DE3805380A1 - Vorrichtung zum herstellen von schichten mit gleichmaessigem dickenprofil auf substraten, insbesondere durch kathodenzerstaeubung - Google Patents

Vorrichtung zum herstellen von schichten mit gleichmaessigem dickenprofil auf substraten, insbesondere durch kathodenzerstaeubung

Info

Publication number
DE3805380A1
DE3805380A1 DE3805380A DE3805380A DE3805380A1 DE 3805380 A1 DE3805380 A1 DE 3805380A1 DE 3805380 A DE3805380 A DE 3805380A DE 3805380 A DE3805380 A DE 3805380A DE 3805380 A1 DE3805380 A1 DE 3805380A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
substrate
carriage
magnets
cathode
coating chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE3805380A
Other languages
English (en)
Other versions
DE3805380C2 (de
Inventor
Peter Dr Wirz
Heinz-Wilhelm Pfannekuche
Thomas Bathon
Karl Eckert
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Original Assignee
Leybold AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leybold AG filed Critical Leybold AG
Priority to DE3805380A priority Critical patent/DE3805380C2/de
Priority to US07/177,969 priority patent/US4869802A/en
Priority to JP1038511A priority patent/JPH01255667A/ja
Publication of DE3805380A1 publication Critical patent/DE3805380A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3805380C2 publication Critical patent/DE3805380C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • C23C14/505Substrate holders for rotation of the substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorichtung zum Herstellen von Schichten mit gleichmäßigem Dickenprofil auf Sub­ straten, insbesondere durch Kathodenzerstäubung, bestehend aus einer Beschichtungskammer, einer in dieser ortsfest gehaltenen Zerstäubungskathode und einem durch die Beschichtungskammer quer zur Bestäu­ bungskathode bewegbaren, in Schienen und/oder zwischen Gleit- oder Wälzkörpern gehalten und geführten Sub­ stratschlitten.
Es ist eine Vorrichtung bekannt (DE-OS 33 06 870), bestehend aus einer Zerstäubungskathode und Substrat­ haltern auf einem gemeinsamen Fahrgestell, welches unter Ausführung einer kontinuierlichen Drehbewegung der Substrathalter gegenüber der Zerstäubungskathode verfahrbar ist. Am Fahrgestell ist dazu eine Mit­ nehmerrolle angeordnet, deren Drehachse senkrecht zur Fahrtrichtung verläuft, wobei parallel zur Fahrtrich­ tung ein Antriebsorgan angeordnet ist, mit dem die Mitnehmerrolle auf einem Teil ihres Weges in Eingriff steht und wobei die Mitnehmerrolle mit einem Sub­ strathalter gekuppelt ist. Das Antriebsorgan ist als Endloskette ausgebildet, die über zwei in Fahrtrich­ tung hintereinanderliegende Kettenräder geführt ist, die über einen Antriebsmotor in Umlauf versetzbar ist, wobei jede Mitnehmerrolle über ein Kegelrad-Getriebe mit einem Substrathalter zusammenwirkt.
Diese bekannte Vorrichtung hat unter anderem den Nachteil, außerordentlich aufwendig und voluminös und gleichzeitig wenig betriebssicher zu sein.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung des eingangs genannten Typs zu schaffen, die ohne mechanische Getriebe arbeitet, eine besonders flache Bauweise ermöglicht und ohne Wartung auskommt, so daß in keinem Falle ein Öffnen der Beschichtungskammer erforderlich ist.
