DE60315223T2 - Kühllamellen - Google Patents

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Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung betrifft grundsätzlich ein verbessertes Substrat für Wärme erzeugende elektronische Vorrichtungen und Einrichtungen und/oder Halbleitervorrichtungen und -einrichtungen und insbesondere ein Verfahren zum Bilden eines verbesserten Wärme ableitenden, mit Rippen versehenen Substrats für solche Vorrichtungen und Einrichtungen. Das Substrat weist eine metallische Platte mit einer Mehrzahl parallel angeordneter Rippen auf, die sich von der Oberfläche weg erstrecken und mit dieser fest verschweißt sind. Der Substratrohling wird geformt, bestückt oder in anderer Weise vervollständigt, bevor die abschließende Anbringung der Rippen geschieht, so dass normale Produktionstechniken ausgeführt werden können und keine speziellen Techniken und/oder Vorrichtungen erforderlich sind, um Beeinträchtigungen der Rippen bei der Handhabung zu verhindern. Im Laufe des erfindungsgemäßen Verfahrens wird eine Matrix beabstandeter, parallel angeordneter, nicht ausgerichteter Rippenelemente auf der Wärme ableitenden Oberfläche eines festen Substrats ausgebildet, wobei der Substratrohling danach verschiedenen Montagevorgängen unterzogen wird. Diese schließen den Schritt des Behandelns der Montageoberfläche und der Schaltung und ebenfalls das Bestücken des Substrats ein. All dies geschieht vor der Ausrichtung oder Auslegung der Rippen. Dementsprechend können die Substratrohlinge gemäß der vorliegenden Erfindung konventionellen Montagevorgängen unterzogen werden. Diese Montagevorgänge können die Behandlung der Montageoberfläche und die Bestückung des Substrats einschließen, ohne dass unübliche Schritte oder Vorkehrungen unternommen werden müssen, um die Konfiguration der sich nach außen erstreckenden metallischen Rippen zu schützen.
  • Um die Wärmeeigenschaften der Substrateinrichtungen zu verbessern, wurden typischerweise metallische Rippen hinzugefügt, um eine zusätzliche Oberfläche für die Ableitung thermischer Energie bereitzustellen. Die EP 1 104 015 zeigt einen rippenförmigen Kühlkörper, bei dem die Rippen erzeugt werden, indem diese von einem großen metallischen Block abgeschält und dann nach oben gebogen werden. Die Verwendung von Rippen stellt einen zusätzlichen Mechanismus zum Ableiten von Wärme von dem Substratelement bereit, indem wesentlich größere Oberflächen bereitgestellt werden. Nichtsdestotrotz werden dabei konventionelle Montageschritte und/oder Montagevorgänge behindert oder verzögert, wenn Anstrengungen unternommen werden, um Arbeiten an einer rippenförmigen Vorrichtung auszuführen oder alternativ Rippen an einer bereits bestückten Aufnahme zu befestigen. Aufgrund der Natur der Schaltungspakete oder anderen Komponenten, die sich auf einer bestückten Schaltungsoberfläche befinden, wird akzeptiert, dass die nachträgliche Befestigung rippenförmiger Glieder normalerweise durch Schritte und/oder Vorgänge erreicht wird, die darin resultieren, dass die rippenförmigen Elemente eine schlechte thermische Leistung erbringen. Aus diesem Grund wurden mit Rippen versehene Substrate nur bei wenigen industriellen Anwendungen eingesetzt.