646A (zh) | 2019-07-10 | 2021-01-12 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板支撑组件及包括其的基板处理装置 |
KR20210010307A (ko) | 2019-07-16 | 2021-01-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
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US11643724B2 (en) | 2019-07-18 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming structures using a neutral beam |
JP2021019198A (ja) | 2019-07-19 | 2021-02-15 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | トポロジー制御されたアモルファスカーボンポリマー膜の形成方法 |
CN112309843A (zh) | 2019-07-29 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 实现高掺杂剂掺入的选择性沉积方法 |
CN112309900A (zh) | 2019-07-30 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
CN112309899A (zh) | 2019-07-30 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
US11587815B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
US11587814B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
US11227782B2 (en) | 2019-07-31 | 2022-01-18 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
KR20210018759A (ko) | 2019-08-05 | 2021-02-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 화학물질 공급원 용기를 위한 액체 레벨 센서 |
USD965524S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-10-04 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor support |
USD965044S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-09-27 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
JP2021031769A (ja) | 2019-08-21 | 2021-03-01 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | 成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置 |
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USD979506S1 (en) | 2019-08-22 | 2023-02-28 | Asm Ip Holding B.V. | Insulator |
USD949319S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Exhaust duct |
USD930782S1 (en) | 2019-08-22 | 2021-09-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor |
USD940837S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-01-11 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode |
KR20210024420A (ko) | 2019-08-23 | 2021-03-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 비스(디에틸아미노)실란을 사용하여 peald에 의해 개선된 품질을 갖는 실리콘 산화물 막을 증착하기 위한 방법 |
US11286558B2 (en) | 2019-08-23 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film |
KR20210029090A (ko) | 2019-09-04 | 2021-03-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 희생 캡핑 층을 이용한 선택적 증착 방법 |
KR20210029663A (ko) | 2019-09-05 | 2021-03-16 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US11562901B2 (en) | 2019-09-25 | 2023-01-24 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method |
CN112593212B (zh) | 2019-10-02 | 2023-12-22 | Asm Ip私人控股有限公司 | 通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法 |
TW202129060A (zh) | 2019-10-08 | 2021-08-01 | 荷蘭商Asm Ip控股公司 | 基板處理裝置、及基板處理方法 |
TW202115273A (zh) | 2019-10-10 | 2021-04-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成光阻底層之方法及包括光阻底層之結構 |
KR20210045930A (ko) | 2019-10-16 | 2021-04-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 산화물의 토폴로지-선택적 막의 형성 방법 |
US11637014B2 (en) | 2019-10-17 | 2023-04-25 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selective deposition of doped semiconductor material |
KR20210047808A (ko) | 2019-10-21 | 2021-04-30 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 막을 선택적으로 에칭하기 위한 장치 및 방법 |
US11646205B2 (en) | 2019-10-29 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of selectively forming n-type doped material on a surface, systems for selectively forming n-type doped material, and structures formed using same |
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US11501968B2 (en) | 2019-11-15 | 2022-11-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method for providing a semiconductor device with silicon filled gaps |
KR20210062561A (ko) | 2019-11-20 | 2021-05-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판의 표면 상에 탄소 함유 물질을 증착하는 방법, 상기 방법을 사용하여 형성된 구조물, 및 상기 구조물을 형성하기 위한 시스템 |
CN112951697A (zh) | 2019-11-26 | 2021-06-11 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
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CN112885692A (zh) | 2019-11-29 | 2021-06-01 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
CN112885693A (zh) | 2019-11-29 | 2021-06-01 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
JP2021090042A (ja) | 2019-12-02 | 2021-06-10 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | 基板処理装置、基板処理方法 |