Erfindungsgemäß wird dies dadurch erreicht, daß auf dem Substratschlitten eine oder mehrere Substrat­ scheiben drehbar gelagert sind, deren Rotationsachsen jeweils quer zur Bewegungsebene des Substratschlittens angeordnet sind, wobei auf der der Kathode abgewandten Seite des Substratschlittens in der Beschichtungs­ kammer eine Vielzahl von in einer Reihe angeordneten Magneten ortsfest gelagert sind, deren Magnetisie­ rungsrichtung jeweils senkrecht zur Bewegungsrichtung des Substratschlittens verläuft, wobei die Magnetisie­ rung zweier benachbarter Magnete jeweils antiparallel ist und sich die Magnetreihe in einer zur Bewegungs­ ebene des Substratschlittens parallelen Ebene er­ streckt und mit Magnetscheiben zusammenwirkt, die auf der Nabe der Substratscheibe befestigt sind und deren Magnetisierungsrichtung senkrecht zur Nabenachse verläuft.
Bei einer alternativen Ausführungsform der Vorrichtung sind auf dem Substratschlitten auf seiner der Kathode zugewandten Seite eine oder mehrere Substratscheiben drehbar gelagert, deren Rotationsachsen jeweils quer zur Bewegungsebene des Substratschlittens angeordnet sind, wobei auf der der Kathode abgewandten Seite des Substratschlittens in der Beschichtungskammer ein Elektromagnet ortsfest angeordnet ist, mit einem Magnetjoch, dessen Polschuhe mit einem Magnetplättchen zusammenwirken, die jeweils an der Nabe der Substrat­ scheibe befestigt sind und deren Magnetisierungs­ richtung senkrecht zur Nabenachse verläuft, wobei die einander zugekehrten Innenflächen der Polschuhe parallel zur Bewegungsrichtung des Substratschlittens angeordnet sind.
Mit Vorteil ist dazu der Substratschlitten als eine im wesentlichen rechteckige Platte ausgebildet, auf deren Oberseite mehrere Substratscheiben drehbar gelagert sind, wobei die zugehörigen Drehachsen jeweils durch Lagerbohrungen im Substratschlitten nach unten zu hin­ durchgeführt sind und mit Magnetscheiben drehfest ver­ bunden sind, die mit Magneten der Magnetreihe oder dem Elektromagneten zusammenwirken.
Vorzugsweise ist sowohl jede Substratscheibe als auch jede zugehörige Magnetscheibe mit einer Nabe versehen, die beide drehfest über eine Drehachse verbunden sind, wobei jeweils ein Nabenpaar mit einem Wälzlager zusam­ menwirkt, dessen Lagerkäfig am Substratschlitten ge­ halten ist.
Um einen im Drehsinn der Substratscheiben besonders wirksamen Scheibenstrom zu erzeugen, ist die sich längs zur Bewegungsrichtung des Substratschlittens erstreckende Magnetreihe so angeordnet, daß sich die Magnetscheiben unmittelbar und in geringem Abstand an den einzelnen Magneten auf ihrem Weg durch die Be­ schichtungskammer vorbeibewegen.
Zweckmäßigerweise ist die Magnetreihe seitlich neben der mit der Nabe rotierenden Magnetscheibe und unmit­ telbar unterhalb des Substratschlittens und parallel zu diesem angeordnet.
Die Erfindung läßt die verschiedensten Ausführungs­ möglichkeiten zu; eine davon ist in den anhängenden Zeichnungen schematisch näher dargestellt, und zwar zeigen:
