DE4402082A1 - Signalübertragungsleitung in Filmschichttechnik - Google Patents
Signalübertragungsleitung in FilmschichttechnikInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Signalübertragungsleitung
in Filmschichttechnik nach dem Oberbegriff des Anspruches
1, sowie eine hiermit gebildete Signalübertragungsvorrich
tung nach dem Oberbegriff des Anspruches 5. Insbesondere
betrifft die vorliegende Erfindung eine Signalübertragungs
leitungs-Struktur, welche zur Anordnung auf einem inte
grierten Halbleiterschaltkreis geeignet ist, der mit sehr
hohen Arbeitsfrequenzen und sehr hohen Arbeitsgeschwin
digkeiten betrieben wird, oder welche geeignet ist, eine
Verbindungsstruktur zwischen einer Mehrzahl von integrier
ten Halbleiterschaltkreisen herzustellen.
Fig. 8 zeigt eine perspektivische Schnittdarstellung
einer Signalübertragungsleitung in Filmschichttechnik nach
dem Stand der Technik. In Fig. 8 ist mit dem Bezugszeichen
1 ein dielektrischer Film, beispielsweise aus Polyimid, be
zeichnet. Erste Metallfilme 3, welche jeweils eine Kupfer-
Filmschicht oder dergleichen aufweisen und welche eine be
stimmte Breite haben sind auf einer ersten oder oberen
Oberfläche des dielektrischen Films 1 als Signalleitungen
abgeschieden. Ein zweiter Metallfilm 2 ist auf einer zwei
ten oder unteren Oberfläche des dielektrischen Films 1 als
Masseebene abgeschieden.
Diese bekannte Signalübertragungsleitung in Film
schichttechnik arbeitet wie folgt:
Die in Fig. 8 dargestellte Signalübertragungsleitung wird verwendet, um Verbindungen zwischen Schaltkreisen in dem gleichen Gehäuse herzustellen, wobei die Kupfer-Film schicht 2 als Masseebene und die Kupfer-Filmschicht 3 je weils als Signalleitungen arbeitet, so daß elektromagneti sche Wellen (nachfolgend als RF-Signal bezeichnet) in der Übertragungsleitung übertragen werden, welche jeweils von einer Signalleitung 3 und der Filmschicht-Masseebene 2 ge bildet wird und eine bestimmte Leitungsimpedanz in Richtung Z oder in Richtung -Z hat.
Die in Fig. 8 dargestellte Signalübertragungsleitung wird verwendet, um Verbindungen zwischen Schaltkreisen in dem gleichen Gehäuse herzustellen, wobei die Kupfer-Film schicht 2 als Masseebene und die Kupfer-Filmschicht 3 je weils als Signalleitungen arbeitet, so daß elektromagneti sche Wellen (nachfolgend als RF-Signal bezeichnet) in der Übertragungsleitung übertragen werden, welche jeweils von einer Signalleitung 3 und der Filmschicht-Masseebene 2 ge bildet wird und eine bestimmte Leitungsimpedanz in Richtung Z oder in Richtung -Z hat.
Diese bekannte Signalübertragungsleitung in Film
schichttechnik mit der in Fig. 8 dargestellten Mikrostrei
fen-Leitungsstruktur hat die folgenden Probleme: Wenn die
einzelnen Signalleitungen näher aneinander herangebracht
werden, da die Integrationsdichte ansteigt, wachsen eine
gegenseitige Beeinflussung d. h. ein Übersprechen zwischen
Signalleitungen, sowie Übertragungsverluste im RF-Signal
an.
Zusätzlich treten am Befestigungsbereich der Si
gnalübertragungsleitung mit einem integrierten Halbleiter
schaltkreis, der im Millimeter-Wellenband arbeitet und am
Verbindungsbereich mit einer Mehrzahl derartiger integrier
ter Halbleiterschaltkreise Reflektionen von RF-Signalen auf
Grund einer Impedanz-Fehlanpassung am Verbindungsbereich
zwischen der Übertragungsleitung und den Schaltkreisen auf,
was die Übertragungsverluste in nachteiliger Weise erhöht.
