DE602005000696T2

DE602005000696T2 - Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung

Info

Publication number: DE602005000696T2
Application number: DE602005000696T
Authority: DE
Inventors: Aleksey Yurievich Kolesnychenko; Johannes Jacobus Baselmans; Sjoerd Nicolaas Donders; Christiaan Alexander Hoogendam; Jeroen Johannes Mertens; Johannes Catharinus Mulkens; Felix Godfried Peeters; Bob Streefkerk; Franciscus Johannes Teunissen; Helmar Van Santen; Hans Jansen
Original assignee: ASML Netherlands BV
Current assignee: ASML Netherlands BV
Priority date: 2004-04-14
Filing date: 2005-04-04
Publication date: 2008-01-24
Anticipated expiration: 2025-04-05
Also published as: KR100695554B1; US10705432B2; US9829799B2; US9989861B2; JP2009033200A; EP1586948A1; CN101520611A; US8755033B2; JP2009044185A; JP2011249854A; JP2012084926A; JP5179317B2; US20120013867A1; JP5529903B2; US20190212662A1; US20160085161A1; KR20060045679A; JP2009033201A; EP1586948B1; DE602005000696D1

Description

Gebiet
Die vorliegende Erfindung betrifft eine lithographische Vorrichtung und ein Verfahren zur Herstellung von Bauteilen.
Hintergrund
Eine lithographische Vorrichtung ist eine Maschine, die ein gewünschtes Muster auf einen Zielabschnitt eines Substrats aufbringt. Lithographische Vorrichtungen können beispielsweise bei der Herstellung von integrierten Schaltungen (ICs) verwendet werden. In so einem Fall kann eine Musteraufbringungseinrichtung, wie z.B. eine Maske, verwendet werden, um ein Schaltungsmuster entsprechend einer einzelnen Schicht der integrierten Schaltung zu erzeugen und dieses Muster kann auf einen Zielabschnitt (der z.B. einen Teil eines oder mehrerer Dies enthält) auf einem Substrat (z.B. einem Silizium-Wafer), das mit einer Schicht aus strahlungssensitivem Material (Resist) überzogen worden ist, abgebildet werden. Im allgemeinen enthält ein einzelnes Substrat ein Netzwerk benachbarter Zielabschnitte, die sukzessive belichtet werden. Bekannte Lithographievorrichtungen umfassen sogenannte Stepper, bei denen jeder Zielabschnitt bestrahlt wird, indem ein gesamtes Maskenmuster in einem Schritt auf den Zielabschnitt belichtet wird, und sogenannte Scanner, bei denen jeder Zielabschnitt bestrahlt wird, indem das Muster durch den Projektionsstrahl in einer bestimmten Richtung (der „abtastenden" Richtung) abgetastet wird, während das Substrat parallel oder antiparallel zu dieser Richtung synchron abgetastet wird.
Es ist vorgeschlagen worden, das Substrat in der lithographischen Projektionsvorrichtung in eine Flüssigkeit zu tauchen, die einen relativ hohen Brechungsindex aufweist, z.B. Wasser, um einen Raum zwischen dem endgültigen Element des Projektionssystems und dem Substrat zu füllen. Der Punkt hierbei besteht darin, die Abbildung kleinerer Strukturen zu ermöglichen, da die Belichtungsstrahlung in der Flüssigkeit eine kürzere Wellenlänge haben wird. (Der Effekt der Flüssigkeit kann auch als eine Vergrößerung der effektiven NA (numerischen Apertur) des Systems und auch als eine Erhöhung der Brennweite betrachtet werden.) Es sind weitere Immersionsflüs sigkeiten vorgeschlagen worden, einschließlich Wasser mit festen Partikeln (z.B. Quarz), die darin schweben.
Jedoch bedeutet das Eintauchen des Substrats bzw. des Substrats und des Substrattisches in ein Flüssigkeitsbad (siehe, zum Beispiel, US-Patent 4,509,852 ), dass eine große Flüssigkeitsmenge vorhanden ist, die während einer Abtastbelichtung beschleunigt werden muss. Dies kann zusätzliche oder leistungsstärkere Motoren erforderlich machen, und Turbulenzen in der Flüssigkeit können zu unerwünschten und unvorhersehbaren Effekten führen.
Eine der vorgeschlagenen Lösungen für ein Flüssigkeitszufuhrsystem besteht darin, Flüssigkeit nur auf einem örtlich begrenzten Bereich des Substrats und zwischen dem endgültigen Element des Projektionssystems und dem Substrat unter Verwendung eines Flüssigkeitszufuhrsystems bereitzustellen (das Substrat weist im allgemeinen einen größeren Oberflächenbereich auf als das endgültige Element des Projektionssystems). Eine hierfür vorgeschlagene Möglichkeit ist in der PCT-Patentanmeldung Nr. WO 99/49504 offengelegt. Wie in den 2 und 3 dargestellt, wird Flüssigkeit durch wenigstens einen Eingang IN auf das Substrat aufgebracht, vorzugsweise entlang der Bewegungsrichtung des Substrats relativ zum endgültigen Element, und wird durch wenigstens einen Ausgang OUT abgeführt, nachdem sie unter dem Projektionssystem hindurchgelaufen ist. Das heißt, während das Substrat unter dem Element in einer –X-Richtung abgetastet wird, wird Flüssigkeit an der +X-Seite des Elements zugeführt und an der –X-Seite aufgesaugt. 2 ist eine schematische Darstellung der Anordnung, wobei Flüssigkeit durch den Eingang IN zugeführt und an der anderen Seite des Elements durch den Ausgang OUT, der mit einer Unterdruckquelle verbunden ist, aufgesaugt wird. Bei der Darstellung von 2 wird die Flüssigkeit entlang der Bewegungsrichtung des Substrats relativ zum endgültigen Element zugeführt, obwohl dies nicht sein muss. Verschiedene Ausrichtungen und Anzahlen von um das endgültige Element angeordneten Ein- und Ausgängen sind möglich, ein Beispiel ist in 3 dargestellt, wobei vier Satz eines Eingangs mit einem Ausgang an jeder Seite in einem gleichförmigen Muster um das endgültige Element vorgesehen sind.
Das Vorhandensein von Immersionsflüssigkeit innerhalb der lithograpischen Vorrichtung kann Probleme mit sich bringen, wenn empfindliche Teile der Vorrichtung durch die Flüssigkeit kontaminiert werden können. Dies ist insbesondere der Fall bei einem Flüssigkeitszufuhrsystem für örtlich begrenzte Bereiche, weil bei Versagen eines derartigen Flüssigkeitszufuhrsystems Immersionsflüssigkeit leicht entweichen kann. Darüber hinaus kann, wenn das Flüssigkeitszufuhrsystem für örtlich begrenzte Bereiche nicht effizient ist, Immersionsflüssigkeit auf dem Substrattisch zurückbleiben und kann dann den Substrattisch aufgrund der durch die Beschleunigung des Substrattisches erzeugten Kräfte verlassen.
Die EP-A2-1,429,188 , die gemäß Artikel 54(3) EPÜ entgegengehalten werden kann, offenbart eine lithographische Immersionsvorrichtung, bei der eine Nut zur Aufnahme von Flüssigkeit um ein Substrat direkt neben dem Substrat verläuft.
Die EP-A2-1,528,431 und die WO 2004/053953 , die gemäß Artikel 54(3) EPÜ entgegengehalten werden können, offenbaren eine lithographische Vorrichtung gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Zusammenfassung
Folglich wäre es vorteilhaft, zum Beispiel die Gefahr der Kontaminierung mit Flüssigkeit von Bauteilen in einer lithographischen Immersions-Projektionsvorrichtung zu reduzieren.
Gemäß einem Aspekt ist eine lithographische Projektionsvorrichtung geschaffen, mit:
einem Illuminator, der so ausgebildet ist, dass er einen Strahl aus Strahlung bereitstellt;
einer Haltekonstruktion, die so ausgebildet ist, dass sie eine Musteraufbringungseinrichtung hält, wobei die Musteraufbringungseinrichtung so ausgebildet ist, dass sie dem Strahl in seinem Querschnitt ein Muster aufprägt;
einem Substrattisch, der so ausgebildet ist, dass er ein Substrat hält;
einem Projektionssystem, das so ausgebildet ist, dass es den gemusterten Strahl auf einen Zielabschnitt des Substrats projiziert; und
einem Flüssigkeitszufuhrsystem, das so ausgebildet ist, dass es einem lokalisierten Bereich des Substrats, dem Substrattisch oder beiden eine Flüssigkeit zuführt, um wenigstens teilweise einen Raum zwischen dem Projektionssystem und dem Substrat, dem Substrattisch oder beiden zu füllen,
wobei der Substrattisch eine Barriere aufweist, die so ausgebildet ist, dass sie Flüssigkeit auffängt, wobei die Barriere das Substrat umgibt und im Abstand davon angeordnet ist;
dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens eines der Folgenden (a)-(i) gegeben ist:

