DE4138999C2 - Belichtungsverfahren für die Herstellung einer Halbleitervorrichtung - Google Patents
Belichtungsverfahren für die Herstellung einer HalbleitervorrichtungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Belichtungsverfahren für die
Herstellung einer Halbleitervorrichtung und insbesondere ein
Belichtungsverfahren zur Verbesserung bei der
Musterausbildung eines Metallfilms, eines Isolierfilms und
dgl.
In einem herkömmlichen Verfahren zur Herstellung einer
Halbleitervorrichtung wird ein Metallfilm, beispielsweise
eine metallische Verdrahtungsschicht, in der folgenden Weise
erzeugt, wobei auf die Fig. 1A bis 1G Bezug genommen wird.
Wie in Fig. 1A dargestellt ist, wird nach der Auftragung
eines Isolierfilmes 52 auf ein Halbleitersubstrat 51 eine
untere Verdrahtungsschicht 53 auf dem Isolierfilm 52
bebildet, und eine Zwischenschicht-Isolierschicht 54 wird auf
der gesamten Oberfläche der sich ergebenden Struktur
aufgetragen.
Ein Metallfilm 55 wird auf der Zwischenschicht-Isolierschicht
54 erzeugt, wie dies in Fig. 1B gezeigt ist. Danach wird, wie
in Fig. 1C gezeigt ist, ein Fotoresist (fotoempfindliche
Harzschicht) 56 direkt auf den Metallfilm 55 geschichtet.
Sodann wird, wie in Fig. 1D gezeigt ist, das Fotoresist 56
mit einem gewünschten Muster belichtet. Das Fotoresist 56
wird einem Entwicklungsprozeß unterworfen, um ein
Fotoresistmuster 56 zu bilden.
Wie in Fig. 1F gezeigt ist, wird der Metallfilm 55
selektiv durch reaktives Ionenätzen (RIE) geätzt, wobei
das Fotoresistmuster 56 als eine Maske dient.
Schließlich wird, wie in Fig. 1G gezeigt ist, das
Fotoresistmuster 56 entfernt, um eine obere
Verdrahtungsschicht zu vervollständigen, welche aus dem
Metallfilm 55 besteht.
In einem Verfahren dieser Art treten jedoch die folgenden
Probleme auf.
Licht 57, das durchgedrungen ist und die Oberseite des
Metallfilmes 55 bei der Belichtung erreicht hat, wird
durch die Oberfläche reflektiert, und das reflektierte
Licht 58 tritt erneut in das Fotoresist 56 ein. Als
Ergebnis tritt eine abnormale Belichtung im Fotoresist 56
auf. Wenn, wie in Fig. 1D gezeigt ist, insbesondere die
Oberseite des Metallfilmes 55 große Unregelmäßigkeiten
zeigt, so ist der Einfluß der abnormalen Belichtung
gesteigert. Als Ergebnis wird, wie in Fig. 1E gezeigt
ist, das auf das Fotoresist 56 übertragene Muster im
Vergleich mit dem Maskenmuster verzerrt. Diese Verzerrung
des Fotoresistmusters 56 stellt ein ernstes Problem dar,
wenn der Metallfilm 55 durch die RIE-Methode gemustert
wird, wobei das Fotoresistmuster 56 als eine Maske
verwendet wird.
Das heißt, da ein Teil des Fotoresistmusters 56
weggelassen ist, wie dies in Fig. 1E gezeigt ist, wird
der entsprechende Teil des gemusterten Metallfilmes 55
ebenfalls weggelassen, wie dies aus Fig. 1F zu ersehen
ist. Im schlimmsten Fall dieser Erscheinung wird der
gemusterte Metallfilm 55 getrennt, was in einer großen
Verschlechterung in Genauigkeit und Zuverlässigkeit der
Musterbildung resultiert. Zusätzlich nimmt die
Produktausbeute ab.
Um obiges Problem zu lösen, wurde ein Verfahren, das ein
pigmenthaltiges Resist verwendet, und eine Verfahren, bei
dem Titannitridfilm zwischen einem Metallfilm und einem
Fotoresist gebildet wird, entwickelt. Bei dem Verfahren,
das ein pigmenthaltiges Resist verwendet, kann die
Verzerrung eines Fotoresists aufgrund einer abnormalen
Belichtung nicht befriedigend unterdrückt werden, und
somit kann obiges Problem nicht gelöst werden. Zusätzlich
wird die Fokussierungsspanne bei dem Prozeß der
Belichtung in unerwünschter Weise reduziert.
Bei dem Verfahren, das einen Titannitridfilm verwendet,
wird nach einem selektiven Ätzen eines Metallfilmes ein
Titannitridfilm auf dem Metallfilm entfernt, um eine
Korrosion des Metallfilmes u. dgl. zu verhindern. Da es
jedoch schwierig ist, eine ausreichend hohe Ätzselektivität zwischen
einem Titannitridfilm und einem Isolierfilm einzustellen,
wird der Isolierfilm in unerwünschter Weise geätzt, wenn
der Titannitridfilm durch Ätzen entfernt wird. Als
Ergebnis nehmen die Zuverlässigkeit und Produktausbeute
ab.
Zusätzlich zu den obigen Methoden wurde ein Verfahren zur
Bildung eines feinen Musters durch Erzeugen eines
Kohlenstoffilmes zwischen einem zu verarbeitenden Film
und einem Fotoresistfilm in der JP-60-117 723 A
beschrieben.
Bei diesem Verfahren tritt jedoch eine Dimensionsänderung
zwischen einer Größe eines Kohlenstoffilmes und
derjenigen eines Fotoresists auf, da der Kohlenstoffilm
eine Dicke von 180 nm oder 110 nm hat. Es sei angenommen,
daß ein Kohlenstoffilm mit einer Dicke von beispielsweise
100 nm einer Musterbildung durch Ätzen zu unterwerfen
ist, wobei ein Diodentyp-Plasma-Ätzapparat unter den
folgenden Bedingungen eingesetzt wird: ein
Sauerstoffdurchsatz von 100 SCCM (100 Standard-cm3), ein Druck von
5,33 Pa (40 mTorr) und eine Leistungsdichte von 2 W/cm2.
In diesem Fall ist ein Seitenwandteil des
Kohlenstoffilmes kegelförmig unter einem Winkel von etwa
63°. Wenn daher der Kohlenstoffilm eine Dicke von 100 nm
hat, wie dies oben beschrieben wurde, wird eine
Größendifferenz von 90 nm oder mehr zwischen dem Boden
(Unterseite) und Spitze (Oberseite) des Kohlenstoffilmes
verursacht. In einer integrierten Halbleiterschaltung ist
es wünschenswert, eine derartige Dimensionsänderung zu
vermindern.
Die Zeitschrift "Journal of Technical Disclosure No.
78-2427, herausgegeben vom "Japan Institute of Invention
and Innovation", beschreibt eine Belichtung, die
vorgenommen wird, nachdem ein Kohlenstoffilm zwischen
eine Scheibe und einen Fotoresistfilm gelegt wird, um so
die Reflexion durch die Scheibe zu verhindern. Bisher
wurden aber ein dünnerer Kohlenstoffilm und ein
geringeres Reflexionsvermögen noch nicht verwirklicht.
In einem herkömmlichen Verfahren wird ein Isolierfilm,
wie beispielsweise ein Zwischenschicht-Isolierfilm einer
Musterbildung in der folgenden Weise unterworfen. Die
Fig. 2A bis 2G sind Schnitte, die die jeweiligen Schritte
in dem Verfahren zeigen.
Wie aus Fig. 2A zu ersehen ist, wird ein Isolierfilm 62
auf ein Halbleitersubstrat 61 aufgetragen, und eine
untere Verdrahtungsschicht 63 wird auf dem Isolierfilm 62
gebildet.
Wie aus Fig. 2B zu ersehen ist, wird ein Isolierfilm 64
als eine Zwischenschicht-Isolierschicht auf der gesamten
Oberfläche der sich ergebenden Struktur auf getragen.
Danach wird eine Fotoresist (fotoempfindliche
Harzschicht) 65 direkt auf den Isolierfilm 64
geschichtet, wie dies in Fig. 2C gezeigt ist.
Sodann wird, wie in Fig. 2D gezeigt ist, das Fotoresist
65 mit einem gewünschten Muster belichtet. Sodann wird,
wie in Fig. 2E gezeigt ist, das Fotoresist 65 einem
Entwicklungsprozeß unterworfen, um ein Fotoresistmuster
65 zu bilden.
Wie aus Fig. 2F zu ersehen ist, wird der Isolierfilm 64
selektiv durch das reaktive Ionenätzen (RIE) geätzt,
wobei das Fotoresistmuster 65 als eine Maske verwendet
wird.
Schließlich wird, wie in Fig. 2G gezeigt ist, das
Fotoresist 65 entfernt, um die Musterbildung der
Zwischenschicht-Isolierschicht 64 zu vollenden.
Bei diesem Verfahren treten die folgenden Probleme auf.
Wie in Fig. 2D gezeigt ist, durchläuft ein Teil des
einfallenden Lichtes 66, das das Fotoresist 65 beim
Prozeß der Belichtung durchdrungen hat, weiter durch den
Isolierfilm 64, um die Oberseite der unteren
Verdrahtungsschicht 63 zu erreichen, und es wird dann
durch die Oberfläche reflektiert. Das reflektierte Licht
67 tritt erneut in das Fotoresist 65 ein. Anderes
einfallendes Licht 66a durchsetzt die Isolierfilme 64 und
62, um das Halbleitersubstrat 61 zu erreichen, und es
wird durch dessen Oberfläche reflektiert. Das
reflektierte Licht 68 tritt dann erneut in das Fotoresist
65 ein. Das Fotoresist 65 wird wieder mit dem
reflektierten Licht 67 und dem reflektierten Licht 68
belichtet. Da in diesem Fall die optischen Eigenschaften
der unteren Verdrahtungsschicht 63 von denjenigen des
Halbleitersubstrates 61 verschieden sind, ist die
Intensität des reflektierten Lichtes 67 von derjenigen
des reflektierten Lichtes 68 verschieden. Da zusätzlich
die Entfernung, die das reflektierte Licht durch den
Isolierfilm verläuft, von der Entfernung, die das
reflektierte Licht 68 durch die Isolierfilme verläuft,
verschieden ist, tritt eine Phasendifferenz zwischen den
Strahlen des reflektierten Lichtes auf, wenn sie das
Fotoresist 65 erreichen, und eine Differenz in der
Intensität tritt ein, wenn sie mit dem einfallenden Licht
66 interferieren.
Als Ergebnis wird das Fotoresist 65 lageabhängig stark
verschieden belichtet, und somit kann das Maskenmuster
nicht getreu auf das Fotoresist 65 übertragen werden.
Die Fig. 3A bis 3G sind Schnitte, welche die jeweiligen
Schritte eines anderen herkömmlichen Verfahrens zur
Musterbildung eines Isolierfilmes zeigen.
Wie in Fig. 3A gezeigt ist, wird die Oberfläche eines
Halbleitersubstrates 71 selektiv oxydiert, um isolierende
Oxidfilme 72 zu bilden. Ein Isolierfilm 73 und ein
polykristalliner Siliziumfilm 74 werden dann auf der
gesamten Oberseite des Substrates 71 gebildet, auf dem
die isolierenden Oxydfilme 72 erzeugt sind.
Nachdem ein Isolierfilm 75 auf den polykristallinen
Siliziumfilm 74 aufgetragen ist, wie dies in Fig. 3B
gezeigt ist, wird ein Fotoresist 76 direkt auf den
Isolierfilm 75 geschichtet, wie dies in Fig. 3C
dargestellt ist.