Fig. 1 eine Beschichtungskammer mit einer an der oberen Wandung befestigten Zer­ stäubungskathode und einem unterhalb der Kathode auf Rollen gelagerten Sub­ stratschlitten und einer zwischen Sub­ stratschlitten und der unteren Wand der Beschichtungskammer gehaltenen Reihe von Permanentmagneten,
Fig. 2 einen Teilschnitt des Abschnitts Z des Substratschlittens gemäß Fig. 1 in ver­ größerter Darstellung,
Fig. 3 die Draufsicht auf einen Abschnitt des Substratschlittens in vergrößerter Dar­ stellung,
Fig. 4 einen Elektromagneten mit einem Magnet­ joch, dessen Polschuhe der an einer Nabe der Substratscheibe befestigten Magnetscheibe zugekehrt angeordnet sind, wobei die Innenflächen der Pol­ schuhe parallel der Bewegungsrichtung des Substratschlittens verlaufen.
Die Vorrichtung zum Herstellen von Schichten mit gleichmäßigem Dickenprofil besteht im wesentlichen aus einem eine Beschichtungskammer 2 haltenden Maschinen­ gestell 1, wobei die Beschichtungskammer 2 ein etwa rechteckiges Querschnittsprofil aufweist. Im Innneren der Beschichtungskammer 2 sind die Zerstäubungskathode 3 und zwei zueinander parallele Reihe von Lagerböcken 4, 4′, 4′′, ... mit auf ihnen drehbar gelagerten Füh­ rungsrollen 5, 5′, 5′′, ... angeordnet, auf die der Substratschlitten 6 geführt ist. Die beiderseits offene Beschichtungskammer 2 korrespondiert mit zwei Schleusen, die in der Zeichnung nicht näher darge­ stellt sind und die einerseits das Ein- und Ausfahren des Substratschlittens 6 (in Pfeilrichtung C) in bzw. aus der Beschichtungskammer 2 ermöglichen und ande­ rerseits das Innere der Beschichtungskammer 2 druck­ dicht abschließen. Der Substratschlitten 6 liegt mit in seinen beiden zueinander parallelen Längskanten 9, 9′ eingearbeiteten V-förmigen Längsnuten 8, 8′ an den Rollen 5, 5′, ... an, deren obere umlaufende Ränder 7, 7′ verrundet sind, wobei der Abstand A der beiden Längskanten 9, 9′ des Substratschlittens 2 geringfügig größer bemessen ist als der Abstand B, den die umlau­ fenden Ränder 7, 7′ zweier einander gegenüberliegender Führungsrollen 5, 5′ voneinander haben. Die Bewegung des Substratschlittens 6 in Pfeilrichtung C wird dadurch bewirkt, daß die Rollen 5, 5′, 5′′, ... über in den Lagerböcken 4, 4′, 4′′, ... angeordnete Elektro­ motore angetrieben sind, wobei die Drehrichtung der Rollen 5, 5′, ... der einen Rollenreihe entgegenge­ setzt der Drehrichtung der Rollen 5′, 5′′′, ... der anderen Rollenreihe ist.
Wie Fig. 1 zeigt, sind unterhalb des Substratschlit­ tens 6 Magnete 11, 11′, ... in einer Reihe angeordnet, deren Magnetisierungsrichtung jeweils senkrecht zur Längsrichtung der Beschichtungskammer 2 verläuft. Innerhalb der Reihe von Einzelmagneten 11, 11′, ... stehen die Magnetisierungen benachbarter Magnete antiparallel. Während der Bewegung des Substrat­ schlittens 6 in Richtung C wird in den auf dem Sub­ stratschlitten 6 gelagerten Magnetscheiben 12, 12′, ... ein Scheibenstrom erzeugt, der die Magnetscheiben 12, 12′, ... und die über Naben 14, 14′, ..., 15, 15′, ... mit diesen drehfest verbundenen Substratscheiben 13, 13′, ... in Drehung D versetzt.