Aus den veröffentlichten japanischen Patentanmeldungen
3-14486 und 1-207937 sind Techniken bekannt, um bei Si
gnalübertragungsleitungen in Filmschichttechnik die Reflek
tionen von Hochfrequenzsignalen zu verringern und die Ein
gangs- und Ausgangsimpedanzen zu stabilisieren. Hierzu wer
den die Signalleitungen in einem isolierenden Film einge
bettet, Masseebenen an beiden Oberflächen des isolierenden
Filmes vorgesehen und dann die Masseebenen mit Durchgangs
bohrungen miteinander verbunden. Hierbei sind jedoch die
Durchgangsbohrungen zwischen einander benachbarten Signal
leitungen angeordnet, was somit keinen Beitrag zur Verrin
gerung im Übersprechen bringen kann und was wiederum zu ho
hen Übertragungsverlusten wie beim Stand der Technik nach
Fig. 8 führt.
Es ist von daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung,
eine Signalübertragungsleitung in Filmschichttechnik zu
schaffen, bei welcher das Übersprechen zwischen Signallei
tungen verringert ist, selbst wenn eine Mehrzahl derartiger
Signalleitungen eng aneinander auf einem Trägerfilm bei
spielsweise aus Polyimid angeordnet sind. Weiterhin sollen
bei der erfindungsgemäßen Signalübertragungsleitung die
Übertragungsverluste des Eingangssignales verringert wer
den, welche durch Reflektionen auf Grund von Impedanz-Fehl
anpassungen verursacht werden.
Eine Signalübertragungsleitung in Filmschichttechnik
umfaßt gemäß eines ersten Aspektes der vorliegenden Erfin
dung ein dielektrisches Material als Mutter- oder Trägerma
terial mit einer ersten oder oberen Oberfläche und einer
zweiten oder unteren Oberfläche gegenüber der ersten Ober
fläche, eine Mehrzahl von Signalleitungen zum Übertragen
eines Hochfrequenzsignales, welche in dem dielektrischen
Trägermaterial mit bestimmten Abständen dazwischen einge
bettet sind, eine Masseleitung oder Masseebene, welche auf
der unteren Oberfläche des dielektrischen Trägermaterials
angeordnet ist, eine trennende Vertiefung in einem Bereich
des Trägermateriales zwischen benachbarten Signalleitungen
und entlang diesen verlaufend und zweite auf Masse liegende
leitfähige Filme, welche auf der ersten Oberfläche des Trä
germaterials und in der trennenden Vertiefung angeordnet
sind und elektrisch mit dem ersten auf Masse liegenden
leitfähigen Film über die Vertiefungen in Verbindung ste
hen.
Durch diesen Aufbau sind einander benachbarte Signal
leitungen elektrisch abgeschirmt und ein Übersprechen zwi
schen Signalleitungen ist verringert.
Eine Signalübertragungsleitung in Filmschichttechnik
umfaßt gemäß eines zweiten Aspektes der vorliegenden Erfin
dung ein dielektrisches Material als Mutter- oder Trägerma
terial mit einer ersten Oberfläche und einer zweiten, der
ersten Oberfläche gegenüberliegenden Oberfläche, eine Mehr
zahl von Signalleitungen zur Übertragung eines Hochfre
quenzsignales, welche in dem dielektrischen Trägermaterial
mit bestimmten Abständen zueinander eingebettet sind, eine
auf Masse liegende Leitung oder eine auf Masse liegende
Ebene, welche auf der zweiten Oberfläche des dielektrischen
Trägermaterials angeordnet ist, eine trennende Vertiefung
in einem Bereich des Trägermaterials zwischen einander be
nachbarten Signalleitungen und entlang dieser Signalleitun
gen verlaufend und zweite auf Masse liegende leitfähige
Filme, welche auf der ersten Oberfläche des Trägermaterials
und in der Vertiefung angeordnet sind und elektrisch mit
dem ersten auf Masse liegenden leitfähigen Film über die
Vertiefung in Verbindung stehen. Hiermit können die Si
gnalübertragungsleitungen in Filmschichttechnik und ein
Schaltkreis als Signalleitungen eines koplanaren Types mit
einander verbunden werden und eine Impedanz-Fehlanpassung
im Verbindungsbereich wird verringert.