(a) die Barriere umfasst einen Vorsprung, der aus einer Oberfläche des Substrattisches herausragt;
(b) wenigstens ein Teil der Barriere umfasst ein Flüssigkeit anziehendes Material oder eine Beschichtung;
(c) die Barriere umfasst eine Nut, die in einer Oberfläche des Substrattisches ausgespart und so geformt ist, dass die Flüssigkeit unter Kapillarwirkung durch die Nut transportiert werden kann;
(d) die Barriere umfasst eine Nut, die in einer Oberfläche des Substrattisches ausgespart ist, und der Substrattisch umfasst ferner eine Kammer, die durch die Nut mit der Oberfläche in Flüssigkeitskontakt steht und wobei die Nut eine fortlaufende Schleife bildet;
(e) ein Unterdruckanschluss ist so ausgebildet, dass er Flüssigkeit von der Barriere entfernt, wobei der Unterdruckanschluss eine Vielzahl von diskreten Ausgängen umfasst;
(f) ein Generator für akustische Oberflächenwellen ist so ausgebildet, dass er akustische Oberflächenwellen in der Barriere erzeugt, um den Transport von Flüssigkeit entlang der Barriere zu erleichtern;
(g) die Barriere umfasst eine Nut und einen Vorsprung, der aus einer Oberfläche des Substrattisches herausragt;
(h) die Barriere erstreckt sich radial außerhalb eines eine äußere Umfangskante des Substrats umgebenden Drainagegrabens bzw. einer Barriere, der bzw. die eine äußere Umfangskante des Substrats umgibt; und
(i) die Barriere umgibt zusätzlich wenigstens einen Sensor, der an einer Oberfläche des Substrattisches befestigt ist, und/oder ein Schließelement, das so ausgebildet ist, dass es das Flüssigkeitszufuhrsystem abdichtet.

