DE3715181C2 - Flüssige photovernetzende Zusammensetzung - Google Patents
Flüssige photovernetzende ZusammensetzungInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von
Abbildungen; das Verfahren ist gekennzeichnet durch die Verwendung
von flüssigen Beschichtungen auf Substraten und durch Belichtungen
mit aktinischer Strahlung zweier unterschiedlicher Wellenlängen.
Bei der Herstellung von Abbildungen mittels Photopolymerisation
beschichtet man ein Substrat in der Regel mit einer Lösung einer
photopolymerisierbaren Substanz in einem flüchtigen Lösungsmittel,
verdampft besagtes Lösungsmittel bzw. läßt dieses verdampfen, so
daß eine Schicht der photopolymerisierbaren Verbindung auf dem
Substrat zurückbleibt, bestrahlt diese Schicht bildmäßig mit
aktinischer Strahlung, so daß die belichteten Teile der Schicht
photopolymerisiert (und damit weniger löslich) werden, während die
unbestrahlten Teile im wesentlichen unbeeinflußt bleiben, und löst
schließlich die unbestrahlten Teile der Schicht mit einem geeigne
ten Lösungsmittel, wobei die bestrahlten, photopolymerisierten Teile
der Schicht im wesentlichen ungelöst bleiben. Dieser letzte Schritt
ist als "Entwicklung" bekannt.
Es besteht ein Bedarf nach Verfahren, worin eine Schicht einer
photopolymerisierbaren Verbindung ohne die Verwendung von Lösungs
mitteln auf ein Substrat aufgebracht wird und diese Schicht dann in
einen im wesentlichen festen, nicht klebenden Zustand übergeführt
wird, so daß das System dann zur bildmäßigen Belichtung mit
aktinischer Strahlung eingesetzt werden kann.
Ein solches Verfahren könnte auf dieser Stufe lösungsmittelfrei
arbeiten und daher könnten Probleme im Zusammenhang mit Toxizität
oder Entflammbarkeit des Lösungsmittels oder dessen Rückgewinnung
vermieden werden; ferner würde die kontinuierliche Herstellung von
beschichteten Trägern, die einem Belichtungsverfahren unterworfen
werden sollen, erleichtert.
Es wurde jetzt gefunden, daß man ein solches Verfahren durchführen
kann, indem man bestimmte flüssige Zusammensetzungen enthaltend
entweder zwei oder mehrere Komponenten oder wenigstens eine doppelt
funktionalisierte Komponente oder eine Kombination besagter Kompo
nenten verwendet.
Von diesen Komponenten läßt sich die eine durch Bestrahlen mit
aktinischer Strahlung einer gewissen Wellenlänge polymerisieren und
die andere Komponente läßt sich durch Bestrahlen mit aktinischer
Strahlung anderer Wellenlänge polymerisieren.
Die Verfestigung der flüssigen Schicht erfolgt durch Belichten mit
aktinischer Strahlung einer Wellenlänge, bei welcher die Mischung
empfindlich ist, wobei ein stabiler, fester, aber noch photopoly
merisierbarer Überzug entsteht.
Eine längere Bestrahlung mit Licht der ersten Wellenlänge beeinflußt
die verfestigte Schicht nicht nachteilig, da das zweite
strahlungsempfindliche Material bzw. die zweite strahlungsempfind
liche Funktion nur auf Strahlung anderer Wellenlänge, empfindlich
ist.
Die flüssige Schicht kann daher durch Belichten mit der Strahlung
der ersten Wellenlänge verfestigt werden, wobei eine sorgfältige
Kontrolle von Behandlungszeiten in der Regel nicht notwendig ist;
außerdem kann die verfestigte Schicht längere Zeiten gelagert
werden, wenn Strahlung der zweiten Wellenlänge ausgeschlossen wird.
Auf Wunsch können dann Teile der verfestigten Zusammensetzung mit
Strahlung der zweiten Wellenlänge belichtet werden. Dabei läuft in
den bestrahlten Teilen eine weitere Polymerisation ab, und es
erfolgt eine Differenzierung physikalischer Eigenschaften zwischen
den im zweiten Belichtungsschritt bestrahlten Teilen und den im
zweiten Belichtungsschritt nicht bestrahlten Teilen.
Durch Entwickeln mit einem geeigneten Lösungsmittel oder anderen
geeigneten Entwicklungsmedien wird die im zweiten Belichtungsschritt
nicht bestrahlte Fläche entfernt und es entsteht eine negative
Abbildung.
Es ist bereits bekannt, photostrukturierbare flüssige und lösungsmittelfreie Beschichtungen
auf ein Substrat aufzutragen und diese vor der Photostrukturierung zu verfestigen, und
zwar entweder thermisch (EP-A-0 115 471) oder durch Verwendung einer genau dosierten
Strahlungsdosis, die jedoch so gering ist, daß die Beschichtung photostrukturierbar bleibt
(US-AA 416975).
Die DE-A-25 14249 beschreibt weiterhin ein Verfahren, bei dem eine photovernetzende
Zusammensetzung auf Basis radikalisch polymerisierbarer Komponenten zur Härtung
stufenweise mit Licht unterschiedlicher Wellenlänge bestrahlt wird. Hierbei wird eine
Beschichtung aus der Zusammensetzung zunächst mit Strahlung einer Lichtquelle A
bestrahlt, die aufgrund der Inhibierung der radikalischen Polymerisation durch Sauerstoff
nur zur Härtung der tiefer gelegenen Teile der Beschichtung führt. Danach erfolgt die zweite
Bestrahlung mit Strahlung einer Lichtquelle B, aus der ein Ozon bildender Bereich
ausgeblendet ist, so daß der Oberflächenbereich der Beschichtung ungeachtet der
Anwesenheit von Sauerstoff ausreichend gehärtet werden kann.
Im US-Patent Nr. 4,291,118 wird ein Verfahren zur Herstellung von
Reliefabbildungen beschrieben, wobei ein Film oder ein flüssiges,
photopolymerisierbares Material verwendet wird. Das Verfahren
umfaßt die Schritte des Verfestigens des Films durch chemisches
Härten, das in der Regel durch Belichtung mit aktinischer Strahlung
erfolgt, Nachbelichten des verfestigten Films mit einem Muster
aktinischer Strahlung, so daß Teile des Films chemisch differen
ziert werden, und Entfernen derjenigen Teile des Films, die nicht
der bildmäßigen Belichtung mit aktinischer Strahlung ausgesetzt
waren. Dies erfolgt in der Regel durch Behandeln mit einem geeig
neten Lösungsmittel.
Die Möglichkeit, die zwei Belichtungen mit Strahlung unterschied
licher Wellenlänge durchzuführen, wird nicht erwähnt. Im Ausfüh
rungsbeispiel werden beide Belichtungen mit Strahlung ein und
derselben stationären gepulsten Xenonlampe durchgeführt. Als
photopolymerisierbare Materialien werden lediglich Gemische von
Polyenen und Polythiolen erwähnt.
Die erfolgreiche Anwendung des Verfahrens ist in dieser Form nicht
einfach durchzuführen. Bei der anfänglichen Bestrahlung zum Zwecke
der Verfestigung muß die ausreichende Strahlungsdosis sorgfältig
ausgewählt werden. Falls mag eine zu geringe Dosis wählt, wird die
flüssige Zusammensetzung nicht genügend verfestigt. Falls man
hingegen eine zu große Dosis wählt, wird im zweiten Bestrahlungs
schritt keine Abbildung ausreichender Qualität mehr erhältlich sein.
Ferner schreitet die einmal durch Bestrahlung mit aktinischem Licht
initiierte Reaktion zwischen Polyen und Polythiol fort, auch wenn
die Bestrahlung unterbrochen wird. Aus diesem Grund wird in besagtem
US-Patent empfohlen, die zweite Bestrahlung in weniger als 30 Minu
ten, bevorzugt weniger als 10 Minuten, nach der ersten Bestrahlung
durchzuführen; es wird darauf hingewiesen, daß bei vielen Systemen
eine Retentionszeit zwischen den Bestrahlungen von 30 Minuten oder
mehr zu keiner befriedigenden Differenzierung der verfestigten Masse
mehr führen würde. Diese zeitliche Begrenzung ist eine weitere
Erschwernis bei der industriellen Durchführung besagten Verfahrens.
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von
Abbildungen umfassend die Schritte
- i) Beschichten eines Substrats mit einer flüssige Zusammensetzung
enthaltend:
- A) einen kationisch polymerisierbaren Rest,
- B) einen strahlungsaktivierbaren Initiator der Polymerisation von A)
- C) einen strahlungshärtbaren Rest, der sich von A) unterscheidet und gegebenenfalls
- D) einen strahlungsaktivierbaren Initiator der Polymerisation von c);
- ii) Bestrahlen besagter Zusammensetzung mit aktinischer Strahlung von einer Wellenlänge, bei der der Initiator B) aktiviert wird, aber bei der der Rest C) und/oder der der Initiator D) im wesentlichen nicht aktiviert werden, gegebenenfalls gefolgt vom Erhitzen besagter Zusammensetzung, so daß A) polymerisiert und die flüssige Schicht sich verfestigt aber härtbar bleibt,
- iii) Bestrahlen der verfestigten Schicht in einem vorbestimmten Muster mit aktinischer Strahlung anderer Wellenlänge als der in Schritt ii) verwendeten, so daß der Rest C) und/oder der Initiator D) aktiviert werden und c) in den bestrahlten Teilen im wesent lichen gehärtet wird und
- iv) Entfernen derjenigen Anteile der verfestigten Schicht, die nicht im wesentlichen gehärtet sind.
Die Erfindung betrifft auch eine Zusammensetzung, die sich zur Durchführung des oben
definierten Verfahrens eignet. Hierbei handelt es sich um eine flüssige Zusammensetzung,
enthaltend
- A) einen kationisch polymerisierbaren Rest,
- B) einen strahlungsaktivierbaren Polymerisationsinitiator für A),
- C) einen strahlungshärtbaren Rest, der sich von A) unterscheidet, und gegebenenfalls
- D) einen strahlungsaktivierbaren Initiator für die Härtung von C), mit der Maßgabe, daß der strahlungshärtbare Rest C) und, falls vorhanden, der Initiator D) bei einer anderen als der zur Aktivierung von B) benötigten Wellenlänge aktiviert werden und der Polymerisationsinitiator für A) von Strahlung des sichtbaren oder ultravioletten Spektrums aktivierbar ist.
Der Ausdruck "Bestrahlen. . . in eine vorbestimmten Muster mit
aktinischer Strahlung" umfaßt sowohl die Bestrahlung durch ein
bildtragendes Negativ aus strahlungsdurchlässigen und Strahlungsun
durchlässigen Teilen als auch die Behandlung mit Strahlen aktini
schen Lichtes, die sich in einem vorbestimmten Muster bewegen,
beispielsweise durch Steuerung mittels eines Computers.
Die härtbare, flüssige Zusammensetzung, welche in der vorliegenden
Erfindung verwendet wird, kann eine Mischung enthaltend eine oder
mehrere kationisch polymerisierbare Verbindungen und enthaltend eine
oder mehrere Verbindungen, die nur bei Belichtung mit anderer
Wellenlänge, als der zur Aktivierung von B) benötigten, polymeri
sieren, umfassen.
Die härtbare, flüssige Zusammensetzung kann aber auch eine oder
mehrere "doppelt-funktionalisierte" Verbindungen umfassen; dabei
handelt es sich um Verbindungen, die in einem Molekül zwei Typen
photopolymerisierbarer Reste enthalten, von denen der eine lediglich
bei Bestrahlung mit einer anderen Wellenlänge, als der zur Aktivie
rung von B) benötigten, aktiviert wird.
Die hartbare, flüssige Zusammensetzung kann ferner eine Mischung aus
einer oder mehreren doppelt-funktionalisierten Verbindungen zusammen
mit einer oder mehreren einfach-funktionalisierten Verbindungen
enthalten.
In einer bevorzugten Ausführungsform des Verfahrens wird die erste
Bestrahlung unter Verwendung von Strahlung des sichtbaren Spektrums
durchgeführt und die zweite Bestrahlung wird unter Verwendung von
ultravioletter Strahlung durchgeführt. Man kann jedoch auch beide
Bestrahlungen im ultravioletten Bereich durchführen, wobei unter
schiedliche Wellenlängen, wie oben definiert, eingesetzt werden.
Der Initiator B) muß Strahlung bei einer anderen Wellenlänge
absorbieren als entweder Rest C) oder Initiator D).
Vorzugsweise werden der Rest c) und der Initiator D) so gewählt,
daß sie keine Strahlung einer Wellenlänge größer als 500 nm
absorbieren.