Bei einer Signalübertragungsleitung in Filmschichttech
nik gemäß eines dritten Aspektes der vorliegenden Erfindung
stehen die Signalleitungen von dem Trägermaterial an dessen
Enden vor und verlängerte Bereiche von auf Masse liegenden
Leitern sind an beiden Seiten der verlängerten Signallei
tungen vorgesehen, wobei diese verlängerten Bereiche mit
den ersten und zweiten auf Masse liegenden leitfähigen Fil
men miteinander verbunden sind und wobei deren Endbereiche
miteinander verbunden sind, wobei weiterhin ein Raum zwi
schen den verlängerten Bereichen mit einem Trägerfilm aus
dielektrischem Material gefüllt ist.
Bei einer Signalübertragungsleitung in Filmschichttech
nik gemäß eines vierten Aspektes der vorliegenden Erfindung
sind Schlitze mit einer bestimmten Breite und Tiefe ober
halb der Signalleitungen in dem zweiten auf Masse liegenden
leitfähigen Film angeordnet. Von daher ändert sich die Im
pedanz an dem Endabschnitt der Signalübertragungsleitungen
nicht abrupt.
Bei einer Signalübertragungsleitung in Filmschichttech
nik nach einem fünften Aspekt der vorliegenden Erfindung
wird als dielektrisches Trägermaterial ein Schaummaterial
verwendet. Die Dielektrizitätskonstante des dielektrischen
Materiales, welches die Übertragungsleitung bildet, wird
daher verringert.
Allgemein und zusammenfassend kann gesagt werden, daß
die Lösung der oben erwähnten Aufgabe durch die im Anspruch
1 bzw. 5 angegebenen Merkmale gelöst wird, wobei sich vor
teilhafte Ausgestaltungen der Erfindung aus den jeweiligen
Unteransprüchen ergeben.
Weitere Einzelheiten, Aspekte und Vorteile der vorlie
genden Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Be
schreibung unter Bezugnahme auf die Zeichnung.
Es zeigt:
Fig. 1 eine perspektivische Schnittdarstellung
durch eine Signalübertragungsleitung in Filmschichttechnik
gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfin
dung;
Fig. 2 eine schematische Darstellung der elek
trischen Feldverteilung während der Signalübertragung in
der Signalübertragungsleitung nach der ersten Ausführungs
form;
Fig. 3 eine perspektivische Schnittdarstellung
durch eine Signalübertragungsleitung in Filmschichttechnik
gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfin
dung;
Fig. 4 eine schematische Darstellung der elek
trischen Feldverteilung während der Signalübertragung in
der Signalübertragungsleitung nach der zweiten Ausführungs
form;
Fig. 5. eine perspektivische Schnittdarstellung
durch eine Signalübertragungsleitung in Filmschichttechnik
gemäß einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfin
dung;
Fig. 6. eine perspektivische Schnittdarstellung
durch eine Signalübertragungsleitung in Filmschichttechnik
gemäß einer vierten Ausführungsform der vorliegenden Erfin
dung;
Fig. 7. eine perspektivische Schnittdarstellung
durch eine Signalübertragungsleitung in Filmschichttechnik
gemäß einer fünften Ausführungsform der vorliegenden Erfin
dung;
Fig. 8 eine perspektivische Darstellung einer
Signalübertragungsleitung in Filmschichttechnik nach dem
Stand der Technik; und
Fig. 9 schematisch die elektrische Feldvertei
lung in der Signalübertragungsleitung von Fig. 8.
Es sei an dieser Stelle noch festgehalten, daß die
nachfolgende Beschreibung von bevorzugten Ausführungsformen
rein exemplarisch und nicht als einschränkend auf eben
diese Ausführungsformen zu verstehen ist. Im Rahmen der
vorliegenden Erfindung ist eine Mehrzahl von Abwandlungen
und Modifikationen möglich.