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • In Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung wird ein verbessertes Wärme ableitendes Substrat mit sich nach außen erstreckenden Rippen geschaffen, indem vorgeformte Rippen in einer nicht montierten Konfiguration verwendet werden, wobei diese Rippen durch Schweißen an der Substratplatte oder dem Rohling gesichert werden, bevor es zur Anwendung kommt. Die Schweißverbindung stellt verbesserte thermische Leiteigenschaften des Endprodukts bereit. Zusätzlich ist die Anordnung gemäß der vorliegenden Erfindung so gewählt, dass die Rippen unausgerichtet (unausladend) und coplanar mit dem Substrat verbleiben, bis die Schritte des Montierens des Schaltungspakets, der Halbleitervorrichtungen oder anderen Komponenten auf der Oberfläche des Substrats abgeschlossen wurden. Danach werden im letzten Vorgang, oder dem nahezu letzten Vorgang, die Rippen so ausgebracht, dass sie sich im Wesentlichen senkrecht zu der Ebene des Substrats erstrecken. Aufgrund der neuen verwendeten Techniken beim Befestigen oder Verbinden der Rippenelemente mit dem Substrat verbleiben anders gesagt die ausgerichteten oder ausgestellten Teile der Rippen nicht nur während der Herstellungs- und Montagevorgänge coplanar zum Substrat, sondern stellt die Schweißverbindung eine Verbindung mit hohen thermischen Leiteigenschaften bereit. Da die eigentliche Ausbringung der Rippen als einer der letzten Schritte im Gesamtvorgang ausgeführt wird, vollzieht sich die Herstellung unter Verwendung konventioneller Vorgänge, ohne dass dies durch die Notwendigkeit des Schützens oder Isolierens der geschweißten Rippen während der eigentlichen Herstellungs-/Montageschritte beeinträchtigt wird.
  • Bei einem typischen Vorgehen wird eine dünne metallische Schicht oder Folie auf der metallischen Basisoberfläche eines Substratrohlings aufgebracht, um eine Vorformeinrichtung zu schaffen. Danach wird die Vorform in eine Arbeitsstation eingebracht, die zwischen dem Energie bereitstellenden Arm (Schwingkopf) eines Ultraschallenergiegenerators und eines stabilen Ambosses geschaffen ist, wobei sich der Energie bereitstellende Arm in Flächenkontakt mit der Schicht oder Folie befindet. Eine geeignete Schweißkraft wird auf den Arm aufgebracht, während dem Ultraschallgenerator Energie zugeführt wird, wobei die Vorform durch die Arbeitsstation weitergeführt wird, wobei der Vorschub so gewählt ist, dass die Ausbildung kontinuierlicher, gleichmäßiger und integral geschweißter Bänder erfolgt. Die Schweißschritte werden bei Bedarf wiederholt, um mehrere parallele beabstandete Schweißbänder zu erzeugen. Es ist gegenwärtig wünschenswert, mehrere Energie liefernde Arme zu verwenden, um mehrere Bänder in einem Durchlauf herzustellen, wodurch die Anzahl von zu wiederholenden Schweißvorgängen reduziert wird. Danach wird die metallische Schicht/Folie benachbart zu derselben Kantenoberfläche jedes Schweißbands losgetrennt, um unverbundene metallische Schicht/Folienabstände zwischen benachbarten Schweißbändern zu erzeugen. Entweder vor oder nach dem Ablösevorgang wird die den Halbleiter oder das Schaltungspaket tragende Montagefläche behandelt, wobei sie solchen Vorgängen, wie der Ausbildung oder Verfeinerung der Schaltung, Schritten zur Vorrichtungsbestückung und dergleichen unterliegt. Danach werden als ein letzter oder nahezu letzter Vorgang die Folienbereiche nach außen gefaltet, bis sie sich senkrecht zu der Ebene des Substratrohlings erstrecken.
  • Daher ist es ein primäres Ziel der vorliegenden Erfindung, verbesserte Kühlkörper mit Rippen bereitzustellen, bei denen die Rippen durch Schweißen mit der Oberfläche des Substrats/Kühlkörpers verbunden und so ausgerichtet sind, dass sie sich erst in einem letzten oder nahezu letzten Vorgang nach außen erstrecken.
  • Es ist ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung, eine verbesserte Technologie für die Herstellung von Kühlkörpern mit Rippen für Halbleitervorrichtungen bereitzustellen, wobei die Kühlkörper mit metallischen Rippen versehen sind, die sich nach außen von der Oberfläche weg erstrecken, und wobei die Rippen durch Ultraschallschweißtechniken so verschweißt sind, dass verbesserte Wärmeableitungseigenschaften und -charakteristiken erreicht werden.
