DE3100632A1 - Mehrschichtige antireflektionsbeschichtung - Google Patents

Mehrschichtige antireflektionsbeschichtung

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DE3100632A1
DE3100632A1 DE19813100632 DE3100632A DE3100632A1 DE 3100632 A1 DE3100632 A1 DE 3100632A1 DE 19813100632 DE19813100632 DE 19813100632 DE 3100632 A DE3100632 A DE 3100632A DE 3100632 A1 DE3100632 A1 DE 3100632A1
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Hakuzo Sakai Osaka Tani
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Minolta Co Ltd
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    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/113Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115Multilayers

Description

  • Mehrschichtige Antireflektionsbeschichtung
  • Die Erfindung betrifft eine Antireflektionsbeschichtung für optische Gläser.
  • Es ist allgemein wünschenswert, dass Antireflektionsbeschichtungen einen ausreichend niedrigen Reflektionsgrad im Gesamtbereich des sichtbaren Spektrums haben.
  • Bei einzel- oder doppelschichtigen Überzügen ist der restliche Reflektionsgrad nicht nur so klein, sondern der enge Antireflektionsbereich des Spektrums kann nicht den gesamten sichtbaren Bereich des Spektrums abdecken. Um dies zu verbessern, hat man schon zahlreiche Antireflektionsbeschichtungen mit drei oder mehr Schichten aufgetragen.
  • Eine solche Beschichtung wird in US-PS 3 604 784 beschrieben, bei der eine vielschichtige Antireflektionsbeschichtung aus drei Schichten vorliegt. Dabei ist die erste Schicht, die der Luft ausgesetzt ist, auf Basis von MgF2 (n = 1,38) bei einer optischen Dicke von A0/4, die zweite Schicht besteht aus einem Gemisch aus Oxiden des Titans und Al203 (n = 2,00) und die optische Dicke ist W ot2 und die dem Substrat nächste, dritte Schicht besteht aus Al203 oder MgO (n = 1,64 bis 1,72) mit einer optischen Dicke von Wo/2r worin die Wellenlänge bedeutet. Die vielschichtigen Antireflektionsbeschichtungen haben jedoch den Nachteil, dass eine ausreichende Antireflektion nur bei einem Glas substrat bei einem Brechungsindex im Bereich von 1,68 bis 1,88 vorliegt.
  • Um Beschichtungen für alle Glassubstrate mit einem breiteren Brechungsindex zu erzielen, sind auch schon eine Reihe von vierschichtigen Antireflektionsbeschichtungen vorgeschlagen worden. Dazu gehört eine vierschichtige Beschichtung gemäss US-PS 3 781 090, in welcher die vier Schichten wie folgt ausgebildet sind: Von aussen (der der Luft ausgesetzten Seite) in Richtung auf das Glassubstrat besteht die erste Schicht aus einem Material mit einem niedrigen Brechungsindex (n = 1,35 bis 1,62), die zweite Schicht aus einem Material mit einem hohen Index (n = 2,00 bis 2,30), die dritte Schicht aus einem Material mit einem mittleren Index (n = 1,56 bis 1,72) und die vierte Schicht aus einem Material mit einem niedrigen Index (n = 1,35 bis 1,62. Diese vierschichtige Antireflektionsbeschichtung bietet eine verbesserte Antireflektionswtrkung bei einem Glas substrat mit einem Brechungsindex im Bereich von 1,42 bis 1,72, indem man die Dicke der jeweiligen Schichten in Übereinstimmung mit dem Brechungsindex des Glassubstrates abstimmt.
  • Der gemäss US-PS 3 781 090 beschriebene Überzug hat jedoch noch die folgenden Nachteile: (1) Für die Kontrolle der Dicke der einzelnen Schichten wird eine optische Überwachungsmethode, bei welcher die Lichtinterferrenz angewendet wird, benötigt.