Fig. 1 zeigt eine Signalübertragungsleitung in Film
schichttechnik (nachfolgend als "Signalübertragungsleitung"
bezeichnet) gemäß einer ersten Ausführungsform der vorlie
genden Erfindung. In Fig. 1 ist mit dem Bezugszeichen 1 ein
Trägerfilm aus Polyimid oder dergleichen bezeichnet. Auf
der rückwärtigen oder unteren Oberfläche des Trägerfilms 1
ist eine Masseebene 2 bestehend aus einer ersten Schicht
eines Kupfer-Dünnfilms angeordnet. Eine zweite Schicht ei
nes Kupfer-Dünnfilms 3 als Signalleitung ist in dem Poly
imidfilm mit einer Höhe h gegenüber der Masseebene 2 geord
net und hat eine Breite w, um eine gewünschte Leitungsimpe
danz zu erhalten. Eine dritte Schicht eines Kupfer-Dünn
films 4 ist auf der oberen Oberfläche des Trägerfilms 1 an
geordnet gegenüber der Masseebene 2 und dieser Kupfer-Dünn
film 4 ist mit der Masseebene 2 mittels eines Abschnittes 6
des Kupfer-Dünnfilms 4 verbunden, der durch Einbringung ei
ner trennenden Vertiefung 5 in den Polyimidfilm 1 herge
stellt ist. Die Breite des Kupfer-Dünnfilms 4 wird so ge
wählt, daß der Abschnitt 6 des Kupfer-Dünnfilms 4 keinen
Kurzschluß mit der Signalleitung 3 bewirkt.
Die Wirkungsweise der Signalübertragungsleitung gemäß
dieser ersten Ausführungsform ist wie folgt:
Die Masseebene 2 und die Kupfer-Dünnfilme 4 und 6 wir
ken als Masseebene oder Masseleitung für die Signalübertra
gungsleitung des Kupfer-Dünnfilms 3 und die elektromagneti
sche Welle des elektrischen Signales wird in Richtung Z
oder in Richtung -Z in der Übertragungsleitung übertragen,
welche eine bestimmte Leitungsimpedanz - gebildet durch die
Kupfer-Dünnfilme 2, 3, 4 und 6 - hat. Wie in Fig. 2 darge
stellt, wird die trennende Vertiefung 5 zwischen einander
benachbarten Kupfer-Dünnfilmen 3 oder Signalleitungen er
zeugt und ein Abschnitt 6 des Kupfer-Dünnfilms 4 verläuft
in der Vertiefung 5, so daß ein Raum um jede der Signallei
tungen 3 herum elektrisch abgeschirmt ist und das Überspre
chen verhindert wird, wodurch eine Signalübertragungslei
tung mit geringem Verlust realisiert ist.
Das Herstellverfahren für die Signalübertragungsleitung
gemäß dieser Ausführungsform wird nachfolgend beschrieben.
Auf dem Kupfer-Dünnfilm 2, der später als Masseebene
dient, wird ein Polyimidfilm bestimmter Dicke aufgebracht,
ein Kupfer-Dünnfilmmaterial der nachfolgenden Signalleitun
gen wird auf der gesamten Oberfläche des Polyimidfilmes
aufgebracht, dieses Kupfer-Dünnfilmmaterial wird bearbei
tet, beispielsweise auf fotolithografischem Weg, um die Si
gnalleitungen 3 bestimmter Breite w zu erzeugen und ein
weiterer Polyimidfilm wird hierauf abgeschieden, wodurch
ein Aufbau gemäß Fig. 1 erhalten ist, in welchem die Si
gnalleitungen 3 in dem Polyimidfilm 1 eingebettet sind.
Dann wird der Kupfer-Dünnfilm 4 auf die gesamte Oberfläche
des Polyimidfilms 1 aufgebracht. Nachfolgend wird ein be
stimmter Bereich des Polyimidfilms 1 unter Verwendung von
beispielsweise Eisen-III-Chlorid geätzt, und die Vertiefun
gen 5, welche bis zu dem Kupfer-Dünnfilm 2 der Masseebene
reichen, werden unter Verwendung eines fotolithografischen
Entwicklers erzeugt, wonach ein weiterer Kupfer-Dünnfilm 6
nur in den Vertiefungen aufgebracht wird, wodurch der Auf
bau gemäß Fig. 1 erhalten ist.