Nachdem das Fotoresist 76 mit einem gewünschten Muster
belichtet ist, wie dies in Fig. 3D gezeigt ist, wird das
Fotoresist 76 einem Entwicklungsprozeß unterworfen, um
ein Fotoresistmuster 76 zu bilden.
Sodann wird, wie dies in Fig. 3F gezeigt ist, der
Isolierfilm 75 selektiv durch reaktives Ionenätzen (RIE)
geätzt, wobei das Fotoresistmuster 76 als eine Maske
verwendet wird. Schließlich wird, wie dies in Fig. 3G
gezeigt ist, das Fotoresistmuster 76 entfernt, um die
Musterbildung des Isolierfilmes 75 abzuschließen.
Bei diesem Verfahren treten jedoch ebenfalls die
folgenden Probleme auf.
Wie in Fig. 3D gezeigt ist, durchsetzt einfallendes
Licht, das durch das Fotoresist 76 im Prozeß der
Belichtung durchgedrungen ist, weiter den Isolierfilm 75,
um die Oberfläche des polykristallinen Siliziumfilmes 74
zu erreichen, und es wird durch diese Oberfläche
reflektiert. Das reflektierte Licht 78 tritt dann erneut
in das Fotoresist 76 ein. Als Ergebnis werden Teile des
Fotoresists 76, die von dem Teil entsprechend dem
Maskenmuster verschieden sind, belichtet, um so eine
abnormale Belichtung zu verursachen. Wenn, wie in Fig. 3D
gezeigt ist, insbesondere die Oberseite des
polykristallinen Siliziumfilmes 74 große
Unregelmäßigkeiten hat, so ist der Einfluß der abnormalen
Belichtung gesteigert. Als Ergebnis wird das auf das
Fotoresist 76 übertragene Muster im Vergleich mit dem
Maskenmuster verzerrt.
Wenn die Dicke des Isolierfilmes 75 an verschiedenen
Stellen schwankt, so ändert sich die Phase des
reflektierten Lichtes 78, das das Fotoresist 76 erreicht
hat, abhängig von den Einfallsstellen. Wenn daher das
reflektierte Licht 78 mit dem einfallenden Licht 77
interferiert, werden Schwankungen in der Lichtintensität
verursacht, und das Fotoresist 76 ändert sich in der
Größe an den jeweiligen Stellen.
Die Größendifferenzen aufgrund der Verzerrung des
Fotoresists 76 und diejenigen an den jeweiligen Stellen
beeinträchtigen den polykristallinen Siliziumfilm 75. Aus
diesem Grund leidet auch das auf dem Isolierfilm 75
gebildete Muster unter Größendifferenzen aufgrund einer
Verzerrung und denjenigen an verschiedenen Stellen. Ein
derartiger Nachteil führt nicht nur zu einer Verschlechterung
in Genauigkeit und Zuverlässigkeit der Musterbildung eines
Isolierfilmes, sondern auch zu einer Abnahme in der
Produktausbeute.
Um derartige Probleme zu überwinden, wurde bereits ein
Verfahren zur Musterbildung eines Isolierfilmes mittels eines
pigmenthaltigen Resists vorgeschlagen. Bei dem Verfahren, bei
dem ein pigmenthaltiges Resist benutzt wird, kann jedoch die
Verzerrung eines Fotoresistmusters aufgrund einer abnormalen
Belichtung nicht befriedigend unterdrückt werden, und damit
können die oben beschriebenen Probleme nicht gelöst werden.
Zusätzlich wird die Fokussierspanne bei dem Prozeß der
Belichtung in unerwünschter Weise reduziert.
Wie oben beschrieben wurde, wird bei dem herkömmlichen
Verfahren der Musterbildung eines Metallfilmes bei der
Belichtung eines Fotoresists Belichtungslicht durch die
Oberseite eines Metallfilmes reflektiert, was zu einer
Verzerrung des zum Fotoresist übertragenen Musters führt.
Da bei dem Verfahren der Musterbildung eines Isolierfilmes
Belichtungslicht durch die Oberseite eines
Halbleitersubstrates oder diejenige einer metallischen
Verdrahtungsschicht reflektiert wird, wird das zum Fotoresist
übertragene Muster verzerrt. Da ein zu verarbeitender Film,
wie beispielsweise ein Metallfilm oder ein Isolierfilm, einer
Musterbildung unterworfen wird, indem das verzerrte
Fotoresistmuster als eine Maske verwendet wird, werden die
Genauigkeit und Zuverlässigkeit der Musterbildung
herabgesetzt, und die Produktausbeute wird vermindert.
Aus der DE 34 28 565 A1 ist eine Schicht aus amorphen
Silizium als Antireflexionsüberzug bekannt, die auf einer
Schicht aus lichtreflektierendem Material zum Reduzieren von
Reflexionen von der lichtreflektierenden Schicht abgeschieden
wird. Die Dicke der amorphen Siliziumschicht liegt im Bereich
von 5 nm bis 60 nm.
Aus T. R. Pampalone et al., J. Electrochem. Soc., Vol. 136,
Nr. 4, April 1989, Seiten 1181 bis 1185 ist eine Antireflexionsschicht
aus TiON bekannt, die die Substratreflektivitäten von über
85% auf weniger als 25% reduziert.
Der Artikel "Antireflection coatings on metal layers for
photolithographic purposes" von H. A. M. von den Berg und J. B.
von Staden, Journal of Applied Physics, 50(3), 1979, Seiten
1212 bis 1214 schlägt die Verwendung von amorphem Silizium,
amorphem Selen und Cr2O3 als Antireflexionsschicht vor. Ferner
werden Bedingungen für den komplexen Brechungsindex angegeben.
In der GB 2 129 217 A wird polykristallines
Silizium als Material für eine Antireflexionsschicht
vorgeschlagen. Außerdem werden Zusammenhänge zwischen der
Schichtdicke, dem komplexen Brechungsindex und der erzielbaren Wirkung
angegeben.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren
zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung anzugeben, das
die Genauigkeit und Zuverlässigkeit bei der Musterbildung
eines Metallfilmes oder eines Isolierfilmes weiter verbessern kann.
Diese Aufgabe wird durch das Verfahren gemäß Patentanspruch 1
bzw. gemäß Patentanspruch 8 gelöst.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus
den Unteransprüchen.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand der Zeichnung näher
erläutert.
Es zeigen:
Fig. 1A bis 1G Schnitte zur Erläuterung eines
herkömmlichen Verfahrens zum Bilden eines
metallischen Verdrahtungsschicht;
Fig. 2A bis 2G Schnitte zur Erläuterung eines
herkömmlichen Verfahrens zur Bildung eines
Isolierfilmes;
Fig. 3A bis 3G Schnitte eines anderen herkömmlichen
Verfahrens zur Bildung eines Isolierfilmes;
Fig. 4A bis 4H Schnitte zur Erläuterung eines Verfahrens
zum Bilden eines metallischen Verdrahtungsschicht
gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel der
Erfindung;
Fig. 5A und 5B Draufsichten von Darstellungen, die
Verdrahtungsmuster zeigen, welche durch das
Verfahren gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel bzw.
durch das herkömmliche Verfahren gebildet sind;
Fig. 6 bis 8 jeweils Diagramme zur Erläuterung der
Beziehungen zwischen den Dicken eines
Titannitridfilmes, eines Siliziumfilmes und eines
Kohlenstoffilmes sowie dem Reflexionsvermögen von
Belichtungslicht;
Fig. 9 eine Diagramm zur Erläuterung der Beziehung
zwischen dem Einfallswinkel von Belichtungslicht und
dessen Reflexionsvermögen;
Fig. 10 bis 26 jeweils Diagramme zur Erläuterung der
Beziehungen zwischen der Dicke eines
Kohlenstoffilmes und dem Reflexionsvermögen von
Strahlen von Belichtungslicht mit verschiedenen
Wellenlängen in Fällen, in denen ein
polykristalliner Siliziumfilm, ein
Molybdänsilizidfilm, ein Ag-Film, ein Cu-Film, ein
Mo-Film und ein Al-Film als zu verarbeitende Filme
verwendet werden;
Fig. 27 bis 44 Diagramme, die jeweils die durch die
Brechungsindices von Kohlenstoffilmen und
Extinktionskoeffizienten definierten Bereiche
zeigen, wobei ein Reflexionsvermögen von 5% oder
weniger bei verschiedenen Wellenlängen der Strahlen
des Belichtungslichtes erhalten wird, für Fälle, bei
denen ein Al-Film, ein polykristalliner
Siliziumfilm, ein Molybdänsilizidfilm, ein Ag-Film,
ein Cu-Film und ein Mo-Film als zu verarbeitende
Filme verwendet werden;
Fig. 45A bis 45G Schnitte zur Erläuterung eines
Verfahrens zur Bildung von Kontaktlöchern gemäß dem
zweiten Ausführungsbeispiel der vorliegenden
Erfindung;
Fig. 46A bis 46E Schnitte zur Erläuterung eines
Verfahrens zur Bildung eines isolierenden
Filmmusters gemäß einem dritten Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung;
Fig. 47A und 47B Draufsichten, die jeweils
Isolierfilmmuster zeigen, die durch ein Verfahren
gemäß dem dritten Ausführungsbeispiel und ein
herkömmliches Verfahren erhalten sind;
Fig. 48 bis 59 Diagramme zur Erläuterung der Beziehungen
zwischen der Dicke eines SiO2-Filmes und dessen
Reflexionsvermögens bei verschiedenen Dicken von
Kohlenstoffilmen;
Fig. 60 ein Diagramm zur Erläuterung der Beziehung zwischen
dem Absorptionsvermögen eines Kohlenstoffilmes und
dessen Dicke; und
Fig. 61A bis 61E Schnitte, die das Verfahren zur Bildung
eines Isolierfilmmusters gemäß einem vierten
Ausführungsbeispiel der Erfindung erläutern.
Die vorliegende Erfindung zeichnet sich dadurch aus, daß,
wenn eine lichtreflektierende Schicht, beispielsweise eine
Metallschicht oder eine transparente Schicht, beispielsweise
ein isolierender Film, die auf einer lichtreflektierenden
Schicht gebildet ist, geätzt werden soll, indem ein
fotoempfindliches Harzmuster als eine Maske verwendet wird,
eine fotoempfindliche Harzschicht belichtet wird, während ein
Kohlenstoffilm, der eine Dicke von 38 nm bis 78 nm, einen Brechungsindex von 1,3
bis 2,5 und einen Extinktionskoeffizienten von 0,3 bis 1,0
bei einer Lichtwellenlänge im Bereich von λ = 250 nm bis λ =
440 nm aufweist,
zwischen dem lichtreflektierenden Film oder dem transparenten
Film und der fotoempfindlichen Harzschicht liegt.
Bei diesem Verfahren kann eine Belichtung von unerwünschten
Teilen der fotoempfindlichen Harzschicht, die verursacht
wird, wenn Licht, das durch den lichtreflektierenden Film
reflektiert ist, auf die fotoempfindliche Harzschicht
einfällt, verhindert werden.
Hierbei sind zwei Gesichtspunkte zu berücksichtigen. Gemäß
einem ersten Gesichtspunkt wird ein lichtreflektierender Film
gemustert, um eine Verdrahtungsschicht o. dgl. zu bilden.
Gemäß dem zweiten Gesichtspunkt wird ein transparenter Film,
der auf einem lichtreflektierenden Film gebildet ist,
gemustert, um eine Zwischenschicht-Isolierschicht o. dgl. zu
bilden.