  • Andere und weitere Ziele der vorliegenden Erfindung werden dem Fachmann beim Studium der folgenden Beschreibung, Patentansprüche und Zeichnungen geläufig werden.
  • ZEICHNUNGEN
  • 1 ist eine Seitenansicht einer isolierten Metallsubstratbasisplatte mit einem Paar gegenüberliegender Hauptoberflächen, von denen eine Oberfläche angepasst ist, um eine Wärme erzeugende elektronische Vorrichtung zu tragen, wobei die andere Oberfläche eine dünne metallische Schicht aufweist, die auf ihr angeordnet ist und aus der rippenartige Vorsprünge ausgebildet werden, nachdem die Schritte des Verbindens durch Schweißen und des Schlitzens ausgeführt wurden.
  • 2 ist eine veranschaulichende Ansicht, ähnlich wie 1, die die Ausbildung der Komponenten aus 1 nach dem Verbinden der dünnen metallischen Schicht mit der Basisplatte durch Ausbildung geschweißter Bänder oder Streifen an den zugehörigen Oberflächen darstellt, wobei bestimmte Komponenten der Anordnung in übertriebener Weise dargestellt sind, um die Merkmale der Erfindung besser darzustellen.
  • 3 ist eine Ansicht der in 2 dargestellten Komponenten, wobei jedoch die Vormontagegruppe und ihre Ausbildung realistischer gezeigt sind.
  • 4 ist eine ausschnittsweise Draufsicht der weggeschnittenen Vormontagegruppe gemäß 3.
  • 5 ist eine veranschaulichende Ansicht, ähnlich wie 2, die die Ausbildung der Komponenten aus 1 und 2 zeigt, nachdem die Schritte des Schlitzens an der dünnen metallischen Schichtkomponente durchgeführt wurden.
  • 6 ist eine Ansicht der in 5 gezeigten Komponenten, wobei jedoch die Ausbildung der Vormontagegruppe nach dem Schritt des Schlitzens, wie in 5 dargestellt, realistischer gezeigt ist.
  • 7 ist eine veranschaulichende Ansicht, ähnlich wie 2 und 5, die die Ausbildung der Komponenten zeigt, nachdem die Rippen von der Ebene der Substratbasisplatte weggefaltet wurden.
  • 8 ist eine Ansicht der in 7 gezeigten Komponenten, wobei jedoch die Montagegruppe mit den Rippen gezeigt ist, wie diese so gefaltet sind, dass sie sich senkrecht zu der Ebene der Substratbasisplatte erstrecken.
  • 9 ist ein Flussdiagramm, welches eine typische Abfolge von Schritten zeigt, die bei der Durchführung der Schritte oder Vorgänge unternommen werden, die im erfindungsgemäßen Vorgang eingeschlossen sind.
  • BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORM
  • In Übereinstimmung mit der bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung und insbesondere unter Berücksichtigung von 1 der Zeichnungen ist eine grundsätzlich mit 10 bezeichnete Vormontageeinheit dargestellt, die eine feste metallische Aluminiumsubstratbasisplatte 11 mit einer dielektrischen Oberfläche 12 aufweist, die mit einer Hauptoberfläche der Aluminiumsubstratbasisplatte 11 verbunden ist. Die Schaltkreisfolie 13 ist mit der dielektrischen Oberfläche 12 verbunden oder in anderer Weise an dieser befestigt, um die Basiskonfiguration der Unterlage für eine Wärme erzeugende Halbleitervorrichtung (nicht dargestellt) zu bilden. Eine dünne metallische Aluminiumschicht 15 ist auf Hauptoberfläche 16 der festen Substratplatte 11 angeordnet, wobei die dünne metallische Schicht 15 in der die Oberfläche 16 überlagernden Position gemeinsam mit dem Substrat 11 eine Vorform bildet. Das Dielektrikum 12 ist ein harzhaltiges Kunststoffmaterial, welches elektrisch isoliert ist, so wie beispielsweise Epoxid-basierte oder Polyester-basierte Materialien, wobei diese verstärkt und/oder versteift sein können. Diese Materialien sind im Stand der Technik gut bekannt und werden als Substratkomponenten verwendet.