KR20210070898A (ko) | 2019-12-04 | 2021-06-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
TW202125596A (zh) | 2019-12-17 | 2021-07-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成氮化釩層之方法以及包括該氮化釩層之結構 |
US11527403B2 (en) | 2019-12-19 | 2022-12-13 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for filling a gap feature on a substrate surface and related semiconductor structures |
KR20210095050A (ko) | 2020-01-20 | 2021-07-30 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 형성 방법 및 박막 표면 개질 방법 |
TW202130846A (zh) | 2020-02-03 | 2021-08-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成包括釩或銦層的結構之方法 |
KR20210100010A (ko) | 2020-02-04 | 2021-08-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 대형 물품의 투과율 측정을 위한 방법 및 장치 |
US11776846B2 (en) | 2020-02-07 | 2023-10-03 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices |
US11781243B2 (en) | 2020-02-17 | 2023-10-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing low temperature phosphorous-doped silicon |
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US11876356B2 (en) | 2020-03-11 | 2024-01-16 | Asm Ip Holding B.V. | Lockout tagout assembly and system and method of using same |
CN113394086A (zh) | 2020-03-12 | 2021-09-14 | Asm Ip私人控股有限公司 | 用于制造具有目标拓扑轮廓的层结构的方法 |
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US11821078B2 (en) | 2020-04-15 | 2023-11-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film |
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TW202229613A (zh) | 2020-10-14 | 2022-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 於階梯式結構上沉積材料的方法 |
KR20220053482A (ko) | 2020-10-22 | 2022-04-29 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 바나듐 금속을 증착하는 방법, 구조체, 소자 및 증착 어셈블리 |
TW202223136A (zh) | 2020-10-28 | 2022-06-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於在基板上形成層之方法、及半導體處理系統 |
KR20220076343A (ko) | 2020-11-30 | 2022-06-08 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치의 반응 챔버 내에 배열되도록 구성된 인젝터 |
US11946137B2 (en) | 2020-12-16 | 2024-04-02 | Asm Ip Holding B.V. | Runout and wobble measurement fixtures |
TW202231903A (zh) | 2020-12-22 | 2022-08-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 過渡金屬沉積方法、過渡金屬層、用於沉積過渡金屬於基板上的沉積總成 |
USD980814S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor for substrate processing apparatus |
USD981973S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-28 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor wall for substrate processing apparatus |
USD1023959S1 (en) | 2021-05-11 | 2024-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode for substrate processing apparatus |
USD980813S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate for substrate processing apparatus |
USD990441S1 (en) | 2021-09-07 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate |
EP4224042B1 (de) * | 2022-02-08 | 2024-03-13 | Flühs Drehtechnik GmbH | Rückflussverhindererventil |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US650295A (en) * | 1899-03-18 | 1900-05-22 | Zepherin Benoit | Cut-off device for hydrants. |
US3052445A (en) * | 1959-12-14 | 1962-09-04 | G & H Products Corp | Plug for plug valve |
US2999512A (en) * | 1960-10-31 | 1961-09-12 | Eugene V Barkow | Flow control valve |
-
1977
- 1977-04-15 US US05/787,906 patent/US4164959A/en not_active Expired - Lifetime
-
1978
- 1978-04-10 GB GB14014/78A patent/GB1573999A/en not_active Expired
- 1978-04-14 BE BE186819A patent/BE866014A/xx unknown
- 1978-04-14 JP JP4336878A patent/JPS5448330A/ja active Pending
- 1978-04-14 CA CA301,165A patent/CA1079254A/en not_active Expired
- 1978-04-14 NL NL7804002A patent/NL7804002A/xx not_active Application Discontinuation
- 1978-04-14 FR FR7811103A patent/FR2387404A1/fr not_active Withdrawn
- 1978-04-14 DE DE19782816139 patent/DE2816139A1/de active Pending
- 1978-04-14 SE SE7804272A patent/SE7804272L/xx unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3136895A1 (de) * | 1981-09-17 | 1983-03-31 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | "vorrichtung zum verdampfen von ausgangsstoffen fuer die reaktive abscheidung aus der gasphase" |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4164959A (en) | 1979-08-21 |
FR2387404A1 (fr) | 1978-11-10 |
JPS5448330A (en) | 1979-04-16 |
SE7804272L (sv) | 1978-10-16 |
BE866014A (fr) | 1978-07-31 |
GB1573999A (en) | 1980-09-03 |
NL7804002A (nl) | 1978-10-17 |
CA1079254A (en) | 1980-06-10 |
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