Bei dem ersten Gesichtspunkt hat sich bei Untersuchungen der
Erfinder gezeigt, daß, wenn die Dicke eines Kohlenstoffilmes
auf
38-78 nm eingestellt ist,
Belichtungslicht, das durch die Zwischenfläche zwischen einer
fotoempfindlichen Harzschicht und dem Kohlenstoffilm
reflektiert ist, Belichtungslicht auslöscht, das durch die
Zwischenfläche zwischen dem Kohlenstoffilm und dem
lichtreflektierenden Film reflektiert ist, und es wird der
kleinste Brechungsindex erhalten. Zusätzlich zeigte sich
gemäß den Untersuchungen der Erfinder, daß der Bereich der
Dicke eines Kohlenstoffilmes, in dem das Reflexionsvermögen
ausreichend vermindert ist, kleiner als 100 nm ist. Weiterhin
hat sich gezeigt, daß die Stärke des Belichtungslichtes, das
eine fotoempfindliche Harzschicht durchsetzt hat, in einem
Kohlenstoffilm ausreichend vermindert wurde.
Wenn daher ein Kohlenstoffilm zwischen einem zu
verarbeitenden Film und einer fotoempfindlichen Harzschicht
gebildet und die fotoempfindliche Harzschicht belichtet und
entwickelt wird, so kann auf einfache Weise ein genaues
Resistmuster geliefert werden, wodurch die Genauigkeit und
Zuverlässigkeit in der Musterbildung verbessert werden.
Als ein lichtreflektierender Film als ein zu verarbeitender
Film können ein Metallfilm, ein Legierungsfilm, ein
Silizidfilm, ein Halbleiterfilm o. dgl. verwendet werden. Das
heißt, es können insbesondere ein polykristalliner
Siliziumfilm, ein Molybdänsilizidfilm, ein Ag-Film, ein Cu-
Film oder ein Mo-Film oder ein metallischer Verbindungsfilm,
beispielsweise ein Al-Si-Cu-Film, ein Al-Si-Film, ein MoSix-
Film oder ein WSix-Film verwendet werden.
Gemäß dem letzteren Gesichtspunkt hat sich durch die
Untersuchungen der Erfinder gezeigt, daß die Intensität des
Belichtungslichtes, das durch eine fotoempfindliche
Harzschicht gedrungen ist, ausreichend in einem
Kohlenstoffilm vermindert wird, der eine Dicke von
80-200 nm, hat. Als Ergebnis wird die
Intensität von Licht, das durch einen lichtreflektierenden
Film unter einem zu verarbeitenden transparenten Film
reflektiert wird, ausreichend vermindert, um so eine
abnormale Belichtung der fotoempfindlichen Harzschicht durch
das reflektierte Licht zu verhindern. Da zusätzlich die
Intensität des reflektieren Lichtes ausreichend niedrig ist,
tritt im wesentlichen keine Interferenz oder Störung zwischen
dem reflektierten Licht und dem auf die fotoempfindliche
Harzschicht einfallenden Belichtungslicht auf. Wenn daher
die Belichtung und Entwicklung einer fotoempfindlichen
Harzschicht durchgeführt werden, während ein Kohlenstoffilm
zwischen einem zu verarbeitenden transparenten Film und der
fotoempfindlichen Harzschicht gebildet ist, kann ein genaues
Resistmuster leicht erzeugt werden, um so die Genauigkeit und
Zuverlässigkeit bei der Musterbildung zu verbessern.
Als ein transparenter Film, der als ein zu verarbeitender
Film dient, können ein SiO2-Film, ein Siliziumnitridfilm, ein
Harzfilm oder dgl. verwendet werden.
Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden im
folgenden anhand der Zeichnungen beschrieben.
Die Fig. 4A bis 4H sind Schnitte, welche das Verfahren zum
Herstellen einer metallischen verdrahtungs-
(Zwischenverbindungs-)Schicht gemäß dem ersten
Ausführungsbeispiel der Erfindung näher erläutern.
Wie in Fig. 4A gezeigt ist, wird ein 1 µm dicker
SiO2-Film 2 auf einem Si-Substrat 1 gebildet, in welchem
(nicht gezeigte) Elemente gebildet wurden. Nachdem eine
800 nm dicke Al Verdrahtungsschicht 3 auf dem SiO2-Film 2
erzeugt wurde, wird ein SiO2-Film 4 auf der gesamten
Oberseite des SiO2-Filmes 4 erzeugt. Ein 800 nm dicker
Al-Film 5 (zu verarbeiten oder zu mustern), der als obere
Verdrahtungsschicht dient, wird auf der gesamten
Oberfläche des SiO2-Filmes 4 aufgetragen.
Danach wird, wie in Fig. 4C dargestellt ist, ein
Kohlenstoffilm 6 mit einer Dicke von 50 nm auf dem
Al-Film 5 gebildet. Dieser Kohlenstoffilm 6 kann in einer
Ar-Atmosphäre durch eine Gleichstrom-Magnetron-Sputter-
(Aufdampf-)Methode erzeugt werden, wobei eine
Graphitplatte als ein Target verwendet wird. Die
Bedingungen für die Bildung sind die folgenden:
Raumtemperatur, Druck von 0,532 Pa (4 × 10-3 Torr),
Leistungsdichte von 3,5 W/cm2 und Ar-Durchsatz von
40 SCCM. Wenn die Struktur des Kohlenstoffilmes mittels
einer Röntgenstrahlbeugung geprüft wird, zeigt sich, daß
die Struktur amorph oder mikrokristallin ist. Wenn
zusätzlich optische Konstanten des Kohlenstoffilmes
mittels eines optischen Ellipsometers gemessen werden,
zeigt sich, daß bei einer Wellenlänge des
Belichtungslichtes von 365 nm ein Brechungsindex n von
1,86 und ein Extinktionskoeffizient k von 0,79 erhalten
werden. Wenn weiterhin der spezifische Widerstand des
Kohlenstoffilmes 6 durch eine Viersondenmethode gemessen
wird, so wird ein Widerstandswert von 0,3 Ωcm erhalten.
Danach wird, wie in Fig. 4D gezeigt ist, ein 1,5 µm
dickes Fotoresist (fotoempfindliche Harzschicht: RFI
15AA, hergestellt von Sumitomo Chemical Co.) 7 auf den
Kohlenstoffilm 6 geschichtet, und das Fotoresist 7 wird
mit Licht mit einem (nicht gezeigten) Maskenmuster
belichtet. Zu dieser Zeit wird eine Belichtungslicht-
Wellenlänge λ auf 365 nm eingestellt.
Wie in Fig. 4E gezeigt ist, wird das Fotoresist 7 mittels
einer Entwicklungslösung entwickelt, welche Cholin als
eine Hauptkomponente enthält, um ein Fotoresistmuster 7
mit einer Breite von 0,8 µm zu bilden. Wenn dieses
Fotoresistmuster 7 geprüft wird, zeigt sich, daß das
Muster 7 im wesentlichen frei von Einflüssen einer
Reflexion durch den Al-Film 5 beim Prozeß der Belichtung
ist, und daß das Maskenmuster getreu übertragen wurde.
Wenn der Kohlenstoffilm 6 geprüft wird, werden eine
Elution, Abschälen u. dgl. überhaupt nicht
beobachtet. Wenn zusätzlich der Al-Film 5 geprüft wird,
werden eine Korrosion durch die alkalische
Entwicklungslösung nicht festgestellt. Wenn im Gegensatz
hierzu ein Al-Film ohne den Kohlenstoffilm 6 geprüft
wird, wird eine Korrosion durch die Entwicklungslösung
bemerkt. Dies ist darauf zurückzuführen, daß im Gegensatz
zum vorliegenden Ausführungsbeispiel dann der Al-Film
nicht durch den Kohlenstoffilm 6 geschützt ist.
Wie in Fig. 4F gezeigt ist, wird der Kohlenstoffilm 6
durch die RIE-Methode gemustert bzw. einer Musterbildung
unterworfen, wobei ein O2-Gas und das Fotoresistmuster 7
als eine Maske verwendet werden. Danach wird, wie in
Fig. 4G dargestellt ist, der Al-Film 5 durch die
RIE-Methode gemustert, wobei eine Gasmischung aus BCl3
und Cl2 verwendet wird, um eine Al-Verdrahtungsschicht 5A
zu erzeugen.
Schließlich wird, wie in Fig. 4H dargestellt ist, das
Fotoresistmuster 7 einer Sauerstoffveraschung, d. h. einem
Veraschungsprozeß mittels eines Sauerstoffplasmas,
unterworfen, um so gleichzeitig das Fotoresistmuster 7
und den Kohlenstoffilm 6 zu entfernen.
Die Fig. 5A und 5B sind Draufsichten, die
Verdrahtungsmuster zeigen, welche jeweils entsprechend
dem vorliegenden Ausführungsbeispiel und einem
herkömmlichen Verfahren gebildet sind. In diesen
Fig. 5A und 5B zeigen schraffierte Teile
Verdrahtungsmuster an.
Wie in Fig. 5A gezeigt ist, werden bei dem Verfahren des
vorliegenden Ausführungsbeispieles keine getrennten Teile
in einem Al-Verdrahtungsmuster 5 beobachtet, und damit
ist es offensichtlich, daß das Maskenmuster getreu auf
den Al-Film übertragen werden kann.
Wenn im Gegensatz hierzu, wie in Fig. 5B gezeigt ist, ein
Al-Film durch das herkömmliche Verfahren gemustert wird,
wird, da Belichtungslicht durch die Oberfläche des
Al-Filmes reflektiert wird, das Muster, das auf das
Fotoresist übertragen ist, verzerrt. Aus diesem Grund
wird eine große Anzahl von getrennten Teilen 8 in dem
Al-Verdrahtungsmuster 5 beobachtet.
Wie oben erläutert wurde, ist das Al-Verdrahtungsmuster,
das durch das Verfahren des vorliegenden
Ausführungsbeispiels hergestellt ist, im wesentlichen
frei von Verzerrungen und Trennungen und damit in seiner
Qualität sehr gut.
Die Ursache hierfür liegt darin, daß die Dicke des
Kohlenstoffilmes 6 auf einen derartigen Wert eingestellt
ist, daß der Kohlenstoffilm 6 Licht absorbiert, das durch
den Al-Film 5 reflektiert ist, um somit wirksam die
Lichtmenge zu vermindern, die die Oberfläche des
Fotoresists 7 erreicht, und das durch die Zwischenfläche
zwischen dem Kohlenstoffilm 6 und dem Fotoresist 7
reflektierte Licht und das durch die Zwischenfläche
zwischen dem Kohlenstoffilm 6 und dem Al-Film 5
reflektierte Licht werden gegeneinander ausgeglichen,
indem die Phasen beider Lichtanteile eingestellt werden.
Die Erfinder haben auch den Einfluß eines
Titannitridfilmes als eines Antireflexionsfilmes mit
demjenigen eines Siliziumfilmes verglichen.
Die Fig. 6 bis 8 sind Diagramme, die jeweils die
Beziehungen zwischen den Dicken eines Titannitridfilmes,
eines Siliziumfilmes und eines Kohlenstoffilmes sowie dem
Reflexionsvermögen von Belichtungslicht zeigen. Ein
Al-Film wurde als ein zu verarbeitender Film verwendet,
und es wurde eine Belichtungslicht-Wellenlänge von 365 nm
gewählt. Jedes Reflexionsvermögen γ wurde mittels der
folgenden Gleichung (2) festgelegt, wobei die in Tab. 1
angegebenen optischen Konstanten und eine
Mehrfach-Reflexion berücksichtigt wurden.