Bei der ersten Ausführungsform wird der Kupfer-Dünnfilm
3, der die Signalübertragungsleitungen bildet, von einem
auf Masse liegenden Leiter umgeben, so daß ein Übersprechen
verhindert werden kann, selbst wenn die einzelnen Kupfer-
Dünnfilme 3 nahe aneinander verlaufend angeordnet sind und
selbst dann, wenn die Breite der Vertiefung 5 gering ge
macht wird. Somit kann eine Signalübertragungsleitung er
zeugt werden, welche zur Integration in hochdichten Anwen
dungsfällen geeignet ist.
Fig. 3 zeigt eine Signalübertragungsleitung gemäß einer
zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Gemäß
Fig. 3 wird von dem Kupfer-Dünnfilm 2 und der Signalleitung
3 eine Mikro-Streifenleitung (micro strip line) gebildet,
wobei die trennende Vertiefung 5 den Kupfer-Dünnfilm 2 in
einem Abschnitt des Polyimidfilms 1 zwischen den jeweiligen
Signalleitungen 3 berührt und wobei der weitere Kupfer-
Dünnfilm 6 in der Vertiefung 5 ausgebildet ist. In dieser
zweiten Ausführungsform funktionieren die Masseebene 2 und
der Kupfer-Dünnfilm 6 als Masseebene oder auf Masse liegen
de Leitung und der Kupfer-Dünnfilm 3 wirkt als Signallei
tung und das elektrische Signal wird in diesen Übertra
gungsleitungen in Richtung Z oder in Richtung -Z übertra
gen. Da der Kupfer-Dünnfilm 6 mit der Masseebene 2 verbun
den ist und die gleiche auf Masse liegende Spannung hat und
da der Kupfer-Dünnfilm 6 in den Vertiefungen 5 zwischen den
benachbarten Kupfer-Dünnfilmen 3 angeordnet ist, sind die
Räume 10a, 10b und 10c, welche die jeweiligen benachbarten
Kupfer-Dünnfilme umgeben, elektrisch voneinander mittels
des Kupfer-Dünnfilms 6 abgeschirmt, wie in Fig. 4 gezeigt,
so daß eine Übertragungsleitung mit geringem Signalverlust
möglich ist. Weiterhin ist die Signalleitung 3 nicht in dem
Polyimidfilm 1 eingebettet, so daß dieser Aufbau gemäß der
zweiten Ausführungsform gegenüber demjenigen der ersten
Ausführungsform mit weniger Aufwand herstellbar ist.
Fig. 5 zeigt eine dritte Ausführungsform der vorliegen
den Erfindung. Hierbei wird eine Anordnung ähnlich der von
Fig. 1 realisiert, wobei ein aufschäumbares Material 9,
beispielsweise Polyethylen mit geringer Dichte anstelle des
Polyimids 1 vorgesehen ist, um den Träger für die Si
gnalübertragungsleitungen zu bilden.
Bei dieser dritten Ausführungsform ist die Masseebene 2
und ist der Kupfer-Dünnfilm 4 als Masseebenen vorgesehen
und der Kupfer-Dünnfilm 3 wirkt als Signalleitung und das
elektrische Signal wird in Richtung Z oder in Richtung -Z
übertragen.
Da bei dieser Ausführungsform gegenüber der ersten Aus
führungsform das aufschäumbare Material 9 anstelle des Po
lyimidfilms 1 vorgesehen ist, wird die Dielektrizitätskon
stante des dielektrischen Materials verringert und Verluste
bei der Übertragung eines RF-Signales werden unterdrückt.
