DE3005395C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Abgleichen einer integrierten
optischen Vorrichtung.
Sie ist insbesondere anwendbar
bei der Herstellung elektrooptischer Modulatoren, die bei
der optischen Nachrichtenübermittlung verwendbar sind.
Unter den integrierten optischen Vorrichtungen, die zur Lichtmodulation
dienen, bildet der interfer ometrische Modulator
nach Mach-Zehnder eine besondere Rolle. Es handelt sich dabei
um eine Vorrichtung, die durch einen Eintrittsleiter gebildet
ist, der sich in zwei Zweige aufteilt, die sich anschließend
vereinigen zur Bildung eines Austrittsleiters. Eine Einrichtung,
um eine einstellbare Phasenverschiebung zu erreichen,
ist auf einem der beiden Zweige angeordnet. Diese Vorrichtung
wirkt in folgender Weise: Ein Lichtbündel wird in die
Vorrichtung über den Eintrittsleiter eingeführt. Es werden
zwei Strahlenbündel gleicher Lichtstärke erzeugt, die sich in
jeweils einem der beiden Zweige ausbreiten. Die beiden Lichtbündel
vereinigen sich anschließend in dem Austrittsleiter.
Wenn die in einem der Zweige eingeführte Phasenverschiebung
gleich einem ungeradzahligen Vielfachen von π ist, ist die
Interferenz zwischen den beiden Strahlenbündeln auslöschend
und ist die durch den Austrittsleiter übertragene Lichtstärke
Null. Wenn die Phasenverschiebung Null beträgt (nahe 2 π),
ist die Interferenz konstruktiv und ist die Austrittslichtstärke
maximal. Da die Phasenverschiebungseinrichtung im allgemeinen
durch ein elektrisches Signal gesteuert ist, bildet
die Vorrichtung einen elektrooptischen Modulator.
Über solche Modulatoren wurde bereits berichtet, vergleiche
V. Ramaswamy et al., "Balanced bridge modulator switch using
Ti-diffused LiNbO₃ strip waveguides", in Applied Physics Letters,
32 (15. 5. 1978) 10, S. 644-646, H. Sasaki, "Efficient intensity
modulation in a Ti-diffused LiNbO₃ branched optical waveguide
device" in Electronics Letters, 13 (10. 11. 1977) 23, und W. E.
Martin, "A new waveguide switch modulator for integrated optics"
in Applied Physics Letters, 26 (15. 5. 1975) 10, S. 562-564.
Grundsätzlich ändert sich die durch einen derartigen Modulator
übertragenen Lichtstärke zwischen einem Minimalwert
und einem Maximalwert.
In der Praxis weisen die beiden Zweige
unvermeidbar eine gewisse Asymmetrie aufgrund von
Streuungen bei der Herstellung der Lichtleiter auf. Dabei fällt die Austrittslichtstärke
nicht vollständig auf Null ab, wenn die Modulationsspannung
sich ändert.
Zur Kompensation der Asymmetrie zwischen den beiden Zweigen
wird üblicherweise (vergleiche die erste Literaturstelle)
eine elektrische Spannung verwendet, die an den einen und/oder
den anderen der beiden abzugleichenden Zweige angelegt wird.
Diese Lösung setzt natürlich voraus, daß das die Lichtleiter
bildende Material einen elektrooptischen Effekt besitzt, wodurch
der Anwendungsbereich erheblich eingeschränkt wird.
Darüber hinaus erfordert diese Abgleicheinrichtung die
Verwendung einer Spannungshilfsquelle und hat folglich
einen zusätzlichen Energieverbrauch zur Folge.
Aus der Druckschrift "Appplied Physics Letters", Vol. 27,
No. 10, 15. November 1975, S. 544-546 ist ein Abgleichverfahren
für eine integrierte optische Vorrichtung bekannt,
mit zwei analogen Zweigen, die jeweils durch einen Lichtleiter
gebildet sind, wobei mindestens einer der beiden
Zweige mit an eine regelbare Spannungsquelle angeschlossenen
Elektroden versehen ist, und wobei die Spannung derart
eingestellt wird, daß am Ausgang der Vorrichtung eine minimale
Lichtintensität ungleich Null anliegt, wenn die Vorrichtung
sich im optischen Gleichgewicht befindet.
Das IEEE Journal of Quantum Electronics, Vol. QE-13, No. 4,
April 1977, S. 141-145 offenbart einen metallbeschichteten
Wellenleiter, auf dessen Metallschichtdicke eingewirkt
wird, um dessen Dämpfung, Wellenfortpflanzungsparameter
und Feldverteilung zu beeinflussen. Die Metallschicht hat
hier eine unabdingbare Funktion beim Transport der in den
Wellenleiter eingeführten Lichtstrahlung. Eine Beeinflussung
der Lichttransporteigenschaften durch Änderung der Schichtparameter
ist daher zu erwarten.
Aus "Applied Optics", Vol. 14, No. 2, Februar 1975,
S. 322-326 ist es bekannt, Abmessungen einer Metallschicht
durch chemische Einwirkung zu beeinflussen.