  • Die Vorform wird in eine Arbeitsposition zu dem Energie liefernden Arm eines Ultraschall generierenden Systems gebracht, wobei der Arm teilweise und durchsichtig in 2 dargestellt und mit 18 bezeichnet ist. Ultraschall erzeugende Systeme, die zum Ultraschallschweißen von Metallen, wie beispielsweise Aluminium, geeignet sind, sind natürlich kommerziell verfügbar. Eines solcher Systeme wird mit der Marke "Ultraseam-20" bezeichnet und durch die American Technology, Inc. aus Shelton, Connecticut, USA angeboten. In gegenüberliegender Anordnung zum Ultraschallenergie liefernden Arm 18 ist eine stabile ambossartige Stütze 19 vorgesehen, die ausgebildet ist, um hinreichend haltbar und fest zu sein, um eine Arbeitsunterstützung für die Vorform der Montageeinheit 10 bereitzustellen. Die Kombination des Ultraschallenergie liefernden Arms 18 und der ambossartigen Stütze 19 schafft eine Arbeitsstation für den Schweißvorgang. Unterstützende Ambosse für diesen Zweck sind selbstverständlich kommerziell verfügbar und dem Fachmann bekannt.
  • Beim Schweißvorgang wird der Energie liefernde Arm 18 in Kontakt mit der freien Oberfläche der Metallfolie 15 entgegengesetzt zum das Werkstück aufnehmenden Amboss 19 gebracht, um den gewünschten Flächenkontakt zwischen dem Arm und der metallischen Schicht/Folie am vorbestimmten Kontaktort bereitzustellen. Eine zum Erzeugen eines wirksamen Schweißdrucks an der Schnittstelle zwischen der Schicht und der Platte ausreichende Kraft wird etabliert und beibehalten, wobei die wirksame Kraft und die wirksamen Bereiche dem Fachmann bekannt sind. Wenn Energie zugeführt wird, stellt die Ultraschall-Schwingungsenergie, die von dem Arm 18 dem Ort zugeführt wird, die Energie und Kraft bereit, um die Wärme zu erzeugen, die zur Ausbildung der gleichmäßigen geschweißten Zone zwischen der Oberfläche der Aluminiumsubstratplatte 11 und der dünnen Aluminiumschicht 15 erforderlich ist. Im Folgenden werden nun typische Beispiele genannt: die Platte 11 hat eine Dicke von zwischen etwa 1 bis 5 mm (40-200 mils (Milli-Inch; 10-3 Zoll)), wobei die metallische Schicht 15 eine Dicke von zwischen etwa 0,25 bis 0,5 mm (10-20 mils) besitzt. Für die meisten Zwecke ist ein Bereich von zwischen etwa 1,5 bis 3 mm (60-120 mils) für die Platte 11 und zwischen etwa 0,3 bis 0,38 mm (12-15 mils) für die Schicht 15 höchst sinnvoll.
  • Um die langgestreckten streifenförmigen Verbindungen bereitzustellen bzw. auszubilden, wie diese bei 21-21 zwischen der Platte 11 und der Schicht 15 dargestellt sind, wird eine kontinuierliche Relativbewegung bereitgestellt, indem die Vorform durch die Arbeitsstation gezogen und/oder bewegt wird, um das schmale, langgestreckte Schweißband über die gesamte Breite des Substrats 11 innerhalb der Vorform und/oder der Einrichtung 10 zu erzeugen. Schweißbänder mit einer Breite von etwa 3,18 mm (1/8 Zoll) mit Abständen zwischen den Bändern von etwa 25,4 mm (1 Zoll) in der Mitte wurden als besonders nützlich für eine Vielzahl von Anwendungen angesehen. Bänder mit Abständen von zwischen 12,7 mm (1/2 Zoll) und 25,4 mm (1 Zoll) in der Mitte wurden als nützlich festgestellt.