  • Bei dieser Methode wird ein Glas mit niedrigem Brechungsindex, wie Natronkalkglas, häufig für die Überwachung verwendet, weil es billig und leicht erhältlich ist. Zur Erhöhung der Genauigkeit der Dickenkontrolle ist es wünschenswert, dass die vierte Schicht, die zuerst auf das Kontrollblatt aufgetragen wird, aus einem Material besteht, dessen Brechungsindex erheblich von dem des Uberwachungsglases abweicht. Bei einer solchen Beschichtung besteht die vierte Schicht aus einem Material mit einem niedrigen Brechungsindex im Bereich von 1,35 bis 1,62, die sich geringfügig von dem des Kontrollglases unterscheidet. Daher ist eine genaue Überwachung der Dicke der vierten Schicht mit der optischen Überwachungsmethode im Falle der US-Patentschrift schwierig.
  • (2) Zur Erhöhung der optischen Eigenschaften verwendet man für die vierte Schicht MgF2, weil dessen Unterschied zum Brechungsindex des Uberwachungsglases von allen praktisch anwendbaren Materialien am grössten ist, und MgF2 wird auch für die erste Schicht angewendet, weil der Brechungsindex von allen in Frage kommenden Materialien am niedrigsten ist. Die Schicht aus MgF2 ist jedoch mikroskopisch an der Oberfläche uneben, im Vergleich zu den anderen Materialien, und dadurch erhält man eine vierschichtige Antireflektionsbeschichtung, bei welcher MgF2 für zwei Schichten angewendet wird und die Oberfläche der Beschichtung uneben ist. Dadurch ergibt sich eine Abnahme der Haltbarkeit beim Anhaftungstest, der durchgeführt wird, indem man die Beschichtungen in einem Strom aus feinen Siliziumkarbidteilchen, die von einer bekannten Höhe fallen gelassen werden, schmirgelt. Das heisst, dass entweder die optischen Eigenschaften oder aber die Dauerhaftigkeit bei dem Verfahren des Standes der Technik geopfert werden müssen.
  • Die Hauptaufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, eine Antireflektionsbeschichtung zu zeigen, die eine genaue Kontrolle der Schichtdicke ermöglicht und bei der man eine optische Uberwachungsmethode anwenden kann, und das eine ausreichende Antireflektionswirkung für unterschiedliche Glassubstrate zeigt, die einen Brechungsindex in einem weiten Bereich haben, wobei gleichzeitig verbesserte optische Eigenschaften und Dauerhaftigkeit erzielt werden.
  • Bei der erfindungsgemässen Antireflektionsbeschichtung aus einem Vierschichtenaufbau mit einer ersten, zweiten, dritten und vierten Schicht in dieser Reihenfolge von der der Luft ausgesetzten Seite zum Glassubstrat, wird ein Material mit einem hohen Brechungsindex, der sich erheblich von dem des Überwachungsglases unterscheidet, auf die vierte Schicht aufgetragen, die auch auf das Uberwachungsglas zu der Zeit aufgetragen wird, bei welcher die Schichtdicke unter Anwendung der optischen Überwachungsmethode kontrolliert wird. Zusätzlich wird der Brechungsindexbereich für jedes Schichtmaterial festgelegt, so dass MgF2, dessen Oberfläche uneben ist, nicht für zwei oder mehr der vier Schichten verwendet wird, und die optische Dicke einer jeden Schicht entsprechend dem Brechungsindex des Glassubstrates eingestellt wird. Der Brechungsindex der einzelnen, für die erste, zweite, dritte und vierte Schicht verwendeten Materialien, der mit N1, N2, N3 und N4 bezeichnet wird, und die optischen Dicken, die mit N1d11 N2d2, N3d3 und N4d4 in dieser Reihenfolge bezeichnet werden, und die Bemessungswellenlänge die mit #0 beziechnet wird, stehen zueinander in den folgenden Verhältnissen: N1d1 = 0,25 #0; N2d2 = 0,50 A 0,50 #0 # N3d3 # 0,75 #0; N4d4 # 0,25 #0; 1,35 # N1 # 1,62; 1,90 - N2 5 2,30; 1,90 # N4 # 2,30; 1,56 # N3 # 1,80; und N1 < N3 Die erste Schicht besteht aus entweder MgF2, SiO2, LaF2 oder Na2(AlF4), die zweite und die vierte Schicht entweder aus ZrO2, TiO2, CeO2, HfOX, ZnS oder einem Gemisch aus ZrO2 und TiO2, und die dritte Schicht aus entweder Al203, CeF3, MgO, Y203 oder Cd203.