Es ist Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren anzugeben, das
den Einsatz einer Hilfsspannungsquelle unnötig macht.
Diese Aufgabe wird bei einem Verfahren nach dem Oberbegriff
des Patentanspruchs 1 mit dessen kennzeichnenden Merkmalen
gelöst.
In den Unteransprüchen 2 und 3 sind Merkmale bevorzugter
Ausführungsformen der Erfindung gekennzeichnet.
Der erfindungsgemäße Vorschlag verwendet eine passive
Einrichtung anstelle einer aktiven Einrichtung und
ist bei jedem lichtdurchlässigen Material
verwendbar ist, ob es nun elektrooptisch ist oder nicht.
Die Dämpfung eines sich nahe einer metallischen Schicht
ausbreitenden Lichtstrahlenbündels ist eine an sich bekannte
Erscheinung. Bisher wurde diese Einrichtung jedoch
stets als zu vermeidende parasitäre Erscheinung angesehen.
Aus diesem Grund werden bei derzeit verwendeten integrierten
optischen Vorrichtungen, die Elektroden zur Anlegung von
elektrischen Feldern verwenden, diese Elektroden vom Leiter
so weit wie möglich entfernt, indem sich das Lichtstrahlenbündel
ausbreitet, insbesondere durch die Verwendung einer
Isolierschicht zwischen diesen und dem Leiter. Die Erfindung
weicht insoweit von dem Stand der Technik ab, als sie im
Gegensatz dazu die besondere und freiwillige Einfügung einer
Dämpfung mittels einer metallischen Schicht vorschlägt.
Die Erfindung ist insbesondere anwendbar bei dem Abgleich
von inteferometrischen, elektrooptischen Modulatoren nach
Mach-Zehnder. Jedoch ist die Erfindung nicht auf diese
einzige Vorrichtung beschränkt. Sie ist ganz allgemein
auf jede optische Vorrichtung anwendbar, die zwei Zweige
aufweist, unabhängig, ob
sie analog sind oder nicht, bei denen es erwünscht ist,
den Übertragungskoeffizienten des einen Zweiges gegenüber
dem Übertragungskoeffizienten des anderen Zweiges einzustellen.
Es kann sich dabei beispielsweise um einen Y-Teiler
handeln (vergleiche W. K. Burns et al., "Active branching waveguide
modulator" in Applied Physics Letters, 29 (15. 12. 1976) 12,
S. 790-792) oder um Vorrichtungen mit vier Zweigen, die mittels
einer Beugungsgitter-Ablenkeinrichtung gekoppelt sind (vergleiche
B. Chen et al., "Bragg switch for optical channel
waveguides", ion Applied Physics Letters, 33 (1. 7. 1978) 1,
S. 33-35) oder auch um Richtkoppler (vergleiche FR-PS 21 77 637
vom 9. 11. 1973, Modulationsvorrichtung für kohärentes Licht
unter Verwendung einer Halbleiter-Elektrolumineszenzdiode).
Selbstverständlich ist diese Auflistung von Beispielen nicht
erschöpfend.
Die Erfindung wird anhand der in der Zeichnung dargestellten
Ausführungsbeispiele näher erläutert. Es zeigt
Fig. einen interferometrischen elektrooptischen Modulator
nach Mach-Zehnder, der gemäß der Erfindung abgeglichen
ist,
Fig. 2 einen optischen Richtkoppler, der ebenfalls gemäß
der Erfindung abgeglichen ist.
Die in Fig. 1 dargestellte Vorrichtung weist in an sich bekannter
Weise einen optischen Eintrittsleiter 2 auf, der sich
in zwei quasi identische Zweige 4, 6 aufteilt, sowie einen Austrittsleiter
8, der die beiden genannten Zweige vereinigt.
Elektroden 10, 12 sind beiderseits des Zweiges 6 angeordnet
und sind mit einer (nicht dargestellten) Spannungsquelle verbunden.
Das elektrische Feld, das zwischen diesen Elektroden
10, 12 herrscht, wird an das elektrooptische Material angelegt,
das den Zweig 6 bildet. Die Gesamtanordnung dieser Elemente
ist auf einem Substrat 14 angeordnet bzw. niedergeschlagen.
Die Wirkungsweise dieser Vorrichtung entspricht derjenigen,
die weiter oben erläutert worden ist. Eine in den Eintrittsleiter
2 eingeführte Lichtwelle tritt aus der Vorrichtung über
den Austrittsleiter 8 mit einer Lichtstärke zwischen Eins
und ε aus, wenn die durch das elektrische Feld erreichte
Phasenverschiebung sich zwischen Null und π ändert, wobei
die Menge ε von dem Fehlabgleich zwischen den durch die beiden
Zweige 4 und 6 übertragenen Lichtstärken abhängt.