In obiger Gleichung (2) bedeuten dB die Dicke eines
Kohlenstoffilmes, λ die Wellenlänge von Belichtungslicht,
NA die optische Konstante des Al-Filmes, NB die optische
Konstante eines Kohlenstoffilmes, NR die optische
Konstante einer fotoempfindlichen Harzschicht, rR =
(NR - NB)/(NR + NB) und rB = (NB - NA)/(NB + NA). Die
optische Konstante N wird durch N = n - ik wiedergegeben
(n: Brechungsindex, k: Extinktionskoeffizient, i:
imaginäre Einheit).
Es sei darauf hingewiesen, daß die in Tab. 1 gezeigten
optischen Konstanten mittels eines Spektralellipsometers
gemessen wurden.
Jedes Reflexionsvermögen wird auf der Grundlage der
Stärke des vertikal auf ein Substrat über ein Fotoresist
eingestrahlten Lichtes und der Stärke des Lichtes
erhalten, das durch die Oberfläche des zu verarbeitenden
Filmes reflektiert wurde und vertikal erneut in das
Fotoresist eingetreten ist.
Es ist aus Fig. 6 zu ersehen, daß in dem Fall des
Titannitridfilmes das Reflexionsvermögen auf etwa 3%
minimiert ist, wobei eine Filmdicke etwa 35 nm beträgt.
Obwohl das Reflexionsvermögen vorzugsweise auf etwa 5%
oder weniger im Hinblick auf gestreute Reflexion durch
die Unregelmäßigkeiten der unterliegenden Schicht
reduziert wird, kann der Bereich der Filmdicken, in
welchem diese Forderung erfüllt werden kann, auf 26 nm
bis 33 nm festgelegt werden, was zu einer Schwierigkeit
bei der Steuerung oder Handhabung der Filmdicken führt.
Es ist aus der Fig. 7 zu ersehen, daß im Fall des
Siliziumfilmes das Reflexionsvermögen auf etwa 5% bei
einer Filmdicke von etwa 5 nm minimiert wird. Jedoch ist
der Bereich der Filmdicken, in welchem dieser Zustand
erreicht werden kann, sehr schmal, was das gleiche
Problem wie dasjenige des Titannitridfilmes stellt. Das
Reflexionsvermögen wird minimiert, wobei die kleine
Filmdicke 5 nm beträgt, da ein Antireflexionseffekt durch
die Lichtabsorptionseigenschaften des Siliziumfilmes und
Interferenz von Licht im Siliziumfilm bestimmt wird. Das
heißt, da der Brechungsindex des Siliziumfilmes etwa 6,6
hoch ist, wird die Intensität des reflektierten Lichtes
minimiert, wenn die Filmdicke sehr klein ist.
In dem Fall des Kohlenstoffilmes 6 ist, wie aus Fig. 8 zu
ersehen ist, der Bereich der Filmdicken, in welchem das
Reflexionsvermögen 5% oder weniger beträgt, so weit wie
38 nm bis 78 nm, und der Mindestwert des
Reflexionsvermögens ist kleiner als diejenigen Werte des
Titannitridfilmes und des Siliziumfilmes.
Mittels der obigen Gleichung (2) wird der Zustand, in
welchem das Reflexionsvermögen 5% oder weniger beträgt,
durch die folgende Gleichung (1) festgelegt:
wobei dB die Dicke eines Kohlenstoffilmes, λ die
Wellenlänge von Belichtungslicht, NA eine optische
Konstante eines Al-Filmes, NB eine optische Konstante
eines Kohlenstoffilmes, NR eine optische Konstante einer
fotoempfindlichen Harzschicht, rR = (NR - NB)/(NR + NB)
und rB = (NB - NA)/(NB + NA) bedeuten.
Die Erfinder prüften, wie die Unregelmäßigkeiten eines zu
verarbeitenden Filmes das Reflexionsvermögen
beeinflussen.
Fig. 9 ist ein Diagramm, das die Beziehung zwischen dem
Einfallswinkel von Belichtungslicht und dessen
Reflexionsvermögen in einem Fall zeigt, in welchem ein
Al-Film mit einer glatten Oberfläche als ein zu
verarbeitender Film verwendet wird, während die Dicke
eines Kohlenstoffilmes und die Wellenlänge von
Belichtungslicht jeweils auf 50 nm bzw. 365 nm
eingestellt sind. Das heißt, das Reflexionsvermögen eines
(zu verarbeitenden) Filmes mit Unregelmäßigkeiten auf
seiner Oberfläche wurde geprüft.
Es ist aus Fig. 9 zu ersehen, daß das Reflexionsvermögen
minimiert ist, wenn der Einfallswinkel 90° beträgt, d. h.
wenn keine Unregelmäßigkeiten auf der Oberfläche
vorliegen. Selbst wenn jedoch der Einfallswinkel so klein
wie 45° ist, beträgt das Reflexionsvermögen etwa 5%. Das
heißt, selbst wenn die Oberfläche des zu verarbeitenden
Filmes Unregelmäßigkeiten hat, arbeitet der
Kohlenstoffilm wirksam als ein Antireflexionsfilm.
Gemäß dem vorliegenden Ausführungsbeispiel kann daher das
Maskenmuster auf das Fotoresist 7 ohne Verzerrung
übertragen werden, indem der Kohlenstoffilm 6 zwischen
dem Al-Film 5 und dem Fotoresist 7 gebildet wird.
Zusätzlich kann ein ausreichend hoher
Antireflexionseffekt erhalten werden, indem die Dicke des
Kohlenstoffilmes 6 und optische Koeffizienten, wie
beispielsweise der Brechungsindex n und der
Extinktionskoeffizient k geprüft werden. Daher kann die
Musterbildungsgenauigkeit des Al-Filmes 5 verbessert
werden, und die Produktausbeute kann gesteigert werden.
Der Kohlenstoffilm 6 wird zur gleichen Zeit entfernt, zu
der das Resistmuster 7 abgetragen wird. Das heißt, ein
neuer Schritt zum Entfernen des Kohlenstoffilmes 6
nach dem Ätzen des Al-Filmes 5 ist nicht erforderlich, und
damit kann eine Erhöhung der Anzahl der Schritte
verhindert werden.
Da zusätzlich der Kohlenstoffilm 6 chemisch stabil ist,
selbst wenn das Fotoresist als eine Maske teilweise nach
dem Ätzen des Al-Filmes 5 geätzt wird, dient der
Kohlenstoffilm 6 als eine Maske. Somit kann das Ätzen mit
hoher Genauigkeit ausgeführt werden. Al-, Resist- und
Kohlenstoffilme werden durch die RIE-Methode geätzt,
indem Cl2-Gas (Durchsatz 30 SCCM) und BCl3-Gas (30 SCCM)
bei einem Druck von 2 Pa und einer Leistungsdichte von
1,5 W/cm2 verwendet werden, und die jeweiligen Ätzraten
werden miteinander verglichen. Die Ätzraten der Al-,
Resist- und Kohlenstoffilme betragen jeweils 10 nm/s, 3
bis 5 nm/s und 0,4 nm/s. Es hat sich aus diesem Ergebnis
gezeigt, daß der Kohlenstoffilm in befriedigender Weise
als eine Maske beim Ätzen dienen kann. Daher kann der zu
verarbeitende Film geätzt werden, indem lediglich der
Kohlenstoffilm als eine Ätzmaske verwendet wird.
In dem obigen Ausführungsbeispiel wird ein Al-Film als
ein zu verarbeitender Film verwendet, und die Wellenlänge
des Belichtungslichtes ist auf 365 nm eingestellt. Jedoch
kann der gleiche Effekt durch andere Arten von zu
verarbeitenden Filmen bei anderen Wellenlängen des
Belichtungslichtes erzielt werden. Die Fig. 10 bis 26
zeigen derartige Fälle.
Die Fig. 15 bis 21 sind Diagramme, die jeweils die
Beziehungen zwischen der Dicke eines Kohlenstoffilmes und
dem Reflexionsvermögen von Belichtungslicht in Fällen
angeben, wobei die Wellenlänge des Belichtungslichtes auf
440 nm bzw. 250 nm eingestellt ist und ein Al-Film als
ein zu verarbeitender Film verwendet wird. In ähnlicher
Weise sind die Fig. 10, 16 und 22 Diagramme, die jeweils
die Beziehungen zwischen den Dicken eines
Kohlenstoffilmes und dem Reflexionsvermögen von
Belichtungslicht in Fällen angeben, in denen die
Belichtungslicht-Wellenlänge λ auf 365 nm bzw. 440 nm
bzw. 250 nm eingestellt ist, wobei ein polykristalliner
Siliziumfilm als ein zu verarbeitender Film verwendet
wird. Die Fig. 11, 17 und 23 sind jeweils Diagramme, die
die Beziehungen zwischen der Dicke eines Kohlenstoffilmes
und dem Reflexionsvermögen von Belichtungslicht in Fällen
angeben, in denen die Belichtungslicht-Wellenlänge λ auf
365 nm bzw. 440 nm bzw. 250 nm eingestellt ist, wobei ein
Molybdänsilizidfilm als ein zu verarbeitender Film
verwendet wird. Die Fig. 12, 18 und 24 sind jeweils
Diagramme, die die Beziehungen zwischen der Dicke eines
Kohlenstoffilmes und dem Reflexionsvermögen von
Belichtungslicht in Fällen angeben, in denen die
Belichtungslicht-Wellenlänge λ auf 365 nm bzw. 440 nm
bzw. 250 nm eingestellt ist, wobei ein Ag-Film als ein zu
verarbeitender Film verwendet wird. Die Fig. 13, 19 und
25 sind jeweils Diagramme, die die Beziehungen zwischen
der Dicke eines Kohlenstoffilmes und dem
Reflexionsvermögen von Belichtungslicht in Fällen
angeben, in denen die Belichtungslicht-Wellenlänge λ auf
365 nm bzw. 440 nm bzw. 250 nm eingestellt ist, wobei ein
Cu-Film als ein zu verarbeitender Film verwendet wird.
Die Fig. 14, 20 und 26 sind jeweils Diagramme, die die
Beziehungen zwischen der Dicke eine Kohlenstoffilmes und
dem Reflexionsvermögen von Belichtungslicht in Fällen
angeben, in denen die Belichtungslicht-Wellenlänge λ auf
365 nm bzw. 440 nm bzw. 250 nm eingestellt ist, wobei ein
Mo-Film als ein zu verarbeitender Film verwendet wird.
Jedes Reflexionsvermögen wurde mittels Tab. 1 und
Gleichung (2) geschätzt, die in dem obigen Fall des
Al-Filmes verwendet wurde.
Es ist aus den Fig. 7 bis 12 ersichtlich, daß, wenn die
Belichtungslicht-Wellenlänge λ auf 365 nm eingestellt
ist, das Reflexionsvermögen jedes zu verarbeitenden
Filmes minimal ist und der Bereich, in welchem ein
Reflexionsvermögen von 5% oder weniger erhalten wird,
weit ist, wobei die Dicke des Kohlenstoffilmes auf
weniger als 100 nm eingestellt ist. Zusätzlich ist aus
den Fig. 13 bis 18 zu ersehen, daß, wenn die
Belichtungslicht-Wellenlänge λ 440 nm beträgt, das
minimale Reflexionsvermögen erhalten werden kann und ein
Reflexionsvermögen von 5% in einem weiten Bereich
erzielt wird, wobei die Dicke des Kohlenstoffilmes auf
weniger als 100 nm eingestellt ist. In ähnlicher Weise
ist aus den Fig. 19 bis 24 zu ersehen, daß, wenn die
Belichtungslicht-Wellenlänge λ 250 nm beträgt, das
minimale Reflexionsvermögen erhalten wird und ein
Reflexionsvermögen von 5% in einem weiten Bereich
erzielt wird, wobei die Dicke des Kohlenstoffilmes auf
weniger als 100 nm eingestellt ist.
