DE3710825C2 - - Google Patents
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- E06B7/26—Rain or draught deflectors, e.g. under sliding wings also protection against light for doors
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Schichtdickenmessung
einer Oberflächenschicht auf einer Probe, mit einer
Beleuchtungseinrichtung zum Richten von sichtbarer oder unsichtbarer
Lichtstrahlung auf die zu messende Oberflächenschicht,
einem Lichtsensor, der die von der Probe reflektierte
Lichtmenge detektiert und einer Signalverarbeitungseinrichtung,
die aus dem Ausgangssignal des Lichtsensors
unter Berücksichtigung von Referenzwerten einen entsprechend
korrigierten Meßwert für die Schichtdicke erzeugt.
Eine derartige Vorrichtung zur Schichtdickenmessung
einer Oberflächenschicht ist aus der DE 32 48 157 A1 bekannt. Bei einer Vorrichtung
gemäß der DE 32 48 157 A1 sind zur Korrektur von Fehlern,
die durch die Temperatur eines zu messenden Objekts hervorgerufen
werden, zwei Infrarot-Meßsysteme erforderlich. Dadurch
erhöht sich der Preis dieser Vorrichtung und die Charakteristiken
jedes Infrarot-Meßsystems sind unterschiedlich,
wodurch Korrekturfehler zwischen den beiden
Systemen erzeugt werden. Die automatische Korrektur für den
Fall einer Störung dieses Systems wird nicht nur durch die
Veränderung der Charakteristik der Referenz-Infrarot-Strahlenquelle
sondern auch durch eine Veränderung des Zeitablaufs
im elektrischen und optischen System durchgeführt.
Obwohl zahlreiche Vorrichtungen bekannt sind, bei denen die
automatische Korrektur durch die Zeitablaufveränderung erfolgt,
kann durch diese, weder im elektrischen noch im optischen
System, eine zufriedenstellende Korrektur
erzielt werden.
Durch die Veröffentlichung "Apparatus for In Situ Measurements
of Optical Properties of Evaporated Thin-Films" von
N. Bluzer, S. Bahl, aus der Zeitschrift Rev. Sci. Instruments,
Vol. 44, No. 9, September 1973, ist eine Schicht
dicken-Meßeinrichtung bekannt, die nur ein Meßsystem aufweist.
Diese Meßeinrichtung ist trotzdem apparativ sehr
aufwendig, da die Messung mit Lichtstrahlen unterschiedlicher
Wellenlängenbereiche durchgeführt werden muß, wozu
sowohl unterschiedliche Detektoren als auch eine Rückführungsregelung
der Speisespannung für die Beleuchtungseinrichtung erforderlich
sind. Des weiteren kann mit dieser Meßeinrichtung
keine Meßkorrektur bezüglich der Eigenstrahlung der Probe
infolge Temperaturänderungen oder der Umgebungsstrahlung
durchgeführt werden, da die Messungen mittels zeitsequentiell
gebildeter Meßstrahlengänge erfolgen.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Vorrichtung
zur Schichtdickenmessung einer Oberflächenschicht zu schaffen,
mit der die Schichtdicke einer auf eine Probe aufgetragenen
Schicht unabhängig von Beeinflussung durch Veränderungen
der Temperatur der zu messenden Probe, den
Charakteristiken der Beleuchtungseinrichtung und
des Zeitablaufs bei den Charakteristiken des elektrischen
und optischen Systems bei Verwendung nur eines Lichtstrahlen-Meßsystems
korrekt gemessen werden kann.
Diese Aufgabe wird bei einer Vorrichtung
zur Schichtdickenmessung einer Oberflächenschicht auf einer
Probe gemäß der eingangs beschriebenen Art
durch die im kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 1 angegebenen Merkmale
gelöst.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der erfindungsgemäßen
Vorrichtung zur Schichtdickenmessung sind den Unteransprüchen
2 bis 4 zu entnehmen.