Kationisch polymerisierbare Gruppen A), die in der flüssigen
Zusammensetzung, wie oben definiert, eingesetzt werden können, sind
an sich bekannt. Dabei kann es sich beispielsweise um eine katio
nisch polymerisierbare heterocyclische Verbindung handeln, bei
spielsweise um einen cyclischen Ether, wie ein Oxetan oder ein
Tetrahydrofuran, oder um einen cyclischen Ester, beispielsweise ein
Lacton oder um ein Episulfid, beispielsweise Ethylensulfid.
Vorzugsweise ist A) ein 1,2-Epoxid, ein Vinylether oder eine
Mischung dieser Verbindungstypen.
Geeignete 1,2-Epoxide umfassen Ethylenoxid, Propylenoxid und
Epichlorhydrin. Zu den bevorzugten 1,2-Epoxiden zählen Glycidylether
von Alkoholen oder Phenolen, insbesondere einwertigen Alkoholen oder
Phenolen, beispielsweise n-Butylglycidylether, n-Octylglycidylether,
Phenylglycidylether oder Kresylglycidylether, oder cycloaliphatische
Epoxide, beispielsweise Monoepoxide, wie α-Pinenoxid, 3,4-Epoxy
cyclohexylmethyl-3',4'-epoxycyclohexan-carboxylat oder dessen
6,6'-Dimethylderivat, oder Glycidylester, insbesondere solche von
Monocarbonsäuren, wie Propionsäure, Cyclohexancarbonsäure oder
Benzoesäuren.
Geeignete Vinylester umfassen cyclische Vinylether enthaltend einen
Dihydropyranrest und insbesondere Vinyloxyalkylether von Phenolen.
Als Photoinitiatoren für Komponente A) kommt eine Vielzahl von
Verbindungen in Frage.
Zu solchen Photoinitiatoren zählen beispielsweise Verbindungen der
Formel I
worin L ein zweiwertiges bis siebenwertiges Metall oder Nichtmetall
ißt, Q ein Halogenatom bedeutet oder einer der Reste Q auch eine
Hydroxylgruppe sein kann, q eine ganze Zahl von 1 bis 3 ist, in eine
ganze Zahl ist, die der Wertigkeit von L+q entspricht, a 1 oder 2
ist und n eine ganze Zahl von 1 bis 3 bedeutet und
R ein Ion ist, das ausgewählt wird aus der Gruppe bestehend aus
i) Ar-I⁺-Ar',
worin Ar und Ar' substituierte oder unsubstituierte aromatische Reste sind,
ii) [Y-Z-(CO)x]⁺, worin Y ein Aren oder eine Dienyliumgruppe ist, Z ein Atom eines d-Block Übergangselementes ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Titan, Vanadium, Chrom, Mangan, Eisen, Kobalt, Nickel, Kupfer, Niob, Molybdän, Ruthenium, Rhodium, Palladium, Silber, Tantal, Wolfram, Rhenium, Osmium, Iridium, Platin oder Gold ist, und x eine positive ganze Zahl bedeutet, so daß Z eine geschlossene Elektronenkonfigu ration aufweist,
iii) aromatische Diazonium Ionen,
iv) [(R1)(R2M)a]⁺an, worin a und n die oben definierte Bedeutung besitzen, M das Kation eines einwertigen bis dreiwertigen Metalls aus den Gruppen IVb bis VIIb, VIII oder Ib des Periodensystems ist, R1 ein π-Aren ist und R2 ein π-Aren oder das Anion eines π-Arens bedeutet,
v) aromatische Sulfoniumionen und
vi) aromatische Sulfoxoniumionen.
worin Ar und Ar' substituierte oder unsubstituierte aromatische Reste sind,
ii) [Y-Z-(CO)x]⁺, worin Y ein Aren oder eine Dienyliumgruppe ist, Z ein Atom eines d-Block Übergangselementes ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Titan, Vanadium, Chrom, Mangan, Eisen, Kobalt, Nickel, Kupfer, Niob, Molybdän, Ruthenium, Rhodium, Palladium, Silber, Tantal, Wolfram, Rhenium, Osmium, Iridium, Platin oder Gold ist, und x eine positive ganze Zahl bedeutet, so daß Z eine geschlossene Elektronenkonfigu ration aufweist,
iii) aromatische Diazonium Ionen,
iv) [(R1)(R2M)a]⁺an, worin a und n die oben definierte Bedeutung besitzen, M das Kation eines einwertigen bis dreiwertigen Metalls aus den Gruppen IVb bis VIIb, VIII oder Ib des Periodensystems ist, R1 ein π-Aren ist und R2 ein π-Aren oder das Anion eines π-Arens bedeutet,
v) aromatische Sulfoniumionen und
vi) aromatische Sulfoxoniumionen.
Handelt es sich bei R um ein Iodonium Salz, so besitzt der Initiator
vorzugsweise die Formel II
[ARh-I-Ar'i]j ⊕ [LQm]⊖ (k-1) (II),
worin Ar ein einwertiger aromatischer Rest ist, Ar' ein zweiwertiger
aromatischer Rest ist, h=0 und i=1 ist oder h=2 und i=0 ist, j den
Wert k-1 hat und 1 die Wertigkeit von L bedeutet, k eine ganze Zahl
von 2 bis 8 ist und L, Q und m die weiter oben definierten Bedeu
tungen besitzen.
Die Reste Ar in Formel II können gleich oder unterschiedlich sein.
Dabei handelt es sich in der Regel um carbocyclisch-aromatische oder
heterocyclisch-aromatische Gruppen mit 6 bis 20 C-Atomen, die mit
ein bis vier einwertigen Resten ausgewählt aus der Gruppe bestehend
aus C1-C8Alkoxy, C1-C8Alkyl, Nitro oder Chlor substituiert sein
können.
Ar ist vorzugsweise Phenyl, Chlorphenyl, Nitrophenyl, Methoxyphenyl
oder Pyridyl. Von Ar' umfaßte zweiwertige Reste sind beispielsweise
die Gruppen
worin v vorzugsweise 1 oder 2 ist.
Die Iodoniumsalze werden in der Regel zusammen mit einem Farbstoff
als Sensibilisator eingesetzt.
Zu den Farbstoffen, die in Kombination mit den oben definierten
Aryliodoniumsalzen eingesetzt werden können, zählen im Rahmen dieser
Erfindung kationische Farbstoffe, beispielsweise die Verbindungen,
die in Kirk-Othmer Encyclopedia, 2. Ausgabe, Vol. 20, 194-7 (1969)
beschrieben sind.
Einige ausgewählte Vertreter sind beispielsweise die folgenden
Verbindungen:
Acridin Orange; C.I. 46005
Acridin Gelb; C.I. 46035
Phosphin R; C.I. 46045
Benzoflavin; C.I. 46065
Setoflavin T; C.I. 49005.
Acridin Gelb; C.I. 46035
Phosphin R; C.I. 46045
Benzoflavin; C.I. 46065
Setoflavin T; C.I. 49005.
Zusätzlich zu den oben erwähnten Farbstofftypen können auch basische
Farbstoffe eingesetzt werden. Einige dieser Verbindungen werden in
Kirk-Othmer Encyclopedia, Vol. 7 532-4 (1969) beschrieben und
umfassen
Hemaporphyrin,
4,4'-Bisdimethylaminobenzophenon und
4,4'-Bisdiethylaminobenzophenon.
Hemaporphyrin,
4,4'-Bisdimethylaminobenzophenon und
4,4'-Bisdiethylaminobenzophenon.
Handelt es sich bei R um ein Kation der Formel iii), so besitzt der
Initiator beispielsweise die Formel III
[Y-Z-(CO)x]⊕ [LQm]⊗ (III),
worin Y, Z, x, L, Q und in die weiter oben definierte Bedeutung
besitzen.
Wenn Y eine Arengruppe bedeutet, d. h. selbst ein 6-Elektronenligand
ist, so kann es eine einkernige oder mehrkernige Gruppe, einschließlich
einer kondensierten Ringgruppe, sein. Vorzugsweise ist
es eine gegebenenfalls durch eine oder mehrere Alkoxygruppen
substituierte Kohlenwasserstoffgruppe und enthält vorzugsweise 6
bis 18 Kohlenstoffatome, wie Benzol, Toluol, Mesitylen, Naphthalin,
Biphenyl, Phenanthren, Fluoren und Anthracen.
Wenn Y eine Dienyliumgruppe bedeutet, so ist es vorzugsweise eine
cyclische Gruppe einer der folgenden Formeln
worin RA für eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, eine
Alkoxygruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen oder eine durch eine oder
mehrere oxycarbonylgruppen unterbrochene Alkylgruppe mit bis zu 12
Kohlenstoffatomen steht und p null, 1, 2 oder 3 ist.
Z steht vorzugsweise für Chrom, Kobalt, Nickel und insbesondere
Eisen oder Mangan.
Besonders bevorzugte einzelne Salze der Formel III, worin Y eine
Arengruppe bedeutet, sind unter anderem die Hexafluorophosphate des
π-Toluoltricarbonylmangans, π-Benzoltricarbonylmangans, π-Mesitylen
tricarbonylmangans, π-1-Methyl-5,6,7,8-tetrahydronaphthalintri
carbonylmangans, π-Hexylbenzoltricarbonylmangans, π-Methoxybenzol
tricarbonylmangans und π-Hexyloxybenzoltricarbonylinangans.
Diese Salze erfüllen die Forderung, daß das Zentralatom (Mangan)
eine geschlossene Elektronenschalenkonfiguration besitzt, d. h. 18
Elektronen in seiner Valenzschale, wobei einwertiges Mangan mit
seinem einfach positiven Kation 6 Elektronen, die Arengruppe 6
Elektronen und die drei Carbonylgruppen je 2 Elektronen beisteuern.
Salze der Formel III sind allgemein bekannt und beispielsweise in
der EP-A 94,914 beschrieben.
Besonders bevorzugte einzelne Salze der Formel III, worin Y eine
cyclische Dienyliumgruppe bedeutet, sind unter anderem Tricarbonyl-
(cyclohexa-1,3-dienylium)-eisen-tetrafluoroborat, Tricarbonyl-(1-
methylcyclohexa-2,4-dienylium)-eisen-hexafluorophosphat, Tri
carbonyl-(1-methyl-4-methoxy-cyclohexa-2,4-dienylium)-eisen-hexa
fluorophosphat, Tricarbonyl-(2-methoxybicyclo[4-4-0]deca-2,4-dienyl
ium)-eisen-hexafluorophosphat, Tricarbonyl-(1-(acetoxymethyl)-2-
(methoxy-carbonylacetoxy)-ethylcyclohexa-2,4-dienylium)-eisen-hexa
fluorophosphat, Tricarbonyl-(1-ethyl-4-isopropoxycyclohexa-2,4-di
enylium)-eisenhexafluorophosphat, Tricarbonyl-(1-methoxycarbonyl)-
4-methoxycyclohexa-2,4-dienylium)eisen-tetrafluoroborat und
(π-Cyclohexadienyl)-(tricarbonyl)-eisenhexafluoroarsenat.
Diese Salze erfüllen ebenfalls die Forderung, daß das Zentralatom
(Eisen) eine geschlossene Elektronenschalenkonfiguration besitzt,
wobei das Eisen 7 Elektronen, die Dienyliumgruppe 5 und die car
bonylgruppen ebenfalls je 2 Elektronen (d. h. insgesamt 18) bei
steuern.
Handelt es sich bei R um ein aromatisches Diazoniumion, so sind die
aromatischen Reste unsubstituiert oder substituiert, beispielsweise
durch einen oder mehrere Reste ausgewählt aus der Gruppe bestehend
aus Arylthio, Aryloxy, Dialkylamino, Alkyl oder Alkoxy.
Handelt es sich bei R um ein Metalloceniumion, so besitzt der
Initiator vorzugsweise die Formel IV
worin a 1 oder 2 sowie n und q unabhängig voneinander je eine ganze
Zahl von 1 bis 3 sind, H das Kation eines einwertigen bis drei
wertigen Metalls aus Gruppe IVb bis VIIb, VIII oder Ib des Perioden
systems darstellt, L, Q und in die weiter oben definierte Bedeutung
besitzen, R1 ein π-Aren und R2 ein π-Aren oder das Anion eines
π-Arens bedeuten.