Aus den obigen Ergebnissen folgt, daß mit einem
beliebigen zu verarbeitenden Film und einer beliebigen
Belichtungslicht-Wellenlänge das minimale
Reflexionsvermögen erhalten werden kann und ein
Reflexionsvermögen von 5% oder weniger in einem weiten
Bereich erzielt wird, wenn die Dicke des Kohlenstoffilmes
auf weniger als 100 nm eingestellt ist, und es kann ein
hoher Antireflexionseffekt erreicht werden, der mit einem
Kohlenstoffilm mit einer Dicke von 100 nm oder mehr nicht
zu erlangen ist.
Die Erfinder prüften den Bereich des Brechungsindex x und
des Extinktionskoeffizienten k eines Kohlenstoffilmes,
wobei ein Reflexionsvermögen von 5% oder weniger mit
einem Kohlenstoffilm mit einer Dicke von weniger als 100
nm erhalten wurde, in Fällen, in denen die oben
erwähnten, zu verarbeitenden Filme (Al-, polykristallines
Silizium-, Molybdänsilizid-, Ag-, Cu-, und Mo-Filme)
verwendet wurden. Die Fig. 27 bis 44 zeigen die
Ergebnisse.
Die Fig. 27, 33 und 39 sind Diagramme, die jeweils die
Bereiche des Brechungsindex n und des
Extinktionskoeffizienten k, eines Kohlenstoffilmes zeigen,
wobei ein Reflexionsvermögen von 5% oder weniger
erhalten wird, wenn ein Al-Film als ein zu verarbeitender
Film in Fällen verwendet wird, in denen die
Belichtungslicht-Wellenlänge λ auf 365 nm bzw. 440 nm
bzw. 250 nm eingestellt ist. In ähnlicher Weise zeigen
die Fig. 28, 34 und 40, die Fig. 29, 35 und 41, die
Fig. 30, 36 und 42 sowie die Fig. 32, 38 und 44 jeweils
die Bereiche des Brechungsindex n und des
Extinktionskoeffizienten k von einem Kohlenstoffilm,
wobei ein Reflexionsvermögen von 5% oder weniger
erhalten wird, in Fällen, in denen ein
Molybdänsilizidfilm, ein Ag-Film, ein Cu-Film und ein
Mo-Film jeweils als zu verarbeitende Filme verwendet
werden, wobei die Belichtungslicht-Wellenlänge λ auf 365
nm bzw. 440 nm bzw. 250 nm eingestellt ist. Es sei darauf
hingewiesen, daß jedes Reflexionsvermögen mittels der in
Tab. 1 angegebenen optischen Konstanten und der für
Mehrfachreflexion aufgestellten Gleichung (2) geschätzt
wurde.
Es ist aus den Fig. 27 bis 32 ersichtlich, daß, wenn die
Belichtungslicht-Wellenlänge λ 365 nm beträgt, ein
Reflexionsvermögen von 5% oder weniger durch jeden zu
verarbeitenden Film erhalten werden kann, solange der
Brechungsindex n 1,3 oder mehr und der
Extinktionskoeffizient k 1,0 oder weniger betragen.
Zusätzlich ist auf den Fig. 33 bis 38 zu ersehen, daß,
wenn die Belichtungslicht-Wellenlänge λ 440 nm beträgt,
ein Reflexionsvermögen von 5% oder weniger erzielt
werden kann, falls der Brechungsindex n 1,3 oder mehr und
2,5 oder weniger und der Extinktionskoeffizient k 0,3
oder mehr und 1,0 oder weniger betragen. In ähnlicher
Weise ist aus den Fig. 39 bis 44 zu ersehen, daß, wenn
die Belichtungslicht-Wellenlänge λ 250 nm beträgt, ein
Reflexionsvermögen von 5% oder weniger erhalten werden
kann, falls der Brechungsindex n 1,3 oder mehr und 2,5
oder weniger und der Extinktionskoeffizient k 0,3 oder
mehr und 1,0 oder weniger betragen. Wenn Al-Si-Cu, Al-Si
oder Wolframsilizid verwendet werden, kann ein ähnliches
Ergebnis erreicht werden.
Es ist aus den obigen Ergebnissen zu ersehen, daß zu
einer ausreichenden Verminderung des Reflexionsvermögens
gewisse Einschränkungen für die optischen Konstanten
eines Kohlenstoffilmes aufgestellt werden müssen. Es hat
sich jedoch gezeigt, daß, falls der Brechungsindex n 1,3
oder mehr oder 2,5 oder weniger und der
Extinktionskoeffizient k 0,3 oder mehr oder 1,0 oder
weniger betragen, das Reflexionsvermögen auf 5% oder
weniger unterdrückt und ein hoher Antireflexionseffekt
mit jeglichem zu verarbeitenden Film und jedem Wert der
Belichtungslicht-Wellenlänge λ erreicht werden können.
Ein Kohlenstoffilm mit Diamantstruktur kann als ein
Beispiel eines Kohlenstoffilmes angegeben werden, das
außerhalb des oben beschriebenen Bereiches liegt. Da der
Extinktionskoeffizient k eines Kohlenstoffilmes mit einer
Diamantstruktur im wesentlichen 0 bei der
Belichtungslicht-Wellenlänge λ von 200 nm oder mehr ist,
wird dessen Antireflexionseffekt sehr klein.
Zusätzlich zu den oben beschriebenen, zu verarbeitenden
Filmen können weiterhin ein Metallfilm, ein
Legierungsfilm, ein Silizidfilm und ein Halbleiterfilm
verwendet werden. Beispielsweise können metallische
Verbindungsfilme, wie beispielsweise ein Al-Si-Cu-Film,
ein Al-Si-Film, ein MoSix-Film und ein WSix-Film
verwendet werden.
Wie oben erläutert wurde, bietet die Erfindung einen
großen Vorteil, wenn ein Metallfilm, ein Legierungsfilm,
ein Silizidfilm, ein Halbleiterfilm o. dgl. als ein zu
verarbeitender Film verwendet wird.
Die Dicke des bei der Erfindung verwendeten
Kohlenstoffilmes kann in der folgenden Weise eingestellt
werden.
Je dicker der Kohlenstoffilm ist, desto niedriger ist das
Reflexionsvermögen des Filmes. Das Reflexionsvermögen hat
den niedrigsten Wert, wenn der Film weniger als 100 nm
dick ist. Wenn die Dicke des Filmes vermindert wird,
nähert sich das Reflexionsvermögen dem für Kohlenstoff
spezifischen Wert. Das spezifische Reflexionsvermögen von
Kohlenstoff ist als das Reflexionsvermögen definiert, das
der Kohlenstoffilm hat, wenn dessen Dicke unbestimmt groß
ist. Damit genügt es, die Dicke des Kohlenstoffilmes auf
einen Wert einzustellen, der dem Film ein
Reflexionsvermögen verleiht, der von einem Mindestwert
aufwärts reicht, jedoch kleiner ist als ein Höchstwert.
Um die Ätzgenauigkeit soweit als möglich zu steigern, ist
es wünschenswert, daß der Film eine Dicke von weniger als
100 nm hat.
Insbesondere ist es vorzuziehen, daß der Kohlenstoffilm
eine derartige Dicke hat, die dem Film ein
Reflexionsvermögen verleiht, das niedriger ist als der
für Kohlenstoff spezifische Wert (beispielsweise stabil
bei etwa 5% in dem in Fig. 8 gezeigten Fall).
Wenn die Dicke des Kohlenstoffilmes auf einen Wert
eingestellt ist, der dem Film ein Reflexionsvermögen
vermittelt, das von einem Mindestwert aufwärts reicht,
jedoch nicht gleich einem Höchstwert ist, erzielt der
Kohlenstoffilm einen ausreichenden Antireflexionseffekt und
trägt zur Steigerung der Ätzgenauigkeit bei.
Die Fig. 45A bis 45G sind Schnitte, die die Schritte bei
der Herstellung von Kontaktlöchern in einem Isoliert um
gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel der vorliegenden
Erfindung zeigen.
Wie in Fig. 45A gezeigt ist, wird ein 1 µm dicker
SiO2-Film 12 auf einem Si-Substrat 11 gebildet, auf
welchem (nicht gezeigte) Elemente erzeugt wurden. Danach
wird eine 800 nm dicke Al-Verdrahtungsschicht
(lichtreflektierer der Film) 13 auf dem SiO2-Film 12
gebildet.
Wie in Fig. 45B gezeigt ist, wird ein 1 µm dicker
SiO2-Film 14 als eine Zwischenschicht-Isolierschicht auf
der gesamten Oberseite der sich ergebenden Struktur
erzeugt. In diesem Fall wird eine Stufe auf der Oberseite
des SiO2-Filmes 14 in Entsprechung mit der
Al-Verdrahtungsschicht 13 gebildet.
Wie in Fig. 45C gezeigt ist, wird ein 80 nm dicker
Kohlenstoffilm 15 auf dem SiO2-Film (zu verarbeitender
Film) 14 gebildet. Dieser Kohlenstoffilm 15 kann in einer
Ar-Atmosphäre durch die Gleichstrom-Magnetron-
Sputtermethode (Zerstäubungsmethode) gebildet werden,
wobei eine Graphitplatte als ein Target bzw. Fotokathode
dient. Die Bedingungen für die Erzeugung sind die
folgenden: Raumtemperatur, ein Druck von 0,532 Pa (4 × 10-3 Torr),
eine Leistungsdichte von 3,5 W/cm2 und ein
Ar-Durchsatz von 40 SCCM. Wenn die Struktur des
Kohlenstoffilmes 15 mittels Röntgenstrahlenbeugung
geprüft wird, zeigt sich, daß die Struktur amorph oder
mikrokristallin ist. Wenn zusätzlich optische Konstanten
des Kohlenstoffilmes mittels eines optischen
Ellipsometers gemessen werden, so zeigt sich, daß bei
einer Wellenlänge des Belichtungslichtes von 365 nm der
Brechungsindex n 1,86 und der Extinktionskoeffizient k
0,79 betragen. Wenn weiterhin der spezifische Widerstand
des Kohlenstoffilmes 15 durch die Viersonden- bzw.
Vierprobenmethode gemessen wird, so wird ein Wert von
0,3 Ωcm erhalten.
Danach wird, wie in Fig. 45D gezeigt ist, ein positives
Fotoresist (fotoempfindliche Harzschicht: PFI 15AA,
hergestellt durch Sumitomo Chemical Co.) 16 mit einer
Dicke von 1,5 µm auf dem Kohlenstoffilm 15 geschichtet,
und das Fotoresist 16 wird mit Licht mit einem (nicht
gezeigten) Maskenmuster belichtet. Das Maskenmuster wird
durch quadratische Kontaktlöcher von 0,5 µm2 und 0,7 µm2
gebildet. Die Belichtungslicht-Wellenlänge beträgt 365
nm.
Wie in Fig. 45E gezeigt ist, wird das Fotoresist 16
mittels einer Cholin als Hauptbestandteil enthaltenden
Entwicklungslösung entwickelt, um ein Fotoresistmuster 16
zu bilden. Wenn dieses Fotoresistmuster 16 geprüft wird,
zeigt sich, daß das Muster 16 im wesentlichen frei vom
Einfluß einer Reflexion durch die Al-Verdrahtungsschicht
13 und das Substrat 11 bei dem Prozeß der Belichtung ist,
und daß somit das Maskenmuster getreu übertragen wurde.