Ausführungsformen der Erfindung werden anhand der folgenden
Figuren im einzelnen beschrieben. Es zeigt
Fig. 1 die Vorrichtung zur Schichtdickenmessung
in einer schematischen Darstellung;
Fig. 2 und 3 eine Verschlußeinrichtung und eine Drehscheibe
jeweils in der Draufsicht;
Fig. 4 ein elektrisches Schaltbild zur Erläuterung des
Schaltkreises einer Signalverarbeitungseinrichtung, die
in der Vorrichtung gemäß Fig. 1 vorgesehen ist, in schematischer
Darstellung; und
Fig. 5a und 5b die bei Verwendung der Vorrichtung gemäß
dem Patentanspruch 1 und einer herkömmlichen
Vorrichtung erzielten Versuchsergebnisse einer Farbschichtdickenmessung
in grafischer Darstellung.
Die vorliegende Erfindung wird anhand der Figuren beschrieben,
die eine Ausführungsform einer Vorrichtung
zur Schichtdickenmessung einer Oberflächenschicht auf
einer Probe zeigen, bei der die Messung mit Infrarot-
Strahlung als Lichtstrahlung durchgeführt wird.
Fig. 1 zeigt eine Probe 1, die Lichtstrahlung reflektiert
und nicht absorbiert, beispielsweise eine Metallplatte,
die an ihrer Oberseite mit einer
Schicht 2, dem zu messenden Material, versehen
und so angeordnet ist, daß sie in einer Richtung verläuft.
Oberhalb der Probe 1 ist ein Reflektor 3, beispielsweise
ein sphärischer Spiegel fest angeordnet,
um auf die Probe 1 eine vorgegebene Menge Infrarot-
Strahlung von einer Beleuchtungseinrichtung 5, beispielsweise
einem schwarzen Strahler, wie später beschrieben
wird, zu leiten, indem eine Seite desselben
geöffnet wird, und der mit einer Öffnung 4 im Brennpunkt
eines Kondensors 11, d. h. einer Fokussierlinse
zum Fokussieren der Infrarot-Strahlung versehen ist.
Dieser Reflektor 3 kann die Infrarot-Strahlung in Richtung
der zu messenden Schicht 2 leiten und kann ein sphärischer
oder nicht sphärischer Spiegel, wie beispielsweise ein ebener
Spiegel sein.
Die Beleuchtungseinrichtung 5 ist an der Öffnungsseite
des Reflektors 3 über einer Verschlußeinrichtung 6 angeordnet,
die aus einer bewegbaren Scheibe mit Aussparungen 7
besteht.
Die Verschlußeinrichtung läßt die Infrarot-Strahlung
nur dann auf den Reflektor 3 durch, wenn die Aussparungen
7 vor der Beleuchtungseinrichtung 5 liegen und
sie unterbricht die Referenz-
Infrarot-Strahlung wenn die Aussparungen 7 nicht vor
der Beleuchtungseinrichtung 5 liegen. Die Verschlußeinrichtung
6 wird mittels eines Motors M1 gedreht,
um die Aussparungen 7 vor die Beleuchtungseinrichtung
5 zu verschieben. Ob vor der Beleuchtungseinrichtung
5 Aussparungen 7 liegen oder nicht, wird
durch einen Positionsdetektor T1 detektiert. Der Detektor
T1 gibt wie später beschrieben wird auf die Diskriminatorstufe
14 ein Ausgangssignal.