Als π-Arene R1 und R2 kommen insbesondere aromatische Gruppen mit 6
bis 24 Kohlenstoffatomen oder heteroaromatische Gruppen mit 3 bis 30
Kohlenstoffatomen in Betracht, wobei diese Gruppen gegebenenfalls
durch gleiche oder verschiedene einwertige Reste wie Halogenatome,
vorzugsweise Chlor- oder Bromatome, oder C1-C8-Alkyl-, C1-C8-
Alkoxy-, Cyan-, C1-C8-Alkylthio-, C2-C6-Monocarbonsäurealkylester-,
Phenyl-, C2-C5-Allkanoyl- oder Benzoylgruppen einfach oder mehrfach
substituiert sein können. Diese π-Arengruppen können einkernige,
kondensierte mehrkernige oder unkondensierte mehrkernige Systeme
darstellen, wobei in den zuletzt genannten Systemen die Kerne direkt
oder über Brückenglieder wie -S-, -O- oder -C=C- verknüpft sein
können.
R2 als das Anion eines π-Arens kann ein Anion eines π-Arens der
obengenannten Art sein, zum Beispiel das Indenylanion und insbe
sondere das Cyclopentadienylanion, wobei auch diese Anionen gege
benenfalls durch gleiche oder verschiedene einwertige Reste wie
C1-C8-Alkyl-, C2-C6-Monocarbonsäurealkylester-, Cyan-, C2-C5-
Alkanoyl oder Benzoylgruppen einfach oder mehrfach substituiert sein
können.
Die Alkyl-, Alkoxy-, Alkylthio-, Monocarbonsäurealkylester und
Alkanoylsubstituenten können dabei geradkettig oder verzweigt sein.
Als typische Alkyl-, Alkoxy-, Alkylthio-, Monocarbonsäurealkylester
bzw. Alkanoylsubstituenten seien Methyl, Ethyl, n-Propyl, Isopropyl,
n-Butyl, sek.-Butyl, tert.-Butyl, n-Pentyl, n-Hexyl und n-Octyl,
Methoxy, Ethoxy, n-Propoxy, Isopropoxy, n-Butoxy, n-Hexyloxy und
n-Octyloxy, Methylthio, Ethylthio, n-Propylthio, Isopropylthio,
n-Butylthio, n-Pentylthio und n-Hexylthio, Carbonsäuremethyl und
n-pentylester bzw. Acetyl, Propionyl, Butyryl und Valeroyl genannt.
Dabei sind Alkyl-, Alkoxy-, Alkylthio- und Monocarbonsäurealkyl
estergruppen mit 1 bis 4 und insbesondere 1 oder 2 Kohlenstoffatomen
in den Alkylteilen sowie Alkanoylgruppen mit 2 oder 3 Kohlenstoff
atomen bevorzugt. Als substituierte π-Arene oder Anionen von
substituierten π-Arenen werden solche bevorzugt, die einen oder zwei
der obengenannten Substituenten, insbesondere Chlor- oder Bromatome-
Methyl-, Ethyl-, Methoxy-, Ethoxy-, Cyan-, Carbonsäuremethyl- oder
-ethylestergruppen und Acetylgruppen, enthalten.
Als R1 und R2 können gleiche oder verschiedene π-Arene vorliegen.
Als heteroaromatische π-Arene eignen sich S-, N- und/oder O-Atome
enthaltende Systeme. Heteroaromatische π-Arene, die S- und/oder
O-Atome enthalten, sind bevorzugt.
Beispiele für geeignete π-Arene sind Benzol, Toluol, Xylole,
Ethylbenzol, Cumol, Methoxybenzol, Ethoxybenzol, Dimethoxybenzol,
p-Chlortoluol, Chlorbenzol, Brombenzol, Dichlorbenzol, Acetylbenzol,
Trimethylbenzol, Trimethoxybenzol, Naphthalin, 1,2-Dihydronaphtha
line, Methoxynaphthaline, Ethoxynaphthaline, Chlornaphthaline,
Bromnaphthaline, Biphenyl, Stilben, Inden, Fluoren, Phenanthren,
Anthracen, 9,10-Dihydroanthracen, Triphenylen, Pyren, Perylen,
Naphthacen, Coronen, Thiophen, Chromen, Xanthen, Thioxanthen,
Benzothiophen, Naphthothiophen, Thianthren, Diphenylenoxyd, Di
phenylensulfid, Acridin und Carbazol.
Wenn a 2 ist, stellt R2 vorzugsweise je das Anion eines π-Arens dar,
und M ist jeweils das gleiche Metallatom. Beispiele für Anionen
substituierter π-Arene sind die Anionen des Methyl-, Ethyl-,
n-Propyl- und n-Butylcyclopentadiens, die Anionen des Dimethylcyclo
pentadiens, der Cyclopentadiencarbonsäuremethyl und -ethylester
sowie des Acetylcyclopentadiens, Propionylcyclopentadiens, Cyan
cyclopentadiens und Benzoylcyclopentadiens. Bevorzugte Anionen sind
das Anion des unsubstituierten Indens und insbesondere des unsubsti
tuierten Cyclopentadiens.
Bevorzugt hat a den Wert 1, und R1 steht für Benzol, Toluol, Xylol,
Cumol, Methoxybenzol, Chlorbenzol, p-Chlortoluol, Naphthalin,
Methylnaphthalin, Chlornaphthalin, Methoxynaphthalin Biphenyl,
Inden, Pyren, Perylen oder Diphenylensulfid, und R2 steht für das
Anion des Cyclopentadiens, Acetylcyclopentadiens oder Indens oder
für Benzol, Toluol, Xylol, Trimethylbenzol, Naphthalin oder Methyl
naphthalin.
M ist beispielsweise Ti⁺, Ti2⁺, Ti3⁺, Zr⁺, Zr2⁺, Zr3⁺, Hf⁺, Hf2⁺,
Hf3⁺, Nb⁺, Nb2⁺, Nb3⁺, Cr⁺, Mo⁺, Mo2⁺, W⁺, W2⁺, Mn⁺, Mn2⁺, Re⁺,
Fe2⁺, Co2⁺, Co3⁺, Ni2⁺ oder Cu2⁺.
Vorzugsweise ist M ein Chrom-, Kobalt-, Mangan-, Wolfram- oder
Molybdänkation, insbesondere ein Eisenkation, und ganz besonders
bevorzugt Fe2⁺.
Besonders bevorzugt sind solche Komplexe der Formel IV, worin a 1
ist, R1 für Cumol, η6-Pyren oder η-Naphthalin und R2 für das Anion
des η5-Cyclopentadiens stehen, n vorzugsweise 1 oder 2, insbeson
dere 1, und q vorzugsweise 1 sind.
Die Verbindungen der Formel IV lassen sich nach an sich bekannten
Methoden herstellen; dies wird zum Beispiel in der EP-A 94,915
beschrieben.
Beispiele für geeignete Metalle oder Nichtmetalle L im Anion [LQm]-q
der Verbindungen der Formel I sind Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ga, In, Ti,
Zr, Sc, V, Cr, Mn und Cu; Lanthaniden wie Ce, Pr und Nd oder
Actiniden wie Th, Pa, U oder Np. Geeignete Nichtmetalle sind
insbesondere B, P und As. L ist vorzugsweise P, As, B oder Sb,
wobei P und Sb besonders bevorzugt werden.
Komplexe Anionen [LQm]-q sind beispielsweise BF4⁻, PF6⁻, AsF6⁻,
SbF6⁻, SbF5(OH)⁻, FeCl6 2⁻, SnCl6⁻, SbCl6⁻ und BiCl6⁻. Die besonders
bevorzugten komplexen Anionen sind SbF6⁻, BF4⁻, AsF6⁻ und PF6⁻.
In einigen Fällen wird eine Verbindung der Formel IV als Photoini
tiator für Komponente A) zusammen mit einem organischen Peroxid oder
Hydroperoxid oder Chinon eingesetzt oder es wird nach der Bestrah
lung erhitzt, falls die Bestrahlung allein nicht zur Verfestigung
der Schicht führt. Bevorzugte Kombinationen solcher Verbindungen der
Formel IV mit Oxidationsmitteln sind in der EP-A 126,712 beschrie
ben.
Eine Vielzahl von organischen Peroxiden eignet sich für diesen
Einsatz, beispielsweise 2,5-Dimethyl-2,5-bis-(benzoylperoxy)-hexan,
2,5-Dimethyl-2,5-bis-(tert.butylperoxy)-hexan, Di-tert.butylperoxid,
Dihexylenglykolperoxid, Tert.butylcumylperoxid, Isobutylmethylketon
peroxid und auch Persäuren und Perester, wie z. B. Perbenzoesäure,
Tert.butylperacetat, Tert.butylperbenzoat und Tert.butylperphthalat.
Man kann auch organische Hydroperoxide verwenden. Beispiele dafür
sind Alkyl-, Aryl- oder Aralkylhydroperoxide mit bis zu 18 C-Atomen.
Dazu zählen vorzugsweise Methylethylketonhydroperoxid, Tert.butyl
hydroperoxid, Cumolhydroperoxid und Hydroperoxide, die durch
Oxygenierung von Keten oder Cyclohexen erhältlich sind.
Als Chinon läßt sich bevorzugt Benzochinon einsetzen. Kombinationen
von bevorzugten Verbindungen der Formel IV mit organischen Peroxi
den, Hydroperoxiden oder Chinonen sind in der EP-A 126,712 beschrie
ben.
Weitere mögliche Polymerisationsinitiatoren für Komponente A) sind
Oniumsalze.
Solche Verbindungen, die in Kombination mit Epoxidharzen oder
anderen kationisch polymerisierbaren Verbindungen, photopolymeri
sierbaren Gemische ergeben, sind beispielsweise in den US-Paten
ten 4,058,400 und 4,058,401 beschrieben.
Weitere geeignete Sulfoxoniumsalze, die sich für denselben Zweck
eignen, sind in den US-Patenten 4,299,938, 4,339,567 und 4,383,025
beschrieben. Iodoniumsalze, die sich für diesen Zweck eignen, sind
beispielsweise in der GB-B 1,516,352 beschrieben.
Geeignete Iodosylsalze sind in der EP-A 104,143 zu finden.
Verbindungen mit lichtempfindlichen Gruppen, die als Komponenten c)
eingesetzt werden können, sind ebenfalls bekannt und umfassen
Verbindungen enthaltend wenigstens zwei und vorzugsweise drei oder
mehr als drei Reste ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Azid,
Coumarin, Stilben, Haleinimid, Pyridinon, Chalcon, Propenon,
Pentadienon, Anthracen oder α,β-ethylenisch ungesättigte Estergrup
pen mit einem aromatischen Rest oder einer ethylenisch ungesättigten
Gruppe in Konjugation mit besagter α,β-ethylenisch ungesättigten
Estergruppe.
Eine weitere Gruppe photohärtbarer Reste C) sind kationisch poly
merisierbare Materialien, die durch Zugabe eines geeigneten Photo
initiators D) lichtempfindlich gemacht werden. Geeignete Kombina
tionen können aus den weiter oben für Komponenten A) und B) aufge
zählten Substanzklassen ausgewählt werden.
Der härtbare Rest C) kann ein Acrylester sein, insbesondere eine
Verbindung enthaltend wenigstens zwei Reste der Formel V
CH2=C(R3)-CO-O- (V),
worin R3 Wasserstoff, Chlor, Methyl oder Ethyl bedeutet.
Geeignete Ester mit mindestens zwei Gruppen der Formel V basieren
insbesondere auf Acrylsäure oder Hethacrylsäure und leiten sich ab
von aliphatischen, cycloaliphatischen, alicycloaliphatischen,
araliphatischen oder heterocyclisch-aliphatischen mehrwertigen
Alkohlen, bevorzugt Diolen oder Triolen; von Polyhydroxycarbon
säuren, insbesondere Dihydroxycarbonsäuren; von Polyhydroxyalkyl
aminen, insbesondere Dihydroxyalkylaminen; und von Polyhydroxy
alkylnitrilen, insbesondere Dihydroxalkylnitrilen.
Daneben können auch Acrylsäureesterurethane oder -ureide verwendet
werden. Diese Ester sind in der Regel kommerziell erhältlich oder
können nach an sich bekannten Methoden hergestellt werden.
Bevorzugte Acrylester sind Verbindungen der Formel VI
worin R3 Wasserstoff, Chlor, Methyl oder Ethyl ist, R5 Wasserstoff,
Methyl, Ethyl, Hydroxymethyl oder CH2-O-CO-C(R3)=CH2 bedeutet,
R4 Wasserstoff, -OH oder -O-CO-C(R3)=CH2 ist,
z eine ganze Zahl von 1 bis 8 ist, b eine ganze Zahl von 1 bis 20
bedeutet und c 0 oder 1 ist.
Von den Verbindungen der Formel VI werden insbesondere solche
bevorzugt, worin z eine ganze Zahl von 1 bis 4 ist, b eine ganze
Zahl von 1 bis 5 bedeutet und R3 Wasserstoff oder Hethyl ist.