Wird die Barriere verwendet, kann Flüssigkeit, die durch das Flüssigkeitszufuhrsystem verschüttet worden oder aus dem Flüssigkeitszufuhrsystem ausgetreten ist aufgefangen und wiederverwendet oder entsorgt werden, ohne dass Bauteile in der Vorrichtung mit der ausgetretenen Flüssigkeit kontaminiert werden. Die Barriere benötigt auf dem Substrattisch nicht viel Platz. Dies ist vorteilhaft, da Raum auf dem Substrattisch begrenzt ist, der so klein wie möglich gemacht wird, so dass so wenig Masse wie möglich beschleunigt werden muss.
Bei der Ausführungsform umfasst die Barriere einen Vorsprung, der aus einer Oberfläche des Substrattisches ragt. Dies ist eine einfache physikalische Barriere, die verhindert, dass Flüssigkeit aufgrund von durch die Beschleunigung des Substrattisches entstandenen Kräften oder aufgrund eines sprunghaften Vollausfalls des Flüssigkeitszufuhrsystems vom Substrattisch fliegt (z.B. gemäß einer der hier beschriebenen Lösungen).
Bei einer Ausführungsform umfasst wenigstens ein Teil der Barriere ein Flüssigkeit anziehendes Material oder eine Beschichtung. Die Barriere aus einem derartigen Material aufzubauen oder eine derartige Beschichtung auf die Barriere aufzubringen erhöht das Auffangen von Flüssigkeit, die an der Barriere klebt.
Bei einer Ausführungsform umfasst die Barriere eine Nut, die in einer Oberfläche des Substrattisches ausgespart ist. Dies hat den Vorteil, dass das Querschnittsprofil des Substrattisches eine Oberfläche aufweist, die im allgemeinen mit einer Oberfläche des Substrats bündig ist. Dann ist es nicht erforderlich, den Substrattisch oder das Flüssigkeitszufuhrsystem in die Richtung der optischen Achse des Projektionssystems zu bewegen, um Kollisionen zwischen dem Substrattisch und dem Flüssigkeitszufuhrsystem und/oder dem Projektionssystem zu vermeiden, zum Beispiel während des Substrataustausches.
Bei einer Ausführungsform ist die Nut so geformt, dass Flüssigkeit entlang der Nut unter Kapillarwirkung transportiert werden kann. Eine derartige Form kann den Transport von Flüssigkeit, die durch die Barriere aufgefangen worden ist, zu einem Unterdruckanschluss erleichtern, der so ausgebildet ist, dass er Flüssigkeit von der Barriere entfernt, ohne dass irgendwelche anderen Komponenten erforderlich werden. Der Substrattisch kann eine Kammer umfassen, die über die Nut mit der Oberfläche in Flüssigkeitskontakt steht. Die Nut kann fortlaufend ausgebildet sein. Bei Verwendung der Kammer kann der Vakuumfluss über eine Länge der Nut ausgeglichen werden. Bei einer Ausführungsform kann dies die Verwendung von nur einigen diskreten Ausgängen erforderlich machen.
Bei einer Ausführungsform kann ein Unterdruckanschluss vorgesehen sein, um Flüssigkeit von der Barriere zu entfernen. Der Unterdruckanschluss kann einzelne diskrete Unterdruckausgänge aufweisen, die zur Nut oder zur Kammer verlaufen können.
Bei einer Ausführungsform arbeitet der Unterdruckanschluss unabhängig vom Flüssigkeitszufuhrsystem. Dadurch kann die Barriere auch dann weiterarbeiten, wenn das Flüssigkeitszufuhrsystem ausfällt und daher Flüssigkeit überläuft.
Eine Möglichkeit, Flüssigkeit entlang der Barriere zu transportieren besteht darin, einen Generator für akustische Wellen bereitzustellen, der so ausgebildet ist, dass er akustische Oberflächenwellen in der Barriere erzeugt. Bei einer Ausführungsform kann dies durch die Verwendung eines piezoelektrischen Stellgliedes bereitgestellt sein, das vorteilhafter Weise recht klein sein kann.
Bei einer Ausführungsform umfasst die Barriere eine Nut und einen Vorsprung, der aus einer Oberfläche des Substrattisches herausragt. Ein Vorteil dieser Kombination besteht zum Beispiel darin, dass Flüssigkeit mit hoher Geschwindigkeit entlang der Oberfläche des Substrattisches entfernt werden kann. Der Vorsprung wirkt im Wesentlichen als ein Damm, und während sich Flüssigkeit gegen den Damm aufbaut, wird sie durch die Nut abgeführt. In Kombination mit einer Kammer, die optional zumindest teilweise in dem Vorsprung ausgebildet sein kann, die durch die Nut mit der Oberfläche in Flüssigkeitskontakt steht, kann eine besonders effektive Barriere gebildet werden.
Bei einer Ausführungsform erstreckt sich die Barriere radial außerhalb eines eine äußere Umfangskante des Substrats umgebenden Drainagegrabens bzw. einer Barriere. Ein derartiger eine äußere Umfangskante des Substrats umgebender Drainagegraben bzw. eine Barriere ist so vorgesehen, dass dann, wenn Kantenbereiche des Substrats belichtet werden und das Flüssigkeitszufuhrsystem für örtlich begrenzte Bereiche Flüssigkeit zu Bereichen von sowohl dem Substrat als auch dem Substrattisch gleichzeitig zuführt, die Flüssigkeitsmenge, die durch den Spalt zwischen dem Substrat und dem Substrattisch entweicht, reduziert wird. Beispiele für einen eine äußere Umfangskante des Substrats umgebenden Drainagegraben bzw. eine Barriere sind zum Beispiel in der US-Patentanmeldung Nr. 10/705,804 zu finden. Vom Drainagegraben bzw. der Barriere entweichende Flüssigkeit kann durch die Barriere aufgefangen werden. Die Barriere verläuft im wesentlichen um eine Außenkante oder einen Außenbereich des Substrattisches. Somit kann bei jeder relativen Position des Flüssigkeitszufuhrsystems auf dem Substrattisch die Barriere zum Auffangen von verschütteter Flüssigkeit verwendet werden. Zusätzlich kann die Barriere Bereiche einer Oberfläche des Substrattisches umgeben, die nicht vom Substrat bedeckt sind. Ferner kann die Barriere zusätzlich wenigstens einen Sensor umgeben, der an einer Oberfläche des Substrattisches befestigt ist, und/oder ein Schließelement, das so ausgebildet ist, dass es das Flüssigkeitszufuhrsystem abdichtet. Der Sensor kann ein Übertragungsbildsensor sein, der zur Ausrichtung verwendet wird. Das Schließelement kann die Form einer Scheibe aufweisen, die so ausgebildet ist, dass sie mit dem Boden des Flüssigkeitszufuhrsystems verbunden ist, so dass Flüssigkeit im Flüssigkeitszufuhrsystem enthalten ist, zum Beispiel während des Substrataustausches nach der Belichtung eines Substrats und vor der Belichtung eines nachfolgenden Substrats. Ein typisches Beispiel für ein Schließelement ist in der US-Patentanmeldung US 10/705,785 offenbart.
Gemäß einem weiteren Aspekt ist ein Verfahren zur Herstellung von Bauteilen geschaffen worden, das folgendes umfasst:
Bereitstellen einer Flüssigkeit für einen lokalisierten Bereich eines Substrats, eines Substrattisches oder beiden, um wenigstens teilweise einen Raum zwischen einem Projektionssystem und dem Substrat, dem Substrattisch oder beiden zu füllen;
Projizieren eines gemusterten Strahls aus Strahlung durch die Flüssigkeit auf einen Zielbereich des Substrats unter Verwendung des Projektionssystems; und Auffangen von Flüssigkeit mittels einer Barriere, wobei die Barriere das Substrat umgibt und im Abstand dazu angeordnet ist,
dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens eines der Folgenden (a)-(d) gegeben ist:

(a) die Barriere umfasst einen Vorsprung, der von einer Oberfläche des Substrattisches wegragt;
(b) in der Barriere werden akustische Oberflächenwellen erzeugt, um den Transport von Flüssigkeit entlang der Barriere zu erleichtern;
(c) die Barriere umfasst eine Nut und einen Vorsprung, der aus einer Oberfläche des Substrattisches hinausragt; und
(d) Flüssigkeit wird entfernt, indem ein eine äußere Umfangskante des Substrats umgebender und radial innerhalb der Barriere angeordneter Drainagegraben bzw. eine Barriere verwendet wird.