Während des Beschichtungsvorgangs transportieren die sich synchron drehenden Rollen 5, 5′, ... den Sub­ stratschlitten 6 langsam in Pfeilrichtung C, wobei gleichzeitig die mit Hilfe der ortsfesten Permanent­ magneten 11, 11′, ... in Drehung versetzten Magnet­ scheiben 12, 12′, ... auch die mit diesen drehfest gelagerten Substratscheiben 13, 13′, ... angetrieben werden.
Die vorstehend beschriebene Vorrichtung hat den Vor­ teil, daß praktisch jede Partie eines auf der Sub­ stratscheibe abgelegten oder befestigten Werkstücks, beispielsweise eines Wafers oder einer Compact Disk, nicht nur mit gleichmäßiger Geschwindigkeit in Pfeil­ richtung C durch die Beschichtungskammer 2 hindurch und an der Zerstäubungskathode 3 vorbeibewegt wird, sondern sich auch gleichzeitig quer zur Durchlaufrich­ tung C bewegt, wodurch auch eine besonders gleichmäßi­ ge bzw. rotationssymmetrische Schichtdicke herstellbar ist. Die Vorrichtung arbeitet außerordentlich zuver­ lässig und praktisch verschleißfrei. Eine Schmierung oder besondere Wartung irgendwelcher Teile des An­ triebs entfällt. Weiterhin arbeitet die Vorrichtung nahezu geräuschfrei, da beispielsweise Geräusche erzeugende Zahnradgetriebe oder Zahnriemenantriebe nicht vorhanden sind. Der Beschichtungsvorgang läßt sich schließlich durch in die Wand der Beschich­ tungskammer 2 eingebaute Sichtfenster genau verfolgen, da die Magnetreihe 18 unterhalb des Substratschlittens 6 von Magnethaltern 25 getragen ist, womit eine freie Sicht auf die Substrate möglich ist.
Bei der in Fig. 4 dargestellten Ausführungsform der Vorrichtung ist ein Elektromagnet 19 auf der der Kathode 3 abgekehrten Seite des Substratschlittens 6 angeordnet. Dieser Elektromagnet 19 hat ein etwa prismatisches, langgestrecktes Magnetjoch 24 mit einer vom elektrischen Strom durchflossenen Magnetspule 26 und zwei rippenförmigen Polschuhen 20, 21, deren Innenflächen 22, 23 einander zugekehrt ausgeformt sind. Die beiden Polschuhe 20, 21 bilden zusammen einen langgestreckten Spalt 27, der so ausgebildet ist, daß die Magnetscheiben 12, 12′, ... bei der Längsbewegung des Substratschlittens in Pfeilrichtung C in diesem Spalt 27 entlangfahren. In Fig. 4 ist also der Substratschlitten 8 so dargestellt, daß seine Bewegung in Richtung auf den Betrachter zu (bzw. von diesem weg) erfolgt. Es ist klar, daß anstelle eines einzigen Elektromagneten 19 auch deren mehrere hinter­ einanderliegend angeordnet sein können, wobei aller­ dings die Polschuhe einer Seite genau fluchten müssen, so daß eine Berührung mit einer Magnetscheibe 12, 12′, ... ausgeschlossen ist.
Auflistung der Einzelteile:
 1 Maschinengestell
 2 Beschichtungskammer
 3 Zerstäubungskathode
 4 Lagerbock
 5 Rolle, Führungsrolle
 6 Substratschlitten
 7 umlaufender Rand der Rolle
 8 Längsnut (V-förmig)
 9 Längskante
10 Welle
11 Magnet
12 Magnetscheibe
13 Substratscheibe
14 Nabe
15 Nabe
16 Drehachse
17 Wälzlager
18 Magnetreihe
19 Elektromagnet
20 Polschuh
21 Polschuh
22 Innenfläche
23 Innenfläche
24 Magnetjoch
25 Magnethalter
26 Magnetspule
27 Spalt