  • Wenn nun der 3 der Zeichnungen Beachtung geschenkt wird, wird beobachtet werden, dass Schnitte, wie mit 25 bezeichnet, entlang jeder der ersten seitlichen Kantenoberflächen einer Mehrzahl gegenüberliegender Schweißungen ausgebildet sind, um geschweißte Folienplättchen zu bilden, wie diese mit 26 bezeichnet sind (siehe ebenfalls 5, 6). Nach der Ausbildung der Plättchen und wie in 4 dargestellt, werden die Plättchen, wie mit 27 bezeichnet, so gefaltet, dass sie die Rippen 28-28 ausbilden, die sich senkrecht nach außen von der Oberfläche der Substratplatte 11 erstrecken (siehe ebenfalls 7, 8). Danach wird die Vorrichtung mit einer Matrix parallel und beabstandet angeordneter Wärme ableitender Metallfolienrippen 28-28 versehen.
  • Unter Berücksichtigung dieser Konfiguration wird festgestellt werden, dass Halbleitervorrichtungen auf der isolierenden Oberfläche, wie mit 13 bezeichnet, der Vorform und/oder der Einrichtung 10 behandelt und/oder auf diese bestückt werden können. Unter den Vorgängen, die vor den Faltvorgängen und/oder den Schichtablösevorgängen durchgeführt werden, befinden sich die Definierung der Schaltungsleitungen und/oder deren Leistungsbeschreibung/Zeichnung, das Montieren der Halbleitervorrichtungen, sowie die Oberflächenmontage anderer Komponenten, die bei der im Gesamten fertiggestellten Vorrichtung verwendet werden können. Bei dieser Anordnung werden die Rippen 28-28 daher weder ausgerichtet noch aufgerichtet, bis die abschließende Phase des Gesamtvorgangs erreicht wurde, wodurch die Substratplatte bei konventionellen Produktionsvorgängen schneller verwendbar ist.
  • Als ein weiterer Vorteil der Anordnung der vorliegenden Erfindung werden die einzelnen Schritte vor der Montage und/oder Bestückung der aktiven Oberfläche der Anordnung durchgeführt. Somit werden die Halbleitervorrichtungen und anderen Komponenten nicht den Bedingungen unterworfen, die beim Befestigen, Sichern oder Verbinden von Wärme ableitenden Rippen an der Oberfläche des Substrats auftreten können.
  • Es wird anerkannt werden, dass die hierin erläuterten Beispiele lediglich der Illustrierung dienen und zu keiner Beschränkung des Schutzbereichs der Erfindung führen, wie dieser in den folgenden Patentansprüchen definiert ist.

Claims (1)

  1. Verfahren zum Verbessern der Wärmeableitungseigenschaften einer festen Substratplatte (11) durch Erzeugen einer Matrix aufrechter, beabstandeter, parallel angeordneter metallischer Rippen (28), die sich von der Wärme ableitenden Oberfläche der festen Substratplatte (11) weg erstrecken, wobei die Platte eine erste und eine zweite gegenüberliegende Hauptoberfläche aufweist, wobei die erste Hauptoberfläche eine Wärme generierende Halbleitervorrichtung trägt, und wobei die zweite Hauptoberfläche so ausgebildet ist, dass die hervorstehenden metallischen Rippen (28) mit dieser verschweißt ist, wobei das Verfahren die folgenden Schritte aufweist: (a) Platzieren einer Schicht einer Metallfolie (15) auf der Wärme ableitenden Oberfläche (16) der Substratplatte (11) in überlagernder Weise, um eine Vorform zu erzeugen; (b) Platzieren des Energie liefernden Arms (18) eines Ultraschall generierenden Systems nahe beabstandet zu der Arbeitsoberfläche eines stabilen Amboss (19), um eine Ultraschallschweißstation zu erzeugen; (c) Platzieren der Vorform in der Arbeitsstation, wobei