Obwohl in diesem Text speziell auf die Verwendung der erfindungsgemäßen Vorrichtung bei der Herstellung von integrierten Schaltungen hingewiesen werden kann, sollte klar sein, dass eine derartige Vorrichtung viele weitere Anwendungsmöglichkeiten hat, wie zum Beispiel bei der Herstellung von integrierten optischen Systemen, Leit- und Erfassungsmustern für Magnetblasenspeicher, Flüssigkristall-Anzeigetafeln (LCDs), Dünnschicht-Magnetköpfen und dergleichen. Der Fachmann wird erkennen, dass im Kontext mit derartigen alternativen Anwendungsmöglichkeiten jede Benutzung der Begriffe „Wafer" oder „Die" in diesem Text jeweils durch die allgemeineren Begriffe „Substrat" und „Zielabschnitt" ersetzt worden sind. Das Substrat, auf das hier Bezug genommen wird, kann vor oder nach der Belichtung in zum Beispiel einem Track (ein Werkzeug, das gewöhnlich eine Resist-Schicht auf ein Substrat aufbringt und das belichtete Resist entwickelt) oder einem Metrologie- oder Inspektionswerkzeug bearbeitet werden. Sofern anwendbar, kann die vorliegende Offenbarung für dieses und weitere Substratbearbeitungswerkzeuge verwendet werden. Ferner kann das Substrat mehr als einmal bearbeitet werden, beispielsweise um einen mehrschichtigen integrierten Schaltkreis zu erzeugen, so dass der hier verwendete Begriff Substrat sich auch auf ein Substrat beziehen kann, das bereits mehrfach bearbeitete Schichten enthält.
Die hierin verwendeten Begriffe „Strahlung" und „Strahl" umfassen alle Arten elektromagnetischer Strahlung, einschließlich ultravioletter (UV) Strahlung (z. B. mit einer Wellenlänge von 365, 248, 193, 157 bzw. 126 nm).
Der hier verwendete Begriff „Musteraufbringungseinrichtung" sollte so weit interpretiert werden, dass er sich auf eine Einrichtung bezieht, die dafür verwendet werden kann, einem Projektionsstrahl einen gemusterten Querschnitt gemäß einem Muster aufzuprägen, um so ein Muster in einem Zielabschnitt des Substrats zu erzeugen. Festzustellen ist, dass das auf den Projektionsstrahl aufgebrachte Muster einem gewünschten Muster im Zielabschnitt des Substrats eventuell nicht genau entsprechen kann. Im allgemeinen entspricht das auf den Projektionsstrahl aufgebrachte Muster einer bestimmten Funktionsschicht in einem im Zielabschnitt erzeugten Bauelement wie einer integrierten Schaltung.
Eine Musteraufbringungseinrichtung kann lichtdurchlässig oder reflektierend sein. Beispiele von Musteraufbringungseinrichtungen umfassen Masken, programmierbare Spiegelfelder und programmierbare LCD-Tafeln. Masken sind in der Lithographie allgemein bekannt und umfassen binäre, wechselnde Phasenverschiebungs- und reduzierte Phasenverschiebungsmaskenarten sowie verschiedene Arten von Hybridmasken. Ein Beispiel eines programmierbaren Spiegelfeldes verwendet eine Matrixanordnung kleiner Spiegel, von denen jeder individuell geneigt werden kann, um einen eingehenden Strahl aus Strahlung in verschiedene Richtungen zu spiegeln; auf diese Weise wird der reflektierte Strahl gemustert. Bei jedem Beispiel einer Musteraufbringungseinrichtung kann die Haltekonstruktion beispielsweise ein Rahmen oder Tisch sein, der nach Wunsch fixiert oder beweglich sein kann und der sicherstellen kann, dass sich die Musteraufbringungseinrichtung in einer gewünschten Position befindet, zum Beispiel hinsichtlich des Projektionssystems. Jegliche Verwendung der Begriffe „Retikel" oder „Maske" kann hier als Synonym für den allgemeineren Begriff „Musteraufbringungseinrichtung" betrachtet werden.
Der hier verwendete Begriff „Projektionssystem" sollte so weit interpretiert werden, dass er verschiedene Arten von Projektionssystemen umfasst, die beispielsweise lichtbrechende Optiken, reflektierende Optiken, und katadioptrische Systeme umfassen, wie sie zum Beispiel für die verwendete Belichtungsstrahlung geeignet sind, oder für weitere Faktoren wie die Verwendung einer Immersionsflüssigkeit oder die Verwendung eines Vakuums. Jegliche Verwendung des Begriffes „Linse" kann hier als Synonym für den allgemeineren Begriff „Projektionssystem" betrachtet werden.
Das Beleuchtungssystem kann auch verschiedene Arten optischer Komponenten umfassen, einschließlich lichtbrechender Komponenten, reflektierender Komponenten, und katadioptrischer Komponenten zum Leiten, Formen oder Steuern des Pro jektionsstrahls aus Strahlung, und derartige Komponenten können im nachfolgenden gemeinsam oder einzeln als eine „Linse" bezeichnet werden.
Die lithographische Vorrichtung kann derart sein, dass sie zwei (zweistufige) oder mehr Substrattische (und/oder zwei oder mehr Maskentische) aufweist. Bei derartigen „mehrstufigen" Geräten können die zusätzlichen Tische parallel verwendet werden, bzw. es können an einem oder an mehreren Tischen vorbereitende Schritte durchgeführt werden, während ein oder mehrere weitere Tische für Belichtungen verwendet werden.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
Ausführungsformen der Erfindung werden nun im Folgenden rein exemplarisch mit Bezug die begleitenden schematischen Zeichnungen beschrieben, wobei entsprechende Bezugszeichen entsprechende Teile anzeigen, und wobei:
1 eine lithographische Projektionsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform der Erfindung zeigt;
2 eine Querschnittsansicht eines Flüssigkeitszufuhrsystems zeigt, das gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann;
3 eine Draufsicht auf das Flüssigkeitszufuhrsystem von 2 zeigt;
4 ein Beispiel eines Abdichtelements des Flüssigkeitszufuhrsystems gemäß einer erfindungsgemäßen Ausführungsform zeigt;
5 eine Querschnittsansicht einer Barriere gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung zeigt;
6 eine Draufsicht auf eine Barriere gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung zeigt;
7 eine Querschnittsansicht einer Barriere gemäß einer dritten Ausführungsform der Erfindung zeigt; und
8 eine Querschnittsansicht einer Barriere gemäß einer vierten Ausführungsform der Erfindung zeigt.
Detaillierte Beschreibung
1 ist eine schematische Darstellung einer lithographischen Vorrichtung gemäß einer speziellen Ausführungsform der Erfindung. Die Vorrichtung umfasst:

• ein Beleuchtungssystem (Illuminator) IL zum Bereitstellen eines aus Strahlung (z.B. UV-Strahlung) bestehenden Projektionsstrahls PB;
• eine erste Haltekonstruktion (z.B. ein Maskentisch) MT, die eine Musteraufbringungseinrichtung (z.B. eine Maske) MA hält und mit einer ersten Positionierungseinrichtung PM zur genauen Positionierung der Musteraufbringungseinrichtung im Hinblick auf den Gegenstand PL verbunden ist;
• einen Substrattisch (z.B. einen Wafer-Tisch) WT, der ein Substrat (z.B. ein mit einer Schutzschicht beschichteter Wafer) W hält und mit einer zweiten Positioniereinrichtung zur genauen Positionierung des Substrats im Hinblick auf den Gegenstand PL verbunden ist; und
• ein Projektionssystem (z.B. eine brechende Projektionslinse) PL zum Abbilden eines auf den Projektionsstrahl PB aufgebrachten Musters durch die Musteraufbringungseinrichtung MA auf einen Zielabschnitt C (der einen oder mehrere Dies aufweist) des Substrats W.