Claims (6)

1. Vorrichtung zum Herstellen von Schichten mit gleichmäßigem Dickenprofil auf Substraten, ins­ besondere durch Kathodenzerstäubung, bestehend aus einer Beschichtungskammer, einer in dieser ortsfest gehaltenen Zerstäubungskathode und einem durch die Beschichtungskammer quer zur Bestäu­ bungskathode bewegbaren, in Schienen und/oder zwischen Gleit- oder Wälzkörpern gehalten und geführten Substratschlitten, dadurch gekennzeich­ net, daß auf dem Substratschlitten (6) auf seiner der Kathode (3) zugewandten Seite ein oder mehrere Substratscheiben (13, 13′, ...) drehbar gelagert sind, deren Rotationsachsen jeweils quer zur Bewegungsebene des Substratschlittens (6) angeordnet sind, wobei auf der der Kathode (3) abgewandten Seite des Substratschlittens (6) in der Beschichtungskammer (2) eine Vielzahl von in eine Reihe angeordneten Magneten (11, 11′, ...) ortsfest gelagert sind, deren Magnetisierungs­ richtung jeweils senkrecht zur Bewegungsrichtung (c) des Substratschlittens (6) verläuft, wobei die Magnetisierung zweier benachbarter Magnete (11, 11,) jeweils antiparallel ist und sich die Magnetreihe (18) in einer zur Bewegungsebene des Substratschlittens (6) parallelen Ebene erstreckt und mit Magnetscheiben (12, 12′, ...) zusammen­ wirkt, die auf der Nabe (15, 15′, ...) der Sub­ stratscheibe (13, 13′, ...) befestigt sind und deren Magnetisierungsrichtung senkrecht zur Nabenachse verläuft.
2. Vorrichtung zum Herstellen von Schichten mit gleichmäßigem Dickenprofil auf Substraten, ins­ besondere durch Kathodenzerstäubung, bestehend aus einer Beschichtungskammer, einer in dieser ortsfest gehaltenen Zerstäubungskathode und einem durch die Beschichtungskammer quer zur Bestäu­ bungskathode bewegbaren, in Schienen und/oder zwischen Gleit- oder Wälzkörpern gehalten und geführten Substratschlitten, dadurch gekennzeich­ net, daß auf dem Substratschlitten (6) auf seiner der Kathode (3) zugewandten Seite eine oder mehrere Substratscheiben (13, 13′, ...) drehbar gelagert sind, deren Rotationsachsen jeweils quer zur Bewegungsebene des Substratschlittens (6) angeordnet sind, wobei auf der der Kathode (3) abgewandten Seite des Substratschlittens (6) in der Beschichtungskammer (2) ein Elektromagnet (19) ortsfest angeordnet ist, mit einem Magnet­ joch (24), dessen Polschuhe (20, 21) mit Magnet­ plättchen (12, 12′, ...) zusammenwirken, die jeweils an der Nabe (15, 15′, ...) der Substrat­ scheibe (13, 13′, ...) befestigt sind und deren Magnetisierungsrichtung senkrecht zur Nabenachse verläuft, wobei die einander zugekehrten Innen­ flächen (22, 23) der Polschuhe (20, 21) parallel zur Bewegungsrichtung (C) des Substratschlittens (6) angeordnet sind.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Substratschlitten (6) als eine im wesentlichen rechteckige Platte ausge­ bildet ist, auf deren Oberseite mehrere Substrat­ scheiben (13, 13′, ...) drehbar gelagert sind, wobei die zugehörigen Drehachsen (16, 16′, ...) jeweils durch Lagerbohrungen im Substratschlitten (6) nach unten zu hindurchgeführt sind und mit Magnetscheiben (12, 12′, ...) drehfest verbunden sind, die mit Magneten (11, 11′, ...) der Magnet­ reihe (18) oder dem Elektromagneten (19) zusam­ menwirken.
4. Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß sowohl jede Substratscheibe (13, 13′, ...) als auch jede zugehörige Magnet­ scheibe (12, 12′, ...) eine Nabe (14, 14′, ... bzw. 15, 15′, ...) aufweist, die beide drehfest über eine Drehachse (16, 16′, ...) verbunden sind, wobei jeweils ein Nabenpaar mit einem Wälzlager (17, 17′, ...) zusammenwirkt, dessen Lagerkäfig am Substratschlitten (6) gehalten ist.
5. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprü­ che 1, 3 und 4, dadurch gekennzeichnet, daß die sich längs zur Bewegungsrichtung (c) des Sub­ stratschlittens (6) erstreckende Magnetreihe (18) so angeordnet ist, daß sich die Magnetscheiben (12, 12′, ...) unmittelbar und in geringem Abstand an den einzelnen Magneten (11, 11′, ...) auf ihrem Weg durch die Beschichtungskammer (2) vorbeibewegen.
6. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher­ gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Magnetreihe (18) seitlich neben den mit den Naben (15, 15′, ...) rotierenden Magnetscheiben (12, 12′, ...) und unmittelbar unterhalb des Substratschlittens (6) und parallel zu diesem angeordnet ist.
DE3805380A 1988-02-20 1988-02-20 Vorrichtung zum Herstellen von Schichten mit gleichmäßigem Dickenprofil auf Substraten durch Kathodenzerstäubung Expired - Fee Related DE3805380C2 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3805380A DE3805380C2 (de) 1988-02-20 1988-02-20 Vorrichtung zum Herstellen von Schichten mit gleichmäßigem Dickenprofil auf Substraten durch Kathodenzerstäubung
US07/177,969 US4869802A (en) 1988-02-20 1988-04-05 Apparatus for the production of coatings of uniform thickness profile on substrates, especially by cathode sputtering
JP1038511A JPH01255667A (ja) 1988-02-20 1989-02-20 基体の上に一様な厚さプロフイールを有する層を製作するための装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3805380A DE3805380C2 (de) 1988-02-20 1988-02-20 Vorrichtung zum Herstellen von Schichten mit gleichmäßigem Dickenprofil auf Substraten durch Kathodenzerstäubung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3805380A1 true DE3805380A1 (de) 1989-08-31
DE3805380C2 DE3805380C2 (de) 1995-11-30