Wenn zusätzlich der Kohlenstoffilm 15 geprüft wird, zeigt
sich, daß eine Elution, Abschälen u. dgl. überhaupt nicht
beobachtet werden.
Wie in Fig. 45F dargestellt ist, wird der Kohlenstoffilm
15 durch die RIE-Methode einer Musterbildung unterworfen,
wobei O2-Gas und das Fotoresistmuster 16 als eine Maske
verwendet werden. Sodann wird der SiO2-Film 14 durch die
RIE-Methode einer Musterbildung unterworfen, wobei
CF4-Gas benutzt wird.
Schließlich werden, wie in Fig. 45G gezeigt ist, das
Fotoresistmuster 16 und der Kohlenstoffilm gleichzeitig
durch einen ein Sauerstoffplasma verwendenden
Veraschungsprozeß entfernt.
In diesem Ausführungsbeispiel wird das Maskenmuster
verwendet, das durch die quadratischen Kontaktlöcher von
0,5 µm2 und 0,7 µm2 gebildet ist. Das auf das Fotoresist
16 übertragene Muster hat quadratische Kontaktlöcher von
0,48 µm2 und 0,7 µm2. Die Schwankung in der Größe der
Kontaktlöcher von 0,7 µm2 innerhalb der Oberfläche einer
6-Zoll-Scheibe beträgt ±1,8%.
Zum Vergleich mit der oben beschriebenen Struktur wird
eine Musterbildung eines Isolierfilmes durchgeführt, ohne
einen Kohlenstoffilm zwischen einem Fotoresist und einem
SiO2-Film zu erzeugen. Es hat sich gezeigt, daß eine
Auflösung entsprechend einem 0,5 µm2-Muster nicht
erhalten werden kann, und die Schwankung in der Größe von
0,70 µm2-Kontaktlöchern innerhalb der Oberfläche einer
6-Zoll-Scheibe beträgt ±8,8%.
Im folgenden werden Ursachen angegeben, warum das
Maskenmuster getreu auf das Fotoresist 16 übertragen
wird.
Die Stärke des Lichtes, das das Fotoresist 16 durchsetzt
hat und das durch das Substrat 11 und die
Al-Verdrahtungsschicht 13 reflektiert wurde, nimmt im
Kohlenstoffilm 15 ab. Als Ergebnis ist die Stärke des
durch das Substrat 11 und die Verdrahtungsschicht 13
reflektierten Lichtes ausreichend vermindert, und nahezu
keine abnormale Belichtung wird durch dieses reflektierte
Licht verursacht. Da zusätzlich das Reflexionsvermögen
des Kohlenstoffilmes 15 niedrig ist, ist das Fotoresist
16 im wesentlichen frei von einer abnormalen Belichtung aufgrund
des durch die Oberfläche des Kohlenstoffilmes 15
reflektierten Lichts. Da weiterhin die Stärke des
reflektierten Lichtes niedrig ist, ändert sich die Größe
eines Resistmusters nicht, selbst wenn sich die Dicke
eines Isolierfilmes abhängig von der Lage ändert und sich
die Phase des reflektierten Lichtes verschiebt.
Gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel wird daher die
Verzerrung des auf das Fotoresist 16 übertragenen Musters
vermindert, und die Auflösung wird erhöht. Zusätzlich
kann ein stabiles, gleichmäßiges, genaues
Fotoresistmuster unabhängig von der Dicke des SiO2-Filmes
12 erzeugt werden, wodurch eine sehr genaue und sehr
zuverlässige Musterbildung des SiO2-Filmes 14 erzielt
wird.
Die Fig. 46A bis 46E sind Schnitte, welche die Schritte
bei der Herstellung eines Isolierfilmmusters gemäß dem
dritten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung
zeigen.
Wie in Fig. 46A gezeigt ist, wird die Oberseite eines
Si-Substrates 21 selektiv oxydiert, um einen SiO2-Film 22
mit einer Dicke von 1 µm zu bilden. Danach werden ein
800 nm dicker SiO2-Film 23 und ein 1 µm dicker
polykristalliner Siliziumfilm (lichtreflektierender Film)
24 sequentiell auf dem Substrat 21 gebildet, auf dem der
SiO2-Film 22 erzeugt wurde. In diesem Fall wird eine
Stufe auf der Oberfläche des polykristallinen
Siliziumfilms 24 in Entsprechung mit dem SiO2-Film 22
erzeugt.
Wie in Fig. 46B dargestellt ist, wird ein SiO2-Film 25
(zu verarbeitender Film) mit einer Dicke von 300 nm auf
dem polykristallinen Siliziumfilm aufgetragen.
Sodann wird, wie in Fig. 46C gezeigt ist, ein 80 nm
dicker Kohlenstoffilm 26 auf dem SiO2-Film 25
aufgetragen.
Wie in Fig. 46D gezeigt ist, wird ein positives
Fotoresist (fotoempfindliche Harzschicht: PFI 15AA,
hergestellt durch Sumitomo Chemicals Co.) 27 mit einer
Dicke von 1,5 µm auf den Kohlenstoffilm 26 geschichtet
und das Fotoresist 27 wird mit einem (nicht gezeigten)
Verdrahtungsmaskenmuster belichtet. In diesem Fall wird
die Wellenlänge des Belichtungslichtes auf 365 nm
eingestellt.
Wie in Fig. 46E gezeigt ist, wird das Fotoresist 27
mittels einer Entwicklungslösung entwickelt, um ein
Fotoresistmuster 27 mit einer Breite von 0,8 µm zu
erzeugen. Wie weiter unten näher erläutert werden wird,
zeigt sich bei der Prüfung dieses Fotoresistmuster 27,
daß das Muster 27 im wesentlichen frei vom Einfluß des
durch den polykristallinen Siliziumfilm 24 reflektierten
Lichtes ist und das Maskenmuster getreu übertragen wird.
Schließlich werden der Kohlenstoffilm 26 und der
SiO2-Film 25 geätzt, wobei das Fotoresistmuster 27 als
eine Maske verwendet wird, und der Kohlenstoffilm 26
sowie das Fotoresistmuster 27 werden durch einen
Veraschungsprozeß abgetragen.
Die Fig. 47A und 47B sind Draufsichten, welche
Fotoresistmuster zeigen, die jeweils durch das Verfahren
des vorliegenden Ausführungsbeispiels bzw. durch die
herkömmliche Methode erzeugt sind. In den Fig. 47A und
47B zeigen schraffierte Teile Fotoresistmuster.
Wie in Fig. 47A gezeigt ist, werden bei dem Verfahren
gemäß dem vorliegenden Ausführungsbeispiel keine
getrennten Teile in dem Fotoresistmuster 27 beobachtet,
und es ist offensichtlich, daß das Maskenmuster getreu
auf das Fotoresist 27 übertragen werden kann.
Wenn im Gegensatz hierzu, wie in Fig. 47B gezeigt ist,
ein Fotoresist 27a durch die herkömmliche Methode einer
Musterbildung unterworfen ist, so wird eine große Anzahl
von getrennten Teilen 28 in einem Fotoresistmuster 27a
insbesondere in der Lage mit hoher Stufe beobachtet. Dies
beruht darauf, daß bei der herkömmlichen Methode ein
verzerrtes Muster auf das Fotoresist 27a aufgrund des
durch die Oberfläche des polykristallinen Siliziumfilmes
24 reflektierten Belichtungslichtes übertragen wird. Es
sei angemerkt, daß eine Zwischenschicht-Isolierschicht
25a vorgesehen ist.
Im folgenden werden die Ursachen erläutert, warum das
Maskenmuster getreu auf das Fotoresist 27 übertragen
werden kann.
Da die Stärke des Lichtes, das das Fotoresist 27
durchsetzt hat und durch das polykristalline Silizium 24
reflektiert wurde, in dem Kohlenstoffilm 26 abnimmt, und
da die Stärke des durch das Substrat 21 und das
polykristalline Silizium 24 reflektierten Lichtes
ausreichend vermindert ist, wird das Fotoresist 27 kaum
durch dieses reflektierte Licht abnormal belichtet.
Selbst wenn die Dicke des Isolierfilmes abhängig von der
Lage schwankt und sich die Phase des reflektierten
Lichtes verschiebt, ändert sich zusätzlich die Größe oder
Abmessung des Resistmusters nicht.
Daher kann gemäß dem vorliegenden Ausführungsbeispiel
durch Erzeugen des Kohlenstoffilmes 26 zwischen dem
SiO2-Film 25 und dem Fotoresist 27 die Verzerrung des auf
das Fotoresist 27 übertragenen Maskenmusters vermindert
werden, und die Auflösung kann gesteigert werden. Selbst
wenn zusätzlich die Dicke des SiO2-Filmes 25 oder des
Kohlenstoffilmes 26 als eine unten liegende Schicht nicht
gleichmäßig ist, kann ein stabiles, gleichmäßiges,
genaues Fotoresistmuster erzeugt werden. Daher kann eine
sehr genaue, sehr zuverlässige Musterbildung des
Fotoresists 27 verwirklicht werden, der SiO2-Film 25 oder
der polykristalline Siliziumfilm 24 als eine unten
liegende Schicht können mit hoher Genauigkeit verarbeitet
werden, und die Produktausbeute kann erhöht werden.
In jedem der zweiten und dritten Ausführungsbeispiele
wird beispielsweise ein 80 nm dicker Kohlenstoffilm
vorgesehen. Jedoch können die Erfinder bestätigen, daß
die Stärke des reflektierten Lichtes ausreichend
vermindert werden kann, wenn die Dicke des
Kohlenstoffilmes auf 80 nm oder mehr eingestellt wird.
Die Fig. 48 bis 59 sind Diagramme, auf welchen obige
Bestätigung beruht. Die Fig. 48 und 49 sind Diagramme,
welche jeweils die Beziehungen zwischen der Dicke eines
SiO2-Filmes und dem Reflexionsvermögen (das Verhältnis
der Stärke des in den Resistfilm einfallendes Lichtes zu
der Stärke des reflektierten Lichtes) in Fällen zeigen,
in denen ein polykristalliner Siliziumfilm und ein
Al-Film jeweils auf dem SiO2-Film erzeugt sind, wobei
eine Dicke d eines Kohlenstoffilmes auf 0 nm eingestellt
ist (d. h. ohne einen Kohlenstoffilm). In ähnlicher Weise
sind die Fig. 50 und 51 Diagramme, die jeweils die
Beziehungen zwischen der Dicke eines SiO2-Filmes und dem
Reflexionsvermögen zeigen, wobei die Dicke eines
Kohlenstoffilmes auf 20 nm eingestellt ist. Die Fig. 52
und 53 sind Diagramme, die jeweils die Beziehungen
zwischen der Dicke eines SiO2-Filmes und dem
Reflexionsvermögen zeigen, wobei die Dicke eines
Kohlenstoffilmes auf 40 nm eingestellt ist. Die Fig. 54
und 55 sind Diagramme, die jeweils die Beziehungen
zwischen der Dicke eines SiO2-Filmes und dem
Reflexionsvermögen zeigen, wobei die Dicke eines
Kohlenstoffilmes auf 60 nm eingestellt ist. Die Fig. 56
und 57 sind Diagramme, die jeweils, die Beziehungen
zwischen der Dicke eines SiO2-Filmes und dem
Reflexionsvermögen zeigen, wobei, die Dicke eines
Kohlenstoffilmes auf 80 nm eingestellt ist. Die Fig. 58
und 59 sind Diagramme, die jeweils die Beziehungen
zwischen der Dicke eines SiO2-Filmes und dem
Reflexionsvermögen zeigen, wobei die Dicke eines
Kohlenstoffilmes auf 100 nm eingestellt ist.