Wie hier gezeigt, ist die Vorrichtung lichtdurchlässiger Art (d.h. sie verwendet eine durchlässige Maske). Alternativ kann die Vorrichtung auch reflektierender Art sein (d.h. sie verwendet ein programmierbares Spiegelfeld der vorstehend genannten Art).
Der Illuminator IL empfängt einen Strahl aus Strahlung von einer Strahlungsquelle. Die Quelle und die lithographische Vorrichtung können separate Einheiten sein, zum Beispiel wenn die Quelle ein Excimer-Laser ist. In derartigen Fällen ist die Quelle nicht als Teil der lithographischen Vorrichtung zu betrachten und der Strahlungsstrahl verläuft von der Quelle zum Illuminator IL mit Hilfe eines Strahlzuführsystems, das zum Beispiel geeignete Leitungsspiegel und/oder einen Strahlexpander aufweist. In anderen Fällen kann die Quelle ein integraler Teil der Vorrichtung sein, zum Beispiel wenn die Quelle eine Quecksilberlampe ist. Die Quelle und der Illuminator IL können, nach Wunsch gemeinsam mit dem Strahlzuführsystem, als Strahlungssystem bezeichnet werden.
Der Illuminator IL kann Anpassungseinrichtungen AM zum Anpassen der Winkelintensitätsverteilung des Strahls umfassen. Im allgemeinen kann wengistens der äußere und/oder innere radiale Umfang (gewöhnlich jeweils als σ-innen und σ-außen bezeichnet) der Intensitätsverteilung in einer Pupillenebene des Illuminators angepasst werden. Darüber hinaus kann der Illuminator IL im allgemeinen verschiedene weitere Komponenten enthalten, wie einen Integrator IN und einen Kondensor Co. Der Illuminator stellt einen konditionierten Strahl aus Strahlung bereit, der als der Projektionsstrahl PB bezeichnet wird, der in seinem Querschnitt eine gewünschte Gleichförmigkeit und Intensitätsverteilung aufweist.
Der Strahl PB fällt auf die Maske MA auf, die auf dem Maskentisch MT gehalten wird. Nachdem er die Maske MA durchquert hat, läuft der Strahl PB durch die Linse PL, die den Strahl auf einen Zielabschnitt C des Substrats W fokussiert. Mit Hilfe der zweiten Positioniereinrichtung PW und des Positionssensors IF (z.B. einer interferometrischen Messvorrichtung) kann der Substrattisch WT genau bewegt werden, zum Beispiel um unterschiedliche Zielabschnitte C im Weg des Strahls PB zu positionieren. Auf gleiche Weise kann die erste Positioniereinrichtung PM und ein weiterer Positionssensor (der in 1 nicht explizit dargestellt ist) verwendet werden, um die Maske MA im Hinblick auf den Weg des Strahls PB genau zu positionieren, zum Beispiel nachdem die Maske MA mechanisch von einer Maskenbibliothek geholt worden ist oder während einer Abtastung. Im allgemeinen wird die Bewegung der Objekttische MT, WT mit Hilfe eines langhubigen Moduls (Grobpositionierung) und eines kurzhubigen Moduls (Feinpositionierung) durchgeführt, die Teil der Positioniervorrichtungen PM und PW sind. Allerdings kann im Falle eines Steppers (im Gegensatz zu einem Scanner) der Maskentisch MT nur mit einem kurzhubigen Betätigungselement verbunden werden, oder er kann fixiert sein. Die Maske MA und das Substrat W können unter Verwendung von Maskenausrichtmarken M1, M2 und Substratausrichtmarken P1, P2 ausgerichtet werden.
Die gezeigte Vorrichtung kann auf folgende bevorzugte Arten eingesetzt werden:

1) Im Step-Modus werden der Maskentisch MT und der Substrattisch WT im wesentlichen stationär gehalten, während ein ganzes auf den Projektionsstrahl aufgebrachtes Muster in einem Schritt (d.h. einer einzelnen statischen Belichtung) auf einen Zielabschnitt C projiziert wird. Der Substrattisch WT wird dann in X- und/oder Y-Richtung verschoben, so dass ein anderer Zielabschnitt C belichtet werden kann. Im Step-Modus ist die Größe des in einer einzigen statischen Belichtung mit einer Abbildung versehenen Zielabschnitts C durch die maximale Größe des Belichtungsfeldes begrenzt.
2) Im Scan-Modus werden der Maskentisch MT und der Substrattisch WT synchron abgetastet, während ein auf den Projektionsstrahl aufgebrachtes Muster auf einen Zielabschnitt C projiziert wird (d.h. eine einzelne dynamische Belichtung). Geschwindigkeit und Richtung des Substrattisches WT relativ zum Maskentisch MT sind bestimmt durch die Verkleinerungs-/Vergrößerungs- und Bildumkehrcharakteristika des Projektionssystems PL. Im Scan-Modus ist die Breite (in Nichtabtastrichtung) des Zielabschnitts bei einer einzelnen dynamischen Belichtung durch die maximale Größe des Belichtungsfeldes begrenzt, wohingegen die Länge der Abtastbewegung die Höhe (in Abtastrichtung) des Zielabschnitts bestimmt.
3) In einem weiteren Modus wird der Maskentisch MT im wesentlichen stationär gehalten und hält eine programmierbare Musteraufbringungseinrichtung, und der Substrattisch WT wird bewegt bzw. abgetastet, während ein auf den Projektionsstrahl aufgebrachtes Muster auf einen Zielabschnitt C projiziert wird. In diesem Modus wird im allgemeinen eine gepulste Strahlungsquelle verwendet, und die programmierbare Musteraufbringungseinrichtung wird nach Wunsch nach jeder Bewegung des Substrattisches WT oder zwischen sukzessiven Strahlungspulsen während einer Abtastung aktualisiert. Dieser Betriebs modus kann leicht auf maskenlose Lithographie angewendet werden, bei der eine programmierbare Musteraufbringungseinrichtung, wie ein programmierbares Spiegelfeld der vorstehend erwähnten Art, verwendet wird.

