DE4446329A1 - Salze aromatischer Hydroxylverbindungen und deren Verwendung als Glanzbildner - Google Patents
Salze aromatischer Hydroxylverbindungen und deren Verwendung als GlanzbildnerInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft Salze aromatischer Hydroxylverbindun
gen sowie deren Verwendung als Glanzbildner. Weiterhin betrifft die
Erfindung saure galvanische Bäder sowie ein Verfahren zur galvanischen
Beschichtung von Formteilen.
Bei der galvanischen Abscheidung von Metallen bzw. Legierungen, ins
besondere von Zink oder Zinn bzw. Zink- oder Zinnlegierungen, auf
metallischen Substraten, wie Metallformteilen oder metallisierten Kunst
stofformteilen, aus wäßrig-saurer Lösung wird häufig ein glänzender
Überzug angestrebt, um dem galvanisierten Gegenstand ein vorteilhaftes
dekoratives Aussehen zu verleihen. Somit ist oft neben dem korrosions
verhindernden bzw. einem die mechanischen Eigenschaften des Formteils
verbessernden Effekt auch ein dekorativer Effekt erwünscht. Um die
gewünschten Wirkungen zu erzielen, ist es unerläßlich, daß die galvani
schen Bäder bestimmte Hilfsmittel enthalten, weil andernfalls die sich aus
saurer Lösung abscheidenden Metallüberzüge meistens matt und häufig
auch noch unregelmäßig anfallen. Eine Gruppe solcher Hilfsmittel für
saure galvanische Bäder sind beispielsweise Leitsalze, die zur Verbes
serung der Leitfähigkeit der Bäder eingesetzt werden. Eine andere
Gruppe von Hilfsmittel sind die sog. Glanzbildner.
In der US-PS 3 694 330 (Reissue 27 999) werden saure galvanische
Zinkbäder, die Ammoniumsalze und als Glanzbildner aromatische Carbo
nylverbindungen enthalten, offenbart. Als letztere werden aromatische
Carbonsäuren sowie aromatische Aldehyde und Ketone genannt. Explizit
angeführt sind u. a. Zimtsäure, Zimtaldehyd, Benzoesäure, Benzalaceton
und Benzoylessigsäureethylester.
In der US-PS 4 422 908 werden saure galvanische Zinkbäder, die Sulfa
mationen und als Glanzbildner aromatische Carbonylverbindungen enthal
ten, beschrieben. Es werden aromatische Aldehyde und Ketone angeführt,
darunter als bevorzugte Substanz Benzalaceton.
In der DE-A-29 48 261 werden saure galvanische Zinkbäder, die gegebe
nenfalls Ammoniumsalze enthalten, beschrieben, die als Glanzbildner
aromatische, carbonylhaltige Verbindungen wie o-Chlorbenzaldehyd, p-
Chlorbenzaldehyd, o-Hydroxybenzaldehyd, Aminobenzaldehyd, Veratrumal
dehyd, Benzylidenaceton (Benzalaceton), Cumarin, 3,4,5,6-Tetrahydroben
zaldehyd, Acetophenon, Propiophenon, Furfurylidenaceton, 3-Methoxyben
zalaceton, Benzaldehyd, Vanillin, Hydroxybenzaldehyd, Anisaldehyd,
Benzoesäure, Natriumbenzoat, Natriumsalicylat oder 3-Pyridincarbonsäure
(Nikotinsäure) enthalten. Zur Verbesserung der Eigenschaften der Galva
nisierbäder wird hierbei die Verwendung von polymeren, schwefelhaltigen
Verbindungen einer näher definierten allgemeinen Formel beschrieben.
Der wichtigste Vertreter solcher Glanzbildner für saure Zinkbäder ist
Benzylidenaceton (Benzalaceton). Wegen seines merklichen Dampfdrucks
kann sich Benzylidenaceton aus galvanischen Bädern verflüchtigen, was zu
Substanzverlusten führt. Hinzu kommt, daß diese Verbindungen sowie
deren Homologen bei vielen Personen, die damit umgehen, allergische
Reaktionen, wie Hautstörungen und Juckreiz, hervorrufen. Zudem ist
Benzalaceton nicht wasserlöslich und muß mit Hilfe von zumeist toxi
schen Lösungsmitteln solubilisiert werden. Diese Lösungsmittel weisen
häufig einen niedrigen Flammpunkt auf, weshalb zusätzliche Sicherheits
maßnahmen getroffen werden müssen.
In der DE-A-41 19 341(2) wird empfohlen, Glanzbildner auf Basis von
Benzylidenaceton in wäßrig-sauren, galvanischen Bädern zur Abscheidung
von Zink oder Zinklegierungen durch bestimmte andere Substanzen zu
ersetzen, die die Wirksamkeit der bekannten Glanzbildner erreichen,
jedoch nicht zu gesundheitlichen Beeinträchtigungen bei Personen führen,
die diese Substanzen handhaben. Die dort offenbarten Verbindungen
weisen jedoch die übrigen, oben angegebenen Nachteile auf.
Der vorliegenden Erfindung lag daher die Aufgabe zugrunde, Verbindun
gen als Glanzbildner in wäßrig-sauren galvanischen Bädern bereitzustellen,
die die Wirksamkeit der bekannten Glanzbildner, insbesondere des
Benzylidenacetons, erreichen und dabei einen geringeren Dampfdruck als
Einzelsubstanz und in den galvanischen Bädern aufweisen, um Substanz
verluste zu vermeiden. Die neuen Verbindungen sollten weiterhin wasser
löslich sein, so daß auf organische Lösungsmittel verzichtet und die
Konzentration von Solubilisatoren in den galvanischen Bädern reduziert
werden kann.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch aromatische Verbindungen
der Formel I gelöst,
worin
m für eine ganze Zahl 1 steht;
n 0 oder 1 bedeutet;
Ar einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausgewählt sind aus
C₁-C₈-Alkyl-,
C₁-C₈-Alkoxy-,
C₁-C₄-Alkoxycarbonyl-,
Halogen-,
Phenyl- oder
Benzylresten
substituierten Phenylen- oder Naphthylenrest bedeutet;
R¹ einen Cyano-, oder einen Acylrest der Formel -COR³ bedeutet, worin
R³ für einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausgewählt sind aus
C₁-C₄-Alkoxycarbonyl-,
C₁-C₄-Alkoxy-
Carbonyl- oder
Cyanoresten
substituierten C₁-C₈-Alkyl-, O₂-C₈-Alkenyl- oder C₂-C₈-Alki nylrest;
für einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausgewählt sind aus
C₁-C₄-Alkyl-,
C₁-C₄-Alkoxy-,
C₁-C₄-Alkoxycarbonyl-,
Halogen-,
Hydroxyl- oder
Phenylresten
substituierten Phenyl- oder Benzylrest;
für einen C₅-C₈-Cycloalkylrest;
für einen Hydroxylrest;
für einen C₁-C₄-Alkoxyrest; oder
für ein Wasserstoffatom steht;
R² ein Wasserstoffatom,
einen C₁-C₈-Alkyl-,
Phenyl-,
Benzyl-,
Cyano- oder
Hydroxylrest, oder
einen Rest der Formel
-COR⁴,
-COOR⁴,
-COCH₂COOR⁴,
-OR⁴ oder
-CONR⁴R⁵, worin
R⁴ und R⁵, die gleich oder verschieden sein können, für ein Wasserstoffatom,
einen C₁-C₈-Alkyl-,
Phenyl- oder
Benzylrest stehen,
und
X ein Alkalimetall-,
Erdalkallmetallatom oder
einen Ammoniumrest bedeutet,
mit der Maßgabe, daß das Natriumsalz von Vanillidenaceton und das Natriumsalz von 5-Bromvanillindenaceton ausgenommen sind.