Ein ebener Spiegel 8, der oberhalb der Probe 1
liegt, kann angetrieben durch einen Motor M2 eine horizontale
Hin- und Herbewegung parallel zur Probe 1 ausführen,
um die von der Beleuchtungseinrichtung 5 herrührende
Infrarot-Strahlung zu reflektieren und um
gleichzeitig das Auftreffen von Lichtstrahlung zu unterbrechen,
die aus der Richtung der zu messenden Probe
herkommt. Der ebene Spiegel 8 kann bezogen
auf die Beleuchtungseinrichtung 5 und den Reflektor
3 abwechselnd in horizontaler Richtung bewegt werden,
so daß die von der Beleuchtungseinrichtung 5 abgestrahlte
Infrarot-Strahlung, die durch den Reflektor 3
in Richtung der zu messenden Schicht reflektiert wird,
wieder in Richtung des Kondensors 11 zurückgeleitet
wird, wenn der ebene Spiegel 8 unter dem
Reflektor 3 liegt, um gleichzeitig die Eigenstrahlung
der Probe, die eine vom zu
messenden Material selbst abgestrahlte Wärmestrahlung ist, und die
Umgebungsstrahlung zu unterbrechen, die aus der Umgebung
um die Vorrichtung zur Schichtdickenmessung herrührt,
wobei der ebene Spiegel 8 unter
der Beleuchtungseinrichtung 5 oder unter dem Reflektor 3
liegt, wie dies durch den Positionsdetektor T2 detektiert
wird. Der Detektor T2 gibt auf die Diskriminatorstufe
14 ein Ausgangssignal ab. Oberhalb der Öffnung
4 des Reflektors 3 ist weiterhin eine Drehscheibe 9
mit wenigstens einem Filter 10 angeordnet, welches
nur Infrarot-Strahlung mit einer in einem vorgegebenen
Bereich liegenden Wellenlänge durchläßt. Die Drehscheibe
9 wird von Fall zu Fall mittels eines Motors M3
gedreht, um die Positionen der in ihr vorgesehenen
Filter gegenüber der Öffnung 4 des Reflektors 3 zu verschieben,
und der Positionsdetektor T3 detektiert, welches
Filter, d. h. welcher Wellenlängenbereich, zur
Messung verwendet wird und gibt auf die Signalverarbeitungseinrichtung
13 wie später beschrieben ein Ausgangssignal.
Oberhalb der Drehscheibe 9 ist der Kondensor 11
und ein Infrarotsensor 12 angeordnet, d. h. ein Lichtstrahlung
aufnehmendes Element, welches die erhaltene
Infrarot-Strahlung in elektrische Signale umwandelt.
Anzumerken ist, daß die Drehscheibe 9 zwischen dem Kondensor
11 und dem Infrarotsender 12 angeordnet sein
kann. Weiterhin ist die Drehscheibe 9 nicht notwendig,
wenn der Meßvorgang nicht mit mehreren Wellenlängenbereichen
durchgeführt werden soll, so daß nur das verwendete
Filter 10 befestigt ist. Die Diskriminatorstufe
14 wählt den Betriebsmodus, was im folgenden
beschrieben wird, mit den von den Detektoren T1 und T2
herrührenden Signalen, um die vier Betriebsmoden-Signale
auf die Signalverarbeitungseinrichtung 13 zu geben.
Die Signalverarbeitungseinrichtung 13 verarbeitet die
Eingangssignale, d. h. die Betriebsmoden-Signale der
Diskriminatorstufe 14, die Signale für den Meßwellenlängenbereich
vom Detektor T3 und die elektrischen
Signale vom Infrarotsensor 12, und gibt ein Signal für
die wahre Schichtdicke wie im folgenden beschrieben,
auf die Schichtdicken-Umsetzeinrichtung 15. Die Schichtdicken-
Umsetzeinrichtung 15 wandelt die Signale der
Signalverarbeitungseinrichtung 13 in den Schichtdickenwert,
dem Beschichtungsgewichtwert oder den Auflageschichtdickenwert
um.
Die Signalverarbeitungseinrichtung 13 hat einen Signalverstärker
16 zum Verstärken eines Ausgangssignals vom
Infrarotsensor 12, mehrere Abtastschaltkreise 17 bis 20,
die jeweils einem entsprechenden Betriebsmodussignal
entsprechen, Subtrahiergliedern 21 und 22, die jeweils
ein Signal entsprechend der Subtraktion zwischen den
Ausgangssignalen von zwei Abtastschaltkreisen abgeben,
einem Subtrahierglied 23 zum Abgeben eines Signals entsprechend
der Subtraktion zwischen den Ausgangssignalen
der Subtrahierglieder 21 und 22, einem Dividierwerk 24
zum Abgeben eines Signals entsprechend der Division
zwischen den Ausgangssignalen von zwei Subtrahiergliedern,
und einem Signalkonverter 25 zum Umwandeln des
Ausgangssignals vom Dividierwerk 24 in ein solches Signal,
welches in der Schichtdicken-Umsetzeinrichtung 15
verarbeitet werden kann und Abgeben dieses Signals auf
die Schichtdicken-Umsetzeinrichtung 15, wie dies aus
der Fig. 4 zu ersehen ist. Fig. 4 zeigt ein Ausführungsbeispiel
für den Fall, daß die Schichtdicke wie im folgenden
beschrieben in einem einzigen Wellenlängenbereich
gemessen wird.