Spezifische Beispiele von Verbindungen aus dieser Gruppe sind
Diacrylate oder Dimethacrylate von Ethylenglykol, Propylenglykol,
Butan-1,4-diol, Diethylenglykol, Dipropylenglykol, Triethylenglykol,
Tripropylenglykol, Tetraethylenglykol oder Tetrapropylenglykol.
Weiterhin geeignete Acrylester sind Verbindungen der Formel VII
worin R3 Wasserstoff, Chlor, Hethyl oder Ethyl ist, R4 Wasserstoff,
-OH oder -O-CO-C(R3)-CH2 ist, b eine ganze Zahl von 1 bis 20
bedeutet, c 0 oder 1 ist, d 0 ist oder eine positive ganze Zahl
darstellt, mit der Maßgabe, daß nicht sowohl c als auch d gleich
zeitig 0 sind, worin e 2, 3 oder 4 ist, und worin R6 einen organi
schen Rest der Wertigkeit e darstellt, der über Kohlenstoffatom(e)
mit besagten b Sauerstoffatomen verbunden ist.
Bevorzugte Verbindungen der Formel VII sind diejenigen, worin b, c
und d jeweils 1 bedeuten, R3 Wasserstoff oder Methyl ist und worin
R6 der Kohlenwasserstoffrest eines aliphatischen mehrwertigen
Alkohols mit 2 bis 6 Kohlenstoffatomen bedeutet. Bevorzugt leitet
sich R6 von Pentaerithrit ab.
Eine spezifische Verbindung für Verbindungen dieser Gruppe ist
Pentaerithrit-tetrakis-(dimethylenglykolacrylat).
Weitere geeignete polymerisierbare Acrylester sind solche der
Formel VIII
worin c 0 oder 1 ist, e 2, 3 oder 4 bedeutet, R7 Wasserstoff oder
Methyl ist und R8 ein e-wertiger organischer Rest ist, der über ein
Kohlenstoffatom, daß kein Carbonylkohlenstoffatom ist, mit dem
Restmolekül verbunden ist.
Von diesen Verbindungen werden insbesondere solche bevorzugt, worin
c 0 ist und worin R8 ein organischer Rest mit 1 bis 60 Kohlen
stoffatomen ist, der sich von einem Alkohol oder Phenol ableitet,
das e-Hydroxylgruppen besitzt.
R8 kann also eine aromatische, araliphatische, alkaromatische,
cycloaliphatische, heterocyclische oder heterocycloaliphatische
Gruppe sein, so wie beispielsweise ein aromatischer Rest mit nur
einem Benzolring, gegebenenfalls substituiert mit Chlor, Brom oder
C1-C9Alkyl; oder es handelt sich bei R8 um aromatische Gruppen, die
aus zwei bis vier über C-C Bindungen verknüpften Benzolringen
bestehen, wobei besagte Verknüpfung gegebenenfalls auch über Ether
sauerstoffatome, C1-C4 aliphatische Reste oder Sulfonreste erfolgen
kann, oder wobei jeder Benzolkern gegebenenfalls durch Chlor, Brom
oder C1-C9Alkyl substituiert sein kann; oder es handelt sich bei R8
um gesättigte oder ungesättigte geradkettige oder verzweigte
aliphatische Reste, die gegebenenfalls Etherbrücken enthalten und
gegebenenfalls durch Hydroxygruppen substituiert sind; dabei handelt
es sich vorzugsweise um gesättigte oder monoethylenisch ungesättigte
geradkettige aliphatische C1-C8Kohlenwasserstoffreste.
Spezifische Beispiele für solche bevorzugten Gruppen R8 sind die
aromatischen Reste -C6H4-C(CH3)2-C6H4- (in diesem Falle ist e = 2)
oder -C6H4-(CH2-C6H3-)f-CH2-C6H4-, worin f 1 oder 2 ist (in diesem
Falle ist e 3 oder 4, je nach Bedeutung von f). Ebenfalls bevorzugt
als Gruppen R8 werden die aliphatischen Reste
(in beiden Fällen ist e = 3) oder die Reste der
Formeln -(CH2)4-, -CH2-CH-CH-CH2-, -CH2-CH2-O-CH2-CH2- oder
-(CH2-CH2-O-)2-CH2-CH2- (in diesen Fallen ist e = 2).
Im Falle von c = 1 kann R8 ein Rest sein, der 1-60 Kohlenstoffatome
enthält und der sich von einer e-wertigen Carbonsäure ableitet.
Vorzugsweise handelt es sich bei R8 um eine gesättigte oder ethyle
nisch ungesättigte geradkettige oder verzweigte aliphatische Kohlen
wasserstoffgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, die gegebenen
falls durch Chloratome oder durch Hydroxylgruppen substituiert sein
kann oder die gegebenenfalls durch Ethersauerstoffatome und/oder
Carbonyloxygruppen (-CO-O-) unterbrochen sein kann; es kann sich
bei R8 auch um eine gesättigte oder ethylenisch ungesättigte Cyclo
aliphatische oder aliphatisch-cycloaliphatische Kohlewasserstoff
gruppe mit wenigstens 4 Kohlenwasserstoffatomen handeln,die gegebe
nenfalls mit Chloratomen substituiert sein kann; oder es handelt
sich um eine aromatische Kohlenwasserstoffgruppe mit 6 bis 12 Koh
lenstoffatomen, die gegebenenfalls durch Chlor- oder Bromatome
substituiert sein kann.
Ebenfalls bevorzugte Verbindungen mit der Definition c = 1 sind
diejenigen, worin R8 eine gesättigte oder ethylenisch ungesättigte
geradkettige oder verzweigte aliphatische Kohlenwasserstoffgruppe
mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen bedeutet, die gegebenenfalls mit
einer Hydroxylgruppe substituiert sein kann; oder worin R8 ein
gesättigter oder ethylenisch ungesättigter geradkettiger oder
verzweigter aliphatischer Kohlenwasserstoffrest mit 4 bis 50 Kohlen
stoffatomen ist, der in der Kette durch Carbonyloxygruppen unter
brochen ist; oder worin R8 ein gesättigter oder ethylenisch unge
sättigter monocyclischer oder bicyclischer cycloaliphatischer
Kohlenwasserstoffrest mit 6 bis 8 Kohlenstoffatomen bedeutet, oder
ein ethylenisch ungesättigter cycloaliphatisch-aliphatischer Kohlen
wasserstoffrest mit 10 bis 51 Kohlenstoffatomen bedeutet, oder worin
R8 ein einkerniger aromatischer Kohlenwasserstoffrest mit 6 bis
8 Kohlenstoffatomen ist.
Spezifische Beispiele für diese bevorzugten sich von Carbonsäuren
ableitenden Resten R8 sind -CH2-CH2-, -CH=CH- oder -C6H4-; in
diesen Fällen ist e = 2.
Spezifische Beispiele für Verbindungen der Formel VIII sind 1,4-Bis-
(2-hydroxy-3-(acryloyloxy)-propoxy)-butan-,
Poly-(2-hydroxy-3-(acryloyloxy)-propyl)-ether von
Bis-(4-hydroxyphenyl)-methan
(Bisphenol F), von 2,2-Bis-(4-hydroxyphenyl)-propan (Bisphenol A)
oder von Phenol-Formaldehyd Novolaken; sowie Bis-(2-hydroxy-3-acryl
oyloxypropyl)-adipat und die Methacryloyloxy-Analogen dieser
Verbindungen.
Ebenfalls bevorzugte Ester sind Acrylat-urethane oder -ureide der
Formel IX
worin R3 Wasserstoff, Chlor, Hethyl oder Ethyl bedeutet, R9 ein
zweiwertiger aliphatischer, cycloaliphatischer, aromatischer oder
araliphatischer Rest ist, der über Kohlenstoffatom(e) an besagte -O-
und -X- Gruppen gebunden ist,
worin X -O-, -NH- oder -N(Alkyl)- bedeutet, die Alkylgruppe 1 bis 8 Kohlenstoffatome besitzt, g eine ganze Zahl von 2 bis 6 bedeutet und R10 ein g-wertiger cycloaliphatischer, aromatischer oder araliphatischer Rest ist, der über ein Kohlenstoffatom oder über Kohlenstoffatome mit der (den) -NH-Gruppe(n) verbunden ist.
worin X -O-, -NH- oder -N(Alkyl)- bedeutet, die Alkylgruppe 1 bis 8 Kohlenstoffatome besitzt, g eine ganze Zahl von 2 bis 6 bedeutet und R10 ein g-wertiger cycloaliphatischer, aromatischer oder araliphatischer Rest ist, der über ein Kohlenstoffatom oder über Kohlenstoffatome mit der (den) -NH-Gruppe(n) verbunden ist.
Die Gruppe R9 bedeutet vorzugsweise eine zweiwertige aliphatische
Gruppe mit 2 bis 6 Kohlenstoffatomen. Bei R10 handelt es sich
bevorzugt um eine der folgenden Gruppen: eine zweiwertige aliphati
sche Gruppe mit 2 bis 10 Kohlenstoffatomen, wie beispielsweise
-(CH2)6-, CH2-C(CH3)2-CH2-CH(CH3)-(CH2)2 oder
-CH2-CH(CH3)-CH2-C(CH3)2-(CH2)2-;
oder es handelt sich um eine Phenylengruppe, die
gegebenenfalls mit einem Chloratom oder einer Methylgruppe substi
tuiert ist; oder es handelt sich um eine Naphthylengruppe; oder es
handelt sich um Gruppen der Formel -C6H4-C6H4-, -C6H4-CH2-C6H4- oder
-C6H4-C(CH3)2-C6H4-; oder es handelt sich um eine einkernige
Alkylcycloalkylen- oder Alkylcycloalkylalkylengruppe mit 6 bis
10 Kohlenstoffatomen, wie beispielsweise Methylcyclohex-2,4-ylen,
Methylcyclohex-2,6-ylen oder 1,3,3-Trimethylcyclohex-5-ylenmethyl.
Spezifische Beispiele für Verbindungen der Formel IX sind 2,4- und
2,6-Bis-(2-acryloyloxyethoxycarbonamido)-toluol sowie die ent
sprechenden Methacryloyloxyderivate.
Ebenfalls bevorzugte Acrylester sind Verbindungen der Formel X
worin R3 Wasserstoff Chlor, Methyl oder Ethyl ist, R11 Methyl,
Ethyl, Hydroxymethyl oder CH2-C(R3)-CO-O-CH2- bedeutet, und worin
R12 Hydroxymethyl oder CH2=C(R3)-CO-O-CH2 ist.
Insbesondere bevorzugt als Verbindungen der Formel X werden das
1,1,1-Trimethylolpropantriacrylat, das Pentaerithrit-tetraacrylat
sowie die entsprechenden Methacrylate.
Weitere Acrylester sind Verbindungen der Formel XI
worin R3 Wasserstoff, Chlor, Methyl oder Ethyl ist, R13 Wasserstoff,
Methyl oder Chlormethyl bedeutet, R14 ein vierwertiger Rest mit bis
zu 20 Kohlenstoffatomen ist, wobei besagter Rest ein oder mehrere
carbocyclische Gruppen enthält, mit der Maßgabe, daß jedes der in
Formel XI angegebenen Paare von -COOH und
-CO-O-CH(R13)-CH2-O-OC-C(R3)=CH2 Gruppen direkt an benachbarte Kohlenstoffatome gebunden
ist.
Bevorzugte Verbindungen der Formel XI sind solche mit R3 und R13 als
Wasserstoff oder Methyl und mit R14 als Rest einer aromatischen
Tetracarbonsäure enthaltend einen oder zwei Benzolringe. Besonders
bevorzugte Reste R14 leiten sich von Pyromellithsäure oder von
Benzophenon-3,3',4,4'-tetracarbonsäure ab.
Die oben erwähnten Acrylester können selbstverständlich auch als
Gemische eingesetzt werden oder zusammen mit einem Verdünnungsmittel
verwendet werden; Beispiele für bevorzugte Verdünnungsmittel sind
niedrig-viskose Acrylester wie Alkyl- oder Hydroxyalkylacrylate oder
-methacrylate.
Als Azide eignen sich beispielsweise Verbindungen, die wenigstens
zwei Gruppen der folgenden Formel enthalten
N3Ar-,
worin Ar ein einkerniger oder zweikerniger zweiwertiger aromatischer
Rest mit insgesamt 6-14 C-Atomen, besonders eine Phenylen- oder
Naphthylengruppe, ist.
Beispiele geeigneter Cumarine sind Verbindungen mit Gruppen der
Formel XII
worin R15 ein Sauerstoffatom, eine Carbonyloxygruppe (-COO-), eine
Sullfonyl- oder Sulfonyloxygruppe darstellt.