die den Halbleiter tragende Oberfläche (13) der Vorform gegen die Arbeitsoberfläche platziert wird; (d) in Kontakt Bringen des Energie liefernden Arms (18) mit der durch die metallische Folie gebildeten Oberfläche (15) der Vorform gegenüber zu der Arbeitsoberfläche des Amboss, um einen relativ kurzen Linienkontakt zwischen dem Arm (18) und der durch die metallische Folie gebildeten Oberfläche (15) an einem vorbestimmten Kontaktort bereitzustellen; (e) Aufbringen einer Kraft, die zum Erzeugen eines Arbeitsschweißdrucks an der Folien/Plattenschnittstelle der Vorform ausreichend ist; (f) Verbinden eines Ultraschallenergiegenerators mit dem Arm (18) zum Anwenden von Schwingungsenergie bei Ultraschallfrequenzen auf die metallische Folie (15) an dem ausgewählten Ort, bis die Folien/Plattenschnittstelle eine geschweißte streifenförmige Verbindung (21) mit seitlich beabstandeten ersten und zweiten Kanten bildet; (g) Bereitstellen einer kontinuierlichen Relativbewegung zwischen der Vorform und der Arbeitsstation, um ein relativ schmales, langgestrecktes geschweißtes Band über die Breite des Substrats zu erzeugen; (h) Trennen (25) der Folie entlang jeder der ersten seitlichen Kantenoberflächen, um eine Mehrzahl von gegenüberliegenden geschweißten Folienplättchen (26) zu bilden; und (i) Falten jeder der Folienplättchen (26) entlang der zweiten seitlichen Kantenoberfläche (27), um die Matrix aufrechter, beabstandeter, parallel angeordneter Hitze ableitender metallischer Folienrippen (28) zu bilden.
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7147041B2 (en) * 2004-05-03 2006-12-12 Parker-Hannifin Corporation Lightweight heat sink
JP4952070B2 (ja) * 2006-06-02 2012-06-13 ソニー株式会社 面状光源装置及び液晶表示装置組立体
KR101424136B1 (ko) * 2007-09-06 2014-08-04 삼성전자주식회사 발열핀을 갖는 전자부품용 열교환장치
CN101549435B (zh) * 2008-04-03 2012-06-13 富准精密工业(深圳)有限公司 散热器制造方法
US10919106B2 (en) * 2017-06-09 2021-02-16 General Electric Company Ultrasonic welding of annular components
JP2019096702A (ja) * 2017-11-21 2019-06-20 トヨタ自動車株式会社 冷却器
US11305373B2 (en) * 2019-10-30 2022-04-19 Raytheon Company Ultrasonic additively manufactured coldplates on heat spreaders

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5533257A (en) * 1994-05-24 1996-07-09 Motorola, Inc. Method for forming a heat dissipation apparatus
US5791406A (en) * 1994-08-02 1998-08-11 Hoogovens Aluminium Profiltechnik, Gmbh Cooling device for electrical or electronic components having a base plate and cooling elements and method for manufacturing the same
JPH08130274A (ja) * 1994-10-29 1996-05-21 Shinko Metal Prod Kk ヒートシンク
US5653280A (en) * 1995-11-06 1997-08-05 Ncr Corporation Heat sink assembly and method of affixing the same to electronic devices
TW349193B (en) * 1997-11-14 1999-01-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Method of assembling heat sink fins and product thereof
JP4355412B2 (ja) * 1999-11-26 2009-11-04 昭和電工株式会社 ヒートシンクおよびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW200405483A (en) 2004-04-01
CA2431520A1 (en) 2003-12-17
TWI250590B (en) 2006-03-01
ATE368938T1 (de) 2007-08-15
JP2004023105A (ja) 2004-01-22
DE60315223D1 (de) 2007-09-13
EP1376677A2 (de) 2004-01-02
US6650215B1 (en) 2003-11-18
EP1376677A3 (de) 2006-03-01
JP4128490B2 (ja) 2008-07-30
EP1376677B1 (de) 2007-08-01

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