Die Motoren M1 und M2 sind jeweils mit Steuerschaltkreisen
(nicht dargestellt) versehen, um den Antriebszustand
der Motoren zu steuern, um die jeweiligen Betriebsmoden
einstellen zu können.
Im folgenden wird die Funktionsweise der Vorrichtung
zur Schichtdickenmessung, bestehend aus den vorstehenden
Bauteilen, beschrieben.
Bezugnehmend auf die Tabelle 1 hat die Betriebsweise
dieser Vorrichtung zur Schichtdickenmessung vier Betriebsmoden,
d. h. eine Dickenmessung, Messung der
Eigenstrahlung der Probe, Nullpunktmodus und Kalibriermodus
entsprechend den Kombinationen der Verschlußstellung der
Referenz-Infrarot-Strahlung durch die Verschlußeinrichtung
6 und die Position des ebenen
Spiegels 8, der unter der Beleuchtungseinrichtung 5
oder unter dem Reflektor 3 liegt. Die Empfangssignale
des Infrarotsensors 12 bei jedem Betriebsmodus werden
im folgenden beschrieben.
Die Verschlußeinrichtung
6 und der ebene
Spiegel 8 befinden
sich in der der Tabelle 1 entnehmbaren zugehörigen
Stellung.
Daher wird davon ausgegangen, daß das vom Infrarotsensor
12 aufgenommene Signal bei der Dickenmessung
E1 ist und sich wie folgt zusammensetzt:
E1 = e1′ + e2′ + e3 + e4 + e5
mit:
E1: Vom Infrarotsensor 12 aufgenommene Energiemenge bei der Dickenmessung;
e1′: Von der Schicht nicht absorbierte Infrarot-Strahlungsenergie der von der Beleuchtungseinrichtung 5 abgegebenen Energie;
e2′: Von der Schicht nicht absorbierte Infrarot-Strahlungsenergie der Spiegelwärmestrahlungsenergie;
e3: Wärmestrahlungsenergie der zu messenden Probe;
e4: Energie der Umgebungsstrahlung;
e5: Wärmestrahlungsenergie der Vorrichtung zur Schichtdickenmessung.
E1: Vom Infrarotsensor 12 aufgenommene Energiemenge bei der Dickenmessung;
e1′: Von der Schicht nicht absorbierte Infrarot-Strahlungsenergie der von der Beleuchtungseinrichtung 5 abgegebenen Energie;
e2′: Von der Schicht nicht absorbierte Infrarot-Strahlungsenergie der Spiegelwärmestrahlungsenergie;
e3: Wärmestrahlungsenergie der zu messenden Probe;
e4: Energie der Umgebungsstrahlung;
e5: Wärmestrahlungsenergie der Vorrichtung zur Schichtdickenmessung.
Bei diesem Betriebsmodus sind die Bedingungen so,
als ob keine Beleuchtungseinrichtung 5
existiert, da die Verschlußeinrichtung 6 die von
der Beleuchtungseinrichtung 5 abgegebene Referenz-
Infrarot-Strahlung unterbricht.
Daher wird
E2 = e2′ + e3 + e4 + e5 + e6′
erhalten, mit:
E2: Vom Infrarotsensor 12 beim Messen der Eigenstrahlung der Probe aufgenommene Energiemenge;
e6′: Von der Schicht nicht absorbierte Infrarot-Strahlungsenergie aus der Unterbrecher-Wärmeenergie.
E2: Vom Infrarotsensor 12 beim Messen der Eigenstrahlung der Probe aufgenommene Energiemenge;
e6′: Von der Schicht nicht absorbierte Infrarot-Strahlungsenergie aus der Unterbrecher-Wärmeenergie.