Eine erste Ausführungsform der Erfindung wird mit Bezug auf 5 beschrieben. Es ist ein Substrattisch WT gezeigt, der ein Substrat W hält. Der Substrattisch WT kann jeder beliebige Substrattisch sein, einschließlich der Art, die einen oberen und einen unteren Teil aufweist, wobei sich der untere Teil relativ zur Vorrichtung bewegt und für Grobpositionsbewegungen ausgebildet ist, und wobei sich der obere Teil relativ zum unteren Teil bewegt und für genaue „Kurzhub"-Positionierung ausgebildet ist. Ferner kann der Substrattisch WT der Art sein, bei der ein Spannfutter abnehmbar am Substrattisch WT befestigt und von diesem gehalten werden kann. In der nachfolgenden Beschreibung soll kein Unterschied zwischen den unterschiedlichen Typen von Substrattischen WT gemacht werden und die Beschreibung des Substrattisches WT ist generisch.
Ein bei der Immersionslithographie verwendeter Substrattisch WT kann einen Drainagegraben bzw. eine Barriere 40 aufweisen, der/die eine äußere Umfangskante des Substrats W umgibt. Der Drainagegraben bzw. die Barriere 40 ist mit einer Unterdruckquelle so verbunden, dass Immersionsflüssigkeit, die während der Belichtung der Kantenbereiche des Substrats W vom Substrat W verschüttet worden ist, aufgefangen werden kann. Beispiele eines derartigen Drainagegrabens bzw. einer derartigen Barriere 40 können der US-Patentanmeldung Nr. 10/705,804 entnommen werden.
Ferner sind weitere Objekte 20 auf einer Oberfläche des Substrattisches angeordnet, die sich im wesentlichen in der gleichen Ebene befindet wie die Oberfläche des Substrats W. Die weiteren Objekte 20 können Sensoren 24 (einschließlich beispielsweise eines Transmissionsbildsensors (TIS) und/oder eines Spot-Sensors (Dosis)) oder eine sogenannte Abschlussscheibe 22 sein, wie in 6 dargestellt. Ein Transmissionsbildsensor 24 wird während der Ausrichtung des Substrats W relativ zum Substrat tisch WT verwendet und gewöhnlich durch einen Projektionsstrahl PB durch das Projektionssystem beleuchtet. Eine Abschlussscheibe 22 wird gewöhnlich während des Substrataustauschs verwendet. Nach der Belichtung eines Substrats wird es vom Substrattisch WT entfernt und durch ein neues, nichtbelichtetes Substrat W ersetzt. Während dieser Zeit kann es vorteilhaft sein, ein Endelement des Projektionssystems in einer Flüssigkeit getaucht zu halten, um auf dem endgültigen Element Trocknungsmarken zu vermeiden. Hierfür ist eine Abschlussscheibe 22 vorgesehen, die mit der Unterseite des Flüssigkeitszufuhrsystems verbunden werden kann, damit das Flüssigkeitszufuhrsystem ohne katastrophalen Flüssigkeitsverlust weiter in Betrieb bleiben kann. Eine Abschlussscheibe ist in der US-Patentanmeldung Nr. 10/705,785 genauer beschrieben.
Eine Barriere 100 umgibt das Substrat W, den Drainagegraben 40 und die Abschlussscheibe 22 und den Transmissionsbildsensor 24. Die Barriere 100 umgibt ferner weitere Bereiche der Oberfläche des Substrattisches WT. Die Barriere 100 ist fortlaufend und im wesentlichen an einer Außenkante oder einem Außenbereich der Oberfläche des Substrattisches WT angeordnet. Die Barriere 100 befindet sich physisch nicht in der Ebene der Oberfläche des Substrattisches WT (und des Substrats W). Für den Typ Substrattisch WT, der sowohl ein Spannfutter als auch den Tisch umfasst, kann die Barriere 100 entweder um das Äußere des Spannfutters als auch um das Äußere des Substrattisches angeordnet sein.
Bei der ersten Ausführungsform umfasst die Barriere 100 eine Nut 110, die in der Oberfläche des Substrattisches WT ausgespart ist. Die Nut 110 ist eine fortlaufende Schleife (entweder kreisförmig oder nicht-kreisförmig), muss es jedoch nicht sein. Die Nut 110 kann von einem Vorsprung 140 begleitet sein, der über die Oberfläche des Substrattisches WT hinausragt. Bei einer Ausführungsform ist der Vorsprung 140 radial außerhalb der Nut 110 angeordnet. Ein Unterdruckanschluss ist an eine Vielzahl diskreter Ausgänge 120 angeschlossen. Die diskreten Ausgänge 120 sind an den Unterdruckanschluss angeschlossen, der bei einer Ausführungsform vom Flüssigkeitszufuhrsystem unabhängig ist, so dass jegliche Flüssigkeit, die von der Barriere 100 aufgefangen worden ist, zur Entsorgungs oder optional zur Wiederaufbereitung entfernt werden kann. Bei einer Ausführungsform kann der Ausgang 120 eine fortlaufende Schleife sein (entweder kreisförmig oder nicht-kreisförmig).
Die Barriere 100 besteht vorteilhafter Weise aus einem Flüssigkeit anziehenden Material oder weist eine Flüssigkeit anziehende Beschichtung derart auf, dass jegliche Flüssigkeit, die mit der Barriere 100 in Kontakt gerät, von der Barriere 100 angezogen wird, die dann die Flüssigkeit effektiver auffangen kann.
Bei einer Ausführungsform ist die Nut 100 in ihrem Querschnitt U-förmig und so ausgebildet, dass Kapillarkräfte auf die Flüssigkeit in der Nut einwirken, so dass die Flüssigkeit zu dem Ausgang/den Ausgängen 120 transportiert und vom Substrattisch WT entfernt werden kann.
Eine Alternative zum Transport von Flüssigkeit entlang der Barriere 100 besteht darin, akustische Oberflächenwellen zu erzeugen, die eine über die Zeit veränderbare Deformation oder Vibration auf der Oberfläche und/oder direkt unter der Oberfläche der Barriere darstellen (z.B. eine Nut). Die Flüssigkeit wird durch die über die Zeit veränderbare Deformation der Oberfläche transportiert. Die akustischen Oberflächenwellen können durch einen Generator für akustische Oberflächenwellen erzeugt werden, der piezoelektrische Stellglieder aufweisen kann. Dieses Design ist sehr kompakt und die akustischen Oberflächenwellen können sehr lokal auf der Oberfläche erzeugt werden. Daher verlaufen die akustischen Oberflächenwellen nur entlang der Oberfläche des Materials der Barriere 100, so dass keine mechanische Verzerrung des Substrattisches (bzw. des Spannfutters) auftritt.
Eine zweite Ausführungsform wird mit Bezug auf die 6 beschrieben und ist der ersten Ausführungsform mit Ausnahme des Nachstehenden gleich. Bei dieser Ausführungsform sind zwei Auffangaussparungen 122 an entgegengesetzten Ecken der Barriere 100 vorgesehen. Die Auffangaussparungen 122 weisen eine halbrunde Form und an ihrem tiefsten Punkt einen Ausgang 120 auf. Die Nut 110 kann über ihre Länge leicht geneigt sein, so dass jegliche Flüssigkeit in der Nut 110 unter Schwerkraft zu den Auffangaussparungen 122 fließt. Selbstverständlich kann die Nut 110 so ausgebildet sein, dass Kapillarkräfte die Flüssigkeit zu den Auffangaussparungen 122 bewegen oder es kann zu diesem Zweck ein Generator für akustische Oberflächenwellen eingesetzt werden.