Die dargestellte Vorrichtung enthält darüber hinaus gemäß
der Erfindung eine dünne metallische Schicht, kurz dünne
Metallschicht 16, die auf mindestens einem der beiden Zweige
4, 6 niedergeschlagen ist, wobei beim dargestellten Ausführungsbeispiel
der Niederschlag auf beiden Zweigen erfolgt ist. Die
Abmessungen dieser Metallschicht 16 sind so eingestellt, daß
die Abweichung zwischen den Amplituden der durch die beiden
Zweige 4, 6 übertragenen Wellen kompensiert ist. Beim dargestellten
Fall bedeckt die Metallschicht 16 mehr den Zweig 4
als den Zweig 6, was dem Fall entspricht, bei dem das Lichtstrahlenbündel,
das durch den ersteren Zweig 4 läuft, stärker
ist, als das, das den Zweig 6 durchläuft.
Natürlich kann die Metallschicht 16 auch an der Eingangsseite
der Vorrichtung, wie die in Strichlinien dargestellte
Metallschicht 16, oder simultan am Eingang und am Ausgang der
Vorrichtung angeordnet sein.
Zum Einstellen der Abmessungen der Metallschicht 16 kann
wie folgt vorgegangen werden. Zunächst wird die an die Elektroden
10 und 12 angelegte Spannung so eingestellt, daß am
Austritt der Vorrichtung eine minimale Lichtstärke erhalten
wird. Dann wird durch Entfernung oder Abtrag von Material
von der einen der Zweige bedeckenden Schicht die Beseitigung
des Austrittssignals gesucht. Wenn das kleinste Minimum nicht
erreicht werden kann oder unterschritten ist, wird durch
Entfernung oder Abtrag von Material über dem anderen Zweig
fortgefahren. Auf diese Weise wird durch aufeinanderfolgende
Korrekturen eine Austrittsstärke von Null erreicht und damit
zusammenhängend eine Eins entsprechende Lichtstärke für eine
Phasenverschiebung von Null.
Die in Fig. 2 dargestellte Vorrichtung ist ein optischer
Richtkoppler (Richtwirkung aufweisender Koppler). Er ist
in an sich bekannter Weise durch zwei Zweige 20, 22 gebildet,
die Lichtleiter sind, wobei die beiden Zweige 20, 22 durch
eine Einrichtung 24 miteinander gekoppelt sind, die das Anlegen
eines geeigneten elektrischen Feldes an die beiden
Leiter ermöglicht. Eine ausführliche Erläuterung einer solchen
Vorrichtung ist der genannten FR-PS entnehmbar.
Die Vorrichtung gemäß Fig. 2 weist darüber
hinaus eine dünne Metallschicht 26 über mindestens einem der
beiden Zweige, und zwar hier dem unteren Zweig 22 auf, wobei
die Metallschicht 26 eine Dämpfung der Lichtwelle hervorruft,
die sich in dem entsprechenden Zweig (Zweig 22) ausbreitet.
Eine derartige Vorrichtung kann beispielsweise einen 3-dB-Koppler
bilden.
Claims (3)
1. Verfahren zum Abgleichen einer integrierten optischen Vorrichtung,
die wenigstens zwei durch je einen Lichtleiter aus elektrooptischem
Material gebildete Zweige aufweist, von denen mindestens einer
mit an eine steuerbare Spannungsquelle angeschlossenen Elektroden
versehen ist,
bei dem die Spannung an den Elektroden so eingestellt wird, daß am Ausgang der Vorrichtung im Falle des optischen Gleichgewichts eine minimale Lichtintensität auftritt, dadurch gekennzeichnet,
daß auf mindestens einem Teilbereich der Lichtleiter eine dünne Schicht aus Metall angeordnet wird und
daß unter fortlaufender Messung der Lichtintensität am Ausgang der Vorrichtung Material der Metallschicht entfernt wird, bis die gemessene Lichtintensität den Wert Null erreicht hat.
bei dem die Spannung an den Elektroden so eingestellt wird, daß am Ausgang der Vorrichtung im Falle des optischen Gleichgewichts eine minimale Lichtintensität auftritt, dadurch gekennzeichnet,
daß auf mindestens einem Teilbereich der Lichtleiter eine dünne Schicht aus Metall angeordnet wird und
daß unter fortlaufender Messung der Lichtintensität am Ausgang der Vorrichtung Material der Metallschicht entfernt wird, bis die gemessene Lichtintensität den Wert Null erreicht hat.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Materialentfernung auf chemischem Wege, mittels Ionenstrahleinwirkung oder durch Bearbeitung mit einem Laserstrahl vorgenommen wird.
daß die Materialentfernung auf chemischem Wege, mittels Ionenstrahleinwirkung oder durch Bearbeitung mit einem Laserstrahl vorgenommen wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß als Metall für die Beschichtung Platin, Kupfer, Gold, Silber, Chrom oder Aluminium verwendet wird.
daß als Metall für die Beschichtung Platin, Kupfer, Gold, Silber, Chrom oder Aluminium verwendet wird.
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Representative=s name: BEETZ SEN., R., DIPL.-ING. BEETZ JUN., R., DIPL.-I |
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