Fig. 6 zeigt eine vierte Ausführungsform der vorliegen
den Erfindung. Bei dieser Ausführungsform wird der Kupfer-
Dünnfilm 3 der Signalübertragungsleitung gemäß Fig. 1 am
Ende der Signalübertragungsleitung herausgezogen und die
Kupfer-Dünnfilme 7a und 7b, welche mit den Kupfer-Dünnfil
men 2 und 4 verbunden sind, welche die ersten bzw. zweiten
auf Masse liegenden Leiter der Signalübertragungsleitung
sind, sind an den linken und rechten Seiten hiervon vorge
sehen und Freiräume zwischen den Kupfer-Dünnfilmen 7a und
7b sind mit Polyimidfilm 1 verbunden und die oberen Enden
der Kupfer-Dünnfilme 7a und 7b sind miteinander verbunden,
um einen mit Polyimid bedeckten Kupfer-Dünnfilm 7 zu bil
den.
Da bei dieser vierten Ausführungsform eine koplanare
Leitung durch den Kupfer-Dünnfilm 7 mit auf Masse liegender
Spannung an beiden Enden oder Seiten der Signalleitung 3
gebildet ist, ist eine Impedanz-Fehlanpassung im Verbin
dungsbereich mit einem integriertem Halbleiterschaltkreis
und dem Verbindungsbereich zwischen einer Mehrzahl von in
tegrierten Halbleiterschaltkreisen verringert und ein Über
tragungsverlust im RF-Signal kann unterdrückt werden.
Fig. 7 zeigt eine Signalübertragungsleitung gemäß einer
fünften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Hierbei
sind gemäß Fig. 7 V-förmige Schlitze 8 in dem Kupfer-Dünn
film 4 oberhalb des Kupfer-Dünnfilms 3 ausgebildet.
Durch Einbringen der Schlitze 8 ändert sich die Impe
danz in der Signalleitung 3 an den Endbereichen der Si
gnalübertragungsleitung nicht abrupt und Impedanz-Fehlan
passungen im Verbindungsbereich mit einem integrierten
Halbleiterschaltkreis und im Verbindungsbereich zwischen
einer Mehrzahl von integrierten Halbleiterschaltkreisen
sind weiter verringert.
In der oben beschriebenen dritten Ausführungsform wurde
das aufschäumbare Material 9 anstelle von Polyimid verwen
det; genausogut kann eine sogenannte hochfeine Kügelchen
aufweisende Substanz ("Microballon" aus Phyllit, England)
in den Polyimidfilm mit den gleichen Effekten wie oben be
schrieben eingemischt werden.
Obgleich weiterhin in der fünften Ausführungsform ein
V-förmiger Schlitz vorgesehen ist, ist die Form des Schlit
zes nicht auf die V-Form beschränkt und jede beliebige
Form, mit welcher die Impedanz am Ende der Übertragungslei
tung sanft oder weich geändert werden kann, kann vorgesehen
sein.
Claims (6)
1. Signalübertragungsleitung in Filmschichttechnik
mit:
einem dielektrischen Material als Trägermaterial mit einer ersten oberen Oberfläche und einer zweiten, der er sten Oberfläche gegenüberliegenden unteren Oberfläche;
einer Mehrzahl von Signalleitungen zur Übertragung ei nes Hochfrequenzsignals, welche in dem dielektrischem Film träger mit bestimmten Abständen dazwischen eingebettet sind;
einer auf Masse liegenden Leitung oder einer Masse ebene, welche auf der zweiten Oberfläche des dielektrischen Filmträgers angeordnet ist;
einer trennenden Vertiefung, welche in einem Filmträ gerbereiche zwischen einander benachbarten Signalleitungen und entlang den Signalleitungen verlaufend ausgebildet ist; und
zweiten auf Masse liegenden leitfähigen Filmen, welche auf die erste Oberfläche des Filmträgers und in der tren nenden Vertiefung ausgebildet sind und mit dem ersten auf Masse liegenden leitfähigen Film über die trennende Ausneh mung verbunden sind.