Beispiele von stilbengruppenhaltigen Verbindungen sind solche mit
Gruppen der Formel XIII
worin R16 den Rest eines insgesamt bis zu 8 C-Atomen aufweisenden 5- oder 6-gliedrigen stickstoffhaltigen heterocyclischen Ringes
bedeutet, der mit einem Benzol- oder Naphthalinring kondensiert und
über ein Kohlenstoffatoin des Heterocyclus, das sich in ortho-Stel
lung zu einem N-Atom des Heterocyclus befindet, an den angegebenen
Benzolring gebunden ist, wie z. B. Benzimidazolyl-, Benzoxazolyl-,
Benztriazolyl-, Benzthiazolyl- oder Naphthotriazolylreste.
Beispiele von Verbindungen mit Maleinimidgruppen sind solche mit
Gruppen der Formel XIV
worin die R17 Alkyl mit 1-4 C-Atomen, ein Chloratom oder eine
Phenylgruppe und besonders eine Methylgruppe bedeuten, oder worin
einer der Reste R17 Wasserstoff ist und der andere die oben defi
nierte Bedeutung annimmt.
Als Verbindungen mit Pyridinongruppen eignen sich z. B. solche mit
Gruppen der Formel XV
worin R18 ein aliphatischer oder cycloaliphatischer Rest mit 1-8
C-Atomen und r Null oder eine Zahl von 1-4 bedeuten.
Als Verbindungen mit Chalkon-, Propenon- und Pentadienongruppen
kommen solche mit Gruppen der Formel XVI oder XVII in Betracht
worin die R19 ein Halogenatom, eine Alkyl-, Cycloalkyl-, Alkenyl-,
Cycloalkenyl-, Alkoxy-, Cycloalkoxy-, Alkenyloxy-, Cycloalkenyloxy-,
Alkoxycarbonyl-, Cycloalkoxycarbonyl-, Alkenyloxycarbonyl- oder
Cycloalkenyloxycarbonylgruppe mit je 1-9 C-Atomen, eine Nitrogruppe,
eine Carbonsäure-, Sulfonsäure- oder Phosphorsäuregruppe in Salzform
bedeuten,
r die oben angegebene Bedeutung hat,
R20 eine direkte Bindung oder ein Wasserstoffatom, und
Y1 eine Gruppe der Formel XVIII, XIX oder XX darstellen
r die oben angegebene Bedeutung hat,
R20 eine direkte Bindung oder ein Wasserstoffatom, und
Y1 eine Gruppe der Formel XVIII, XIX oder XX darstellen
worin
R21 und R22 unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe mit z. B. 1-4 C-Atomen oder eine Arylgruppe, vorzugsweise eine einkernige Arylgruppe, wie die Phenylgruppe, sind oder R21 und R22 zusammen eine Polymethylenkette mit 2-4 Methylengruppen bilden,
R23 und R24 unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe mit z. B. 1-4 C-Atomen oder eine Arylgruppe, vorzugsweise eine einkernige Gruppe, wie die Phenylgruppe, sind, s und t unab hängig voneinander Null, 1 oder 2, aber nicht beide Null, bedeuten und
Z' ein Sauerstoff- oder Schwefelatom ist.
R21 und R22 unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe mit z. B. 1-4 C-Atomen oder eine Arylgruppe, vorzugsweise eine einkernige Arylgruppe, wie die Phenylgruppe, sind oder R21 und R22 zusammen eine Polymethylenkette mit 2-4 Methylengruppen bilden,
R23 und R24 unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe mit z. B. 1-4 C-Atomen oder eine Arylgruppe, vorzugsweise eine einkernige Gruppe, wie die Phenylgruppe, sind, s und t unab hängig voneinander Null, 1 oder 2, aber nicht beide Null, bedeuten und
Z' ein Sauerstoff- oder Schwefelatom ist.
Geeignete Anthracene sind solche mit Anthrylgruppen, wie die 1-,
2- oder 9-Anthrylgruppe, die unsubstituiert oder durch eine oder zwei
Brom- oder Chloratome, Methyl- oder Nitrogruppen substituiert sein
können.
Als geeignete konjugiert ungesättigte Ester sind insbesondere
diejenigen Verbindungen zu erwähnen, die Sorbit- oder Zimtsäure
gruppen enthalten, beispielsweise die Disorbite von Polyoxyalkylen
glykolen, Polyvinylzimtsäureester und Umsetzungsprodukte von
Epoxidharzen mit Zimtsäure.
Der strahlungsaktivierbare Initiator D), welcher den Rest C) bei
Bestrahlung polymerisiert, kann im Bereich des sichtbaren Lichts
oder der Ultraviolettstrahlung empfindlich sein.
Solche Initiatoren sind an sich bekannt; Beispiele dafür sind
Benzoinether, Acyloinether, halogenierte Alkyl- oder Arylver
bindungen, aromatische Carbonylverbindungen, Hetallocene, Mischungen
von organometallischen Verbindungen der Gruppe IVA mit photo
reduzierbaren Farbstoffen, Gemische von Chinonen mit aliphatischen
Aminen, die an einem aliphatischen α-Kohlenstoffatom ein Wasser
stoffatom aufweisen, aliphatische Dicarbonylverbindungen, die
gegebenenfalls mit einem Amin gemischt eingesetzt werden, 3-Keto
coumarine, Acylphosphinoxide, Metallcarbonylverbindungen, Onium
salze, wie oben beschrieben, sowie Mischungen von photoreduzierbaren
Farbstoffen mit Reduktionsmitteln.
Bevorzugte strahlungsaktivierbare Initiatoren D) sind Camphorchinon
in Kombination mit einem tertiären Amin, das ein Wasserstoffatom an
einem aliphatischen α-Kohlenstoffatom aufweist, beispielsweise
Gemische aus Bis-(4-dimethylamino)-benzophenon und Triethanolamin,
oder weitere bevorzugte Initiatoren D) sind Biacetyl, Dimangandeca
carbonyl, Benzildimethylketal, 1-Benzoylcyclohexanol, α,α-Dimethyl
α-N-morpholino-4-methylthioacetophenon, Isobutylbenzoinether,
2,2,2-Trichlor-4'-tert.butylacetophenon, Diethoxyacetophenon,
Coumarine, die eine carbocyclische oder heterocyclische aromatische
Ketogruppe in 3-Stellung aufweisen, beispielsweise 3-Benzoyl-7-
methoxycoumarin oder 3-(4-Cyanbenzoyl)-5,7-dipropoxycoumarin,
Mischungen von photoreduzierbaren Farbstoffen, wie z. B. Methylenblau
oder Bengalrosa, mit einem Stannan, wie z. B. Trimethylbenzylstannan,
Tributyl-4-methylbenzylstannan oder Dibutyl-dibenzylstannan,
photoreduzierbare Farbstoffe gemischt mit einem Elektronendonor, wie
beispielsweise mit Natriumbenzolsulfinat oder Benzolsulfinsäure,
oder ein Titanocen, wie beispielsweise Bis-(π-methylcyclopentadi
enyl)-bis-(η-pentafluorphenyl)-titan-IV oder Bis-(π-methylcyclo
pentadienyl)-bis-(η-hexyloxytetrafluorphenyl)titan-IV.
Bevorzugte Initiatoren D) sind Titanocene der Formel XXI
worin jede der Gruppen R25 unabhängig voneinander eine gegebenen
falls substituierte Cyclopentadienyl- oder Indenylgruppe ist, oder
die zwei R25-Gruppen zusammen Alkylidengruppen mit 2 bis 12 Kohlen
stoffatomen, eine Cycloalkylidengruppe mit 5 bis 7 Kohlenstoff
atomen im Ring, eine Gruppe -Si(R28)2- oder -Sn(R28)2-, oder eine
gegebenenfalls substituierte Gruppe der Formel
worin X1 Methylen, Ethylen oder 1,3-Propylen bedeutet, darstellen,
R26 einen 6-gliedrigen carbocyclischen oder 5- oder 6-gliedrigen
heterocyclischen aromatischen Ring bedeutet, der in mindestens einer
der ortho-Stellungen zur Metall-Kohlenstoffbindung durch ein
Fluoratom oder eine -CF3-Gruppe substituiert ist, wobei der Ring
gegebenenfalls weitere Substituenten aufweisen kann, oder R26 mit
R27 zusammen eine Gruppe -Q1-Y2-Q1- bedeuten, und Q1 für einen
5- oder 6-gliedrigen carbocyclischen oder heterocyclischen aromati
schen Ring steht, in welchem jede der zwei Bindungen ortho zur Q1-Y2
Bindung ist und jede Stellung meta zur Q1-Y2 Bindung durch Fluor
oder eine -CF3-Gruppe substituiert ist, wobei die Gruppen Q1
gegebenenfalls weitere Substituenten haben können, Y2 eine Methylen
gruppe, eine Alkylidengruppe mit 2 bis 12 Kohlenstoffatomen, eine
Cyloalkylidengruppe mit 5 bis 7 Kohlenstoffatomen im Ring, eine
direkte Bindung, eine Gruppe -NR28-, ein Sauerstoff- oder Schwefel
atom, eine Gruppe -SO2-, -CO-, -Si(R28)2- oder -Sn(R28)2- bedeutet,
R27 eine Alkinyl- oder Phenylalkinylgruppe, die substituiert sein
kann, eine Azido- oder Cyanogruppe oder eine Gruppe der For
mel -Si(R28)2- oder -Sn(R28)2 oder die gleiche Bedeutung wie die
Gruppe R26hat, und R28 eine Alkylgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoff
atomen, eine Cycloalkylgruppe mit 5 bis 12 Kohlenstoffatomen, eine
Arylgruppe mit 6 bis 16 Kohlenstoffatomen oder eine Aralkylgruppe
mit 7 bis 16 Kohlenstoffatomen ist.
Bei den Gruppen R25 handelt es sich bevorzugt um gleiche Reste. Als
Sustituenten für durch R25 dargestellte Gruppen kommen in Frage:
Lineares und verzweigtes Alkyl, Alkoxy und Alkenyl mit bevorzugt bis
zu 18, besonders bis zu 12 und insbesondere bis zu 6 C-Atomen, wie
Methyl, Ethyl, Propyl, Isopropyl, n-Butyl, tert.-Butyl, Pentyl,
Hexyl, Octyl, Decyl, Dodecyl, Tetradecyl, Hexadecyl, Octadecyl und
entsprechende Alkenyl- und Alkoxygruppen; Cycloalkyl und Cyclo
alkenyl mit bevorzugt 5 bis 8 Ringkohlenstoffatomen, wie z. B. Cyclo
pentyl, Cyclohexyl, Cycloheptyl, Methylcyclopentyl und Methyl
cycohexyl; Aryl mit bevorzugt 6 bis 16 C-Atomen und Aralkyl mit
bevorzugt 7 bis 16 C-Atomen; wie z. B. Phenyl, Naphthyl, Biphenyl,
Benzyl und Phenylethyl; Nitril, Halogen, besonders F, Cl und Br,
sowie Aminogruppen, besonders tertiäre Aminogruppen, die lineare
oder verzweigte Alkylgruppen mit 1 bis 12, besonders 1 bis 6 C-Ato
men und insbesondere Methyl und Ethyl, Phenyl und Benzyl enthalten
können. Die Aminogruppen können auch quaternisiert sein, besonders
mit linearen oder verzweigten Alkylhalogeniden mit vorzugsweise
1 bis 12 C-Atomen, besonders Methyl- oder Ethylhalogeniden; lineares
oder verzweigtes Aminoalkyl, besonders tertiäres Aminoalkyl, das
auch quaternisiert sein kann, besonders mit Alkylhalogeniden. Die
Alkylengruppe im Aminoalkyl kann linear oder verzweigt sein und
enthält bevorzugt 1 bis 12, insbesondere 1 bis 6 C-Atome und ist
ganz besonders α-verzweigtes Alkyl mit 1-12 C-Atomen.
Die Reste R25 können bis zu 3, besonders aber 1, Substituenten
enthalten. Insbesondere sind beide R25 Cyclopentadienyl⊖ oder
Methycyclopentadienyl⊖.
Alkylidengruppen X1 und Y2 enthalten bevorzugt 2 bis 6 C-Atome.
Beispiele für Alkylidengruppen und Cycloalkylidengruppen X1 und Y2
sind Ethyliden, 2,2-Propyliden, Butyliden, Hexyliden, Phenyl
methylen, Diphenylmethylen, Cyclopentyliden und Cyclohexyliden.
Besonders bevorzugt ist X1 Methylen.
R28 in seiner Bedeutung als Alkyl enthält bevorzugt 1 bis 6 C-Atome
und ist z. B. Methyl, Ethyl, Propyl, Butyl oder Hexyl. In seiner
Bedeutung als Cycloalkyl ist R28 bevorzugt Cyclopentyl oder Cyclo
hexyl, in seiner Bedeutung als Aryl bevorzugt Phenyl und in seiner
Bedeutung als Aralkyl bevorzugt Benzyl.