Bei dieser Betriebsweise unterbricht die Verschlußeinrichtung
6 die von der Beleuchtungseinrichtung
5 abgestrahlte Referenz-Infrarot-Strahlung und
gleichzeitig gelangt der ebene Spiegel
8 unter den Reflektor 3, um die Eigenstrahlung der
Probe und die Umgebungsstrahlung zu unterbrechen, die
aus der Richtung der zu messenden Probe kommt. Daher
wird
E3 = e2 + e5 + e6 + e7
erhalten,
mit:
E3: Vom Infrarotsensor 12 beim Nullpunktmodus aufgenommene Energiemenge;
e2: Spiegelwärmeenergie;
e6: Verschlußeinrichtungs-Wärmeenergie;
e7: Wärmeenergie des ebenen totalreflektierenden Spiegels 8.
E3: Vom Infrarotsensor 12 beim Nullpunktmodus aufgenommene Energiemenge;
e2: Spiegelwärmeenergie;
e6: Verschlußeinrichtungs-Wärmeenergie;
e7: Wärmeenergie des ebenen totalreflektierenden Spiegels 8.
Bei dieser Betriebsart werden die von der Beleuchtungseinrichtung
5 abgegebenen Referenz-Infrarot-
Strahlen aufgenommen. Dies erfolgt deswegen, weil der
ebene Spiegel 8 das Auftreffen der
Eigenstrahlung der Probe und der Umgebungsstrahlung
unterbricht und die Referenzinfrarotstrahlen, die von
der Beleuchtungseinrichtung 5 abgegeben, jedoch nicht
alle von der Schicht absorbiert sind, in Richtung auf
den Kondensor 11 reflektiert. Daher wird
E4 = e1 + e2 + e5 + e7
aufgenommen,
mit:
E4: Vom Infrarotsensor 12 beim Kalibriermodus aufgenommene Energiemenge;
e1: Von der Beleuchtungseinrichtung 5 abgegebene Strahlungsenergie.
E4: Vom Infrarotsensor 12 beim Kalibriermodus aufgenommene Energiemenge;
e1: Von der Beleuchtungseinrichtung 5 abgegebene Strahlungsenergie.
Der Infrarotsensor 12 wandelt die jeweiligen, erhaltenen
Energiesignale in elektrische Signale um und überträgt
sie auf die Signalverarbeitungseinrichtung 13.
Die Signalverarbeitungseinrichtung 13 filtert mittels
dem Signal der Diskriminatorstufe 14 heraus, welcher
Betriebsmodus dem vom Infrarotsensor 12 übertragenen
Signal zugehört, um das später beschriebene Signal
"S" zu berechnen. Danach wird das Signal der Schichtdicken-
Umsetzeinrichtung 15 zugeführt.
Die Beziehung zwischen den jeweiligen Betriebsmoden
ist durch die folgende Gleichung ausgedrückt:
E4 - E3 = e1 - e6
und andererseits:
E1 - E2 = e1′ - e6′.
Der Wert, der verbleibt, nachdem die von der Schicht
absorbierte Energiemenge E von dem Wert E4 - E3 subtrahiert
ist, ist demgemäß:
(E4 - E3) - E = E1 - E2
somit ist:
E = (E4 - E3) - (E1 - E2)
= (e1 - e6) - (e1′ - e6′).
= (e1 - e6) - (e1′ - e6′).
Dieser Wert E kann durch Verarbeitung in der Schichtdicken-
Umsetzeinrichtung 15 in die Dicke der Schicht 2
umgewandelt werden. Da jedoch e1 und e6 die Zeitablauf-
Veränderung begleiten, begleiten e1′ und e6′ ebenfalls
die Zeitablaufveränderung und das andere optische System
und elektrische System begleiten ebenfalls die Zeitablaufveränderung.
Demgemäß wird die elektrische Verarbeitung
in der Signalverarbeitungseinrichtung 13 durchgeführt,
so daß e1 - e6, d. h. E4 - E3 der volle Maßstab
des Ausgangssignals der Signalverarbeitungseinrichtung 13
werden.