Eine dritte Ausführungsform wird mit Bezug auf die 7 beschrieben und ist der ersten Ausführungsform mit Ausnahme des Nachstehenden gleich. Bei dieser Ausführungsform umfasst die Barriere 100 eine fortlaufende Nut 110, die sich um eine Außenkante oder einen Außenbereich des Substrattisches WT erstreckt. Die fortlaufende Nut 110 steht in Flüssigkeitskontakt mit einer fortlaufenden kreisförmigen Kammer 130, die im Substrattisch ausgebildet ist und deren Querschnittsbereich größer ist als derjenige der Nut. Eine Vielzahl diskreter Ausgänge 120 (oder ein einzelner fortlaufender Ausgang 120), die mit einem Unterdruckanschluss verbunden sind, stehen mit der Kammer 130 in Flüssigkeitskontakt. Auf diese Weise wird der Unterdruck in der Nut 110 über ihre gesamte Länge ausgeglichen, so dass die in das Drainagesystem Flüssigkeit drückende Kraft über die gesamte Länge der Barriere 100 gleich ist.
Wie bei anderen Ausführungsformen, jedoch im Gegensatz zum Drainagegraben 40, ist die Barriere 100 vom Substrat W beabstandet, wenn das Substrat W auf dem Substrattisch WT in dem für ein Substrat W bestimmten Bereich positioniert ist.
Eine vierte Ausführungsform ist der dritten Ausführungsform gleich, mit Ausnahme des im Nachstehenden mit Bezug auf 8 beschriebenen. Die vierte Ausführungsform ist ausgebildet, um zum Beispiel das Entfernen von Flüssigkeit zu optimieren, die eine hohe Geschwindigkeit auf der Oberfläche des Substrattisches WT aufweist. Flüssigkeit kann auf dem Substrattisch eine hohe Geschwindigkeit entwickeln, wenn sich der Substrattisch mit hoher Drehzahl in der zur optischen Achse des Projektionssystems orthogonalen Ebene bewegt.
Die Barriere 100 der vierten Ausführungsform umfasst einen Vorsprung 140, der über die Oberfläche des Substrattisches WT hinausragt und um eine Außenkante bzw. einen Bereich des Substrattisches WT verläuft, im wesentlichen an der Außenkante bzw. dem Bereich des Substrattisches WT. Eine Nut 110 ist im Vorsprung 140 gebildet. Die Nut 110 verläuft horizontal im wesentlichen parallel zu der Oberfläche des Substrattisches WT, im Gegensatz zu den Nuten der vorangegangenen Ausführungsformen, die im wesentlichen senkrecht zur Oberfläche des Substrattisches WT verlaufen. Jedoch kann bei der vierten Ausführungsform, so wie bei den anderen Ausführungsformen, die Nut 110 zur Oberfläche des Substrattisches WT jeglichen Winkel einnehmen. Der horizontale Winkel der Nut 110 bei der vierten Ausführungsform wird vorgezogen, da dann, wenn Flüssigkeit gegen die radiale Innenfläche des Vorsprungs 140 nach oben gedrückt wird, die Beschleunigung des Substrattisches WT von links nach rechts, wie in 8 dargestellt, zu einer auf die Flüssigkeit einwirkenden Kraft führt, durch die die Flüssigkeit durch die Nut 110 gedrückt wird.
Die Innenfläche des Vorsprungs 140 ist senkrecht zur Oberfläche des Substrattisches WT dargestellt. Vielleicht ist dies die am leichtesten herzustellende Form, auch wenn ein im Vorsprung 140 über die Oberfläche des Substrattisches WT überkragender Winkel (d.h. nach innen gewinkelt) vorteilhaft sein kann, da Flüssigkeit dann weniger leicht über die Oberfläche des Vorsprungs 140 gedrückt werden kann, da sich Flüssigkeit gegen die radiale Innenfläche aufbaut.
Die Kammer 130 der vierten Ausführungsform ist zumindest teilweise im Vorsprung 140 ausgebildet. Dies muss nicht unbedingt der Fall sein, erleichtert jedoch die Herstellung. Tatsächlich kann die Kammer 130 ganz innerhalb des Vorsprungs 140 ausgebildet sein. Auf diese Weise kann die Barriere 100 z.B. aus einem kreisförmigen Ring mit U-förmigem Querschnitt gebildet sein, der auf die Oberfläche des Substrattisches WT geklebt oder auf andere Weise befestigt wird. Weitere Formen und Querschnitte sind selbstverständlich möglich.
Kombinationen und/oder Variationen der vorstehend beschriebenen Verwendungsmodi oder vollkommen andere Verwendungsmodi können ebenfalls angewendet werden.
Eine weitere Lösung der Immersionslithographie, die vorgeschlagen worden ist, besteht darin, das Flüssigkeitszufuhrsystem mit einem Abdichtelement zu versehen, das entlang wenigstens eines Teils einer Grenze des Raumes zwischen dem endgültigen Element des Projektionssystems und dem Substrattisch verläuft. Das Abdichtelement ist im wesentlichen stationär relativ zum Projektionssystem in der X-Y-Ebene, auch wenn es eine gewisse relative Bewegung in der Z-Richtung (der Richtung der optischen Achse) geben kann. Zwischen dem Abdichtelement und der Oberfläche des Substrats wird eine Abdichtung gebildet. Vorzugsweise ist die Abdichtung eine kontaktfreie Abdichtung, wie zum Beispiel eine Gasdichtung. Ein derartiges System ist beispielsweise in der US-Patentanmeldung Nr. 10/705,783 offenbart, die hierdurch als Referenz eingefügt wird.
Eine weitere Lösung zur Immersionslithographie mit einem Flüssigkeitszufuhrsystem für örtlich begrenzte Bereiche ist in 4 gezeigt. Flüssigkeit wird über zwei Nuteingänge IN an jeder Seite des Projektionssystems PL zugeführt und durch eine Vielzahl diskreter Ausgänge OUT abgeführt, die radial außerhalb der Eingänge IN angeordnet sind. Die Eingänge IN und OUT können in einer Platte mit einem Loch in ihrer Mitte angeordnet sein, durch das der Projektionsstrahl projiziert wird. Flüssigkeit wird durch einen Nuteingang IN an einer Seite des Projektionssystems PL zugeführt und durch eine Vielzahl diskreter Ausgänge OUT an der anderen Seite des Projektionssystems PL abgeführt, wodurch ein Fluss einer dünnen Flüssigkeitsschicht zwischen dem Projektionssystem PL und dem Substrat W bewirkt wird. Die Wahl, welche Kombination von Eingängen IN und Ausgängen OUT verwendet werden soll, kann von der Bewegungsrichtung des Substrats W abhängen (wobei die andere Kombination von Eingängen IN und Ausgängen OUT inaktiv ist).
In der europäischen Patentanmeldung Nr. 03257072.3 ist der Gedanke einer zweistufigen lithographischen Immersionsvorrichtung offenbart. Eine derartige Vorrichtung weist zwei Substrattische zum Halten des Substrats auf. Nivelliermessungen erfolgen, während sich ein Substrattisch ohne Immersionsflüssigkeit in einer ersten Position befindet, und die Belichtung erfolgt, während sich ein Substrattisch in einer zweiten Position befindet, bei der Immersionsflüssigkeit vorhanden ist. Alternativ kann die Vorrichtung nur einen Substrattisch aufweisen, der sich zwischen der ersten und der zweiten Position bewegt.
Die vorliegende Erfindung kann auf jegliche lithographische Immersionsvorrichtung angewendet werden, insbesondere, jedoch nicht ausschließlich, auf die vorstehend erwähnten Arten.
Obwohl spezielle Ausführungsformen der Erfindung vorstehend beschrieben worden sind, kann die Erfindung selbstverständlich anders als beschrieben durchgeführt werden. Die Beschreibung soll die Erfindung nicht eingrenzen.