Es sei darauf hingewiesen, daß jedes Reflexionsvermögen
bestimmt wird, in dem die Belichtungslicht-Wellenlänge λ =
364 nm eingestellt wird und die optischen Konstanten
gemäß Tab. 1 sowie die folgenden Gleichungen (3)
verwendet weden, die für Mehrfachreflexion aufgestellt
sind.
Dabei bedeuten dB die Dicke eines SiO2-Filmes, dC die
Dicke eines Kohlenstoffilmes, λ die Wellenlänge des
Belichtungslichtes, NA die optische Konstante eines
lichtreflektierenden Filmes (polykristalliner
Siliziumfilm, Al-Film), NC die optische Konstante des
Kohlenstoffilmes, NB die optische Konstante des
SiO2-Filmes, NR die optische Konstante eines Fotoresists
rR = (NR - NC)/(NR + NC) und rC = (NC - NB)/(NC + NB)
uns rB = (NB - NA)/(NB + NA). Es sei darauf hingewiesen,
daß die optische Konstante N durch N = n - ik (n:
Brechungsindex, k: Extinktionskoeffizient) dargestellt
ist.
Es ist aus diesen Diagrammen ersichtlich, daß, wenn die
Dicke dC des Kohlenstoffilmes 80 nm oder mehr beträgt,
ein Reflexionsvermögen von 10% oder weniger unabhängig
von dem polykristallinen Siliziumfilm oder dem Al-Film
oder der Dicke dB des SiO2-Filmes erhalten wird.
Zusätzlich ist aus diesen Diagrammen zu ersehen, daß sich
das Reflexionsvermögen periodisch gemäß der Dicke dB des
SiO2-Filmes ändert. Diese Änderung im Reflexionsvermögen
wird durch die Interferenz zwischen dem reflektierten
Licht und dem einfallenden Licht auf der Oberfläche des
polykristallinen Silizium- oder Al-Filmes, die
Interferenz zwischen dem reflektierten Licht und dem
einfallenden Licht auf der Oberfläche des SiO2-Filmes,
die Interferenz zwischen dem durch die Oberfläche des
Kohlenstoffilmes reflektierten Licht und dem durch die
Oberfläche des polykristallinen Silizium- oder Al-Filmes
reflektierten Licht o. dgl. verursacht. Die Periode der
Änderung entspricht 1/2 eines Wertes, der durch
Dividieren der Wellenlänge des einfallenden Lichtes durch
den Brechungsindex des SiO2-Filmes erhalten wird, d. h.
etwa 120 nm. Es ist offensichtlich, daß eine derartige
periodische Änderung im Reflexionsvermögen sehr klein
ist, wenn die Dicke dC des Kohlenstoffilmes 80 nm oder
mehr ist.
Die Erfinder haben auch die Abhängigkeit der
Lichtabsorption eines Kohlenstoffilmes von seiner Dicke
geprüft. Fig. 60 zeigt das Ergebnis. Das heißt, Fig. 60
ist ein Diagramm, das die Beziehung zwischen dem
Absorptionsvermögen I/I0 und der Dicke eines
Kohlenstoffilmes angibt. In diesem Fall stellt I die
Stärke des übertragenen Lichtes dar, während I0 die
Stärke des einfallenden Lichtes angibt.
Wenn angenommen wird, daß die Dicke und der
Extinktionskoeffizient eins Kohlenstoffilmes jeweils
durch d und k gegeben sind und die Wellenlänge des
Lichtes durch λ wiedergegeben wird, so ist das
Absorptionsvermögen I/I0 gegeben durch:
I/I0 = exp(-4πkd/λ) ...(4)
Fig. 60 zeigt einen Fall, in welchem k = 0,79 und
λ = 365 nm vorliegen.
Obwohl Fig. 60 die Abhängigkeit der Dicke des
Kohlenstoffilmes vom Absorptionsvermögen I/I0 angibt, ist
aus Gleichung (4) zu ersehen, daß das Absorptionsvermögen
I/I0 auch vom Extinktionskoeffizienten k und der
Wellenlänge λ abhängt. Daher kann das Reflexionsvermögen
auf 10% oder weniger vermindert werden, selbst wenn die
Dicke des Kohlenstoffilmes kleiner als 80 nm ist, obwohl
anhand der Fig. 48 bis 59 erläutert wurde, daß das
Reflexionsvermögen auf 10% oder weniger vermindert wird,
wenn die Dicke des Kohlenstoffilmes 80 nm oder mehr ist.
Das heißt, das Einsetzen von d = 80, k = 0,79 und
λ = 365 in kd/λ liefern 0,173. Solange daher die
Beziehung kd/λ ≧ 0,173 erfüllt ist, können die Stärken
des durch die jeweiligen Arten von lichtreflektierenden
Filmen reflektierten Lichtes im wesentlichen auf den
gleichen Wert unabhängig von Änderungen in der optischen
Konstante eines lichtreflektierenden Filmes als eine
Unterschicht, wie beispielsweise eines polykristallinen
Siliziumfilmes oder eines Al-Filmes, eines transparenten
Filmes, wie beispielsweise eines SiO2-Filmes, und eines
Kohlenstoffilmes, und Änderungen in der Wellenlänge des
Belichtungslichtes gedrückt werden. Damit kann eine
hervorragende Musterbildung wie in den obigen
Ausführungsbeispielen durchgeführt werden. Jedoch erfüllt
ein Kohlenstoffilm, dessen Extinktionskoeffizient k im
wesentlichen 0 bei der Wellenlänge λ von 200 nm oder mehr
ist, d. h. ein Diamantfilm, nicht die obige Beziehung und
kann somit nicht verwendet werden.
Im zweiten und dritten Ausführungsbeispiel wird ein
polykristalliner Siliziumfilm oder ein Al-Film als ein
lichtreflektierender Film verwendet. Jedoch können andere
Metallfilme, Legierungsfilme, Silizidfilme und
Halbleiterfilme benutzt werden. Obwohl ein SiO2-Film als
ein Isolierfilm im Beispiel als ein zu Verarbeitender
transparenter Film angegeben ist, können zusätzlich
andere Oxydfilme und Nitridfilme als transparente
isolierende Filme benutzt werden.
Die Fig. 61A bis 61I sind Schnitte, die die Schritte bei
der Herstellung eines Isolierfilmmuster gemäß einem
vierten Ausführungsbeispiel der Erfindung erläutern.
Wie in Fig. 61A gezeigt ist, wird ein SiO2-Film (zu
verarbeitender Film) 32 mit einer Dicke von 1 µm auf
einem Si-Substrat (lichtreflektierender Film) 31
gebildet, auf welchem gewünschte Elemente durch die
Plasma-CVD-Methode (CVD = chemische Dampfabscheidung)
erzeugt worden sind. Der SiO2-Film hat eine Schwankung
von ±8% in der Filmdicke.
Wie in Fig. 61B gezeigt ist, wird ein 100 nm dicker
Kohlenstoffilm 33 auf den SiO2-Film 32 durch die
Sputtermethode gebildet, wobei eine Graphitplatte als ein
Target verwendet wird.
Sodann wird, wie in Fig. 61C gezeigt ist, ein positives
Fotoresist (Fotoresistharz: RFI 15AA, hergestellt durch
Sumitomo Chemical Co.) 34 auf den Kohlenstoffilm 33
geschichtet, und das Fotoresist 34 wird mit einem (nicht
gezeigten) Maskenmuster belichtet. In diesem Schritt wird
die Belichtungslicht-Wellenlänge λ auf 365 nm
eingestellt.
Wie in Fig. 61D gezeigt ist, wird das Fotoresist 34
entwickelt, um ein Fotoresistmuster 35 zu bilden.
Schließlich werden, wie in Fig. 61E gezeigt ist, der
Kohlenstoffilm 33 und der Isolierfilm 32 einer
Musterbildung mittels des Fotoresistmusters 35 als Maske
unterworfen, und das Fotoresistmuster 35 und der
Kohlenstoffilm 33 werden durch einen Veraschungsprozeß
entfernt.
In dem oben beschriebenen Verfahren wird ein Maskenmuster
durch quadratische Kontaktlöcher von 0,5 µm2 und 0,7 µm2
gebildet. Das auf das Fotoresist 34 übertragene Muster
hat quadratische Kontaktlöcher von 0,48 µm2 und 0,7 µm2.
Eine Schwankung in der Größe oder Abmessung der
Kontaktlöcher von 0,7 µm2 innerhalb der Oberfläche einer
6-Zoll-Scheibe beträgt ±1,8%.
Zum Vergleich mit der oben beschriebenen Struktur wird
eine Musterbildung eines Isolierfilmes durchgeführt, ohne
einen Kohlenstoffilm zwischen einem Fotoresist und einem
SiO2-Film zu erzeugen. Es hat sich gezeigt, daß eine
Auflösung entsprechend einem 0,50 µm2-Muster nicht
erhalten werden kann, und eine Schwankung in der Größe
oder Abmessung von 0,70 µm2-Kontaktlöchern innerhalb der
Oberfläche einer 6-Zoll-Scheibe beträgt ±8,8%.
Die Ursache für die obigen Ergebnisse ist die folgende:
Die Stärke des Lichtes, das das Fotoresist 34 durchsetzt hat, nimmt im Kohlenstoffilm 33 ab, so daß die Stärke des durch das Substrat 31 oder die metallische Verdrahtungsschicht auf dem Substrat 31 reflektierten Lichtes ausreichend vermindert ist. Selbst wenn die Dicke des Isolierfilmes abhängig von der Lage schwankt und sich die Phase des reflektierten Lichtes ändert, ändert sich die Abmessung oder Größe des Resistmusters daher nicht.
Die Stärke des Lichtes, das das Fotoresist 34 durchsetzt hat, nimmt im Kohlenstoffilm 33 ab, so daß die Stärke des durch das Substrat 31 oder die metallische Verdrahtungsschicht auf dem Substrat 31 reflektierten Lichtes ausreichend vermindert ist. Selbst wenn die Dicke des Isolierfilmes abhängig von der Lage schwankt und sich die Phase des reflektierten Lichtes ändert, ändert sich die Abmessung oder Größe des Resistmusters daher nicht.
Gemäß dem vorliegenden Ausführungsbeispiel kann somit die
Verzerrung des auf das Fotoresist 34 übertragenen
Maskenmusters vermindert werden, und die Auflösung kann
erhöht werden, um so ein stabiles, gleichmäßiges, genaues
Fotoresistmuster zu bilden. Mit diesem Fotoresist kann
eine sehr genaue, sehr zuverlässige Musterbildung des
SiO2-Filmes 32 durchgeführt werden.
Im zweiten bis vierten Ausführungsbeispiel wird als
Beispiel ein SiO2-Film als ein zu verarbeitender
transparenter Film verwendet. Jedoch kann der gleiche
Effekt, wie oben beschrieben wurde, mit anderen Arten von
Filmen erhalten werden, beispielsweise mit einem
Siliziumnitridfilm und einem Harzfilm. Zusätzlich ist
eine unten liegende Schicht eines zu verarbeitenden
Filmes nicht auf ein Si-Substrat beschränkt.
Beispielsweise können andere lichtreflektierende Filme,
beispielsweise Metallfilme, wie z. B. ein Al-Film, ein
Ni-Film, eine W-Film und ein Cu-Film, metallische
Verbindungsfilme, wie z. B. ein Al-Si-Cu-Film, ein
Al-Si-Film, ein MoSix-Film und WSix-Film sowie
metallische Verbindungsverdrahtungsschichten verwendet
werden.
Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die obigen
Ausführungsbeispiele beschränkt. Beispielsweise wird in
den obigen Ausführungsbeispielen ein Kohlenstoffilm durch
die Sputtermethode gebildet. Jedoch kann ein
Kohlenstoffilm durch andere Filmerzeugungsmethoden, wie
beispielsweise durch eine Vakuum-Heiz-Abscheidungsmethode
geliefert werden.
In den obigen Ausführungsbeispielen wird ein positives
Fotoresist verwendet. Jedoch können andere
Fotoresistmaterialien, wie beispielsweise ein negatives
Fotoresist, benutzt werden. Das Verfahren, das ein
negatives Fotoresist verwendet, ist insbesondere wirksam,
wenn die Belichtungsfläche eines Kontaktlochmusters groß
ist.
Zusätzlich wird in den obigen Ausführungsbeispielen Licht
mit einer Wellenlänge von 365 nm als Belichtungslicht
benutzt. Jedoch kann der gleiche Effekt, wie oben
beschrieben ist, mit jedem anderen Belichtungslicht mit
einer Wellenlänge im Bereich von 180 nm bis 530 nm
erzielt werden.
Zahlreiche Änderungen und Abwandlungen sind innerhalb des
Rahmens der Erfindung möglich.
Da, wie oben in Einzelheiten beschrieben wurde,
erfindungsgemäß ein Kohlenstoffilm zwischen einem zu
verarbeitenden Film und einem Fotoresist erzeugt wird,
nimmt die Stärke des Lichtes, das das Fotoresist
durchsetzt hat, im Kohlenstoffilm ab. Als Ergebnis ist
die Stärke des reflektierten Lichtes des
Belichtungslichtes ausreichend vermindert, und das
Fotoresist ist im wesentlichen frei von einer abnormalen
Belichtung aufgrund des reflektierten Lichtes.
Da die Verzerrung eines auf das Fotoresist übertragenen
Musters unterdrückt werden kann, kann der zu
verarbeitende Film mit einer hohen Genauigkeit einer
Musterbildung unterworfen werden, indem das Muster des
Fotoresists als eine Maske verwendet wird, um so die
Zuverlässigkeit der Vorrichtung zu verbessern und die
Produktausbeute zu steigern.
Claims (14)
1. Belichtungsverfahren für die Herstellung einer
Halbleitervorrichtung, umfassend die folgenden Schritte:
Bilden einer Kohlenstoffschicht (6) auf einer lichtreflektierenden Schicht (5);
Bilden einer fotoempfindlichen Harzschicht (7) auf der Kohlenstoffschicht (6);
selektives Einstrahlen von Licht auf die fotoempfindliche Harzschicht (7);
Bilden eines fotoempfindlichen Harzmusters (7) durch Entwickeln der fotoempfindlichen Harzschicht (7), die selektiv mit dem Licht bestrahlt ist;
Bilden eines Kohlenstoffmusters (6) durch Ätzen der Kohlenstoffschicht (6), wobei das fotoempfindliche Harzmuster (7) als eine Maske verwendet wird; und
Bilden eines lichtreflektierenden Musters (5) durch Ätzen der lichtreflektierenden Schicht (5), wobei das fotoempfindliche Harzmuster oder das Kohlenstoffmuster (6) als eine Maske verwendet wird,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Dicke der Kohlenstoffschicht (6) auf einen Wert von 38 nm bis 78 nm eingestellt wird, so daß das gesamte Reflexionsvermögen des durch die lichtreflektierende Schicht (5) reflektierten Lichtes und des durch die Kohlenstoffschicht (6) reflektierten Lichtes niedriger ist als ein eigenes Reflexionsvermögen der Kohlenstoffschicht (6), und
die Kohlenstoffschicht (6) einen Brechungsindex von 1,3 bis 2,5 und einen Extinktionskoeffizienten von 0,3 bis 1,0 bei einer Lichtwellenlänge im Bereich von λ = 250 nm bis λ = 440 nm hat.
Bilden einer Kohlenstoffschicht (6) auf einer lichtreflektierenden Schicht (5);
Bilden einer fotoempfindlichen Harzschicht (7) auf der Kohlenstoffschicht (6);
selektives Einstrahlen von Licht auf die fotoempfindliche Harzschicht (7);
Bilden eines fotoempfindlichen Harzmusters (7) durch Entwickeln der fotoempfindlichen Harzschicht (7), die selektiv mit dem Licht bestrahlt ist;
Bilden eines Kohlenstoffmusters (6) durch Ätzen der Kohlenstoffschicht (6), wobei das fotoempfindliche Harzmuster (7) als eine Maske verwendet wird; und
Bilden eines lichtreflektierenden Musters (5) durch Ätzen der lichtreflektierenden Schicht (5), wobei das fotoempfindliche Harzmuster oder das Kohlenstoffmuster (6) als eine Maske verwendet wird,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Dicke der Kohlenstoffschicht (6) auf einen Wert von 38 nm bis 78 nm eingestellt wird, so daß das gesamte Reflexionsvermögen des durch die lichtreflektierende Schicht (5) reflektierten Lichtes und des durch die Kohlenstoffschicht (6) reflektierten Lichtes niedriger ist als ein eigenes Reflexionsvermögen der Kohlenstoffschicht (6), und
die Kohlenstoffschicht (6) einen Brechungsindex von 1,3 bis 2,5 und einen Extinktionskoeffizienten von 0,3 bis 1,0 bei einer Lichtwellenlänge im Bereich von λ = 250 nm bis λ = 440 nm hat.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Kohlenstoffschicht (6) durch Sputtern bzw. Zerstäuben
gebildet ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die lichtreflektierende Schicht (5) im
wesentlichen aus einem Metall besteht, das aus der aus einem
Metall, einer Metallegierung, einem Metallsilizid und einem
Halbleiter bestehenden Gruppe ausgewählt ist.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die lichtreflektierende Schicht (5) im
wesentlichen aus einem Material besteht, das aus der aus Al,
Ag, Cu, Mo, Molybdänsilizid und polykristallinem Silizium
bestehenden Gruppe ausgewählt ist.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das lichtreflektierende Muster (5) eine
Zwischenverbindungsschicht ist.
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die fotoempfindliche Harzschicht aus einem Fotoresist
besteht.
7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Kohlenstoffschicht (6) eine Dicke hat, die die
folgende Beziehung (1) erfüllt:
wobei dB die Dicke der Kohlenstoffschicht (6), λ die Wellenlänge von Belichtungslicht, NA eine optische Konstante der lichtreflektierenden Schicht (5), NB eine optische Konstante der Kohlenstoffschicht (6), NR eine optische Konstante der fotoempfindlichen Harzschicht (7) bedeuten und rB = (NR - NB)/(NR + NB) und rB = (NB - NA)/(NB + NA) gilt.
wobei dB die Dicke der Kohlenstoffschicht (6), λ die Wellenlänge von Belichtungslicht, NA eine optische Konstante der lichtreflektierenden Schicht (5), NB eine optische Konstante der Kohlenstoffschicht (6), NR eine optische Konstante der fotoempfindlichen Harzschicht (7) bedeuten und rB = (NR - NB)/(NR + NB) und rB = (NB - NA)/(NB + NA) gilt.
8. Belichtungsverfahren für die Herstellung einer
Halbleitervorrichtung, umfassend die folgenden Schritte:
Bilden einer transparenten Schicht (25) auf einer lichtreflektierenden Schicht (24);
Bilden einer Kohlenstoffschicht (26) auf der transparenten Schicht (25);
Bilden einer fotoempfindlichen Harzschicht (27) auf der Kohlenstoffschicht (26);
selektives Einstrahlen von Licht auf die fotoempfindliche Harzschicht (27);
Bilden eines fotoempfindlichen Harzmusters (27) durch Entwickeln der fotoempfindlichen Harzschicht (27), die selektiv mit dem Licht bestrahlt ist;
Bilden eines Kohlenstoffmusters (26) durch Ätzen der Kohlenstoffschicht (26), wobei das fotoempfindliche Harzmuster (27) als eine Maske verwendet wird; und
Bilden eines transparenten Schichtmusters (25) durch Ätzen der transparenten Schicht (25), wobei das fotoempfindliche Harzmuster (27) oder das Kohlenstoffmuster (26) als eine Maske verwendet wird, so daß die Dicke d der Kohlenstoffschicht (26), der Extinktionskoeffizient k der Kohlenstoffschicht (26) und die Wellenlänge λ des Belichtungslichtes die Beziehung 0,17 ≦ kd/λ erfüllen,
wobei die Kohlenstoffschicht (26) eine Dicke von 80 nm bis 200 nm, einen Brechungsindex von 1,3 bis 2,5 und einen Extinktionskoeffizienten von 0,3 bis 1,0 hat.
Bilden einer transparenten Schicht (25) auf einer lichtreflektierenden Schicht (24);
Bilden einer Kohlenstoffschicht (26) auf der transparenten Schicht (25);
Bilden einer fotoempfindlichen Harzschicht (27) auf der Kohlenstoffschicht (26);
selektives Einstrahlen von Licht auf die fotoempfindliche Harzschicht (27);
Bilden eines fotoempfindlichen Harzmusters (27) durch Entwickeln der fotoempfindlichen Harzschicht (27), die selektiv mit dem Licht bestrahlt ist;
Bilden eines Kohlenstoffmusters (26) durch Ätzen der Kohlenstoffschicht (26), wobei das fotoempfindliche Harzmuster (27) als eine Maske verwendet wird; und
Bilden eines transparenten Schichtmusters (25) durch Ätzen der transparenten Schicht (25), wobei das fotoempfindliche Harzmuster (27) oder das Kohlenstoffmuster (26) als eine Maske verwendet wird, so daß die Dicke d der Kohlenstoffschicht (26), der Extinktionskoeffizient k der Kohlenstoffschicht (26) und die Wellenlänge λ des Belichtungslichtes die Beziehung 0,17 ≦ kd/λ erfüllen,
wobei die Kohlenstoffschicht (26) eine Dicke von 80 nm bis 200 nm, einen Brechungsindex von 1,3 bis 2,5 und einen Extinktionskoeffizienten von 0,3 bis 1,0 hat.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet,
daß die Kohlenstoffschicht (26) durch Sputtern bzw.
Zerstäuben gebildet ist.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 oder 9,
dadurch gekennzeichnet, daß die lichtreflektierende Schicht
(24) im wesentlichen aus einem Material besteht, das aus der
aus einem Metall, einer Metallegierung, einem Metallsilizid,
einem Halbleiter bestehenden Gruppe ausgewählt ist.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 10,
dadurch gekennzeichnet, daß die lichtreflektierende Schicht
(24) im wesentlichen aus einem Material besteht, das aus der
aus Al, Ag, Cu, Mo, Molybdänsilizid und polykristallinem
Silizium bestehenden Gruppe ausgewählt ist.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 11,
dadurch gekennzeichnet, daß die fotoempfindliche Harzschicht
(27) aus einem Fotoresist besteht.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 12,
dadurch gekennzeichnet, daß die transparente Schicht (25) im
wesentlichen aus einem Material besteht, das aus der aus
Siliziumdioxid, Siliziumnitrid und einem synthetischen Harz
bestehenden Gruppe ausgewählt ist.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 13,
dadurch gekennzeichnet, daß die transparente Schicht (25)
eine Zwischenschicht-Isolierschicht ist.
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