Der Rest R26 ist bevorzugt in beiden Orthostellungen durch Fluor
oder -CF3 substituiert.
Bei R26 in seiner Bedeutung als carbocyclischer aromatischer und
fluor-substituierter Ring kann es sich um Inden, Indan, Fluoren,
Naphthalin und besonders Phenyl handeln. Beispiele sind:
4,6-Difluorinden-5-yl, 5,7-Difluorinden-6-yl, 2,4-Difluorfluoren-
3-yl, 1,3-Difluornaphth-2-yl und besonders 2,6-Difluorphen-1-yl.
R26 als heterocyclischer aromatischer und 5-gliedriger Ring enthält
bevorzugt ein Heteroatom und als 6-gliedriger Ring bevorzugt 1 oder
2 Heteroatome. Beispiele für solche mit 2-Fluoratomen substituierte
Ringe sind: 2,4-Difluorpyrrol-3-yl, 2,4-Difluorfur-3-yl, 2,4-Di
fluortiophen-3-yl, 2,4-Difluorpyrid-3-yl, 3,5-Difluorpyrid-4-yl und
4,6-Difluorpyrimid-5-yl.
R26 und R27 zusammen als Gruppe -Q1-Y2-Q1- können z. B. sein:
worin E -O-, -S- oder -NH- darstellen, Y2 bevorzugt Methylen,
Ethyliden, 2,2-Propyliden, eine direkte Bindung oder -O- ist und Q5
ein Fluoratom oder eine -CF3-Gruppe ist.
Die Reste R26 sowie die Gruppen Q1 in -Q1-Y2-Q1- können teilweise
oder vollständig durch weitere Gruppen substituiert sein. Geeignete
Gruppen sind: Lineares oder verzweigtes Alkyl oder Alkoxy mit
bevorzugt 1 bis 18, insbesondere 1 bis 6 C-Atomen, z. B. Methyl,
Ethyl, Propyl, Butyl, Pentyl, Hexyl und die entsprechenden Alkoxy
gruppen, wobei Methyl, Methoxy und Hexyloxy besonders bevorzugt
sind; Cycloalkyl mit bevorzugt 5 oder 6 Ringkohlenstoffatomen, Aryl
mit bevorzugt 6 bis 16 C-Atomen und Aralkyl mit bevorzugt 7 bis
16 C-Atomen, wie z. B. Cyclopentyl, Cyclohexyl, Phenyl oder Benzyl;
Hydroxyl, Carboxyl, CN, Halogen, wie F, Cl oder Br, und Amino
gruppen, besonders tertiäre Aminogruppen, die mit Alkylhalogeniden,
wie Methylchlorid, -bromid oder -iodid, quaternisiert sein können.
Beispiele für Aminogruppen sind Methylamino, Ethylamino, Dimethyl
amino, Diethylamino, Pyrrolidyl, Piperidyl, Piperazyl, Morpholyl und
N-Methylpiperazyl; Alkoxycarbonyl mit bevorzugt 1 bis 18, besonders
1 bis 6 C-Atomen in der Alkoxygruppe, Aminocarbonyl mit ein oder
zwei Alkylgruppen mit 1 bis 12 C-Atomen in der Aminogruppe, oder
Aminocarbonyl mit heterocyclischen Aminen, wie Pyrrolidin, Piperi
din, Piperazin, N-Methylpiperazin und Morpholin; Aminoalkyl,
besonders tertiäres Aminoalkyl mit bevorzugt C1-C6-Alkylgruppen, das
mit Alkylhalogeniden quaternisiert sein kann. Bevorzugt ist Tertiär
aminomethyl, das durch Alkyl mit 1 bis 6 C-Atomen substituiert sein
kann. Beispiele sind Dimethylaminomethyl und (Trimethylammonium
methyl)iodid.
Stellt R27 Alkinyl dar, so handelt es sich z. B. um 2-Butinyl und vor
allem um Propargyl.
Substituenten für R27 als Phenylalkinyl sind z. B. Halogen, wie F, Cl
und Br, Alkyl und Alkoxy mit 1-6 C-Atomen, -COOH, -OH und -CN.
R27 hat bevorzugt die Bedeutung von R26.
In einer bevorzugten Ausführungsform sind R26 und R27 in Formel XXI
unsubstituiertes oder substituiertes 2,6-Difluorphen-1-yl oder R26
und R27 bilden zusammen einen Rest der Formel
worin Q5 und Y2 die oben angegebene Bedeutung haben und Y2 insbe
sondere eine direkte Bindung, -CH2- oder -O- ist.
Eine bevorzugte Gruppe von Metallocenen der Formel XXI sind solche,
worin beide R25 π-Cyclopentadienyl oder durch C1-C4-Alkyl, besonders
Methyl, substituiertes π-Cyclopentadienyl und R26 und R27 je ein
Rest der Formel XXIa
sind, worin Q2, Q3 und Q4 unabhängig voneinander für ein Wasser
stoffatom, F, Cl, Br oder eine tertiäre Aminogruppe, besonders eine
Morpholinogruppe oder eine Alkoxygruppe, besonders eine Methoxy- oder
Hexyloxygruppe, stehen und Q5 die oben definierte Bedeutung hat. Die
Amino- oder Alkoxygruppe ist bevorzugt in para-Stellung zur freien
Bindung gebunden.
Eine bevorzugte Untergruppe sind Metallocene der Formel XXI, worin
beide R25 π-Methylcyclopentadienyl oder π-Cyclopentadienyl dar
stellen und R26 und R27 je ein Rest der Formel XXIa sind, worin Q2
und Q4 für H, F, Cl oder Br und Q3 für H, F oder Alkoxy stehen.
Besonders bevorzugt sind Q2 und Q4 unabhängig voneinander ein
Wasserstoff- oder Fluoratom und Q3 ist ein Fluoratom oder ein
Hexyloxyrest.
Verbindungen der Formel XXI sowie deren Herstellung sind in der
EP-A 122,223 und der EP-A 186,626 beschrieben.
Bevorzugte organometallische Verbindungen der Gruppe IVA, welche als
Initiatoren D) verwendet werden, sind Organostannane der Formel XXII
worin R2, eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen oder eine Alkenyl- der Alkynylgruppe mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen und R30 ein
Wasserstoff- oder Halogenatom oder eine Alkyl- oder Alkoxygruppe mit
1 bis 4 Kohlenstoffatomen sind.
Bevorzugte Verbindungen der Formel XXII sind jene, worin R2, eine
Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen und R30 ein Wasserstoff
atom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen bedeuten.
Diese Organostannane können durch eine Grignard Verknüpfung eines
Benzylmagnesiumhalogenids mit einem Trialkylzinnhalogenid in einem
inerten Lösungsmittel hergestellt werden, gefolgt von Filtration,
Waschen mit Wasser und Destillation des Produkts.
Bevorzugte photoreduzierbare Farbstoffe, welche mit diesen Organo
stannanen verwendet werden, sind Methylenblau und Bengalrosa.
Gemäß der obigen Beschreibung kann es sich bei den Resten A) und C)
durchaus auch um gleichartige Reste handeln. Für das erfindungsgemäße
Verfahren werden verschiedene Reste ausgewählt, die so
beschaffen sein müssen, daß sie bei unterschiedlichen Wellenlängen
polymerisieren, wie oben definiert.
Dabei spielt es keine Rolle, ob Rest A) bei längerer oder kürzerer
Wellenlänge polymerisiert als Rest C); wichtig ist lediglich,
daß A) während der ersten Bestrahlung polymerisiert und C) auf
dieser Stufe im wesentlichen photohärtbar bleibt.
Dieses Ziel läßt sich durch Auswahl geeigneter Komponenten A)
bis C) und gegebenenfalls D) erreichen.
Soll beispielsweise die Verfestigung durch kationische Polymeri
sation des Restes A) bei kürzerer Wellenlänge als die nachfolgende
Vernetzung des Restes C) durchgeführt werden, so eignen sich
besonders die weiter oben beschriebenen Oniumsalze als Photoinitia
toren B), während man als Initiatoren D) ein Metallocen oder eine
andere längerwellig aktivierbare Verbindung auswählt. Eine bevorzugt
verwendete Kombination sind Oniumsalze als Photoinitiatoren B) mit
Titanocenen der Formel XXI oder mit einer Mischung von Organostan
naten der Formel XXII und photoreduzierbaren Farbstoffen als
Initiatoren D).
Es sei ferner festgehalten, daß Epoxidharze als Komponenten A)
und C) in Frage kommen. Es ist also möglich, ein Epoxidharz als
Komponente A) und ein weiteres Epoxidharz als Komponente C) zu
verwenden; in diesem Fall müssen geeignete Harze zusammen mit
geeigneten Photoinitiatoren B) und D) ausgewählt werden, so daß das
eine Harz bei der zweiten Wellenlänge polymerisiert. Eine bevorzugte
Kombination dieses Typs enthält ein cycloaliphatisches Epoxidharz
als Komponente A), ein Ferroceniumsalz als Komponente B), vorzugs
weise ein Ferroceniumsalz mit BF4 oder PF6 Anionen, einen Glycidyl
ether als Komponente C) und ein Oniumsalz als Komponente D).
In einem solchen Fall wird Komponente A) bei Bestrahlung mit einer
bestimmten Wellenlänge polymerisieren, während Komponente C) bei
Bestrahlung mit kürzerer Wellenlänge polymerisiert.
Der kationisch polymerisierbare Rest A) und der strahlungshärtbare
Rest C) können auch Teile ein und desselben Moleküls darstellen;
dabei handelt es sich dann um ein doppelt-funktionalisiertes
Material.
Zu den bevorzugten Materialien dieser Art zählen Ester einer
ethylenisch ungesättigten Monocarbonsäure, insbesondere einer
Estergruppe der Formel V, mit einer Epoxidgruppe. Bevorzugte
doppelt-funktionalisierte Materialien umfassen Glycidylacrylat,
Glycidylmethacrylat und Verbindungen, die sich durch Umsetzung einer
ungesättigten Monocarbonsäure mit einem stöchiometrischen Unterschuß
eines Di- oder Polyepoxids erhalten lassen.
Das Gewichtsverhältnis von kationisch polymerisierbarem Rest A) und
strahlungshärtbarem Rest C) kann in weiten Bereichen variiert
werden, solange wirksame Mengen beider Komponenten verwendet werden.
Kommen die Reste A) und C) in unterschiedlichen Molekülen vor, so
empfiehlt es sich, das Gewichtsverhältnis von A) : C) im Bereich
von 1 : 0.1 bis 1 : 10, insbesondere von 1 : 1 bis 1 : 5, zu wählen.
Die Menge an Photoinitiator B) ist ebenfalls nicht kritisch, solange
davon genügend Material eingesetzt wird, so daß die Polymerisation
von A) nach der ersten Bestrahlung initiiert wird.
Gängige Mengen von B) liegen im Bereich von 0,1-50 Gewichtsteilen,
bezogen auf 100 Gewichtsteile A); bevorzugt setzt man 0,2-10 Ge
wichtsteile von B) auf 100 Gewichtsteile A) ein.
Die Menge an organischem Peroxid oder Hydroperoxid liegt üblicher
weise im Bereich von 0,01-15 Gew.-%, bezogen auf die Menge an
Komponente A), bevorzugt werden 0,1-10 Gew.-%.
Die flüssigen Zusammensetzungen, die im vorliegenden Verfahren
eingesetzt werden können, können noch weitere Zusätze enthalten, die
auf dem Gebiet der photopolymerisierbaren Materialien bekannt sind
und üblicherweise eingesetzt werden.
Dazu zählen beispielsweise Pigmente, Farbstoffe, Füllstoffe und
Verstärkungsmittel, wie Glasfasern, Kohlefasern oder andere Fasern,
sowie Flammhemmer, Antistatikausrüstungen, Verlaufmittel, Anti
oxidantien, Lichtstabilisatoren und oberflächenaktive Verbindungen.
Beispiele für geeignete Quellen aktinischer Strahlung sind Kohle
lichtbögen, Quecksilberdampflampen, Leuchtstoffröhren mit ultra
violettemittierenden Phosphoren, Argon- und Xenon-Glühentladungs
lampen, Wolframlampen und photographische Flutlichtlampen. Für die
Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist es wesentlich,
daß die erste Bestrahlung mit Strahlung einer anderen Wellenlänge
als der im zweiten Bestrahlungsschritt verwendeten erfolgt.