m für eine ganze Zahl 1 steht;
n 0 oder 1 bedeutet;
Ar einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausgewählt sind aus
C₁-C₈-Alkyl-,
C₁-C₈-Alkoxy-,
C₁-C₄-Alkoxycarbonyl-,
Halogen-,
Phenyl- oder
Benzylresten
substituierten Phenylen- oder Naphthylenrest bedeutet;
R¹ einen Cyano-, oder einen Acylrest der Formel -COR³ bedeutet, worin
R³ für einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausgewählt sind aus
C₁-C₄-Alkoxycarbonyl-,
C₁-C₄-Alkoxy-
Carbonyl- oder
Cyanoresten
substituierten C₁-C₈-Alkyl-, O₂-C₈-Alkenyl- oder C₂-C₈-Alki nylrest;
für einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausgewählt sind aus
C₁-C₄-Alkyl-,
C₁-C₄-Alkoxy-,
C₁-C₄-Alkoxycarbonyl-,
Halogen-,
Hydroxyl- oder
Phenylresten
substituierten Phenyl- oder Benzylrest;
für einen C₅-C₈-Cycloalkylrest;
für einen Hydroxylrest;
für einen C₁-C₄-Alkoxyrest; oder
für ein Wasserstoffatom steht;
R² ein Wasserstoffatom,
einen C₁-C₈-Alkyl-,
Phenyl-,
Benzyl-,
Cyano- oder
Hydroxylrest, oder
einen Rest der Formel
-COR⁴,
-COOR⁴,
-COCH₂COOR⁴,
-OR⁴ oder
-CONR⁴R⁵, worin
R⁴ und R⁵, die gleich oder verschieden sein können, für ein Wasserstoffatom,
einen C₁-C₈-Alkyl-,
Phenyl- oder
Benzylrest stehen,
und
X ein Alkalimetall-,
Erdalkallmetallatom oder
einen Ammoniumrest bedeutet,
mit der Maßgabe, daß das Natriumsalz von Vanillidenaceton und das Natriumsalz von 5-Bromvanillindenaceton ausgenommen sind.
Weiterhin wird die Aufgabe durch Verbindungen der Formel II gelöst,
worin
R⁶, R⁷ und R⁸, die gleich oder verschieden sein können,
ein Wasserstoffatom,
einen C₁-C₈-Alkyl-,
C₁-C₈-Alkoxy-,
C₁-C₄-Alkoxycarbonyl-,
Halogen-,
Phenyl- oder
Benzylrest, oder
einen Rest der Formel -OX bedeuten, und
R³ und X die bei den Verbindungen der Formel I angegebenen Bedeutungen besitzen.
R⁶, R⁷ und R⁸, die gleich oder verschieden sein können,
ein Wasserstoffatom,
einen C₁-C₈-Alkyl-,
C₁-C₈-Alkoxy-,
C₁-C₄-Alkoxycarbonyl-,
Halogen-,
Phenyl- oder
Benzylrest, oder
einen Rest der Formel -OX bedeuten, und
R³ und X die bei den Verbindungen der Formel I angegebenen Bedeutungen besitzen.
Die Verbindungen der Formel II sind als innere Ester (Lactone der
entsprechenden Cumarinsäurederivate) von Verbindungen der Formel I
aufzufassen.
Die Verbindungen der Formel I bzw. II stellen Salze von aromatischen
Hydroxylverbindungen dar und sind überraschenderweise ausgezeichnet
wasserlöslich. Weiterhin besitzen die Verbindungen sowohl in reiner Form
als auch in wäßriger Lösung in galvanischen Bädern einen geringeren
Dampfdruck als die entsprechenden Neutralverbindungen des Standes der
Technik.
Bei den Verbindungen der Formel I und II seien genannt:
als C₁-C₈-Alkylreste: Methyl, Ethyl, n-Propyl, iso-Propyl, n-Butyl,
iso-Butyl, t-Butyl, n-Pentyl, iso-Pentyl, n-Hexyl,
iso-Hexyl, n-Heptyl, iso-Heptyl, n-Octyl, iso-
Octyl;
als C₁-C₈-Alkoxyreste: Methoxy, Ethyloxy, n-Propyloxy, iso-Propyloxy, n-Butyloxy, iso-Butyloxy, t-Butyloxy, n-Pentyloxy, iso-Pentyloxy, n-Hexyloxy, iso-Hexyloxy, n-Hep tyloxy, iso-Heptyloxy, n-Octyloxy, iso-Octyloxy;
als C₁-C₄-Alkoxycarbonylreste: Methoxycarbonyl, Ethyloxycarbonyl, n-Pro pyloxycarbonyl, iso-Propyloxycarbonyl, n- Butyloxycarbonyl, iso-Butyloxycarbonyl, tert.-Butyloxycarbonyl;
als Halogenreste: F, Cl, Br, I;
als C₁-C₄-Alkoxyreste: Methoxy; Ethyloxy, n-Propyloxy, iso-Propyloxy, n-Butyloxy, iso-Butyloxy, tert.-Butyloxy;
als C₂-C₈-Alkenylreste: Ethenyl, n-Propenyl, iso-Propenyl, n-Butenyl, n-Penteryl, n-Hexenyl, n-Heptenyl, n-Octenyl;
als C₂-C₈-Alkinylreste: Ethinyl, Propinyl, n-Butinyl, n-Pentinyl, n-Hexi nyl, n-Heptinyl, n-Octinyl;
als C₁-C₄-Alkylreste: Methyl, Ethyl, n-Propyl, iso-Propyl, n-Butyl, iso-Butyl, tert.-Butyl;
als Alkalimetallatome: Li, Na, K, Rb, Cs;
als Erdalkalimetallatome: Mg, Ca, Sr, Ba.
als C₁-C₈-Alkoxyreste: Methoxy, Ethyloxy, n-Propyloxy, iso-Propyloxy, n-Butyloxy, iso-Butyloxy, t-Butyloxy, n-Pentyloxy, iso-Pentyloxy, n-Hexyloxy, iso-Hexyloxy, n-Hep tyloxy, iso-Heptyloxy, n-Octyloxy, iso-Octyloxy;
als C₁-C₄-Alkoxycarbonylreste: Methoxycarbonyl, Ethyloxycarbonyl, n-Pro pyloxycarbonyl, iso-Propyloxycarbonyl, n- Butyloxycarbonyl, iso-Butyloxycarbonyl, tert.-Butyloxycarbonyl;
als Halogenreste: F, Cl, Br, I;
als C₁-C₄-Alkoxyreste: Methoxy; Ethyloxy, n-Propyloxy, iso-Propyloxy, n-Butyloxy, iso-Butyloxy, tert.-Butyloxy;
als C₂-C₈-Alkenylreste: Ethenyl, n-Propenyl, iso-Propenyl, n-Butenyl, n-Penteryl, n-Hexenyl, n-Heptenyl, n-Octenyl;
als C₂-C₈-Alkinylreste: Ethinyl, Propinyl, n-Butinyl, n-Pentinyl, n-Hexi nyl, n-Heptinyl, n-Octinyl;
als C₁-C₄-Alkylreste: Methyl, Ethyl, n-Propyl, iso-Propyl, n-Butyl, iso-Butyl, tert.-Butyl;
als Alkalimetallatome: Li, Na, K, Rb, Cs;
als Erdalkalimetallatome: Mg, Ca, Sr, Ba.
Bei den Verbindungen der Formel I, in denen n für 1 steht, bedeuten
Ar bevorzugt einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren, ins besondere mit einem oder zwei Resten, die gleich oder ver schieden sein können und ausgewählt sind aus
C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxyresten;
und
Br oder Cl;
substituierten Phenylenrest;
und/oder
R¹ einen Cyano-, oder
einen Acylrest der Formel -COR³, worin
R³ für einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxyresten, die gleich oder ver schieden sein können,
substituierten C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethylrest;
einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausge wählt sind aus
C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxy-;
Hydroxylresten; oder
Br oder Cl;
substituierten Phenyl- oder Benzylrest;
einen Hydroxylrest; oder
einen C₁-C₄-Alkoxyrest steht;
und/oder
R² bevorzugt ein Wasserstoffatom; oder einen Rest der Formel
-COR⁴;
-COOR⁴;
-COCH₂COOR⁴; oder
-CONR⁴R⁵;
worin
R⁴ und R⁵, die gleich oder verschieden sein können, für ein Wasserstoffatom;
einen C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
einen Phenyl-; oder
einen Benzylrest stehen.