  • In Übereinstimmung mit dem Brechungsindex des Glassubstrates variiert die optische Dicke einer jeden Schicht innerhalb des Bereiches, welcher den vorgenannten Bedingungen entspricht und dadurch wird es möglich, eine Antireflektionsbeschichtung mit einer ausreichenden Antireflektionswirkung auf einem Glassubstrat, das einen Brechungsindex innerhalb des breiten Bereiches von 1,42 bis 1,90 hat, zu erzielen.
  • Darüber hinaus wird erfindungsgemäss ein Material mit einem hohen Brechungsindex zwischen 1,90 und 2,30 für die vierte Schicht, die auch direkt auf dem Überwachungsglas zu der Zeit der Schichtdickenüberwachung mittels einer optischen Überwachungsmethode aufgetragen worden ist, verwendet. Dies ergibt einen grossen Unterschied im Brechungsindex zwischen dem Material der vierten Schicht und dem Überwachungsglas. Dadurch dass man für das Überwachungsglas ein billiges und leicht zugängliches Material verwendet, wie Natronkalkglas, kann man eine genaue Dickenkontrolle der jeweiligen Schichten durch eine optische Überwachungsmethode durchführen. Weiterhin kann man erfindungsgemäss für die jeweiligen Schichten verschiedene Materialien aussuchen, die optisch stabil und chemisch und mechanisch dauerhaft sind und deren Brechungsindizes den oben genannten Bedingungen entsprechen, indem man die Schichtdicken einstellt, um eine ausreichende Antireflektionswirkung zu erzielen, und dadurch erhält man eine leicht herstellbare, hoch dauerhafte Antireflektionbeschichtung. Die vierschichtige Antireflektionsbeschichtung gemäss der Erfindung verwendet nicht MgF2 für zwei Schichten und die Dauerhaftigkeit wird nicht durch eine erhöhte Ungleichheit der Oberfläche der Beschichtung geschädigt.
  • Fig. 1 ist ein Querschnitt und zeigt ein schematisches Diagramm der Erfindung.
  • Fig. 2 ist ein Vektordiagramm für die Bestimmung der optimalen Schichtdicken.
  • Fig. 3a und 3b sind grafische Darstellungen des Reflektionsgrades von Tabelle 1.
  • Fig. 4 ist eine grafische Darstellung des Reflektionsgrades von Tabelle 2.
  • Fig. 5 ist eine grafische Darstellung des Reflektionsgrades von Tabelle 3.
  • Unter Bezugnahme auf Fig. 1 wird dort ein Querschnitt eines Aufbaus der erfindungsgemässen Antireflektionsbeschichtung beschrieben, wobei eine Antireflektionsschicht C auf die Oberfläche eines Glassubstrates B aufgetragen wird und wobei die äusserste Schicht der Luft A ausgesetzt ist. Die Antireflektionsbeschichtung C hat einen vierschichtigen Aufbau und besteht aus einer ersten Schicht I, einer zweiten Schicht II, einer dritten Schicht III und einer vierten Schicht IV in der genannten Reihenfolge von der Luftseite zum Glas substrat. Die erste Schicht I besteht aus einem Material mit niedrigem Brechungsindex im Bereich von 1,35 bis 1,62, wie MgF2, SiO2, LaF2 und Na2 (AlF4) und hat annähernd eine optische Dicke, in bezug auf die Bemessungswellenlänge (design wave length) # 0. Die zweite Schicht II besteht aus einem Material mit einem hohen Brechungsindex im Bereich von 1,90 bis 2,30, wie ZrO2, TiO2, CeO2, HfO2, ZnS oder einem Gemisch aus ZrO2 und TiO2 und hat annähernd eine optische Dicke von 0,50#0. Die dritte Schicht III Besteht aus einem Material mit mittelerem Brechungsindex im Bereich von 1,56 bis 1,80, wie Al203, CeF3, MgO, Y203 und Gd203 und hat eine optische Dicke von 0,50 bis 0,75 A 0. Das Material für die dritte Schicht III hat einen höheren Brechungsindex als das für die erste Schicht I verwendete. Die vierte Schicht IV besteht aus einem Material mit einem hohen Brechungsindex im Bereich von 1,90 bis 2,30, wie ZrO2, TiO2, CeO2, HfO2, ZnS oder einem Gemisch aus ZrO2 und TiO2 und hat eine optische Dicke von nicht mehr als 0,25 Die Materialien für die jeweiligen Schichten werden zunächst ausgewählt und dann werden die optischen Dicken der jeweiligen Schichten auf Optimalwerte festgelegt, so dass man eine ausreichende Antireflektionswirkung für das zu verwendende Glassubstrat B erzielt.