einem dielektrischen Material als Trägermaterial mit einer ersten oberen Oberfläche und einer zweiten, der er sten Oberfläche gegenüberliegenden unteren Oberfläche;
einer Mehrzahl von Signalleitungen zur Übertragung ei nes Hochfrequenzsignals, welche in dem dielektrischem Film träger mit bestimmten Abständen dazwischen eingebettet sind;
einer auf Masse liegenden Leitung oder einer Masse ebene, welche auf der zweiten Oberfläche des dielektrischen Filmträgers angeordnet ist;
einer trennenden Vertiefung, welche in einem Filmträ gerbereiche zwischen einander benachbarten Signalleitungen und entlang den Signalleitungen verlaufend ausgebildet ist; und
zweiten auf Masse liegenden leitfähigen Filmen, welche auf die erste Oberfläche des Filmträgers und in der tren nenden Vertiefung ausgebildet sind und mit dem ersten auf Masse liegenden leitfähigen Film über die trennende Ausneh mung verbunden sind.
2. Signalübertragungsleitung nach Anspruch 1, wobei
die Signalleitungen von dem Filmträger an dessen Ende vor
stehen und wobei die oberen Enden der vorstehenden Bereiche
der Signalleitungen mit den ersten und zweiten auf Masse
liegenden leitfähigen Filmen an den vorstehenden Bereichen
verbunden sind, wobei der Filmträger aus dielektrischem Ma
terial zwischen die vorstehenden Bereiche der Signalleitun
gen und den vorstehenden Bereichen der auf Masse liegenden
Leitung gefüllt ist.
3. Signalübertragungsleitung nach Anspruch 2, wobei
Schlitze einer bestimmten Breite und Tiefe in dem zweiten
auf Masse liegenden leitfähigen Film oberhalb der Signal
leitungen ausgebildet sind.
4. Signalübertragungsleitung nach Anspruch 1, wobei
ein aufschäumbares Material als dielektrisches Filmmaterial
verwendet wird.
5. Signalübertragungsleitungs-Vorrichtung in Film
schichttechnik mit:
einem dielektrischen Material als Trägermaterial mit einer ersten oberen Oberfläche und einer zweiten, der er sten Oberfläche gegenüberliegenden unteren Oberfläche;
einer Mehrzahl von Signalleitungen zur Übertragung ei nes Hochfrequenzsignals, welche in dem dielektrischem Film träger mit bestimmten Abständen dazwischen eingebettet sind;
einer auf Masse liegenden Leitung oder einer Masse ebene, welche auf der zweiten Oberfläche des dielektrischen Filmträgers angeordnet ist;
einer trennenden Vertiefung, welche in einem Filmträ gerbereiche zwischen einander benachbarten Signalleitungen und entlang den Signalleitungen verlaufend ausgebildet ist; und
zweiten auf Masse liegenden leitfähigen Filmen, welche auf die erste Oberfläche des Filmträgers und in der tren nenden Vertiefung ausgebildet sind und mit dem ersten auf Masse liegenden leitfähigen Film über die trennende Ausneh mung verbunden sind.
einem dielektrischen Material als Trägermaterial mit einer ersten oberen Oberfläche und einer zweiten, der er sten Oberfläche gegenüberliegenden unteren Oberfläche;
einer Mehrzahl von Signalleitungen zur Übertragung ei nes Hochfrequenzsignals, welche in dem dielektrischem Film träger mit bestimmten Abständen dazwischen eingebettet sind;
einer auf Masse liegenden Leitung oder einer Masse ebene, welche auf der zweiten Oberfläche des dielektrischen Filmträgers angeordnet ist;
einer trennenden Vertiefung, welche in einem Filmträ gerbereiche zwischen einander benachbarten Signalleitungen und entlang den Signalleitungen verlaufend ausgebildet ist; und
zweiten auf Masse liegenden leitfähigen Filmen, welche auf die erste Oberfläche des Filmträgers und in der tren nenden Vertiefung ausgebildet sind und mit dem ersten auf Masse liegenden leitfähigen Film über die trennende Ausneh mung verbunden sind.
6. Signalübertragungsleitung nach Anspruch 5, wobei
ein aufschäumbares Material als dielektrisches Filmmaterial
verwendet wird.
Applications Claiming Priority (1)
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DE4402082A1 true DE4402082A1 (de) | 1994-08-11 |
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JP (1) | JP3241139B2 (de) |
DE (1) | DE4402082A1 (de) |
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