Dieser Wert "S" kann durch Verarbeitung in der Schichtdicken-
Umsetzeinrichtung 15 in die Dicke der Schicht 2
umgewandelt werden.
Im folgenden wird der interne Vorgang der Signalverarbeitungseinrichtung
13 zur Berechnung des Signals "S"
beschrieben.
Die Diskriminatorstufe 14 gibt nach dem Feststellen des
Dickenmeß-Modus auf einen ersten Abtastschaltkreis 17 ein
Ausgangssignal. Nach Erhalt des Signals hält der erste
Haltekreis 17 ein Ausgangssignal, zu diesem Zeitpunkt
einen Signalverstärker 16 und gibt dann das Signal
auf ein erstes Subtrahierglied 21.
Ähnlich gibt die Diskriminatorstufe 14 nach Feststellen
des Betriebsmodus zum Messen der Eigenstrahlung der
Probe, des Nullpunktmodus oder Kalibriermodus auf einen zweiten
Haltekreis 18, einen dritten
Haltekreis 19 oder einen vierten Haltekreis
20 ein Ausgangssignal. Zu diesem Zeitpunkt halten diese
Haltekreise ein Ausgangssignal des Signalverstärkers
16 und geben dann an die Subtrahierglieder Ausgangssignale.
Somit werden bei jedem Betriebsmodus Halte-Ausgangssignale
von einem Infrarotsensor 12, die durch
den Signalverstärker 16 verstärkt worden sind, durch
die Subtrahierglieder 21 bis 23 und ein Dividierwerk
24 verarbeitet und das Ausgangssignal "th" am Dividierwerk
24 ist durch die folgende Gleichung repräsentiert:
mit den Ausgangssignalen tt, tmp, spn, zr der
Haltekreise 17 bis 20 und den Ausgangssignalen zs,
tm, rt der jeweiligen Subtrahierglieder.
Dieses Signal "th" entspricht dem Signal "S". Die Signale
tt, tmp, zr und spn entsprechen jeweils den Signalen
E1, E2, E3 und E4.
Dann wandelt der Signalkonverter 25 das Signal "th" in
ein Signal "sig" um, welches in der Schichtdicken-Umsetzeinrichtung
15 verarbeitet werden kann.
Obwohl die vorliegende Ausführungsform der Signalverarbeitungseinrichtung
13 anhand der Dickenmessung in
einem einzigen Wellenlängenbereich beschrieben worden
ist, kann die gewünschte Messung in mehreren Wellenlängenbereichen
durchgeführt werden, indem in der Signalverarbeitungseinrichtung
13 die genannten Bauteile
für jeden Wellenlängenbereich vorgesehen sind. In diesem
Fall ist mit dem Ausgangssignal des Positionsdetektors
T3 wie vorstehend beschrieben jeder zu messende
Wellenlängenbereich festzustellen.
Obwohl die Ausführungsform der Vorrichtung zur Schichtdickenmessung
einer Oberflächenschicht auf einer Probe
unter Verwendung von Infrarotstrahlung beschrieben worden
ist, kann diese auch für den Fall stattfinden, daß
Schichtdicke, Schichtgewicht oder dgl. auf der Probe
unter Verwendung von anderer Lichtstrahlung, beispielsweise
Ultraviolettstrahlung oder Strahlung im sichtbaren
Wellenlängenbereich, gemessen wird. Die Motoren M1,
M2 und M3 können auch zu einem Motor zusammengefaßt
sein. Ein Teil der Signalverarbeitungseinrichtung 13
und der Schichtdicken-Umsetzeinrichtung 15 können zu
einer Baueinheit durch einen Computer ersetzt werden.
Mit der beschriebenen Vorrichtung kann die korrekte Oberflächenschichtdicke
unabhängig von der Veränderung der Temperatur des zu
messenden Objektes, der Umgebungsstrahlung der Strahlungsenergie
der Beleuchtungseinrichtung, der Temperatur
der Verschlußeinrichtung und der Einflüsse durch die
Temperaturenergie der Vorrichtung zur Schichtdickenmessung,
gemessen werden, da eine Kombination der Betriebsmoden
durch Antreiben der Vorrichtung zum Öffnen
oder Schließen und des ebenen
Spiegels möglich ist.
Die Vorrichtung zur Schichtdickenmessung einer Oberflächenschicht
auf einer Probe gemäß dem Patentanspruch 1
hat die folgenden Vorteile:
- 1. Keine Beeinflussung durch die Veränderung der Temperatur des zu messenden Materials;
- 2. keine Beeinflussung durch Umgebungsstrahlung;
- 3. keine Beeinflussung durch die Wärmeenergie der Vorrichtung zur Schichtdickenmessung;
- 4. keine Beeinflussung durch Temperaturveränderung (Menge der Referenz-Infrarot-Strahlung) in der Beleuchtungseinrichtung;
- 5. keine Beeinflussung durch Veränderung der Temperatur der Verschlußeinrichtung;
- 6. die Abwanderung des eigenen Nullpunkts und die Abwanderung der eigenen Kalibrierung kann korrigiert werden, was dazu führt, daß keine Beeinflussung durch die Veränderung des Zeitablaufs des optischen Systems und des elektrischen Systems erfolgt.
Zusätzlich hat die beschriebene Vorrichtung
gegenüber einer herkömmlichen Vorrichtung die
folgenden Vorteile:
- 1. Infolge der Selbstkorrektur des Nullpunkts und der Kalibrierung bessere Wartungseigenschaften, und
- 2. niedriger im Preis.
In den Fig. 5a und 5b ist der Vergleich zwischen
der Schichtdickenmessung mit der Vorrichtung gemäß dem
Patentanspruch 1 und dem Gewichtsverfahren und
zwischen der Schichtdickenmessung mit der Vorrichtung
gemäß der JP-PS 58-1 15 306 und dem Gewichtsverfahren
dargestellt. Aus der Fig. 5a ist zu ersehen, daß
die Meßwerte für die Schichtdicke, die durch die
Vorrichtung gemäß dem Patentanspruch 1 und nach
dem Gewichtsverfahren erzielt worden sind, eine Standardabweichung
von 0,31 µm aufweisen, während aus der Fig. 5b zu ersehen
ist, daß die Meßwerte der Schichtdicke, wie sie
durch die herkömmliche Vorrichtung und durch das Gewichtsverfahren
erhalten werden, eine Standardabweichung
von 0,62 µm aufweisen. Durch die Meßwerte der Fig. 5a
und 5b ist klar zu ersehen, daß die Vorrichtung gemäß
dem Patentanspruch 1 der herkömmlichen Vorrichtung
bei einer solchen Wertung der Standardabweichung
um die Hälfte überlegen ist.
Claims (4)
1. Vorrichtung zur Schichtdickenmessung einer Oberflächenschicht
auf einer Probe, mit einer Beleuchtungseinrichtung
zum Richten von sichtbarer oder unsichtbarer
Lichtstrahlung auf die zu messende Oberflächenschicht, einem
Lichtsensor, der die von der Probe reflektierte Lichtmenge
detektiert, und einer Signalverarbeitungseinrichtung,
die aus dem Ausgangssignal des Lichtsensors unter Berücksichtigung
von Referenzwerten einen entsprechend korrigierten
Meßwert für die Schichtdicke erzeugt,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Beleuchtungseinrichtung (5, 3) eine Verschlußeinrichtung (6) zum periodischen Unterbrechen und Freigeben des Lichtweges aufweist,
daß ein beweglicher Spiegel (8) in einer der Probenoberfläche vorgelagerten Position in den Lichtweg bewegbar und aus ihm heraus bewegbar ist, so daß die Lichtstrahlung wahlweise am Spiegel oder an der Probe (1, 2) reflektiert wird,
daß Signalgeber (T1, T2) vorgesehen sind, die der Zu- oder Offenstellung der Verschlußeinrichtung (6) und der Stellung des Spiegels (8) innerhalb oder außerhalb des Lichtweges entsprechende Positionssignale an die Signalverarbeitungseinrichtung (13, 14, 15) liefern,
daß die Signalverarbeitungseinrichtung eine Diskriminatorstufe (14) aufweist, die in Abhängigkeit von den Positionssignalen jeweils Betriebsmoden-Signale erzeugt, die den vier Betriebsmoden der Signalverarbeitung, nämlich Dickenmessung, Messung der Eigenstrahlung, Nullpunktmodus und Kalibriermodus entsprechen, welche der Messung der Werte und Referenzwerte für die Stärke der Lichtstrahlung, für die Eigenstrahlung der Probe und/oder für die Umgebungsstrahlung dienen, und
daß die Signalverarbeitungseinrichtung von den Betriebsmoden-Signalen angesteuerte Haltekreise (17, 18, 19, 20) aufweist, die dem jeweiligen Betriebsmodus zugeordnete Ausgangssignale des Lichtsensors (12) speichern und die gespeicherten Ausgangssignale einer gleichzeitigen Weiterbearbeitung zuführen.
dadurch gekennzeichnet,
daß die Beleuchtungseinrichtung (5, 3) eine Verschlußeinrichtung (6) zum periodischen Unterbrechen und Freigeben des Lichtweges aufweist,
daß ein beweglicher Spiegel (8) in einer der Probenoberfläche vorgelagerten Position in den Lichtweg bewegbar und aus ihm heraus bewegbar ist, so daß die Lichtstrahlung wahlweise am Spiegel oder an der Probe (1, 2) reflektiert wird,
daß Signalgeber (T1, T2) vorgesehen sind, die der Zu- oder Offenstellung der Verschlußeinrichtung (6) und der Stellung des Spiegels (8) innerhalb oder außerhalb des Lichtweges entsprechende Positionssignale an die Signalverarbeitungseinrichtung (13, 14, 15) liefern,
daß die Signalverarbeitungseinrichtung eine Diskriminatorstufe (14) aufweist, die in Abhängigkeit von den Positionssignalen jeweils Betriebsmoden-Signale erzeugt, die den vier Betriebsmoden der Signalverarbeitung, nämlich Dickenmessung, Messung der Eigenstrahlung, Nullpunktmodus und Kalibriermodus entsprechen, welche der Messung der Werte und Referenzwerte für die Stärke der Lichtstrahlung, für die Eigenstrahlung der Probe und/oder für die Umgebungsstrahlung dienen, und
daß die Signalverarbeitungseinrichtung von den Betriebsmoden-Signalen angesteuerte Haltekreise (17, 18, 19, 20) aufweist, die dem jeweiligen Betriebsmodus zugeordnete Ausgangssignale des Lichtsensors (12) speichern und die gespeicherten Ausgangssignale einer gleichzeitigen Weiterbearbeitung zuführen.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß sie eine
Drehscheibe (9) aufweist, die wenigstens ein Filter (10)
hat, daß nur Infrarot-Strahlung mit einer in einem
vorgegebenen Bereich liegenden Wellenlänge durchläßt, die
oberhalb der Öffnung (4) des Reflektors (3) angeordnet ist,
und bei Bedarf mittels eines Motors (M3) gedreht werden
kann, um die Position der darauf angeordneten Filter (10)
gegenüber der Öffnung (4) des Reflektors (3) zu verschieben.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Beleuchtungseinrichtung eine
Lichtquelle (5) und einen die Strahlung der Lichtquelle auf
die Probe richtenden sphärischen oder nicht-sphärischen
Reflektor (3) aufweist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß der bewegliche Spiegel (8) als total
reflektierender Spiegel ausgebildet ist.
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US5155555A (en) * | 1991-07-08 | 1992-10-13 | Nalco Chemical Company | Monitoring of film formers |
US5308161A (en) * | 1993-02-11 | 1994-05-03 | Quantum Logic Corporation | Pyrometer apparatus for use in rapid thermal processing of semiconductor wafers |
US5726455A (en) * | 1995-06-30 | 1998-03-10 | Stormedia, Inc. | Disk film optical measurement system |
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