  • Diese Optimalwerte können beispielsweise wie folgt bestimmt werden: Die erste Grenze besteht zwischen der Luft A und der ersten Schicht I; die zweite Grenze besteht zwischen der ersten Schicht I und der zweiten Schicht II; die dritte Gren:e besteht zwischen der zweiten Schicht II und der driften Schicht III; die vierte Grenze besteht zwischen der dritten Schicht III und der vierten Schicht IV und die fünfte Grenze besteht zwischen der vierten Schicht IV und dem Glassubstrat B. Die Brechungsindizes der Luft A, der ersten Schicht I bis zur vierten Schicht IV und des Glassubstrates B sind Not N1' N2, N3, N4 bzw. N5 in dieser Reihenfolge.
  • In diesem Fall wird der Fresnel-Koeffizient Wi an der i-ten Grenze (i = 1, 2, 3, 4 und 5) durch folgende Gleichung bestimmt: Ni-1 - Ni Wi = (1) Ni+1 + Ni Der Fresnel Koeffizient Wi wird bestimmt, nachdem das Material für jede Schicht und das Glassubstrat ausgewählt wurden.
  • Weiterhin wird die Phasenveränderung Bi von Lichtstrahlen, die durch die Antireflektionsbeschichtung verursacht wird, durch folgende Gleichung (2) wiedergegeben, wenn die Lichtstrahlen, die von der Luftseite zur Substratseite durch die i-te Grenze einfallen und dann zu der i-ten Grenze durch die Reflektion der (i+1)-ten Grenze zurückkehren: 2 # ßi = 2 Nidi (2) #0 Hierbei bedeutet Nidi die optische Dicke der i-ten Schicht und # 0 die Wellenlänge der Strahlen. Da bei der vorliegenden Erfindung N1d1 = 0,25 #0 und N2d2 = 0,50#0 ist, werden ß1 = t und B2 = 2t als ungefähre Werte bei der Berechnung eingesetzt.
  • Man kann dann ein Vektordiagramm, wie es in Fig. 2 gezeigt wird, zeichnen, wobei die Wechselwirkung zwischen den Lichtstrahlen, die an den jeweiligen Grenzen reflektiert werden, für die Wellenlänge A 0 durch die Komplexamplitude und die Phase der Lichtstrahlen gezeigt wird. Unter Bezugnahme auf Fig. 2 bedeutet der Vektor 7> die Komplexamplitude der Lichtstrahlen, die an der ersten Grenze reflektiert werden, und der Vektor AB zeigt die Komplexamplitude der Lichtstrahlen, die an der zweiten Grenze reflektiert werden, und der Vektor BC zeigt die Komplexamplitude der Licht strahlen, die an der dritten Grenze reflektiert werden.
  • Die Länge eines jeden Vektors bezieht sich auf den absoluten Wert des Fresnel-Koeffizienten an jeder Grenze, während die Richtung eines jeden Vektors von dem Wert von ß und dadurch bestimmt wird, ob der Fresnel-Koeffizient positiv oder negativ ist, d.h. dass die Richtung des Vektors durch den Phasenwinkel unter Bezug auf ßi' gemessen im Gegenuhrzeigersinn, wenn der Fresnel-Koeffizient positiv ist, und gemessen im Uhrzeigersinn, wenn der Fresnel-Koeffizient negativ ist, bestimmt wird. Ähnlich zeigen die Vektoren CD und die Komplexamplituden der Lichtstrahlen, die an der vierten und fünften Grenze reflektiert werden.
  • Das Quadrat der Entfernung vom Ursprung O zum Endpunkt des Vektors gibt den Restreflektionswert der Antireflektionsbeschichtung an. Da die optische Dicke der dritten Schicht III und der vierten Schicht IV noch nicht bestimmt sind, ist es unmöglich, die Vektoren C£ und t darzustellen. Deshalb zieht man einen Kreis, dessen Mittelpunkt bei Punkt C liegt, mit einem Radius W4, und einen anderen Kreis, dessen Mittelpunkt beim Ursprungspunkt 0 liegt, mit einem Radius W5.