Ar bevorzugt einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren, ins besondere mit einem oder zwei Resten, die gleich oder ver schieden sein können und ausgewählt sind aus
C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxyresten;
und
Br oder Cl;
substituierten Phenylenrest;
und/oder
R¹ einen Cyano-, oder
einen Acylrest der Formel -COR³, worin
R³ für einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxyresten, die gleich oder ver schieden sein können,
substituierten C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethylrest;
einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausge wählt sind aus
C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxy-;
Hydroxylresten; oder
Br oder Cl;
substituierten Phenyl- oder Benzylrest;
einen Hydroxylrest; oder
einen C₁-C₄-Alkoxyrest steht;
und/oder
R² bevorzugt ein Wasserstoffatom; oder einen Rest der Formel
-COR⁴;
-COOR⁴;
-COCH₂COOR⁴; oder
-CONR⁴R⁵;
worin
R⁴ und R⁵, die gleich oder verschieden sein können, für ein Wasserstoffatom;
einen C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
einen Phenyl-; oder
einen Benzylrest stehen.
Bei den Verbindungen der Formel I, in denen n für 0 steht, bedeuten
Ar bevorzugt einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren, ins besondere mit einem oder zwei Resten, die gleich oder ver schieden sein können und ausgewählt sind aus
C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxy-;
Halogen-, insbesondere Br oder Cl; und
Hydroxylresten;
substituierten Phenylen- oder Naphthylenrest;
und/oder
R¹ bevorzugt einen Acylrest der Formel -COR³, worin
R³ für einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren C₁-C₄- Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxyresten, die gleich oder verschieden sein können, substituierten C₁-C₄- Alkylrest;
für einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausgewählt sind unter
C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxy-;
und
Br oder Cl
substituierten Benzyl- oder Phenylrest; oder
für ein Wasserstoffatom steht.
Ar bevorzugt einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren, ins besondere mit einem oder zwei Resten, die gleich oder ver schieden sein können und ausgewählt sind aus
C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxy-;
Halogen-, insbesondere Br oder Cl; und
Hydroxylresten;
substituierten Phenylen- oder Naphthylenrest;
und/oder
R¹ bevorzugt einen Acylrest der Formel -COR³, worin
R³ für einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren C₁-C₄- Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxyresten, die gleich oder verschieden sein können, substituierten C₁-C₄- Alkylrest;
für einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausgewählt sind unter
C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxy-;
und
Br oder Cl
substituierten Benzyl- oder Phenylrest; oder
für ein Wasserstoffatom steht.
Bei den Verbindungen der Formel II bedeuten
R₃ bevorzugt einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren C₁-C₄-Al koxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxyresten, die gleich oder verschie den sein können, substituierten C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethylrest;
einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausgewählt sind aus
C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxy-;
Hydroxylresten; oder
Br oder Cl;
substituierten Phenyl- oder Benzylrest;
einen Hydroxylrest; oder
einen C₁-C₄-Alkoxyrest;
und/oder die Reste R⁶, R⁷ und R⁸, die gleich oder verschieden sein können, bevorzugt
ein Wasserstoffatom,
einen C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere einen Methoxy- oder Ethoxyrest,
oder
einen Rest der Formel -OX, worin X eine der bei den Verbindun gen der Formel I angegebenen Bedeutungen besitzt.
R₃ bevorzugt einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren C₁-C₄-Al koxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxyresten, die gleich oder verschie den sein können, substituierten C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethylrest;
einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausgewählt sind aus
C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxy-;
Hydroxylresten; oder
Br oder Cl;
substituierten Phenyl- oder Benzylrest;
einen Hydroxylrest; oder
einen C₁-C₄-Alkoxyrest;
und/oder die Reste R⁶, R⁷ und R⁸, die gleich oder verschieden sein können, bevorzugt
ein Wasserstoffatom,
einen C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere einen Methoxy- oder Ethoxyrest,
oder
einen Rest der Formel -OX, worin X eine der bei den Verbindun gen der Formel I angegebenen Bedeutungen besitzt.
In den Verbindungen der Formel I oder II steht X bevorzugt für ein
Alkalimetallatom, insbesondere für Na oder K.
Bevorzugt sind Verbindungen der Formel I, worin
n für 1 steht;
m für 1 steht;
Ar einen gegebenenfalls mit einem
Methoxy- oder Ethoxyrest
substituierten Phenylenrest bedeutet;
R¹ einen Cyano- oder
einen Acylrest der Formel -COR³ bedeutet, worin
R³ für einen
Methyl- oder Ethyl-;
Methoxy- oder Ethoxyrest
steht; und
R² ein Wasserstoffatom,
einen Rest der Formel
-COR⁴;
-COOR⁴;
-CONHR⁵; oder
-CONR⁴R⁵ bedeutet,
worin R⁴ für einen
Methyl- oder Ethylrest steht; und
R⁵ für
ein Wasserstoffatom;
einen Methyl- oder Ethyl-;
Phenyl-; oder
Benzylrest steht;
und
X Na oder K bedeutet.
n für 1 steht;
m für 1 steht;
Ar einen gegebenenfalls mit einem
Methoxy- oder Ethoxyrest
substituierten Phenylenrest bedeutet;
R¹ einen Cyano- oder
einen Acylrest der Formel -COR³ bedeutet, worin
R³ für einen
Methyl- oder Ethyl-;
Methoxy- oder Ethoxyrest
steht; und
R² ein Wasserstoffatom,
einen Rest der Formel
-COR⁴;
-COOR⁴;
-CONHR⁵; oder
-CONR⁴R⁵ bedeutet,
worin R⁴ für einen
Methyl- oder Ethylrest steht; und
R⁵ für
ein Wasserstoffatom;
einen Methyl- oder Ethyl-;
Phenyl-; oder
Benzylrest steht;
und
X Na oder K bedeutet.
Bevorzugt sind auch Verbindungen der Formel I, worin
n für 0 steht;
m für 1 steht;
Ar einen gegebenenfalls mit einem
Methyl- oder Ethyl-;
Methoxy- oder Ethoxy-;
substituierten
Phenylen- oder Naphthylenrest bedeutet;
R¹ einen Acylrest der Formel -COR³ bedeutet,
worin
R³ für ein Wasserstoffatom oder einen Phenylrest steht;
und
X Na oder K bedeutet.
n für 0 steht;
m für 1 steht;
Ar einen gegebenenfalls mit einem
Methyl- oder Ethyl-;
Methoxy- oder Ethoxy-;
substituierten
Phenylen- oder Naphthylenrest bedeutet;
R¹ einen Acylrest der Formel -COR³ bedeutet,
worin
R³ für ein Wasserstoffatom oder einen Phenylrest steht;
und
X Na oder K bedeutet.
Weiterhin bevorzugt sind Verbindungen der Formel II, worin
R³ einen Methoxy- oder Ethoxyrest bedeutet;
einer der Reste R⁶, R⁷ und R⁸
ein Wasserstoffatom; oder
einen Methoxy- oder Ethoxyrest, und die anderen beiden Reste jeweils ein Wasserstoffatom bedeuten; und
X Na oder K bedeutet.
R³ einen Methoxy- oder Ethoxyrest bedeutet;
einer der Reste R⁶, R⁷ und R⁸
ein Wasserstoffatom; oder
einen Methoxy- oder Ethoxyrest, und die anderen beiden Reste jeweils ein Wasserstoffatom bedeuten; und
X Na oder K bedeutet.
Die zur Herstellung der Verbindungen der Formel I (n = 1) als Ausgangs
substanzen verwendeten Hydroxybenzylidenderivate und Hydroxynaphthyli
denderivate sind beispielsweise durch eine Aldolkondensation bzw. Knoe
venagel-Kondensation der entsprechend substituierten Hydroxybenzaldehyd-
bzw. Hydroxynaphthaldehydverbindungen mit den entsprechend substituier
ten Alkylnitril- oder Alkylcarbonylverbindungen, oder den entsprechend
substituierten Acylessigsäure- oder Cyanoessigsäurederivaten sowie deren
Estern und Amiden erhältlich. Bei der Synthese der Benzylidenacetonde
rivate fallen dabei sowohl die E- als auch die Z-Derivate an. Entspre
chende Reaktionen sind beispielsweise von Zoeller und Sumner in J.
Org. Chem. 55 (1990), S. 319-324, beschrieben worden.