Claims

Lithographische Vorrichtung, mit: einem Illuminator (IL), der so ausgebildet ist, dass er einen Strahl aus Strahlung (PB) bereitstellt; einer Haltekonstruktion (MT), die so ausgebildet ist, dass sie eine Musteraufbringungseinrichtung hält, wobei die Musteraufbringungseinrichtung so ausgebildet ist, dass sie dem Strahl in seinem Querschnitt ein Muster aufprägt; einem Substrattisch (WT), der so ausgebildet ist, dass er ein Substrat hält; einem Projektionssystem (PL), das so ausgebildet ist, dass es den gemusterten Strahl auf einen Zielabschnitt des Substrats projiziert; und einem Flüssigkeitszufuhrsystem, das so ausgebildet ist, dass es einem lokalisierten Bereich des Substrats, dem Substrattisch oder beiden eine Flüssigkeit zuführt, um wenigstens teilweise einen Raum zwischen dem Projektionssystem und dem Substrat, dem Substrattisch oder beiden zu füllen, wobei der Substrattisch eine Barriere (100) aufweist, die so ausgebildet ist, dass sie Flüssigkeit auffängt, wobei die Barriere das Substrat (W) umgibt und im Abstand davon angeordnet ist; dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens eines der folgenden Merkmale (a)- (i) gegeben ist: (j) die Barriere umfasst einen Vorsprung (140), der aus einer Oberfläche des Substrattisches herausragt; (k) wenigstens ein Teil der Barriere umfasst ein Flüssigkeit anziehendes Material oder eine Beschichtung; (l) die Barriere umfasst eine Nut (110), die in einer Oberfläche des Substrattisches ausgespart und so geformt ist, dass die Flüssigkeit unter Kapillarwirkung durch die Nut transportiert werden kann; (m) die Barriere umfasst eine Nut (110), die in einer Oberfläche des Substrattisches ausgespart ist, und der Substrattisch umfasst ferner eine Kammer (130), die durch die Nut mit der Oberfläche in Flüssigkeitskontakt steht und wobei die Nut eine fortlaufende Schleife bildet; (n) ein Unterdruckanschluss ist so ausgebildet, dass er Flüssigkeit von der Barriere entfernt, wobei der Unterdruckanschluss eine Vielzahl von diskreten Ausgängen (120) umfasst; (o) ein Generator für akustische Oberflächenwellen ist so ausgebildet, dass er akustische Oberflächenwellen in der Barriere erzeugt, um den Transport von Flüssigkeit entlang der Barriere zu erleichtern; (p) die Barriere umfasst eine Nut (110) und einen Vorsprung (140), der aus einer Oberfläche des Substrattisches herausragt; (q) die Barriere erstreckt sich radial außerhalb eines eine äußere Umfangskante des Substrats umgebenden Drainagegrabens (40) bzw. einer Barriere, die eine äußere Umfangskante des Substrats umgibt; und (r) die Barriere umgibt zusätzlich wenigstens einen Sensor (22, 24), der an einer Oberfläche des Substrattisches befestigt ist, und/oder ein Schließelement, das so ausgebildet ist, dass es das Flüssigkeitszufuhrsystem abdichtet.
Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Barriere eine Nut (110) umfasst, die in einer Oberfläche des Substrattisches ausgespart ist.
Vorrichtung nach Anspruch 1, ferner mit einem Unterdruckanschluss, der so ausgebildet ist, dass er Flüssigkeit von der Barriere entfernt.
Vorrichtung nach Anspruch 3, wobei der Unterdruckanschluss unabhängig von dem Flüssigkeitszufuhrsystem arbeitet.
Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei das Merkmal (f) gegeben ist und der Generator für akustische Oberflächenwellen einen piezoelektrischen Aktuator umfasst.
Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei das Merkmal (g) gegeben ist und der Substrattisch eine Kammer (130) aufweist, die über die Nut mit der Oberfläche in Flüssigkeitskontakt steht.
Vorrichtung nach Anspruch 6, wobei die Kammer zumindest teilweise in dem Vorsprung ausgebildet ist.
Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Barriere sich im wesentlichen um eine Außenkante bzw. einen Bereich des Substrattisches erstreckt.
Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Barriere zusätzlich Bereiche einer Oberfläche des Substrattisches umgibt, die nicht von dem Substrat bedeckt sind.
Verfahren zur Herstellung von Bauteilen, das folgendes umfasst: Bereitstellen einer Flüssigkeit für einen lokalisierten Bereich eines Substrats (W), eines Substrattisches oder beiden, um wenigstens teilweise einen Raum zwischen einem Projektionssystem (PL) und dem Substrat, dem Substrattisch (WT) oder beiden zu füllen; Projizieren eines gemusterten Strahls aus Strahlung (PB) durch die Flüssigkeit auf einen Zielbereich des Substrats unter Verwendung des Projektionssystems; und Auffangen von Flüssigkeit mittels einer Barriere (100), wobei die Barriere das Substrat umgibt und im Abstand dazu angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens eines der Folgenden (a)-(d) gegeben ist: (e) die Barriere umfasst einen Vorsprung (140), der von einer Oberfläche des Substrattisches wegragt; (f) in der Barriere werden akustische Oberflächenwellen erzeugt, um den Transport von Flüssigkeit entlang der Barriere zu erleichtern; (g) die Barriere umfasst eine Nut (110) und einen Vorsprung (140), der aus einer Oberfläche des Substrattisches hinausragt; und (h) Flüssigkeit wird entfernt, indem ein eine äußere Umfangskante des Substrats umgebender und radial innerhalb der Barriere angeordneter Drainagegraben (40) bzw. eine Barriere verwendet wird.
Verfahren nach Anspruch 10, wobei die Barriere eine Nut (110) umfasst, die in einer Oberfläche des Substrattisches ausgespart ist.
Verfahren nach Anspruch 10, das ferner das Entfernen von Flüssigkeit von der Barriere unter Verwendung eines Unterdruckanschlusses umfasst.
Verfahren nach Anspruch 12, wobei das Entfernen von Flüssigkeit von der Barriere unabhängig von der Zufuhr von Flüssigkeit geschieht.
Verfahren nach Anspruch 10, wobei das Merkmal (c) gegeben ist und der Substrattisch eine Kammer (130) umfasst, die zumindest teilweise in dem Vorsprung ausgebildet ist und durch die Nut mit der Oberfläche in Flüssigkeitskontakt steht.