  • Der Schnittpunkt der beiden Kreise wird mit G bezeichnet, und dann werden die Vektoren t und t eingezeichnet. Aus der Richtung der Vektoren werden die optischen Dicken der dritten Schicht III und der vierten Schicht IV bestimmt. Die so bestimmten optischen Dicken sind die optischen Werte, durch welche der Restreflektionswert in bezug auf die Wellenlänge x O theoretisch Null wird, Nachdem diese Werte für die optischen Dicken als Annäherungswerte bestimmt sind, werden die Schichtdicken mittels eines Computers in Übereinstimmung mit der sogenannten gedämpften kleinsten Quadratmethode, die eine der geeignetsten Methoden für das automatische Entwerten von Linsen geeignet ist, korrigiert, um eine Endlösung zu finden, die eine niedrige und flache Reflektionscharakteristik über einen weiten Wellenlängenbereich aufweist. Dadurch kann man schliesslich die optimalen Schichtdicken erhalten.
  • Nachfolgend werden genaue Angaben von Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung, bei welcher die vorbestimmte Wellenlänge & O auf 510 nm eingestellt wird, gezeigt, wobei Ns den Brechungsindex des Glassubstrates B bedeutet.
  • Ausführungsformen 1 bis 6 Bei den in Tabelle 1 gezeigten Ausführungsformen 1 bis 6 wird MgF2 mit einem Brechungsindex von 1,385 für die erste Schicht I wegen seiner stabilen optischen Eigenschaften und der guten Beständigkeit gegen Feuchtigkeit und physikalische Kratzer verwendet, und ein Gemisch aus Z°2 und TiO2 (Brechungsindex 2,05) wird für die zweite und vierte Schicht II bzw. IV wegen der stabilen optischen Eigenschaften und der guten Beständigkeit gegen Feuchtigkeit verwendet und Al203 (Brechungsindex 1,62) wird für die Schicht III wegen der guten Beständigkeit gegenüber Feuchtigkeit und physikalische Kratzer verwendet. Die optischen Dicken der jeweiligen Schichten werden auf die optimalen Werte eingestellt, die nach den zuvor beschriebenen Verfahren bestimmt wurden.
  • Die Antireflektionsbeschichtungen mit einem solchen Aufbau werden durch Verdampfen eines Gemisches aus Zur92 und TiO2 für die vierte Schicht, Al203 für die dritte Schicht, eines Gemisches aus ZrO2 und TiO2 für die zweite Schicht und von MgF2 für die erste Schicht in dieser Reihenfolge auf die Oberfläche eines ausgewählten Glassubstrates aufgetragen.
  • Fig. 3a und 3b zeigen den Prozentsatz der Reflektionswerte gegenüber Wellenlängenkurven für die Ausführungsformen 1 bis 6, wie sie in Tabelle 1 angegeben werden, wobei die Kurven für vertikal einfallendes Licht aufgetragen wurden. Kurven 2 und 3 in Fig. 3a zeigen die Spektralreflektionseigenschaften der Ausführungsformen 1 bis 3 und Kurven 4, 5 und 6 in Fig. 3b zeigen die Spektralreflektionseigenschaften der Ausführungsformen 4 bis 6. Aus den Fig. 3a und 3b geht hervor, dass nur durch Anpassen der optischen Dicken der jeweiligen Schichten, deren Materialien in der vorerwähnten Weise ausgewählt wurden, eine Antireflektionsbeschichtung mit einem breiten Antireflektionsspektralbereich und einem minimalen Restreflektionswert für die jeweiligen verschiedenen Glassubstrate, deren Brechungsindizes über einen weiten Bereich variieren, erhältlich sind. Weiterhin ist die erfindungsgemässe Antireflektionsbeschichtung aus optisch stabilen und ausserordentlich dauerhaften Materialien in den jeweiligen Schichten aufgebaut und dadurch ist die Beschichtung stabil, leicht herzustellen und als Ganzes sehr haltbar.