Family

ID=6347839

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE3805380A Expired - Fee Related DE3805380C2 (de) 1988-02-20 1988-02-20 Vorrichtung zum Herstellen von Schichten mit gleichmäßigem Dickenprofil auf Substraten durch Kathodenzerstäubung

Country Status (3)

Country Link
US (1) US4869802A (de)
JP (1) JPH01255667A (de)
DE (1) DE3805380C2 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6183615B1 (en) 1992-06-26 2001-02-06 Tokyo Electron Limited Transport system for wafer processing line

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5705044A (en) 1995-08-07 1998-01-06 Akashic Memories Corporation Modular sputtering machine having batch processing and serial thin film sputtering
JPH1021586A (ja) * 1996-07-02 1998-01-23 Sony Corp Dcスパッタリング装置
US6770146B2 (en) 2001-02-02 2004-08-03 Mattson Technology, Inc. Method and system for rotating a semiconductor wafer in processing chambers
JP5149285B2 (ja) * 2009-03-02 2013-02-20 キヤノンアネルバ株式会社 スパッタリングにより成膜する磁気デバイスの製造装置及び磁気デバイスの製造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3306870A1 (de) * 1983-02-26 1984-08-30 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Vorrichtung zum herstellen von schichten mit rotationssymmetrischem dickenprofil durch katodenzerstaeubung

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3039952A (en) * 1959-03-25 1962-06-19 Western Electric Co Apparatus for depositing films on article surfaces
US4650064A (en) * 1985-09-13 1987-03-17 Comptech, Incorporated Substrate rotation method and apparatus

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3306870A1 (de) * 1983-02-26 1984-08-30 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Vorrichtung zum herstellen von schichten mit rotationssymmetrischem dickenprofil durch katodenzerstaeubung

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6183615B1 (en) 1992-06-26 2001-02-06 Tokyo Electron Limited Transport system for wafer processing line

Also Published As

Publication number Publication date
JPH01255667A (ja) 1989-10-12
DE3805380C2 (de) 1995-11-30
US4869802A (en) 1989-09-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0254145B1 (de) Transporteinrichtung mit Rollensystemen für Vakuum-Beschichtungsanlagen
DE2902197C2 (de)
DE60219212T2 (de) Speichersystem für datenträger
DE3306870A1 (de) Vorrichtung zum herstellen von schichten mit rotationssymmetrischem dickenprofil durch katodenzerstaeubung
DE3805380C2 (de) Vorrichtung zum Herstellen von Schichten mit gleichmäßigem Dickenprofil auf Substraten durch Kathodenzerstäubung
EP0302167B1 (de) Vorrichtung zum Herstellen von Schichten mit gleichmässigem Dickenprofil auf Substraten durch Kathodenzerstäubung
DE2122990A1 (de) Vorrichtung zur Bearbeitung der Kanten von Glasscheiben oder dergleichen
EP1336553A2 (de) Fördereinrichtung zum Fördern von Fahrzeugkarosserien
DE4133564C2 (de) Vorrichtung zur lösbaren Befestigung eines Targets oder Targetgrundkörpers auf der Kathodenhalterung
CH620877A5 (de)
DE10317984A1 (de) Laser-Beschriftungsstation für Creditkarten
DE736945C (de) Feststellvorrichtung fuer den schrittweise schaltbaren Drehtisch von Werkzeugmaschinen
DE1818688U (de) Vorrichtung zum transportieren von flachen werkstuecken.
EP2565292B1 (de) Vorrichtung und verfahren zum beschichten von substraten nach dem eb/pvd-verfahren
DE3040196A1 (de) Trommel-poliervorrichtung
DE4312014A1 (de) Vorrichtung zum Beschichten und/oder Ätzen von Substraten in einer Vakuumkammer
DD220542A1 (de) Werkzeugspeicher fuer automatische werkzeugwechseleinrichtng
DE4013285A1 (de) Vorrichtung zum zentrieren von roentgenfilmkassetten
DE2826554C2 (de) Werkzeugmaschine zum Schleifen der Oberflächen von Werkstücken mit von Magnetfeldern gehaltenem ferromagnetischem Schleifpulver
DE4431836A1 (de) Vorrichtung zum Umsetzen von Teilen von einer ersten auf eine zweite Förderbahn
DE3416848C2 (de)
DE2419669C2 (de) Durchlaufmaschine für die Bearbeitung von Terrazzoplatten
DE7204831U (de) Drehteller mit elektromotorischem Antrieb
EP0045025A1 (de) Streckkopf
DE4219091A1 (de) Förderlinie

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
8110 Request for examination paragraph 44
8125 Change of the main classification

Ipc: C23C 14/35

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AG, 63450

8339 Ceased/non-payment of the annual fee