Dazu bietet sich die Verwendung von Filtern an, um die Strahlung
der nicht gewünschten Wellenlänge im ersten Bestrahlungsschritt
herauszufiltern; dies hat den Vorteil, daß man im Verfahren eine
einzige Strahlungsquelle mit einem breiten Strahlungsspektrum
einsetzen kann.
Falls das Verfahren mit einer einzigen Strahlungsquelle durchgeführt
werden soll, so verwendet man bei der ersten Bestrahlung einen
Filter, so daß nur die zur Aktivierung des Polymerisationsinitia
tors B) benötigten Wellenlängen die Zusammensetzung erreichen. Im
zweiten Bestrahlungsschritt kann man das gesamte, nicht gefilterte
Spektrum der Strahlungsquelle einsetzen, so daß die Wellenlängen,
die die Härtung des Restes C) bewirken, die Zusammensetzung
erreichen.
Die Dauer der ersten Belichtung wird so gewählt, daß der Initia
tor B) aktiviert wird. In der Regel genügen einige Minuten.
Die in einem konkreten Fall benötigte Zeit kann mittels Routine
verfahren ermittelt werden. Der aktivierte Initiator B), der
gegebenenfalls zusammen mit einem organischen Peroxid oder Hydro
peroxid vorliegt, führt zur Polymerisation der Komponente A). In
einigen Fällen, insbesondere wenn eine Verbindung der Formel IV als
Initiator B) eingesetzt wird, wird ein Erhitzungsschritt notwendig
sein, um die Polymerisation einzuleiten. In diesen Fällen wird die
Zusammensetzung dann erhitzt, um den Rest A) zu polymerisieren; in
der Regel genügen dazu Temperaturen von 80-120°C.
Üblicherweise wählt man die Dauer des Erhitzungsschrittes so, daß
der Rest A) polymerisiert wird; in der Regel genügen einige Minuten.
Die Temperaturen und Erhitzungszeiten für ein bestimmtes System
können in einfacher Weise routinemäßig bestimmt werden.
Der Erhitzungsschritt kann natürlich auch durch Bestrahlen mit
Infrarotstrahlung nach dem ersten Bestrahlungsschritt erfolgen.
Die im erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzten Zusammensetzungen
werden üblicherweise als Flüssigkeiten auf ein Substrat aufgebracht.
Beispiele für mögliche Substrate sind Stahl, Aluminium, Kupfer,
Papier, Silizium oder Kunststoff.
Nach der Beschichtung wird in der Regel die erste Bestrahlung
durchgeführt je nach System gefolgt von der Erhitzungsstufe, wobei
sich die Zusammensetzung verfestigt. Das beschichtete Substrat
verhält sich dann stabil und kann, falls dies gewünscht wird,
längere Zeit unter Ausschluß von solcher Strahlung gelagert werden,
welche die Härtung von Komponente C) initiiert.
Falls gewünscht, kann das beschichtete Substrat dann bildmäßig mit
aktinischer Strahlung kürzerer Wellenlänge als derjenigen der ersten
Bestrahlung belichtet werden.
Diejenigen Teile der Beschichtung, die im zweiten Schritt nicht
belichtet wurden, können anschließend in einem Entwicklungsschritt
entfernt werden, beispielsweise durch Behandeln mit einem geeigneten
Lösungsmittel, wie Cyclohexanon, 2-Ethoxyethanol, γ-Butyrolaceton,
Toluol, Aceton oder Mischungen dieser Lösungsmittel; man kann je
nach der betreffenden Harzformulierung auch wäßrige Lösungen
verwenden, beispielsweise verdünnte wäßrige Natriumcarbonatlösung
oder verdünnte Natronlauge.
Man kann aber auch Trockenentwicklungsverfahren, wie beispielsweise
Plasmaätzen, verwenden.
Das erfindungsgemäße Verfahren läßt sich beispielsweise verwenden,
um Druckplatten oder gedruckte Schaltungen herzustellen.
Die folgenden Beispiele verdeutlichen die Erfindung. Dabei werden
folgende Harze eingesetzt:
Harz 1: Dabei handelt es sich um 4-Bromphenylglycidylether.
Harz 2: Dieses Harz wird nach folgendem Verfahren hergestellt:
250 g Diglycidylether von Bisphenol A wird auf 120°C erhitzt und
dazu tropft man unter Rühren eine Mischung aus 94,9 g Acrylsäure,
0,16 g Chrom-III-trisoctanoat (5%ige Lösung in Ligroin) und 0,5 g
2,6-Di-tert.butyl-4-methylphenol. Nach weiteren 5 Stunden Erhitzen
ist der Epoxidgehalt der Mischung vernachlässigbar. Bei diesem
Produkt handelt es sich also um 2,2-Bis-[4-(3-acryloyloxy-2-hydroxy
propoxy)-phenyl]-propan.
Harz 3: Dabei handelt es sich um Trimethylolpropantriacrylat.
Harz 4: Dabei handelt es sich um α-Pinenoxid.
Harz 5: Dabei handelt es sich um
3,4-Epoxycyclohexylmethyl-3',4,-epoxycyclohexancarboxylat.
Harz 6: Dabei handelt es sich um einen Polyglycidylether eines
o-Kresol-Novolaks. Das Produkt besitzt einen Erweichungspunkt
von 99°C und einen Epoxidgehalt von 4,2 Aequ./kg.
Harz 7: Dieses Harz wird gemäß folgendem Verfahren hergestellt:
100 g eines 2, 2-Bis-(4-hydroxyphenyl)-propandiglycidylethers mit
einem Epoxidgehalt von 1,6 Aequ./kg werden zusammen mit 0,1 g
2,6-Di-tert.butyl-4-methylphenol bis zur Schmelze erhitzt, anschließend
verrührt und auf 130°C erhitzt. Dazu tropft man während
30 Minuten unter fortwährendem Rühren eine Mischung aus 10,7 g Acryl
säure, 0,1 g Chrom-III-trisoctanoat (5%ige Lösung in Ligroin)
und 0,2 g 2,6-Di-tert.butyl-4-methylphenol. Das Erhitzen wird
2 Stunden lang fortgesetzt und danach ist der Epoxidgehalt der
Mischung vernachlässigbar. Dieses Produkt ist Harz 7.
Harz 8: Dabei handelt es sich um Phenylglycidylether.
Harz 9: Dabei handelt es sich um Pentaerithrit-tetraacrylat.
Harz 10: Dabei handelt es sich um Dibromcresylglycidylether.
Harz 11: Dieses Harz wird gemäß folgendem Verfahren hergestellt:
50 g 1, 5-Bis-(4-glycidyloxyphenyl)-penta-1,4-dien-3-on, 25 g
Dodecansäure und 0,2 g Chrom-III-trisoctanoat (5%ige Lösung in
Ligroin) werden bis zur Schmelze auf 120°C erhitzt. Dann beginnt man
zu rühren und hält die Temperatur 2 Stunden lang auf 120°C; nach
dieser Zeit beträgt der Epoxidgehalt 1,65 Mol/kg. Dieses Harz wird
mit 75 g Phenylglycidylether verdünnt und man erhält Harz 11.
Harz 12: Dieses Harz wird in Analogie zum Verfahren gemäß
J. Polym. Sci. - Polym. Chem., 21 1785 (1983) hergestellt.
17,3 g (0,1 Mol) 4-Bromphenol, 6 g (0,15 Mol) pulverisiertes
Natriumhydroxid und 30 ml Dimethylsulfoxid werden 30 Minuten unter
Stickstoff bei 25°C gerührt; anschließend rührt man 2 Stunden
bei 70°C.
Dann tropft man innerhalb von 30 Minuten 16 g (0,15 Mol) 2-Chlor
ethylvinylether zu und hält dabei die Temperatur unterhalb von 80°C.
Nach beendeter Addition wird weitere 4 Stunden bei 70°C gerührt.
Anschließend wird abgekühlt und das Reaktionsgemisch in 100 ml
Wasser gegossen. Der Niederschlag wird abgesaugt und im Vakuum
bei 40°C getrocknet.
In den folgenden Beispielen werden unterschiedliche Strahlungs
quellen eingesetzt:
I) 500 W Wolframlampe: Diese Lampe emittiert Strahlung einer
Wellenlänge von mehr als 450 nm. Die kurzwelligeren Anteile werden
aus dem Spektrum herausgefiltert.
II) 5000 W Metallhalogenidlampe: Diese Lampe emittiert hauptsächlich
Strahlung im Wellenlängenbereich von 340-450 nm.
III) Mitteldruck-Quecksilberlampe (80 W/cm): Diese Lampe emittiert
hauptsächlich Strahlung der Wellenlänge von 200-400 nm.
Man verrührt eine Mischung aus 4,5 Teilen Harz 1,
0,5 Teilen Harz 5, 5 Teilen Harz 2, 0,5 Teilen
[(Cumol)Fe(Cpd)]⁺PF6⁻ (Cpd = Cyclopentadienylanion), 0,15 Teilen
Benzildimethylketal, 0,3 Teilen Cumolhydroperoxid und 0,5 Teilen
Aceton bis eine Lösung entstanden ist. Damit beschichtet man ein
kupferkaschiertes Laminat, so daß eine Schicht von 36 µm Dicke
entsteht. Das beschichtete Laminat wird dann 10 Minuten lang in
einem Abstand von 20 cm mittels einer 500 W Wolframlampe belichtet.
Die verfestigte Beschichtung wird anschließend mittels einer
5000 W Metallhalogenidlampe durch ein Negativ bildmäßig belichtet,
wobei die Belichtungsdauer 2 Minuten und der Abstand des Substrates
von der Lampe 75 cm betragen.
Nach dem Entwickeln in einem Gemisch aus 5 Teilen Propylencarbonat,
3 Teilen Butyldigol (Diethylenglykolmonobutylether) und 2 Teilen
γ-Butyrolacton erhält man eine negative Abbildung der bildtragenden
Vorlage.
Man arbeitet wie in Beispiel 1 beschrieben. Die
Komponenten der in den einzelnen Beispielen eingesetzten Beschich
tungsmaterialien, die Bedingungen für die beiden Bestrahlungs
schritte und die Zusammensetzung der verwendeten Entwickler finden
sich in der folgenden Tabelle I. Nach dem ersten Bestrahlungsschritt
erhält man jeweils trockene Beschichtungen und nach dem Entwickeln
entsteht jeweils eine negative Abbildung der Vorlage.
Man verrührt eine Mischung aus 4 Teilen Harz 1,
6 Teilen Harz 2, 0,2 Teilen p-Chlorphenoxy-p-tolylphenoxysul
foxoniumhexafluorphosphat, 0,1 Teilen Bis-(i-methylcyclopentadienyl)-
bis-(η-hexanoxytetrafluorphenyl)-titan-IV und 0,1 Teilen Propylen
carbonat bis eine Lösung entstanden ist. Damit beschichtet man ein
kupferkaschiertes Laminat, so daß eine Schicht von 24 µm Dicke
entsteht.
Die Beschichtung wird dann in einem Abstand von 20 cm 20 Sekunden
lang mittels einer 80 W/cm Mitteldruck-Quecksilberlampe belichtet.
Die verfestigte Schicht wird anschließend mittels einer 5000 W
Metallhalogenidlampe durch ein Negativ bildmäßig belichtet, wobei
die Belichtungsdauer 3 Minuten und der Abstand zwischen Lampe und
Substrat 75 cm betragen. Man entwickelt durch leichtes Verreiben mit
einer Lösung aus 2 : 1 Volumenteilen Toluol:Aceton und erhält ein
negatives Abbild der Vorlage.
Man verfährt wie in Beispiel 9 beschrieben und stellt
eine Lösung aus 5 Teilen Harz 2, 5 Teilen Harz 4, 0,1 Teilen
Bis-(π-methylcyclopentadienyl)-bis-(η-hexanoxytetrafluorphenyl)-titan-IV,
0,25 Teilen Triphenylsulfoniumhexafluorantimonat und
0,25 Teilen Propylencarbonat her. Damit beschichtet man ein kupfer
kaschiertes Laminat, so daß eine Schicht von 24 µm Dicke entsteht.
Die Beschichtung wird dann in einem Abstand von 20 cm 60 Sekunden
lang mittels 80 W/cm Mitteldruck-Quecksilberlampe belichtet. Die
verfestigte Schicht wird anschließend mittels einer 5000 W Metall
halogenidlampe durch ein Negativ bildmäßig belichtet, wobei die
Belichtungsdauer 3 Minuten und der Abstand zwischen Lampe und
Substrat 75 cm betragen. Man entwickelt durch leichtes Verreiben mit
Ethanol und erhält ein negatives Abbild der Vorlage.
Man verrührt eine Mischung aus 5 Teilen Harz 1,
5 Teilen Harz 7, 0,5 Teilen [(Cumol)Fe(Cpd)]PF6, 0,5 Teilen Benzil
dimethylketal und 1 Teil Aceton bis eine Lösung entstanden ist.