  • Ausführungsformen 7 bis 9 Die Ausführungsformen 7 bis 9, wie sie in Tabelle 2 gezeigt werden, sollen die Veränderung der Antireflektionswirkung, wie sie durch Veränderung des Brechungsindex des Materials für die zweite Beschichtung II bei der Ausführungsform 3 (der Brechungsindex des Glassubstrates Ns ist 1,62) bewirkt wird. Diese Veränderungen werden durch eine Änderung des Mischungsverhältnisses von ZrO2 und TiO2 und/oder durch Veränderung der Verdampfungsbedingungen und dergleichen bewirkt. Für einen Vergleich wird der Aufbau der Ausführungsform 3 auch in Tabelle 2 gezeigt.
  • Bei den Ausführungsformen 7 bis 9 werden Antireflektionsbeschichtungen in gleicher Weise wie bei den Ausführungsformen 1 bis 6 hergestellt. Die gewünschten Brechungsindizes sind durch eine Veränderung des Mischungsverhältnisses von ZrO2 und TiO2 und/oder der Verdampfungsbedingungen beim Verdampfen der zweiten Schicht II erhältlich.
  • Kurven 7, 8 und 9 in Fig. 4 zeigen die Spektralreflektionseigenschaften für vertikal einfallendes Licht gemäss den Ausführungsformen 7, 8 und 9. Zum Verfleich ist die Kurve 3, welche die Spektralreflektionseigenschaften für die Ausführungsform 3 angibt, auch in Fig. 4 eingetragen. Aus Fig. 4 wird ersichtlich, dass je höher der Brechungsindex der zweiten Schicht II ist, der Restbrechungswert des Spektralbereiches in der Nähe der vorbestimmten Wellenlänge umso niedriger ist.
  • Ausführungsform 10 Die Ausführungsform 10 wird in Tabelle 3 gezeigt und stellt eine Modifizierung der Ausführungsform 3 dar, wobei Al203 (Brechungsindex 1,62) für die dritte Schicht III bei der Ausführungsform 3 abgeändert wird in MgO mit einem Brechungsindex von 1,70, wobei die Dicke der jeweiligen Schichten in geeigneter Weise angepasst wird.
  • Die Antireflektionsbeschichtung gemäss der Erfindung wird segmentartig durch Verdampfen eines Gemisches aus ZrO2 und TiO2, MgO, einem Gemisch aus ZrO2 und TiO2 mit jeweils vorbestimmten Schichtdicken auf der Oberfläche des Glassubstrates gebildet.
  • Kurve 10 in Fig. 5 zeigt die Reflektionseigenschaften für vertikal einfallendes Licht gemäss der Ausführungsform 10. Kurve 3 in Fig. 5 zeigt die Spektralreflektionseigenschaften der Ausführungsform 3.
  • Aus Fig. 5 geht hervor, dass die Spektralreflektionseigenschaften , die nahezu den ursprünglichen gleich sind, durch eine Anpassung der jeweiligen Schichtdicken erzielt werden, selbst wenn der Brechungsindex der dritten Schicht III verändert wird, Tabelle 1
    Material Brechungs- Ausfüh- Ausfüh- Ausfüh- Ausfüh- Ausfüh- Ausfüh-
    index rungs- rungs- rungs- rungs- rungs- rungs-
    form 1 form 2 form 3 form 4 form 5 form 6
    Optische Dicke
    erste Mgf2 1,385 0,249#0 0,250#0 0,251#0 0,249#0 0,249#0 0,249#0
    Schicht
    zweite Gemisch 2,05 0,498#0 0,500#0 0,501#0 0,501#0 0,498#0 0,497#0
    Schicht aus ZrO2
    und TiO2
    dritte Al2O3 1,62 0,699#0 0,649#0 0,605#0 0,566#0 0,530#0 0,513#0
    Schicht
    vierte Gemisch 2,05 0,014#0 0,027#0 0,035#0 0,036#0 0,024#0 0,020#0
    Schicht aus ZrO2
    und TiO2
    Sub- Glas Ns=1,46 Ns=1,54 Ns=1,62 Ns=1,70 Ns=1,78 Ns=1,86
    strat
    Tabelle 2
    Ausführ- Ausführ- Ausführ- Ausführ-
    rungs- rungs- rungs- rungs-
    form 3 form 7 form 8 form 9
    Brechungsindex optische Dicke
    erste 1,385 1,385 1,385 1,385 0,251 #0
    Schicht
    zweite 2,05 2,10 2,15 2,20 0,501 #0
    Schicht
    dritte 1,62 1,62 1,62 1,62 0,605 #0
    Schicht
    vierte 2,05 2,05 2,05 2,05 0,036 #0
    Schicht
    Substrat Ns = 1,62
    Glas
    Tabelle 3
    Material Brechnungs- optische
    index Dicke
    erste MgF2 1,385 0,251 #0
    Schicht
    zweite Gemisch aus ZrO2 und TiO2 2,05 0,501 #0
    Schicht
    dritte MgO 1,70 0,632 #0
    Schicht
    vierte Gemisch aus ZrO2 und TiO2 2,05 0,035 #0
    Schicht
    Substrat Glas 1,62
    Mehrschichtige Antireflektionsbeschichtung Zusammenfassung: Mehrschicht.ge Antireflektionsbeschichtung auf einem Glassubstrat zur Verminderung der Reflektion des Lichtes, die aus vier Schichten besteht, wobei die erste, dem Substrat entfernteste Schicht, einen Brechungsindex N1 und eine optische Dicke N1d1, die zweite Schicht einen Brechungsindex N2 und eine optische Dicke N2d2, die dritte Schicht einen Brechungsindex N3 und eine optische Dicke N3d3 und die vierte Schicht, die dem Substrat am nächsten ist, einen Brechungsindex N4 und eine optische Dicke N4d4 aufweist, und wobei die Brechungsindizes und die optischen Dicken bei einer vorbestimmten Wellenlänge # 0 in folgender Beziehung stehen: N1d1 = 0,25 #0; N2d2 = 0,50 A 0,50#0 # N3d3 # 0,75 #0; N4d4 # 0,25 #0; 1,35 # N1 # 1,62; 1,90 - N2 5 2,30; 1,90 = N4 - 2,30; 1,56 # N3 # 1,80; und N1 < N3 L e e r s e i t e

Claims (1)

  1. Mehrschichtige Antireflektionsbeschichtung PATENTANSPRUCliE 1. Mehrschichtige Antireflektionsbeschichtung auf einem Glas substrat zur Verminderung der Reflektion des Lichtes, dadurch g e k e n n z e i c h n e t , dass sie aus vier Schichten besteht, wobei die erste, dem Substrat entfernteste Schicht, einen Brechungsindex N1 und eine optische Dicke N1d1, die zweite Schicht einen Brechungsindex N2 und eine optische Dicke N2d2, die dritte Schicht einen Brechungsindex N3 und eine optische Dicke N3d3 und die vierte Schicht, die dem Substrat am nächsten ist, einen Brechungsindex N4 und eine optische Dicke N4d4 aufweist, und wobei die Brechungsindizes und die optischen Dicken bei einer vorbestimmten Wellenlänge x 0 in folgender Beziehung stehen: N1d1 = 0,25 #0; N2d2 = 0,50 A 0,50#0 # N3d3 # 0,75 #0; N4d4 # 0,25 #0; 1,35 # N1 # 1,62; 1,90 # N2 5 2,30; 1,90 - N4 # 2,30; 1,56 # N3 # 1,80; und N1 < N3 2. Mehrschichtige Antireflektionsbeschichtung gemäss Anspruch 1, dadurch g e k e n n z e i c h n e t dass die erste Schicht ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus MgF2, LaF2, Na3(AlF4) und SiO2.
    3. Mehrschichtige Antireflektionsbeschichtung gemäss Anspruch 1, dadurch g e k e n n z e i c h n e t dass die zweite und vierte Schicht ausgewählt sind aus der Gruppe bestehend aus Zr02, TiO2, CeO2, HfO2, ZnS oder einem Gemisch aus Zr02 und TiO2.
    4. Mehrschichtige Antireflektionsbeschichtung gemäss Anspruch 1, dadurch g e k e n n z e i c h n e t , dass die dritte Schicht ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus A1203, CeF3, Y2O3, Gd203 und MgO.
DE19813100632 1980-03-31 1981-01-12 Mehrschichtige antireflektionsbeschichtung Withdrawn DE3100632A1 (de)

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