Die zur Herstellung von Verbindungen der Formel I (n = 0) als Aus
gangssubstanzen verwendeten o-Hydroxybenzophenone lassen sich bei
spielsweise durch eine Fries-Umlagerung auf übliche Weise aus den
entsprechend substituierten Arylestern herstellen. Entsprechende Reaktio
nen sind beispielsweise beschrieben in H. Henecka, Houben-Weyl, Metho
den der organischen Chemie, Bd. 7/2a, S. 379 ff., Thieme-Verlag, Stutt
gart 1973.
Die zur Herstellung der Verbindungen der Formel II als Ausgangssub
stanzen verwendeten Hydroxycumarinderivate sind durch eine Knoeve
nagel-Kondensation von entsprechend substituierten Hydroxysalicylaldehyd
derivaten mit entsprechend substituierten Acetessigsäurederivaten erhält
lich. Entsprechende Reaktionen sind von van den Goorbergh et al. in
Synthesis (1984), S. 859-860, beschrieben worden.
Die erfindungsgemäßen Salze der Verbindungen der Formeln I und II
lassen sich durch Umsetzung der Hydroxylderivate beispielsweise mit den
entsprechenden Alkalimetall-, Erdalkalimetall- oder Ammoniumhydroxiden
herstellen. Die Herstellung des Natriumsalzes von Vanillidenaceton und
des Natriumsalzes von 5-Bromvanillidenaceton wird beispielsweise von
Glaser und Tramer in J. Prakt. Chem. 116 (1927), S. 331-346, beschrie
ben.
Einen weiteren Gegenstand der vorliegenden Erfindung stellt ein saures
galvanisches Bad zur elektrolytischen Abscheidung von metallischen
Schichten auf Formteilen dar, das ein oder mehrere Metallsalz(e) einen
oder mehrere Glanzbildner, gegebenenfalls ein oder mehrere Leitsalz(e)
und gegebenenfalls einen oder mehrere Hilfsglanzbildner umfaßt, wobei
das Bad als Glanzbildner mindestens eine der oben genannten Verbin
dungen der Formeln I oder II umfaßt, das Natriumsalz von Vanilliden
aceton und/oder das Natriumsalz von 5-Bromvanillidenaceton umfaßt.
Als Metallsalz(e) sind Zink- und Zinnsalze bevorzugt.
Die Verbindungen der Formeln I oder II werden in den erfindungs
gemäßen sauren galvanischen Bädern zweckmäßigerweise in einer Menge
von 0,01-3 g/l, bevorzugt von 0,05-1,5 g/l, und besonders bevorzugt von
0,1-0,7 g/l, eingesetzt.
Es ist auch möglich, Mischungen von Verbindungen der Formeln I oder
II als Glanzbildner einzusetzen sowie die Glanzbildner der Formeln I
oder II zusammen mit anderen bekannten Glanzbildnern zu verwenden.
Als zusätzliche Glanzbildner können mit vorteilhafter Wirkung Benzoate,
bevorzugt Alkalimetall- oder Ammoniumbenzoate, insbesondere Natrium
benzoat, in Konzentrationen von 0,1-8 g/l, vorzugsweise von 1-4 g/l,
eingesetzt werden.
Die erfindungsgemäßen wäßrig-sauren galvanischen Bäder weisen be
zuglich der übrigen Komponenten die üblichen Zusammensetzungen auf.
Sie enthalten beispielsweise 50-150 g/l Zinkchlorid oder die äquivalente
Menge Zinksulfat. Sofern Legierungen des Zinks, beispielsweise mit
Kobalt und/oder Nickel und/oder Eisen auf metallischen Formteilen
abgeschieden werden sollen, enthalten die Bäder zusätzlich in der Regel
von 1-30 g/l Kobalt- und/oder Nickel- und/oder Eisensulfat oder die
äquivalente Menge eines anderen, wasserlöslichen Kobalt- und/oder
Nickel- und/oder Eisensalzes. Weiterhin ist es möglich, die entsprechen
den Zinnsalze in äquivalenten Mengen zu verwenden.
Ein weiterer üblicher Bestandteil der Bäder sind Leitsalze, insbesondere
Natrium-, Kalium- und Ammoniumsalze. Ein geeignetes Leitsalz ist
Kaliumchlorid, das üblicherweise in einer Konzentration von 100-250 g/l
in einem erfindungsgemäßen galvanischen Bad enthalten ist. Andere
Leitsalze sind beispielsweise Ammoniumchlorid oder Natriumchlorid, die
üblicherweise in einer Konzentration von 10-150 g/l eingesetzt werden.
Ein weiterer üblicher Bestandteil der erfindungsgemäßen wäßrig-sauren
galvanischen Bäder sind Tenside bzw. Netzmittel, insbesondere nichtioni
sche und anionische Tenside, die als Hilfsglanzbildner wirken. Geeignete
nichtionische Tenside sind beispielsweise aus der GB-PS-1 149 106
bekannt. Hierbei handelt es sich um Additionsprodukte von Ethylenoxid
an Fettalkohole, z. B. an C₈-C₁₈-Alkohole, oder um Additionsprodukte von
Ethylenoxid an Phenol- bzw. Alkylphenole, insbesondere an Nonylphenol.
Pro Mol Alkohol bzw. Phenol werden dabei in der Regel 5-100 Mol
Ethylenoxid addiert. Weiterhin können polyoxyalkylierte Naphthole zu
gesetzt werden.
Zu weiteren brauchbaren nichtionischen Tensiden zählen Poly(alkylenimi
ne). Poly(alkylenimine) können als solche verwendet werden, oder sie
können mit einem zyklischen Carbonat umgesetzt werden, das aus Koh
lenstoff-, Wasserstoff- und Sauerstoffatomen besteht. Eine Beschreibung
für die Herstellung solcher Verbindungen ist in der US-PS-2 824 857
offenbart.
Geeignete anionische Tenside sind beispielsweise in der US-PS-3 787 296
offenbart. Es handelt sich hierbei hauptsächlich um sulfatierte Polyether,
die beispielsweise durch Addition von Ethylenoxid an Fettalkohole,
Fettamine, Amide von C₆-C₁₀-Carbonsäuren und längerkettige Fettsäuren
sowie eine jeweils nachfolgende Sulfonierung erhältlich sind. Auch Sulfo
nate von Polyalkylenoxiden oder Blockcopolymerisaten aus Ethylenoxid
und Propylenoxid werden als anionische Tenside verwendet.
Eine weitere Gruppe von anionischen Tensiden ist in der EP-B-115 020
offenbart. Es werden sulfonierte und sulfatierte Alkylphenolethoxylate der
allgemeinen Formel
beschrieben, in der R einen C₄-C₂₀-Alkylrest, X und Y einen Rest der
Formeln -SO₃H oder -SO₃Me, wobei Me für einen Ammoniumrest, ein
Alkalimetall- oder ein äquivalentes Erdalkalimetall- oder Zinkatom steht,
und p eine Zahl von 5-50 bedeuten.
Außer solchen Verbindungen kommen als anionische Tenside auch die
sulfonierten und sulfatierten Produkte in Betracht, deren Polyetherkette
1-25 Propylenoxid- oder Butylenoxideinheiten enthält.
Die DE-C-38 39 824 offenbart anionaktive Additive auf Basis von ein-
und mehrbasigen Ethersulfonsäuren. Diese werden durch einzelne oder
kombinierte Sulfopropylierung und/oder Sulfobutylierung von folgenden
hydroxylhaltigen Verbindungen hergestellt:
- a) Blockpolymerisate von Ethylenoxid und/oder Glycidol mit Propylen oxid und/oder Butylenoxid;
- b) ein- oder mehrwertige, gesättigte oder ungesättigte aliphatische Alkohole sowie ein- oder mehrwertige, alkylierte oder nichtalkylierte Phenole oder Naphthole, einschließlich ihrer Alkoxylate.
Der Vorteil der sulfonierten und sulfatierten Alkylphenolalkoxylate liegt
darin, daß sie einen außerordentlich hohen Trübungspunkt aufweisen, so
daß die elektrolytische Abscheidung des Metalls, insbesondere des Zinks,
nicht nur im Temperaturbereich von 20-30°C, sondern auch bei Tempera
turen von 30-90°C, vorzugsweise im Bereich von 40-50°C, vorgenommen
werden kann.
Zu weiteren geeigneten Tensiden zählen Phenol-Formaldehyd-Kondensa
tionsprodukte oder Naphthalinsulfonsäure/Formaldehyd-Kondensationspro
dukte.
Neben den genannten Tensiden stellen auch Polyethylenglycole mit
Molekulargewichten von 200-1000 g/mol geeignete Hilfsglanzbildner dar.
Die Tenside bzw. andere Hilfsglanzbildner werden in den erfindungs
gemäßen wäßrig-sauren galvanischen Bädern üblicherweise in Mengen von
1-20 g/l, vorzugsweise von 2-15 g/l, eingesetzt. Weiterhin ist es möglich,
eine Mischung von mehreren Tensiden bzw. Hilfsglanzbildnern zu ver
wenden.
Der pH-Wert der erfindungsgemäßen wäßrig-sauren galvanischen Bäder
liegt in der Regel im Bereich von 3-7, vorzugsweise von 4-5. Er wird
beispielsweise durch Zugabe von Säuren, z. B. üblichen Mineralsäuren wie
Schwefelsäure oder Salzsäure, eingestellt.
Ein weiterer Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren
zur galvanischen Beschichtung von Formteilen, bei dem man
- 1. ein Formteil mit einem erfindungsgemäßen sauren galvanischen Bad in Kontakt bringt, und
- 2. eine Galvanisierung durchführt.
Durch das erfindungsgemäße Verfahren werden beispielsweise Formteile
aus Metallen, hauptsächlich aus Eisen oder Stahl, galvanisiert, um sie
gegen Korrosion zu schützen und ihnen gleichzeitig einen hohen Glanz
zu verleihen. Die hierzu verwendeten erfindungsgemäßen sauren galvani
schen Bäder liefern über den gesamten, technisch in Betracht kommen
den Stromdichtebereich hochglänzende und duktile Metallüberzüge,
beispielsweise Zinküberzüge, die in der Qualität den Überzügen entspre
chen oder sogar überlegen sind, die unter Verwendung von Benzyliden
aceton nach dem Stand der Technik erhältlich sind.
Im folgenden sind Synthesebeispiele für Verbindungen der Formeln I und
II sowie Anwendungsbeispiele für erfindungsgemäße saure galvanische
Bäder aufgeführt.
Die Gegenstände der vorliegenden Erfindung werden durch die nachfol
genden Beispiele erläutert, in denen weitere bevorzugte Einzelmerkmale
der Erfindung beschrieben sind.
Nachfolgend sind Synthesebeispiele für einige der erfindungsgemäßen
Verbindungen der Formeln I bzw. II aufgeführt.
4,9 g (0,032 mol) Vanillin wurden in 15 ml Aceton gelöst und mit
5,3 ml 50%iger Natronlauge versetzt. Anschließend wurden 10 ml
Wasser hinzugegeben und 20 Stunden bei Raumtemperatur gerührt.
Der ausgefallene Rückstand wurde mit Aceton gewaschen und ge
trocknet. Man erhielt 7 g (entsprechend einer Ausbeute von 95%)
der Titelverbindung in Form eines orange-gelb-gefärbten Feststoffes.
Die Reinheit des Produktes betrug <97%.
Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 1 aus Ethyl-Vanillin,
Natronlauge und Aceton mit einer Ausbeute von 95% hergestellt.
Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 1 aus 4-Hydroxybenz
aldehyd, Kalilauge und Aceton mit einer Ausbeute von 50% herge
stellt.
In 459 ml Methylcyclohexan wurden 232 g (2 mol) Acetessigsäureme
thylester, 244 g (2 mol) 4-Hydroxybenzaldehyd, 24 g (0,4 mol)
Eisessig und 6,8 g (0,08 mol) Piperidin gelöst. Die Reaktionslösung
wurde auf Siedetemperatur erwärmt, und das Reaktionswasser wurde
eine Stunde am Wasserabscheider ausgekreist. Nach dem Abdekantie
ren des Lösungsmittels wurde das Produkt in Diethylether aufgenom
men, abgesaugt und getrocknet. Man erhielt 362 g (entsprechend
einer Ausbeute von 82%) 4-Hydroxybenzalacetessigsäuremethylester.
22 g (0,1 mol) 4-Hydroxybenzalacetessigsäuremethylester wurden in
100 ml Methanol gelöst und mit 5,6 g (0,1 mol) KOH in 38 g
Methanol versetzt. Nach 2,5-stündigem Rühren bei Raumtemperatur
wurde die Reaktionsmischung eingeengt und der verbliebene Rück
stand getrocknet. Man erhielt 25 g (entsprechend einer Ausbeute
von 97%) der Titelverbindung in Form eines roten Feststoffes. Die
Reinheit des Produktes betrug <95%.
Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 4 aus 4-Hydroxybenz
aldehyd und Acetessigsäuremethylamid mit einer Ausbeute von 62%
hergestellt.
Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 4 aus 4-Hydroxybenz
aldehyd und Acetessigsäurebenzylamid mit einer Ausbeute von 83%
hergestellt.
Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 4 aus 4-Hydroxybenz
aldehyd und Acetessigsäuremethylester mit einer Ausbeute von 43%
hergestellt.
Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 4 aus Vanillin und
Acetessigsäuremethylester mit einer Ausbeute von 98% hergestellt.
Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 4 aus 4-Hydroxybenz
aldehyd und Cyanessigsäureamid mit einer Ausbeute von 80% herge
stellt.
Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 4 aus 4-Salicylaldehyd
und Acetessigsäurebenzylamid mit einer Ausbeute von 78% herge
stellt.
Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 4 aus 4-Hydroxybenz
aldehyd und Acetessigsäurephenylamid mit einer Ausbeute von 98%
hergestellt.
Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 4 aus 3-Hydroxybenz
aldehyd und Dimethylmalonat mit einer Ausbeute von 51% herge
stellt.
Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 5 aus 2,4-Diydroxy
benzaldehyd und Acetessigsäuremethylester mit einer Ausbeute von
42% hergestellt.
Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 4 aus 4-Hydroxy
benzaldehyd und Acetessigsäureethylester mit einer Ausbeute von
95% hergestellt.
Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 1 aus Vanillin, Aceton
und Kaliumhydroxid mit einer Ausbeute von 92% hergestellt.
38 g (0,3 Mol) Dimethylcyclohexylamin und 27 g (0,25 Mol) p-
Kresol wurden in 150 ml Chlorbenzol vorgelegt. Es wurden 35,1 g
(0,25 Mol) Benzoylchlorid über einen Zeitraum von einer Stunde
zugetropft, wobei die Temperatur auf 50°C anstieg. Nach dem
Abkühlen auf Raumtemperatur wurde die Suspension zur Abtrennung
des Dimethylcyclohexylamin-Hydrochlorids in 100 ml Wasser gegeben.
Die organische Phase wurde abgetrennt und durch Andestillieren
getrocknet. Bei Raumtemperatur wurden dann innerhalb von 30
Minuten 33 g (0,25 Mol) Aluminiumtrichlorid portionsweise zugege
ben. Die Innentemperatur stieg dabei auf 50°C an. Der Ansatz
wurde bis zur beendeten HCl-Ausgasung bei 130°C ca. 10 Stunden
gerührt. Nach Abkühlen auf 60°C wurde das Reaktionsgemisch auf
Eiswasser gegossen. Die Phasen wurden getrennt, und die wäßrige
Phase wurde zweimal mit Chlorbenzol extrahiert. Die vereinigten
organischen Phasen wurden über Magnesiumsulfat getrocknet und
anschließend eingeengt. Man erhielt 43 g (entsprechend einer Aus
beute von 81%) des 2-Hydroxy-5-Methylbenzophenons. 25 g (0,12
Mol) der Verbindung wurden dann in 150 ml Methanol gelöst und
mit 4,1 g Natronlauge in 30 ml Methanol versetzt. Das Reaktions
gemisch wurde 3 Stunden bei Rückfluß gerührt und anschließend am
Rotationsverdampfer eingeengt. Man erhielt 27 g (entsprechend einer
Ausbeute von 98%) der Titelverbindung in Form eines orange
gefärbten Feststoffes.
Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 16 aus Benzoylchlorid
und 3-Methoxyphenol mit einer Ausbeute von 70% hergestellt.
Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 16 aus Benzoylchlorid
und Phenol mit einer Ausbeute von 68% hergestellt.
17,2 g 2-Hydroxy-1-naphthaldehyd wurden in 100 ml Methanol gelöst
und mit 5,6 g KOH in 40 ml Methanol versetzt. Das Reaktions
gemisch wurde 1,5 Stunden unter Rückfluß gerührt und anschließend
eingeengt. Man erhält 20 g (entsprechend einer Ausbeute von 95%)
der Titelverbindung in Form eines dunkelgrünen Feststoffes.
Die Titelverbindung wurde analog zu Beispiel 16 aus Benzoylchlorid,
p-Kresol und Kalilauge mit einer Ausbeute von 72% hergestellt.
Die Wirksamkeit von Glanzbildnern der Formel I bzw. II in einem
Galvanisierungsverfahren wird anhand von drei verschiedenen wäßrig-
sauren galvanischen Bädern demonstriert. Die erfindungsgemäß
beanspruchten Glanzbildner wurden als 1%ige alkalische wäßrige
Lösungen mit einem pH-Wert von 8, vorzugsweise von 12
(eingestellt mit NaOH) und die in den Vergleichsbeispielen ange
führten Glanzbildner als 1%ige methanolische Lösung zuzugeben.
Ebenso können auch höher konzentrierte Lösungen eingesetzt wer
den.
Jedes Bad enthielt, bezogen auf 1 l wäßrige Lösung:
Zinkchlorid|100 g/l | |||
Kaliumchlorid | 200 g/l | ||
Borsäure | 20 g/l | ||
handelsübliches Naphthalinsulfonsäure/Formaldehyd-Kondensationsprodukt | 2 g/l | ||
Natriumbenzoat | 2 g/l | ||
handelsüblicher Fettalkoholpolyethylenglykolether mit 10 Ethylenglykol-Einheiten | 1 g/l | ||
weiterhin: @ | Nonylphenolpolyethylenglykolether, sulfoniert und sulfatiert, mit 10 Ethylenglykol-Einheiten @ | Bad 1: | 4 g/l |
Bad 2: | 10 g/l | ||
Bad 3: | 2 g/l |
sowie
erfindungsgemäßer Glanzbildner: siehe Tabelle I.
Der pH-Wert der Bäder betrug 4,8. Die Einstellung des pH-Wertes
erfolgte jeweils mit verdünnter Salzsäure. Die Verzinkung von Mes
sing- oder Stahlblechen dauerte jeweils 10 Minuten. Sie wurde in
einer 250 ml-Hull-Zelle mit 1 bzw. 2 Ampere bei der angegebenen
Temperatur durchgeführt. Im Anschluß an die Verzinkung wurde das
Blech kurz in 0,5%ige HNO₃-Lösung getaucht und dann eine Blau
chromatierung vorgenommen.
Die Qualität der erhaltenen Zinküberzüge ist der folgenden Tabelle
I zu entnehmen. Glanz und Duktilität der galvanischen Überzüge
wurden visuell beurteilt und erhielten die Noten
1 = schlecht, 2 = gering, 3 = mäßig, 4 = gut und 5 = sehr gut.
1 = schlecht, 2 = gering, 3 = mäßig, 4 = gut und 5 = sehr gut.
Der Tabelle I läßt sich entnehmen, daß die Wirkung der in den
galvanischen Bädern eingesetzten erfindungsgemäßen Verbindungen
der Formeln I bzw. II der Wirkung von Vergleichsverbindungen des
Standes der Technik mindestens gleichkommt.
Claims (18)
1. Verbindung der Formel I
worin
m für eine ganze Zahl 1 steht;
n 0 oder 1 bedeutet;
Ar einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausgewählt sind aus
C₁-C₈-Alkyl-,
C₁-C₈-Alkoxy-,
C₁-C₄-Alkoxycarbonyl-,
Halogen-,
Phenyl- oder
Benzylresten
substituierten Phenylen- oder Naphthylenrest bedeutet;
R¹ einen Cyano-, oder einen Acylrest der Formel -COR³ bedeutet, worin
R³ für einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausgewählt sind aus
C₁-C₄-Alkoxycarbonyl-,
C₁-C₄-Alkoxy-
Carbonyl- oder
Cyanoresten
substituierten C₁-C₈-Alkyl-, C₂-C₈-Alkenyl- oder C₂-C₈-Alki nylrest;
für einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausgewählt sind aus
C₁-C₄-Alkyl-,
C₁-C₄-Alkoxy-,
C₁-C₄-Alkoxycarbonyl-,
Halogen-,
Hydroxyl- oder
Phenylresten
substituierten Phenyl- oder Benzylrest;
für einen C₅-C₈-Cycloalkylrest;
für einen Hydroxylrest;
für einen C₁-C₄-Alkoxyrest; oder
für ein Wasserstoffatom steht;
R² ein Wasserstoffatom,
einen C₁-C₈-Alkyl-,
Phenyl-,
Benzyl-,
Cyano- oder
Hydroxlyrest, oder
einen Rest der Formel
-COR⁴,
-COOR⁴,
-COCH₂COOR⁴,
-OR⁴ oder
-CONR⁴R⁵,
worin
R⁴ und R⁵, die gleich oder verschieden sein können,
für ein Wasserstoffatom,
einen C₁-C₈-Alkyl-,
Phenyl- oder
Benzylrest stehen,
und
X ein Alkalimetall-,
Erdalkalimetallatom oder
einen Ammoniumrest bedeutet,
mit der Maßgabe, daß das Natriumsalz von Vanillidenaceton sowie das Natriumsalz von 5-Bromvanillindenaceton ausgenommen sind.
m für eine ganze Zahl 1 steht;
n 0 oder 1 bedeutet;
Ar einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausgewählt sind aus
C₁-C₈-Alkyl-,
C₁-C₈-Alkoxy-,
C₁-C₄-Alkoxycarbonyl-,
Halogen-,
Phenyl- oder
Benzylresten
substituierten Phenylen- oder Naphthylenrest bedeutet;
R¹ einen Cyano-, oder einen Acylrest der Formel -COR³ bedeutet, worin
R³ für einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausgewählt sind aus
C₁-C₄-Alkoxycarbonyl-,
C₁-C₄-Alkoxy-
Carbonyl- oder
Cyanoresten
substituierten C₁-C₈-Alkyl-, C₂-C₈-Alkenyl- oder C₂-C₈-Alki nylrest;
für einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausgewählt sind aus
C₁-C₄-Alkyl-,
C₁-C₄-Alkoxy-,
C₁-C₄-Alkoxycarbonyl-,
Halogen-,
Hydroxyl- oder
Phenylresten
substituierten Phenyl- oder Benzylrest;
für einen C₅-C₈-Cycloalkylrest;
für einen Hydroxylrest;
für einen C₁-C₄-Alkoxyrest; oder
für ein Wasserstoffatom steht;
R² ein Wasserstoffatom,
einen C₁-C₈-Alkyl-,
Phenyl-,
Benzyl-,
Cyano- oder
Hydroxlyrest, oder
einen Rest der Formel
-COR⁴,
-COOR⁴,
-COCH₂COOR⁴,
-OR⁴ oder
-CONR⁴R⁵,
worin
R⁴ und R⁵, die gleich oder verschieden sein können,
für ein Wasserstoffatom,
einen C₁-C₈-Alkyl-,
Phenyl- oder
Benzylrest stehen,
und
X ein Alkalimetall-,
Erdalkalimetallatom oder
einen Ammoniumrest bedeutet,
mit der Maßgabe, daß das Natriumsalz von Vanillidenaceton sowie das Natriumsalz von 5-Bromvanillindenaceton ausgenommen sind.
2. Verbindung gemaß Anspruch 1, worin
n für 1 steht und
Ar einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren, insbesondere mit einem oder zwei Resten, die gleich oder verschieden sein kön nen und ausgewählt sind aus
C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxyresten; und
Br oder Cl;
substituierten Phenylenrest bedeutet;
und/oder
R¹ einen Cyano- oder
einen Acylrest der Formel -COR³ bedeutet, worin
R³ für einen gegebenenfalls mit
einem oder mehreren C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxyresten, die gleich oder ver schieden sein können,
substituierten C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethylrest;
einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausge wählt sind aus
C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxy-;
Hydroxylresten; oder
Br oder Cl;
substituierten Phenyl- oder Benzylrest;
einen Hydroxylrest; oder
einen C₁-C₄-Alkoxyrest steht;
und/oder
R² ein Wasserstoffatom; einen Rest der Formel
-COR⁴;
-COOR⁴;
-COCH₂COOR⁴; oder
-CONR⁴R⁵;
worin
R⁴ und R⁵, die gleich oder verschieden sein können, für ein Wasserstoffatom;
einen C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
einen Phenyl-; oder
einen Benzylrest stehen, bedeutet.
n für 1 steht und
Ar einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren, insbesondere mit einem oder zwei Resten, die gleich oder verschieden sein kön nen und ausgewählt sind aus
C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxyresten; und
Br oder Cl;
substituierten Phenylenrest bedeutet;
und/oder
R¹ einen Cyano- oder
einen Acylrest der Formel -COR³ bedeutet, worin
R³ für einen gegebenenfalls mit
einem oder mehreren C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxyresten, die gleich oder ver schieden sein können,
substituierten C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethylrest;
einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausge wählt sind aus
C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxy-;
Hydroxylresten; oder
Br oder Cl;
substituierten Phenyl- oder Benzylrest;
einen Hydroxylrest; oder
einen C₁-C₄-Alkoxyrest steht;
und/oder
R² ein Wasserstoffatom; einen Rest der Formel
-COR⁴;
-COOR⁴;
-COCH₂COOR⁴; oder
-CONR⁴R⁵;
worin
R⁴ und R⁵, die gleich oder verschieden sein können, für ein Wasserstoffatom;
einen C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
einen Phenyl-; oder
einen Benzylrest stehen, bedeutet.
3. Verbindung gemäß Anspruch 1, worin
n für 0 steht und
Ar einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren, insbesondere mit einem oder zwei Resten, die gleich oder verschieden sein kön nen und ausgewählt sind aus
C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxy-;
Halogen-, insbesondere Br oder Cl; und
Hydroxylresten
substituierten Phenylen- oder Naphtylenrest bedeutet;
und/oder
R¹ einen Acylrest der Formel -COR³ bedeutet, worin
R³ für einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren C₁-C₄- Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxyresten, die gleich oder verschieden sein können, substituierten C₁-C₄- Alkylrest;
für einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausgewählt sind unter
C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxy-;
Br oder Cl
substituierten Benzyl- oder Phenylrest; oder
für ein Wasserstoffatom steht.
n für 0 steht und
Ar einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren, insbesondere mit einem oder zwei Resten, die gleich oder verschieden sein kön nen und ausgewählt sind aus
C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxy-;
Halogen-, insbesondere Br oder Cl; und
Hydroxylresten
substituierten Phenylen- oder Naphtylenrest bedeutet;
und/oder
R¹ einen Acylrest der Formel -COR³ bedeutet, worin
R³ für einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren C₁-C₄- Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxyresten, die gleich oder verschieden sein können, substituierten C₁-C₄- Alkylrest;
für einen gegebenenfalls mit einem oder mehreren Resten, die gleich oder verschieden sein können und ausgewählt sind unter
C₁-C₄-Alkyl-, insbesondere Methyl- oder Ethyl-;
C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxy-;
Br oder Cl
substituierten Benzyl- oder Phenylrest; oder
für ein Wasserstoffatom steht.
4. Verbindung der Formel II
worin
R⁶, R⁷ und R⁸, die gleich oder verschieden sein können,
ein Wasserstoffatom,
einen C₁-C₈-Alkyl-,
C₁-C₈-Alkoxy-,
C₁-C₄-Alkoxycarbonyl-,
Halogen-,
Phenyl- oder
Benzylrest, oder
einen Rest der Formel -OX bedeuten, und
R³ und X die in Anspruch 1 angegebenen Bedeutungen besitzen.
R⁶, R⁷ und R⁸, die gleich oder verschieden sein können,
ein Wasserstoffatom,
einen C₁-C₈-Alkyl-,
C₁-C₈-Alkoxy-,
C₁-C₄-Alkoxycarbonyl-,
Halogen-,
Phenyl- oder
Benzylrest, oder
einen Rest der Formel -OX bedeuten, und
R³ und X die in Anspruch 1 angegebenen Bedeutungen besitzen.
5. Verbindung gemäß Anspruch 4, worin
R³ eine der in Anspruch 2 angegebenen Bedeutungen besitzt;
und/oder
R⁶, R⁷ und R⁸, die gleich oder verschieden sein können, ein Wasserstoffatom,
einen C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxyrest, oder
einen Rest der Formel -OX bedeuten, worin
X eine der in Anspruch 4 angegebenen Bedeutungen be sitzt.
R³ eine der in Anspruch 2 angegebenen Bedeutungen besitzt;
und/oder
R⁶, R⁷ und R⁸, die gleich oder verschieden sein können, ein Wasserstoffatom,
einen C₁-C₄-Alkoxy-, insbesondere Methoxy- oder Ethoxyrest, oder
einen Rest der Formel -OX bedeuten, worin
X eine der in Anspruch 4 angegebenen Bedeutungen be sitzt.
6. Verbindung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, worin
X ein Alkalimetallatom, insbesondere Na oder K, bedeutet.
X ein Alkalimetallatom, insbesondere Na oder K, bedeutet.
7. Verbindung gemaß Anspruch 1, worin
n für 1 steht;
m für 1 steht;
Ar einen gegebenenfalls mit einem Methoxy- oder Ethoxyrest substituierten Phenylenrest bedeutet;
R¹ einen Cyano- oder
einen Acylrest der Formel -COR³ bedeutet, worin
R³ für einen
Methyl- oder Ethyl-;
Methoxy- oder Ethoxyrest
steht; und
R² ein Wasserstoffatom,
einen Rest der Formel
-COR⁴;
-COOR⁴;
-CONHR⁵; oder
-CONR⁴R⁵ bedeutet,
worin R⁴ für einen
Methyl- oder Ethylrest steht; und
R⁵ für
ein Wasserstoffatom;
einen Methyl- oder Ethyl-;
Phenyl-; oder
Benzylrest steht;
und
X Na oder K bedeutet.
n für 1 steht;
m für 1 steht;
Ar einen gegebenenfalls mit einem Methoxy- oder Ethoxyrest substituierten Phenylenrest bedeutet;
R¹ einen Cyano- oder
einen Acylrest der Formel -COR³ bedeutet, worin
R³ für einen
Methyl- oder Ethyl-;
Methoxy- oder Ethoxyrest
steht; und
R² ein Wasserstoffatom,
einen Rest der Formel
-COR⁴;
-COOR⁴;
-CONHR⁵; oder
-CONR⁴R⁵ bedeutet,
worin R⁴ für einen
Methyl- oder Ethylrest steht; und
R⁵ für
ein Wasserstoffatom;
einen Methyl- oder Ethyl-;
Phenyl-; oder
Benzylrest steht;
und
X Na oder K bedeutet.
8. Verbindung gemäß Anspruch 1, worin
n für 0 steht;
m für 1 steht;
Ar einen gegebenenfalls mit einem
Methyl- oder Ethyl-;
Methoxy- oder Ethoxy-;
substituierten
Phenylen- oder Naphthylenrest bedeutet;
R¹ einen Acylrest der Formel -COR³ bedeutet, worin
R³ für ein Wasserstoffatom oder
einen Phenylrest steht;
und
X Na oder K bedeutet.
n für 0 steht;
m für 1 steht;
Ar einen gegebenenfalls mit einem
Methyl- oder Ethyl-;
Methoxy- oder Ethoxy-;
substituierten
Phenylen- oder Naphthylenrest bedeutet;
R¹ einen Acylrest der Formel -COR³ bedeutet, worin
R³ für ein Wasserstoffatom oder
einen Phenylrest steht;
und
X Na oder K bedeutet.
9. Verbindung gemäß Anspruch 4, worin
R³ einen Methoxy- oder Ethoxyrest bedeutet;
einer der Reste R⁶, R⁷ und R⁸
ein Wasserstoffatom; oder
einen Methoxy- oder Ethoxyrest,
und die anderen beiden Reste jeweils ein Wasserstoffatom bedeuten; und
X Na oder K bedeutet.
R³ einen Methoxy- oder Ethoxyrest bedeutet;
einer der Reste R⁶, R⁷ und R⁸
ein Wasserstoffatom; oder
einen Methoxy- oder Ethoxyrest,
und die anderen beiden Reste jeweils ein Wasserstoffatom bedeuten; und
X Na oder K bedeutet.
10. Saures galvanisches Bad zur elektrolytischen Abscheidung von metal
lischen Schichten auf Formteilen, umfassend ein oder mehrere Me
tallsalz(e), einen oder mehrere Glanzbildner, gegebenenfalls ein oder
mehrere Leitsalz(e), und gegebenenfalls einen oder mehrere Hilfs
glanzbildner, dadurch gekennzeichnet, daß das saure galvanische Bad
als Glanzbildner mindestens eine Verbindung umfaßt, die ausgewählt
ist aus den Verbindungen gemäß einem der Ansprüche 1 bis 9, dem
Natriumsalz von Vanillidenaceton, und dem Natriumsalz von 5-Brom
vanillidenaceton.
11. Saures galvanisches Bad gemäß Anspruch 10, dadurch gekennzeich
net, daß das Bad mindestens ein Metallsalz umfaßt, das ausgewählt
ist aus Zink- und Zinnsalzen.
12. Saures galvanisches Bad gemäß einem der Ansprüche 10 oder 11,
dadurch gekennzeichnet, daß das Bad mindestens ein Leitsalz um
faßt, das ausgewählt ist aus Natrium-, Kalium- und/oder Ammo
niumsalzen.
13. Saures galvanisches Bad gemäß einem der Ansprüche 10 bis 12,
dadurch gekennzeichnet, daß das Bad mindestens einen Hilfsglanz
bildner umfaßt, der ein Tensid ist.
14. Saures galvanisches Bad gemäß einem der Ansprüche 10 bis 13,
dadurch gekennzeichnet, daß das Bad mindestens einen zusätzlichen
Glanzbildner umfaßt, der ein Benzoat, bevorzugt ein Alkalimetall-
oder Ammoniumbenzoat, insbesondere Natriumbenzoat ist.
15. Saures galvanisches Bad gemäß einem der Ansprüche 10 bis 14,
dadurch gekennzeichnet, daß der Glanzbildner der Formel I oder II
in einer Konzentration von 0,01-3 g/l, bevorzugt von 0,05-1,5 g/l,
und besonders bevorzugt von 0,1-0,7 g/l, vorliegt.
16. Saures galvanisches Bad gemäß einem der Ansprüche 10 bis 15,
dadurch gekennzeichnet, daß das Bad einen pH-Wert von 3 bis 7,
bevorzugt von 4 bis 5, aufweist.
17. Verfahren zur galvanischen Beschichtung von Formteilen, dadurch
gekennzeichnet, daß man
- 1. ein Formteil mit einem sauren galvanischen Bad gemäß einem der Ansprüche 10 bis 16 in Kontakt bringt, und
- 2. eine Galvanisierung durchführt.
18. Verwendung einer der in den Ansprüchen 1 bis 9 genannten Ver
bindungen der Formeln I oder II, des Natriumsalzes von Vanillide
naceton und des Natriumsalzes von 5-Bromvanillidenaceton als
Glanzbildner.
Priority Applications (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4446329A DE4446329A1 (de) | 1994-12-23 | 1994-12-23 | Salze aromatischer Hydroxylverbindungen und deren Verwendung als Glanzbildner |
TW084112899A TW328949B (en) | 1994-12-23 | 1995-12-04 | Salts of aromatic hydroxy compounds and their use as brighteners |
JP52019996A JP3421051B2 (ja) | 1994-12-23 | 1995-12-22 | 芳香族ヒドロキシ化合物の塩及びその光沢剤としての使用 |
CA002208723A CA2208723A1 (en) | 1994-12-23 | 1995-12-22 | Salts of aromatic hydroxyl compounds and their use as brighteners |
DE59503953T DE59503953D1 (de) | 1994-12-23 | 1995-12-22 | Salze aromatischer hydroxylverbindungen und deren verwendung als glanzbildner |
EP95943187A EP0799175B1 (de) | 1994-12-23 | 1995-12-22 | Salze aromatischer hydroxylverbindungen und deren verwendung als glanzbildner |
ES95943187T ES2124037T3 (es) | 1994-12-23 | 1995-12-22 | Sales de compuestos hidroxilicos aromaticos y su empleo como abrillantadores. |
PCT/EP1995/005090 WO1996020152A1 (de) | 1994-12-23 | 1995-12-22 | Salze aromatischer hydroxylverbindungen und deren verwendung als glanzbildner |
AU44332/96A AU4433296A (en) | 1994-12-23 | 1995-12-22 | Salts of aromatic hydroxyl compounds and their use as brighteners |
US08/860,301 US5951841A (en) | 1994-12-23 | 1995-12-22 | Electroplating baths salts of aromatic hydroxy compounds and their use as brighteners |
KR1019970704309A KR980700949A (ko) | 1994-12-23 | 1995-12-22 | 방향족 히드록시 화합물의 염 및 이를 광택제로서 사용하는 방법(salts of aromatic hydroxyl compounds and their use as brighteners) |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4446329A DE4446329A1 (de) | 1994-12-23 | 1994-12-23 | Salze aromatischer Hydroxylverbindungen und deren Verwendung als Glanzbildner |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4446329A1 true DE4446329A1 (de) | 1996-06-27 |
Family
ID=6536935
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4446329A Withdrawn DE4446329A1 (de) | 1994-12-23 | 1994-12-23 | Salze aromatischer Hydroxylverbindungen und deren Verwendung als Glanzbildner |
DE59503953T Expired - Lifetime DE59503953D1 (de) | 1994-12-23 | 1995-12-22 | Salze aromatischer hydroxylverbindungen und deren verwendung als glanzbildner |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE59503953T Expired - Lifetime DE59503953D1 (de) | 1994-12-23 | 1995-12-22 | Salze aromatischer hydroxylverbindungen und deren verwendung als glanzbildner |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5951841A (de) |
EP (1) | EP0799175B1 (de) |
JP (1) | JP3421051B2 (de) |
KR (1) | KR980700949A (de) |
AU (1) | AU4433296A (de) |
CA (1) | CA2208723A1 (de) |
DE (2) | DE4446329A1 (de) |
ES (1) | ES2124037T3 (de) |
TW (1) | TW328949B (de) |
WO (1) | WO1996020152A1 (de) |
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1994
- 1994-12-23 DE DE4446329A patent/DE4446329A1/de not_active Withdrawn
-
1995
- 1995-12-04 TW TW084112899A patent/TW328949B/zh active
- 1995-12-22 WO PCT/EP1995/005090 patent/WO1996020152A1/de not_active Application Discontinuation
- 1995-12-22 JP JP52019996A patent/JP3421051B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-12-22 ES ES95943187T patent/ES2124037T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-12-22 CA CA002208723A patent/CA2208723A1/en not_active Abandoned
- 1995-12-22 AU AU44332/96A patent/AU4433296A/en not_active Abandoned
- 1995-12-22 EP EP95943187A patent/EP0799175B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-12-22 US US08/860,301 patent/US5951841A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-12-22 KR KR1019970704309A patent/KR980700949A/ko not_active Application Discontinuation
- 1995-12-22 DE DE59503953T patent/DE59503953D1/de not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3421051B2 (ja) | 2003-06-30 |
DE59503953D1 (de) | 1998-11-19 |
KR980700949A (ko) | 1998-04-30 |
ES2124037T3 (es) | 1999-01-16 |
EP0799175B1 (de) | 1998-10-14 |
AU4433296A (en) | 1996-07-19 |
CA2208723A1 (en) | 1996-07-04 |
JPH10511739A (ja) | 1998-11-10 |
WO1996020152A1 (de) | 1996-07-04 |
US5951841A (en) | 1999-09-14 |
EP0799175A1 (de) | 1997-10-08 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8130 | Withdrawal |