DE60033767D1 - Korpuskularoptisches gerät mit einer teilchenquelle umschaltbar zwischen hoher helligkeit und grossem strahlstrom - Google Patents

Korpuskularoptisches gerät mit einer teilchenquelle umschaltbar zwischen hoher helligkeit und grossem strahlstrom

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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7279046B2 (en) * 2002-03-27 2007-10-09 Nanoink, Inc. Method and apparatus for aligning patterns on a substrate
EP1783811A3 (de) * 2005-11-02 2008-02-27 FEI Company Korrektor zur Korrektion von chromatischen Aberrationen in einem korpuskularoptiachen Apparat
KR101441613B1 (ko) 2007-05-04 2014-09-26 아미코젠주식회사 재조합 대장균을 이용한 라이코펜 생산 방법
EP2128885A1 (de) 2008-05-26 2009-12-02 FEI Company Quelle für geladene Teilchen mit integriertem Energiefilter
US8294125B2 (en) * 2009-11-18 2012-10-23 Kla-Tencor Corporation High-sensitivity and high-throughput electron beam inspection column enabled by adjustable beam-limiting aperture
EP2511936B1 (de) 2011-04-13 2013-10-02 Fei Company Verzerrungsfreie Stigmation eines TEM
US8742361B2 (en) 2012-06-07 2014-06-03 Fei Company Focused charged particle column for operation at different beam energies at a target
JP6238978B2 (ja) 2012-06-29 2017-11-29 エフ・イ−・アイ・カンパニー 多種イオン源
US8859982B2 (en) * 2012-09-14 2014-10-14 Kla-Tencor Corporation Dual-lens-gun electron beam apparatus and methods for high-resolution imaging with both high and low beam currents
US9899181B1 (en) 2017-01-12 2018-02-20 Fei Company Collision ionization ion source
US9941094B1 (en) 2017-02-01 2018-04-10 Fei Company Innovative source assembly for ion beam production
US10410827B2 (en) 2017-05-03 2019-09-10 Fei Company Gun lens design in a charged particle microscope
CN111183503B (zh) * 2017-09-29 2023-07-14 Asml荷兰有限公司 用于调节带电粒子的束状态的方法和设备

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3842271A (en) * 1973-04-24 1974-10-15 American Optical Corp Scanning electron microscope
US3937958A (en) * 1975-03-31 1976-02-10 Minnesota Mining And Manufacturing Company Charged particle beam apparatus
US4460831A (en) * 1981-11-30 1984-07-17 Thermo Electron Corporation Laser stimulated high current density photoelectron generator and method of manufacture
JPH01143217A (ja) * 1987-11-27 1989-06-05 Jeol Ltd 電子ビーム描画装置
JPH01243355A (ja) * 1988-03-25 1989-09-28 Hitachi Ltd 集束イオンビーム処理装置
JP2551984B2 (ja) * 1988-09-30 1996-11-06 日本電子株式会社 走査電子顕微鏡
JPH0766766B2 (ja) * 1989-03-30 1995-07-19 株式会社日立製作所 電子顕微鏡
JP3133307B2 (ja) * 1989-10-13 2001-02-05 株式会社日立製作所 電子顕微鏡
EP0462554B1 (de) * 1990-06-20 2000-10-11 Hitachi, Ltd. Ladungsträgerstrahlgerät
US5196707A (en) * 1991-03-04 1993-03-23 Etec Systems, Inc. Low aberration field emission electron gun
JP3148353B2 (ja) * 1991-05-30 2001-03-19 ケーエルエー・インストルメンツ・コーポレーション 電子ビーム検査方法とそのシステム
JP2919170B2 (ja) * 1992-03-19 1999-07-12 株式会社日立製作所 走査電子顕微鏡
JPH06215714A (ja) * 1992-06-05 1994-08-05 Hitachi Ltd 電界放出型透過電子顕微鏡
JP2927627B2 (ja) * 1992-10-20 1999-07-28 株式会社日立製作所 走査電子顕微鏡
JPH07302574A (ja) * 1994-05-10 1995-11-14 Hitachi Ltd 集束イオンビーム加工観察装置
US5633507A (en) * 1995-09-19 1997-05-27 International Business Machines Corporation Electron beam lithography system with low brightness
DE19638109A1 (de) * 1995-09-25 1997-03-27 Jeol Ltd Elektronenstrahl-Lithographie-System
JPH10134745A (ja) * 1996-10-29 1998-05-22 Jeol Ltd 電子ビームの電流密度制御方法および装置
JPH11135046A (ja) * 1997-10-30 1999-05-21 Hitachi Ltd 電子顕微鏡
US5981962A (en) * 1998-01-09 1999-11-09 International Business Machines Corporation Distributed direct write lithography system using multiple variable shaped electron beams
US6011269A (en) * 1998-04-10 2000-01-04 Etec Systems, Inc. Shaped shadow projection for an electron beam column
US6232040B1 (en) * 1999-05-06 2001-05-15 Agere Systems, Inc. Method of electron beam exposure utilizing emitter with conductive mesh grid
US6492647B1 (en) * 1999-05-07 2002-12-10 Agere Systems, Inc. Electron guns for lithography tools
US6333508B1 (en) * 1999-10-07 2001-12-25 Lucent Technologies, Inc. Illumination system for electron beam lithography tool

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Publication number Publication date
EP1105914A1 (de) 2001-06-13
US6693282B1 (en) 2004-02-17
JP2003502823A (ja) 2003-01-21
DE60033767T2 (de) 2007-11-15
WO2000079565A1 (en) 2000-12-28
JP4647866B2 (ja) 2011-03-09
EP1105914B1 (de) 2007-03-07

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