Damit beschichtet man ein kupferkaschiertes Laminat, so daß eine
Schicht von 12 µm Dicke entsteht. Das beschichtete Laminat wird dann
10 Minuten lang in einem Abstand von 20 cm mittels einer 500 W
Wolframhalogenlampe belichtet. Anschließend wird die Probe
5 Minuten lang auf 90°C erhitzt und man erhält eine klebfreie
Beschichtung. Die verfestigte Beschichtung wird anschließend
mittels einer 5000 W Metallhalogenidlampe durch ein Negativ bildmäßig
belichtet, wobei die Belichtungsdauer 2 Minuten und der
Abstand des Substrates von der Lampe 75 cm betragen. Die Lampe
erzeugt Strahlung im Wellenlängenbereich von 340-450 nm. Nach dem
Entwickeln in Propylencarbonat erhält man eine negative Abbildung
der Vorlage.
Man verrührt eine Mischung aus 2 Teilen Harz 1,
4 Teilen Harz 5, 4 Teilen Harz 2, 0,6 Teilen [(Cumol)Fe(cpd)] PF6,
0,4 Teilen Benzildimethylketal und 0,5 Teilen Aceton bis eine Lösung
entstanden ist. Damit beschichtet man ein kupferkaschiertes Laminat,
so daß eine Schicht von 12 µm Dicke entsteht. Das beschichtete
Laminat wird dann 3 Minuten lang in einem Abstand von 20 cm mittels
einer 500 W Wolframhalogenlampe belichtet. Anschließend wird die
Probe 3 Minuten lang auf 90°C erhitzt und man erhält eine klebfreie
Beschichtung. Die verfestigte Beschichtung wird dann mittels einer
5000 W Metallhalogenidlampe durch ein Negativ bildmäßig belichtet,
wobei die Belichtungsdauer 2 Minuten beträgt und der Abstand des
Substrates von der Lampe 75 cm beträgt. Nach dem Entwickeln in
1,1,1-Trichlorethan entsteht ein negatives Abbild der Vorlage.
Man arbeitet wie in Beispielen 11 und 12 beschrie
ben. Die Komponenten der in den einzelnen Beispielen eingesetzten
Beschichtungsmaterialien, die Bedingungen für die beiden Bestrah
lungsschritte sowie für den Temperschritt nach der ersten Bestrah
lung und die Zusammensetzung der verwendeten Entwickler finden sich
in der folgenden Tabelle II. Nach dem ersten Bestrahlungsschritt und
dem folgenden Temperschritt erhält man jeweils trockene Beschich
tungen und nach dem Entwickeln entsteht eine negative Abbildung der
Vorlage.
Claims (19)
1. Flüssige photovernetzende Zusammensetzung enthaltend:
- A) einen kationisch polymerisierbaren Rest,
- B) einen strahlungsaktivierbaren Polymerisationsinitiator für A) und
- C) einen strahlungshärtbaren Rest, der sich von A) unterscheidet,
2. Zusammensetzung nach Anspruch 1, die weiterhin
D) einen strahlungsaktivierbaren Initiator für die Härtung von G) enthält,
mit der Maßgabe, daß der strahlungshärtbare Rest C) und der Initiator D) bei einer
anderen als der zur Aktivierung von B) benötigten Wellenlänge aktivierbar ist.
3. Zusammensetzung gemäß Anspruch 1 oder 2, enthaltend eine Mischung aus einer
oder mehreren kationisch polymerisierbaren Verbindungen und aus einer oder mehreren
Verbindungen, die nur bei Belichtung mit kürzerer Wellenlänge als der zur Aktivierung von
B) benötigten polymerisieren.
4. Zusammensetzung gemäß Anspruch 1 oder 2, enthaltend eine oder mehrere doppelt
funktionalisierte Verbindungen, die in einem Molekül zwei Typen photopolymerisierbarer
Reste enthalten, von denen der eine lediglich bei Bestrahlung mit anderer als zur
Aktivierung von B) benötigten Wellenlänge aktiviert wird.
5. Zusammensetzung gemäß Anspruch 1 oder 2, enthaltend den Rest A) in Form eines
1,2-Epoxids, eines Vinylethers oder einer Mischung dieser Verbindungen.
6. Zusammensetzung gemäß Anspruch 5, enthaltend den Rest A) in Form eines
Glycidylethers eines Alkohols oder Phenols, eines cycloaliphatischen Epoxidharzes, eines
Glycidylesters oder eines Vinyloxyalkylethers eines Phenols.
7. Zusammensetzung gemäß Anspruch 1 oder 2, worin der Initiator B) wenigstens eine
Verbindung der Formel I enthält
[R+an] an/q[LQm]-q (I)
worin L ein zweiwertiges bis siebenwertiges Metall oder Nichtmetall ist, O ein Halogenatom bedeutet oder einer der Reste Q auch eine Hydroxylgruppe sein kann, q eine ganze Zahl von 1 bis 3 ist, m eine ganze Zahl ist, die der Wertigkeit von L + q entspricht, a die Zahl 1 oder 2 bedeutet, n eine ganze Zahl von 1 bis 3 bedeutet und R ein Ion ist, das ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus
[R+an] an/q[LQm]-q (I)
worin L ein zweiwertiges bis siebenwertiges Metall oder Nichtmetall ist, O ein Halogenatom bedeutet oder einer der Reste Q auch eine Hydroxylgruppe sein kann, q eine ganze Zahl von 1 bis 3 ist, m eine ganze Zahl ist, die der Wertigkeit von L + q entspricht, a die Zahl 1 oder 2 bedeutet, n eine ganze Zahl von 1 bis 3 bedeutet und R ein Ion ist, das ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus
- (i) Ar-I⁺-Ar',
- (ii) [Y-Z-(CO)x]⁺,
- (iii) aromatischen Diazonium Ionen,
- (iv) [R1(R2M)a]+an.
- (v) aromatischen Sulfoniumionen und
- (vi) aromatischen Sulfoxoniumionen.
8. Zusammensetzung gemäß Anspruch 7, bei der das Kation R+an des Initiators B) die
Formel (iv) aufweist.
9. Zusammensetzung gemäß Anspruch 8, die zusätzlich noch ein organisches Peroxid,
Hydroperoxid oder Chinon enthält.
10. Zusammensetzung gemäß Anspruch 8, wobei M ausgewählt ist aus der Gruppe
bestehend aus Chrom, Kobalt, Mangan, Wolfram, Molybdän oder Eisen und [LQm]-q
ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus BF4⁻, PF6⁻, AsF6⁻, SbF6⁻, SbF5(OH)⁻, FeCl4⁻,
SnCl6⁻, SbCl6⁻ und BiCl6⁻.
11. Zusammensetzung gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei das Material enthaltend den
Rest C) wenigstens zwei Reste enthält, die ausgewählt sind aus der Gruppe bestehend aus
Azid, Coumarin, Stilben, Maleinimid, Pyridinon, Chalcon, Propenon, Pentadienon,
Anthracen, einer α,β-ethylenisch ungesättigten Estergruppe mit einem aromatischen Rest,
einer ethylenisch ungesättigten Gruppe in Konjugation mit einer derartigen α,β-ethylenisch
ungesättigten Estergruppe und einem kationisch polymerisierbaren Rest.
12. Zusammensetzung gemäß Anspruch 11, wobei das Material enthaltend den
härtbaren Rest C) ein Acrylester ist, der wenigstens zwei Reste der Formel V
CH2=C(R3)-CO-O- (V),
worin R3 Wasserstoff, Chlor, Methyl oder Ethyl bedeutet.
CH2=C(R3)-CO-O- (V),
worin R3 Wasserstoff, Chlor, Methyl oder Ethyl bedeutet.
13. Zusammensetzung gemäß Anspruch 11, wobei der Rest C) ein 1,2-Epoxid ist.
14. Zusammensetzung gemäß Anspruch 2, enthaltend einen Initiator D)
ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Benzoinethern, Acyloinethern, halogenierten
Alkyl- oder Arylderivaten, aromatischen Carbonylverbindungen, Metallocenen, Mischungen
von organometallischen Verbindungen der Gruppe IVA mit photoreduzierbaren
Farbstoffen, Mischungen eines Chinons und eines aliphatischen Amins enthaltend ein
Wasserstoffatom an einem aliphatischen α-Kohlenstoff, aliphatischen Dicarbonyl-
Verbindungen, gegebenenfalls gemischt mit einem Amin, 3-Ketocoumarinen,
Acylphosphinoxiden, Metallcarbonylen, Oniumsalzen oder Mischungen eines
photoreduzierbaren Farbstoffs mit einem Reduktionsmittel.
15. Zusammensetzung gemäß Anspruch 1 oder 2, worin das Gewichtsverhältnis zwischen
kationisch polymerisierbarem Rest A) und strahlungshärtbarem Rest C) 1 : 0,1 bis
1 : 10 beträgt und worin auf 100 Gewichtsteile des Restes A) 0,1 bis 50 Gewichtsteile des
Initiators B) kommen.
16. Zusammensetzung gemäß Anspruch 8, enthaltend
- A) ein cycloaliphatisches Epoxidharz,
- B) einen Glycidylether sowie
- D) ein Oniumsalz,
wobei der Initiator B) ein Salz gemäß Anspruch 8 mit dem Anion BF4⁻ oder PF6⁻ ist.
17. Verfahren zur Herstellung von Abbildungen umfassend die Schritte
- i) Beschichten eines Substrats mit einer flüssigen Zusammensetzung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 16,
- ii) Bestrahlen der Zusammensetzung mit Strahlung einer Wellenlänge des sichtbaren oder ultravioletten Spektrums, bei der der Initiator B) der Zusammensetzung aktiviert wird, aber bei der der Rest C) und/oder der Initiator D) der Zusammensetzung im wesentlichen nicht aktiviert werden, so daß A) polymerisiert und die flüssige Schicht sich verfestigt aber photohärtbar bleibt,
- iii) Bestrahlen der verfestigten Schicht in einem vorbestimmten Muster mit Strahlung anderer Wellenlänge als der in Schritt (ii) verwendeten, so daß der Rest C) und/oder der Initiator D) aktiviert werden und C) in den bestrahlten Teilen im wesentlichen gehärtet wird und
- iv) Entfernen derjenigen Anteile der verfestigten Schicht die nicht im wesentlichen gehärtet sind.
18. Verfahren nach Anspruch 17, bei dem der Bestrahlung in Schritt ii) ein Erhitzen der
Zusammensetzung folgt.
19. Verfahren nach Anspruch 18, bei dem die flüssige Zusammensetzung eine
Zusammensetzung gemäß Anspruch 8 ist.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB868611480A GB8611480D0 (en) | 1986-05-10 | 1986-05-10 | Forming images |
GB868614529A GB8614529D0 (en) | 1986-06-14 | 1986-06-14 | Forming images |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3715181A1 DE3715181A1 (de) | 1987-11-12 |
DE3715181C2 true DE3715181C2 (de) | 1998-10-29 |
Family
ID=26290751
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3715181A Expired - Fee Related DE3715181C2 (de) | 1986-05-10 | 1987-05-07 | Flüssige photovernetzende Zusammensetzung |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4849320A (de) |
JP (1) | JP2660835B2 (de) |
BE (1) | BE1001615A4 (de) |
CA (1) | CA1315592C (de) |
CH (1) | CH678897A5 (de) |
DE (1) | DE3715181C2 (de) |
ES (1) | ES2003717A6 (de) |
FR (1) | FR2598522B1 (de) |
GB (1) | GB2191199B (de) |
IT (1) | IT1205008B (de) |
NL (1) | NL8701100A (de) |
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- 1987-05-08 CA CA000536658A patent/CA1315592C/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-05-11 JP JP62114400A patent/JP2660835B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|
SE8701902L (sv) | 1987-11-11 |
IT1205008B (it) | 1989-03-10 |
CA1315592C (en) | 1993-04-06 |
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GB8710794D0 (en) | 1987-06-10 |
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DE3715181A1 (de) | 1987-11-12 |
CH678897A5 (de) | 1991-11-15 |
GB2191199B (en) | 1990-06-13 |
BE1001615A4 (fr) | 1989-12-19 |
NL8701100A (nl) | 1987-12-01 |
FR2598522B1 (fr) | 1994-05-27 |
JPS62273529A (ja) | 1987-11-27 |
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IT8720448A0 (it) | 1987-05-08 |
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SE467379B (sv) | 1992-07-06 |
FR2598522A1 (fr) | 1987-11-13 |
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8127 | New person/name/address of the applicant |
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8364 | No opposition during term of opposition | ||
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8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
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8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |