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I. TECHNISCHES GEBIET
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Diese
Erfindung betrifft allgemein reaktive Katodenzerstäubungssysteme,
bei denen ein Plasma eine Bearbeitung auf einem Substrat bewirkt.
Insbesondere wird die Erfindung bei der Gleichstromkatodenzerstäubung bei
der Beschichtung mit einigen isolierenden Materialien, die im Beschichtungsverfahren
durch eine chemische Reaktion gebildet werden, angewendet. Sie betrifft
außerdem
Ausführungen
der Leistungsversorgung, die bei solchen Anwendungen verwendet wird.
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II. STAND DER TECHNIK
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Das
Gebiet der Gleichstrom-Plasmabearbeitung ist ein wohl bekanntes
Gebiet. Bei diesen Verfahren erzeugt eine Gleichstromleistungsversorgung ein
elektrisches Potential zwischen einer Katode und einer Anode und
erzeugt dadurch ein Plasma. In der Ablagerungsbetriebsart wirkt
das Plasma dann auf ein Materialtarget, um einen dünnen Film
auf einem Substrat zu erzeugen. Dieser dünne Film kann entweder aus
dem Targetmaterial selbst gebildet sein oder das Ergebnis einer
Reaktion mit einem Element in der Beschichtungskammer sein. Es ist
der letztere Fall, der "reaktive
Katodenzerstäubung" genannt wird, mit
dem sich die Erfindung hauptsächlich
befasst. Natürlich
variieren sowohl die beteiligten Materialien und Elemente als auch
die spezifischen Anwendungen stark. Die Anwendungen können von
der Beschichtung architektonischen Glases bis zur Erzeugung von
Mikrochips reichen.
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Eine
der Herausforderungen bei vielen solchen Anwendungen ist, dass elektrische
Entladungen oder Lichtbögen
auftreten können.
Dies gilt besonders bei der reaktiven Katodenzerstäubung, wenn
das reaktive Produkt ein Isolator wie etwa Aluminiumoxid (Al2O3) ist. Als ein
Beispiel ist diese Art des Beschichtungsverfahrens besonders herausfordernd,
weil sie das Bilden isolierender Bereiche auf dem Materialtarget
und ihren Beschuss mit Ionen mit sich bringt. Dies führt zum
Aufladen der isolierenden Bereiche, was ein elektrisches Durchschlagen
des Isolators hervorrufen kann. Im Ergebnis kann die elektrische
Umgebung während
der reaktiven Plasmabearbeitung besonders förderlich für Lichtbogenentladungen sein.
Diese Lichtbogenentladungen sind unerwünscht, nicht nur, weil sie
potentielle Ungleichmäßigkeiten
im Beschich tungsverfahren darstellen, sondern weil sie außerdem zur
Erzeugung von Partikeln führen
können,
die wiederum Fehler in empfindlichen Gegenständen wie etwa in Computerplatten und
integrierten Schaltungen verursachen können. Außerdem kann es notwendig sein,
die Leistungsversorgung dadurch vor Lichtbogenentladungen zu schützen, dass
sie momentan ausgeschaltet wird, wobei dies den Durchsatz negativ
beeinflussen kann. Ebenso kann die Bearbeitung selbst durch solche isolierenden
Bereiche negativ beeinflusst werden. Dies kann zu einer Anzahl von
Ergebnissen führen, die
vom Ändern
der Eigenschaften des dünnen
Films bis zum Beeinflussen der Geschwindigkeit oder der Art der
Bearbeitung reichen. In dieser Hinsicht ist das Verfahren selbst
sehr empirisch. Oft sind diese Wirkungen und ihre Lösungen unvorhersagbar
und werden nach einigem Probieren ohne ein vollständiges Verständnis der
genauen Auswirkungen auf das Verfahren erreicht.
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Was
das beobachtbare Problem des Auftretens von Lichtbögen anbelangt,
so ist dieser Aspekt dem Fachmann auf dem Gebiet wohlbekannt, wobei er
bei der gewöhnlichen
metallischen Katodenzerstäubung
sowie bei der reaktiven Katodenzerstäubung von Filmen, die nicht
zu stark isolierend sind, mit begrenztem Erfolg angegangen worden
ist. Anfangs war es üblich,
das Verfahren vollständig
abzuschalten und die Kammer vor einem Wiederanlaufen eventuell sogar
zu reinigen. In anderen Fällen
wurden niedrigere Bearbeitungsgeschwindigkeiten verwendet, damit
Lichtbögen
seltener auftreten. Vor kurzem ist versucht worden, durch schnelles
Abschalten der Leistungsversorgung den Lichtbogen zum Plasma selbst
abzulenken. Leider wurden die meisten dieser Lösungen erst wirksam, nachdem
ein Schaden hervorgerufen worden war, und dienten folglich dazu,
Probleme bei empfindlicheren Bearbeitungsumgebungen zu minimieren,
jedoch nicht vollständig zu
vermeiden. Bei vielen Anwendungen sind außerdem umschaltbare oder energiespeicherarme
Leistungsversorgungen verwendet worden, um so schnell wie möglich zu
reagieren. Trotz der Tatsache, dass sie von Natur aus weniger Energie
speichern und folglich manipuliert werden können, um die negativen Wirkungen
eines solchen Auftretens von Lichtbögen zu minimieren, hat ihre
Verwendung allein für viele
Bearbeitungsumgebungen nicht ausgereicht. Interessanterweise wurden
Lösungen
von Komponentenentwicklern oft ohne eine vollständige Erklärung für jene, die mit der Bearbeitung
selbst zu tun haben, genutzt, weil die Schaltungsanordnung als urheberrechtlich
geschützt
angesehen wurde. Dies könnte zu
einer Verdopplung der Anstrengungen und zu einem begrenzten Fortschritt
beim Verständnis des
Wesens des Problems geführt
haben, wobei im Ergebnis die Entwicklung von Lösungen in erster Linie eher
das Ergebnis einzelner Anstrengungen als einer koordinierten Vorgehensweise
gewesen ist. Eine Lösung,
die öffentlich
verfolgt worden ist, ist die Verwendung von frequenzorientierten
Komponenten gewesen, um einen Kondensator durch einen Induktor in
der Weise zu entladen, dass der Strom umgekehrt wird, um den Lichtbogen
zu invertieren oder auszulöschen.
Leider bewirkt diese Lösung,
dass sich der Strom im Lichtbogen anfangs erhöht, so dass das Problem folglich
verstärkt
werden kann, bevor es gelöst
wird. Diese Lösung
ist wiederum besonders in verbesserten Bearbeitungsumgebungen unerwünscht, wobei
keine der oben genannten Lösungen
gut genug funktioniert, wenn das Verfahren reaktiv ist und wenn
das Reaktionsprodukt ein guter Isolator ist. In dieser Situation
ist die durch Gleichstrom betriebene reaktive Katodenzerstäubung wegen
des Fehlens einer geeigneten Lösung
zum Umgang mit dem Lichtbogen im Allgemeinen zugunsten anderer, teurerer
Lösungsansätze (wie
etwa der Hochfrequenz-Katodenzerstäubung) aufgegeben worden.
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Die
vorliegende Erfindung bewirkt, dass das Auftreten von Lichtbögen bei
allen Verfahren, besonders jedoch bei äußerst anspruchsvollen Bearbeitungsumgebungen
wie etwa bei der Katodenzerstäubung
von hochisolierenden Filmen durch reaktive Katodenzerstäubung eines
leitenden Targets unter Verwendung einer Gleichstromleistung für die Bearbeitung
praktisch beseitigt wird. Sie erreicht dies durch das periodische
Entfernen unausgeglichener Ladungsansammlungen und dadurch das Beseitigen der
Ursprungsquelle des Lichtbogens. Sie bewirkt außerdem, dass durch das Unterbrechen
der Leistungsversorgung oder sogar durch das Umkehren der Spannung
erhebliche Bearbeitungsbeschränkungen
und Auswirkungen auf die Bearbeitung ungeachtet der genauen Ursache
des Problems vermieden werden.
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DE-A-4
113 704 offenbart die Verwendung von Induktoren, um die nachteiligen
Wirkungen von Lichtbögen
zu vermeiden.
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US-A-5
192 894 offenbart eine Schaltung zur Unterdrückung von Lichtbögen in einem
Plasma, bei der der Momentanwert der Spannung des Plasmas mit dem
Mittelwert der Spannung, der über
einen Zeitraum bestimmt worden ist, verglichen wird und der Plasmaweg
als Reaktion auf das Ergebnis isoliert wird.
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GB-A-2
045 553 offenbart ein System, bei dem dann, wenn ein vorgegebener
Schwellenwert an einer Plasmakammer überschritten wird, eine Schaltung
das Wegnehmen der Plasmaspannung bewirkt.
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EP-A-553
410 betrifft eine Vorrichtung für das
Beschichten eines Substrats mit elektrisch nicht leitenden Beschichtungen
aus einem elektrisch leitenden Target in einer reaktiven Atmosphäre mit einer
in einer evakuierbaren Beschichtungskammer angeordneten Katode. Über eine
Gleichstromleistungsquelle kann eine entgegengesetzte Spannung angelegt
werden.
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III. DARSTELLUNG DER ERFINDUNG
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Gemäß der vorliegenden
Erfindung wie beansprucht wird das Auftreten von Lichtbögen in einem
reaktiven Katodenzerstäubungs-Gleichstrom-Plasmabearbeitungsverfahren
minimiert, wobei das Verfahren umfasst: das Zuführen eines Materialtargets
(6), um in einer Beschichtungskammer (2) Beschichtungsmaterial
freizusetzen, Zuführen
wenigstens eines reaktiven Gases in die Beschichtungskammer, wobei
das Gas mit dem Beschichtungsmaterial reagiert, um elektrisch isolierendes Material
zu bilden, Zuführen
von Gleichstromleistung durch Anlegen einer Gleichspannung an die
Beschichtungskammer, um ein aus geladenen Teilchen gebildetes Plasma
(5) zu erzeugen, und Hervorrufen einer Ablagerung wenigstens
eines Teils des elektrisch isolierenden Materials auf einem Substrat
(7) durch die Wirkung des Plasmas, durch das periodische
Erneuern des Plasmas und das Entladen der Ionenansammlung an den
Beschichtungskammeroberflächen
durch das Umkehren der Spannung während einer Zeitspanne im Bereich
von 1 bis 10 Mikrosekunden ohne Auslöschung des Plasmas, wobei die Umkehrung
jeweils nach einer Zeit im Bereich von 10 Mikrosekunden bis 2000
Mikrosekunden durch Anlegen einer entgegengesetzten Spannung mit
einem Pegel im Bereich von 5 bis 20 Prozent der Gleichspannung bewirkt
wird.
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Die
vorliegende Erfindung, wie sie beansprucht ist, offenbart sowohl
die grundlegenden Bedingungen als auch die Schaltungsanordnungen, durch
die das Auftreten von Lichtbögen
praktisch beseitigt wird und die in einem reaktiven Gleichstrom-Katodenzerstäubungssystem
Bearbeitungsvorteile bieten. In einer Hinsicht offenbart die vorliegende
Erfindung, wie sie beansprucht ist, eine Technik der periodischen
Erneuerung des Plasmas und des elektrischen Zustands der Oberflächen im
Ablagerungssystem, um an erster Stelle potentielle Lichtbogenvoraussetzungen
zu vermeiden. In anderer Hinsicht offenbart sie eine Bearbeitungstechnik
anderer Art, welche die Bearbeitung verbessert. Außerdem umfasst
die Erfindung, wie sie beansprucht ist, eine Vielfalt von Ausführungsformen,
durch welche die Zufuhr von Gleichstromleistung unterbrochen werden
kann, durch welche der Plasmastrom bei dem tatsächlichen oder dem beginnenden
Auftreten eines Lichtbogens sofort angehalten oder verringert werden
kann, durch welche die Spannung umgekehrt wird, und durch welche
die Voraussetzung, die den potentiellen Lichtbogen an erster Stelle
verursacht, zunichte gemacht wird. In ihrer bevorzugten Ausführungsform
umfasst die Erfindung, wie sie beansprucht ist, einen zweistufigen
angezapften Induktor, der auf Masse geschaltet wird. Der Schalter
wird periodisch oder beim Auftreten eines Lichtbogenzustands (eines
tatsächlichen
oder eines beginnenden Auftretens eines Lichtbogens) ausgelöst, wobei
die Schaltungsanordnung das Umkehren der an das Plasma angelegten
Spannung bewirkt. Dies kann entweder allgemein die Bearbeitung verbessern
oder kann positiv Elektronen von dem Plasma anziehen, um jede Ladungsansammlung,
die eine Situation eines Lichtbogens herbeiführen könnte, zu zerstreuen. Die Erfindung
offenbart außerdem
Techniken für
das Erfassen eines Lichtbogenzustands oder sogar des beginnenden
Auftretens eines Lichtbogens, so dass eine sofortige Reaktion möglich ist.
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Dementsprechend
ist es eine Aufgabe der Erfindung, das Plasma und den elektrischen
Zustand der Systemoberflächen
in einem Gleichstrom-Plasmabearbeitungssystem periodisch zu erneuern,
um die Wahrscheinlichkeit, dass ein Lichtbogen auftritt, wesentlich
zu verringern. Eine Aufgabe ist, dies automatisch und eventuell
sogar regelmäßig zu erreichen.
Eine weitere Aufgabe ist es, nicht nur auf Lichtbögen, die
auftreten (oder gerade beginnen aufzutreten), zu reagieren, sondern
ein solches Auftreten von vornherein zu vermeiden. Folglich ist
es eine Aufgabe, allgemeine Entwurfskriterien aufzuführen, durch die
Systeme manipuliert werden können,
um das Auftreten von Lichtbögen
so gering wie möglich
zu halten oder sogar von vornherein zu vermeiden, da durch dass das
Plasma periodisch erneuert wird und dass die Systemoberflächen von
Ionenansammlungen befreit werden.
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Es
ist eine weitere Aufgabe der Erfindung, die unerwünschten
Wirkungen von auftretenden Lichtbögen zu vermeiden. Eine Aufgabe
der Erfindung ist dabei, auf eine solche Art wirksam auf Lichtbögen zu reagieren,
die jede Energiewirkung des Lichtbogens auf das Beschichtungsverfahren
minimiert. Als Teil der Vermeidung unerwünschter Auswirkungen auf das
Plasmabearbeitungs-Gesamtsystem ist eine Aufgabe Erfindung, auf
eine Art wirksam zu werden, die jedes Auslöschen des Plasmas vermeidet.
Dies minimiert nicht nur die Auswirkungen des Lichtbogens, sondern
ermöglicht
auch die Wiederherstellung des Verfahrens mit minimaler Verzögerung.
Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist, durch das Vorschlagen
einer effizienten Konstruktion eine Technik bereitzustellen, die
leicht an vorhandene Ausführungen
der Leistungsversorgung und der Plasmabearbeitungssysteme angepasst
werden kann. Sie ist außerdem
in einer Art einer verbesserten Konstruktion der Leistungsversorgung
offenbart, die vom System unabhängig
ist und folglich in weiteren ähnlichen
Anwendungen genutzt werden kann.
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Eine
nochmals weitere Aufgabe ist es, Bearbeitungsverfahren bereitzustellen,
die sowohl unter dem Gesichtspunkt des entstehenden Produkts als auch
unter dem Gesichtspunkt der tatsächlichen
Bearbeitung des Produkts Leistungsergebnisse liefern. Eine Aufgabe
ist folglich, ungeachtet des genauen Wesens der festgestellten Probleme
Ergebnisse zu erzielen. Folglich ist eine Aufgabe, auch allgemeine Entwurfskriterien
vorzubringen, durch die Systeme manipuliert werden können, um
die Bearbeitung auf vielfältige
Weise wie etwa durch periodisches Unterbrechen der Zufuhr von Gleichstromleistung
und durch periodisches Umkehren der angelegten Spannung zu verbessern.
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Wie
erwähnt
wurde, ist es eine allgemeine Aufgabe der vorliegenden Erfindung,
ein Verfahren zu schaffen, das auf vielfältige Weise umgesetzt werden
kann. Eine angezapfte Induktorkonstruktion wird als nur eine Ausführungsform
offenbart. Dieser Entwurf ist gewählt worden, um die Elemente
der Schaltungsanordnung zu minimieren und um eine Vielzahl von Verbesserungen
bei den Techniken zu bewirken und sogar, um Techniken zu kombinieren.
Sicherlich sind andere Entwürfe
möglich,
wie der Fachmann auf dem Gebiet leicht verstehen wird, sobald er
die betreffenden allgemeinen Prinzipien verstanden hat. Bei dem
Offenbaren von Ausführungsformen,
die auf vielfältige
Weise umgesetzt werden können,
ist es eine Aufgabe, eine Vielfalt von verbesserten Techniken einzuschließen. In
vielen solchen Entwürfen könnte eine
Aufgabe die frühste
Erfassung eines potentiellen Auftretens eines Lichtbogens umfassen, um
eine schnelle Reaktion zu ermöglichen.
Bei einigen Ausführungsformen
ist eine Aufgabe, auf vielfältige
Weise periodisch Wirkungen hervorzurufen.
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Selbstverständlich sind überall in
anderen Bereichen der Beschreibung und der Ansprüche weitere Aufgaben der Erfindung
offenbart.
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IV KURZBESCHREIBUNG
DER ZEICHNUNG
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1 ist ein Schaltschema eines
Bearbeitungssystems, das eine Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung umfasst.
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2 ist eine graphische Darstellung,
welche die relativen Strom- und Spannungsänderungen zeigt, wie sie durch
eine Ausführungsform
der Erfindung in Reaktion auf ein zeitlich gesteuertes oder selbstausgelöstes Ereignis
erzeugt werden.
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3 ist eine graphische Darstellung,
welche die relativen Strom- und Spannungsänderungen zeigt, wie sie durch
eine Ausführungsform
der Erfindung in Reaktion auf einen potentiellen Lichtbogenfall
erzeugt werden.
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V BESTE AUSFÜHRUNGSFORM
DER ERFINDUNG
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Wie
leicht offensichtlich wird, können
die Grundkonzepte der vorliegenden Erfindung auf vielfältige Weise
ausgeführt
werden. Die Ausführungsform
eines angezapften Induktors kann anhand der 1 leicht verstanden werden. Im Allgemeinen
enthält
das reaktive Gleichstrom-Katodenzerstäubungssystem die in 1 gezeigten Elemente. Im
Besonderen ist die Gleichstromleistungsquelle (1) mit der Beschichtungskammer
(2) verbunden, in der die Katode (4) und die Anode
(3) enthalten sind. In der Ablagerungsbetriebsart bewirkt
die Gleichstromleistungsquelle (1) durch das Erzeugen eines
elektrischen Poten tials an einem Materialtarget (6) (oder
an der Katode (4)) und an der Anode (3), um zu
einem Plasma (5) zu führen,
die Ablagerung eines Beschichtungsmaterials. Das Plasma (5)
wirkt dann auf das Materialtarget (6), um zu einer Beschichtung
auf einem Substrat (7) zu führen. Das Materialtarget (6) kann
in der Weise positioniert oder angeordnet sein, dass Beschichtungsmaterial
freisetzt wird, das bei der Bearbeitung verbraucht wird. Wie gezeigt
ist, kann ein solches Beschichtungsmaterial das eigentliche Material
sein, aus dem das Materialtarget (6) selbst hergestellt
ist, da lediglich eine Oberfläche
des Materialtargets (6) freiliegt. Diese Beschichtung kann bis
zu einem gewissen Grad ein elektrisch isolierendes Material, wie
etwa das ursprüngliche
Targetmaterial, in Kombination mit weiteren Elementen, wie etwa
mit einem reaktiven Gas oder mit mehreren reaktiven Gasen, die in
der Versorgung für
reaktives Gas (23) enthalten sein können, sein. Ferner kann die
Katode (4) tatsächlich
das Materialtarget (6) sein, wie leicht verständlich ist.
Trotzdem bewirkt die Gleichstromleistungsquelle (1), dass
dem Plasmalastkreis über
die erste Leitung (8) und über die zweite Leitung (9)
eine abgegebene Gleichstromleistung zugeführt wird, um durch die Wirkung
des Plasmas eine Ablagerung hervorzurufen.
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Was
die Erzeugung von elektrisch isolierendem Material anbelangt, so
ist selbstverständlich, dass
es nicht sein muss, dass nur Isoliermaterial erzeugt und abgelagert
wird. Es ist möglich,
dass eine Anzahl von Arten erzeugt wird und dass nur einige davon
elektrisch isolierendes Material sind. Die Probleme der Ladungsansammlung
und der Verschlechterung des Verfahrens können dennoch existieren. Es
ist außerdem
möglich,
dass das elektrisch isolierende Material, das die Probleme hervorruft,
nicht das auf das Substrat (7) abgelagerte Material ist.
Die Techniken der vorliegenden Erfindung wiederum können ungeachtet
des Wesens der Probleme oder der Ablagerung Verbesserungen bewirken.
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In
Bezug auf das Problem des Auftretens von Lichtbögen ist es selbstverständlich,
dass bei einer ausreichenden Spannung und bei einer ausreichenden
Uneinheitlichkeit der Bearbeitungsumgebungen in der Beschichtungskammer
(2) Lichtbogenentladungen von dem Plasma (5) oder
von der Katode (4) zur Anode (3) und zum Materialtarget
(6) auftreten können.
Es ist selbstverständlich,
dass derartige Entladungen aus einer Vielzahl von Gründen auftreten können. In
dem speziellen Fall der reaktiven Katodenzerstäubung, bei dem das Reaktionsprodukt
ein guter Isolator ist, können
Lichtbogenentladungen durch den Einschuss von Elektronen von einer
Stelle auf dem Target in das Plasma hervorgerufen werden. Die Elektronen
können
von dem zerstörenden
Durchbruch des isolierenden Films an dem Target kommen, der sich
durch das reaktive Gas oder durch die reaktiven Gase, die bei dem
Verfahren verwendet werden, gebildet hat. Der Durchbruch scheint
aufgrund der Ladung auf der Materialtargetoberfläche aufzutreten. Da sich das
Plasma aus positiv und negativ geladenen Teilchen zusammensetzt,
kann dies auf das Auftreten von Ionen zurückzuführen sein, die von dem Plasma
durch das Gleichstrompotential, das durch die Leistungsquelle dort
erzeugt wird, angezogen werden.
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Wenn Überschusselektronen
in das Plasma eingeschossen werden, kann ein Bereich auftreten, der
zu einer starken elektrischen Leitung neigt. Von potentieller Wichtigkeit
für das
Verständnis
der vorliegenden Erfindung bei vielen Anwendungen ist die Tatsache,
dass sich die Zunahme der Plasmadichte in dem Bereich des Lichtbogens
durch den Mechanismus der Stoßionisation
neutraler Gasatome aufgrund des fortgesetzten Einströmens von
Elektronen von dem Target mit der Zeit schnell erhöhen kann, um
zu dem als Lichtbogen bekannten Pfad niedriger Impedanz zu werden.
Selbst wenn die Leistungsquelle diesen Zustand relativ schnell erfasst,
kann an dem dünnen
reaktiven Film, der an der Targetoberfläche wächst, ein Schaden hervorgerufen
werden, wobei dieser Schaden dazu führen kann, dass Partikel erzeugt
werden, die wiederum die Produktausbeute im Endprozess verringern
können.
Wenn die Leistungsquelle den Lichtbogenzustand nicht schnell erfasst,
kann sogar ein größerer Schaden
an der Targetoberfläche
einschließlich
der Bildung und des Ausstoßes
von geschmolzenem Material aus dem Targetausgangsmetall hervorgerufen
werden. Es ist eine doppelte Aufgabe dieser Erfindung, die Bildung
von Lichtbögen
zu verhindern, indem eine Ladungsansammlung auf den Systemoberflächen verhindert wird
und außerdem
sehr schnell reagiert wird, wenn die Voraussetzungen für eine Lichtbogenbildung
vorliegen, um zu verhindern, dass sich die Plasmadichte bis zu potentiell
zerstörerischen
Niveaus aufbaut. Die erste dieser doppelten Aufgabe kann auf wenigstens eine
Art gelöst
werden, wenn die Spannung an dem Target periodisch für eine kurze
Zeit umgekehrt wird. Die Spannungsumkehrung kann Elektronen von
dem Plasma anziehen, so dass eine unausgeglichene Ansammlung von
Ionen oder anderen geladenen Teilchen an der Targetoberfläche oder
woanders entladen wird, wobei, wenn dies nur für eine kurze Zeit geschieht,
die positiven Ionen, die durch die positive Spannung abgestoßen werden
können,
keine Zeit haben, sich weit zu bewegen, bevor die ursprüngliche
negative Spannung wiederhergestellt ist. Die zweite der doppelten
Aufgabe wird auf dieselbe Art gelöst, wobei, wenn zum Zeitpunkt
der Erfassung einer Lichtbogenbildungsvoraussetzung die Spannung an
dem Target umgekehrt wird, Elektronen von der Stelle des Plasmalichtbogens
entfernt werden, was den Lichtbogen am Aufbau hindert. Deshalb werden beide
Aufgaben durch die Maßnahme
der Spannungsumkehrung gelöst,
in einem Fall nach dem Erfassen einer Lichtbogenbildungsvoraussetzung
und im anderen Fall nach dem Befehl eines periodischen Taktgebers.
Jede dieser Techniken bewirkt das Beseitigen einer unausgeglichenen
Ansammlung geladener Teilchen, obwohl sie nicht alle unausgeglichenen
Ladungsansammlungen beseitigen kann.
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Die
Spannung wird umgekehrt. Es ist zu beachten, dass jede Spannungsumkehrung
nicht zu lange dauern sollte, da das Ergebnis wäre, dass die positiven Ionen
zu den Wänden
der Systemkammer getrieben werden, wo sie verloren gehen würden. Das
hätte zur
Folge, dass das Plasma erneut gezündet werden müsste, wenn
die ursprüngliche
negative Spannung wiederhergestellt ist. Folglich sind die unternommenen
Aktionen in ihrer Wirkung auf Zeitspannen von etwa 1 Mikrosekunde
bis 10 Mikrosekunden begrenzt, da Plasmen in solchen Zeitrahmen oft
nicht ausgelöscht
werden.
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Außerdem ist
es wichtig anzumerken, dass die Spannung in den Fällen, in
denen sie in einem gewissen Grad umgekehrt wird, nicht in eine große positive
Spannung umgekehrt werden muss. Da die Elektronen (die vom Target
angezogen werden sollen) sehr klein und beweglich sind, können sie
mit einer sehr kleinen Spannung angezogen werden. Die größeren, trägen Ionen
bewegen sich nicht weit, wenn die umgekehrte Spannung nicht zu groß ist und die
Umkehrungszeit nicht zu lang ist. Folglich sind in der Praxis entgegengesetzte
Spannungen von etwa 5% bis 20% der normalen Betriebsspannung angemessen.
Selbstverständlich
sind im Bereich des Umkehrens andere Beträge in gewissem Maße möglich. Außerdem kann
die Umkehrung wesentlich sein, d. h. ein Betrag, der die gewünschten
Wirkungen hervorrufen kann, oder der die geladenen Teilchen wie
erforderlich bewegen kann. Diese Umkehrung von Spannung erfolgt
in Bezug auf die Kammer selbst, die oft geerdet bleibt.
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Wie
erwähnt
ist, sollte die Umkehrung nicht so lange dauern, dass sie das Plasma
auslöscht. Dies
vermeidet jede Notwendigkeit, das Plasma wieder zu zünden. Insbesondere
sind Zeiten praktisch, die von 1 Mikrosekunde bis zu 10 Mikrosekunden
reichen. Selbstverständlich
kann dies je nach den verwendeten Geometrien, dem Betrag der beteiligten Umkehrspannung
und der Art des Plasmas selbst verschieden sein. Was bei einigen
Anwendungen eine erhebliche Spannungsumkehrung darstellt, kann in
Fällen,
bei denen die Umkehrung länger
dauert, sogar verringert sein. Wiederum müssen nur die Aufgaben, entweder
die Bearbeitung ungeachtet der Ursache zu verbessern, unausgeglichene
Ladungsansammlungen zu beseitigen oder lediglich die Bearbeitung
zu unterbrechen, erfüllt
werden. Die Kombination des Umkehrspannungsbereichs von 5% bis 20%
der Betriebsspannung für
eine Zeitdauer von 1 bis 10 Mikrosekunden scheint bei einer Vielzahl
von Anwendungen gut zu funktionieren. Diese Potentialwechselbeziehung
kann folglich die spezifische Kombination der Zeit, in der der Schalter
geschlossen ist, der Zeit der ununterbrochenen Bearbeitung und des Prozentsatzes
der Spannungsumkehrung, die in eigener Hinsicht einmalig ist, ausmachen.
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Um
bei der Bearbeitung für
so wenig Unterbrechung wie möglich
zu sorgen, wird die Dauer der Umkehrung verglichen mit der ununterbrochenen kontinuierlichen
Bearbeitungszeit kurz gehalten. Diese könnte je nach der betroffenen
Bearbeitung auch variieren. Wenn die Zeit kurz gehalten wird, kann
die Bearbeitung so lange wie möglich
stattfinden, wobei sich der Durchsatz verbessert. Durch das Vermeiden von
Unterbrechungen, die nicht kurz sind (wie etwa einer 50%-igen Unterbrechung),
lösen die
Techniken eine weitere Aufgabe, nämlich das Maximieren des Handelswerts
des Systems. Selbstverständlich
ist eine Änderung
dieser Zeiten möglich.
Ebenso kann die ununterbrochene kontinuierliche Bearbeitungszeit
so lang wie möglich
gehalten werden. Folglich kann der normale Betriebspegel der Leistung
oder der Spannung etwa aufrechterhalten werden (das Plasma ist oft
eine elektrisch sehr veränderliche
Umgebung), bis es notwendig ist, das Verfahren zu erneuern. Da dies
durch die Zeitspanne bestimmt sein kann, die erforderlich ist, bis
sich unausgeglichene Konzentrationen geladener Teilchen bilden,
kann diese Zeit variieren. Bei den meisten Systemen wird angenommen,
dass die ununterbrochene Ablagerungszeit, in der eine ununterbrochene
kontinuierliche Bearbeitung stattfinden kann, von 10 Mikrosekunden bis
2000 Mikrosekunden dauern sollte. Folglich sollte der periodische
Zustand der Umkehrung etwa alle 10 bis 2000 Mikrosekunden auftreten.
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Anhand 2 ist ersichtlich, wie die
Erfindung in einer Ausführungsform
auf ein periodisches, zeitgesteuertes oder selbstausgelöstes Ereignis
reagieren kann. Wenn die Zeitgeberschaltungsanordnung (22)
bewirkt, dass der Schalter (15) geschlossen wird, fällt die
Spannung sehr rasch in einen entgegengesetzten Zustand. Wie in 2 gezeigt ist, nimmt auch
der Strom schnell ab. In 2 ist
ein Gegenstromimpuls (11) offensichtlich, der auftreten kann,
während
sich die Spannung umkehrt. Dieser kann durch den Elektronenstrom
verursacht sein, der fließt,
um die Targetoberfläche
zu entladen und folglich dazu beiträgt, die unausgeglichene Ladungsansammlung
zu beseitigen.
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3 zeigt, wie dieselbe Ausführungsform auf
ein potentielles Auftreten eines Lichtbogens reagieren kann. Nach
dem beginnenden Auftreten eines Lichtbogens zur Zeit A fällt der
Spannungspegel (oder die Änderungsrate
der der Spannung kann variieren). Wie später in Bezug darauf, wie ein
inaktiver Lichtbogen erfasst wird, erörtert wird, kann dies ein Aspekt
sein, der ein Auslösen
verursacht, das in dieser Ausführungsform
eine Umkehrung der Spannung hervorruft, wie zum Zeitpunkt B gezeigt
ist. Wiederum kann aufgrund des Elektronenstroms, der fließt, um die
Targetoberfläche
oder dergleichen zu entladen, um die unausgeglichene Ladungsansammlung
zu beseitigen, ein Gegenstromimpuls (11) auftreten. In dieser
Situation tritt jedoch wahrscheinlich eine Stromerhöhung auf,
da der Lichtbogen in Erscheinung zu treten beginnt, bevor er jedoch
durch die Wirkung des Schalters (15) verhindert wird. In
jeder Situation kann die Umkehrung als eine Möglichkeit wirksam werden, um
die unausgeglichene Ladungsansammlung in dem Plasmabearbeitungssystem
zu beseitigen. Diese unausgeglichene Ansammlung kann in dem Plasma
(5) oder an dem Materialtarget (6) oder sogar
an einer anderen Maske oder an einem anderen Element in dem Bearbeitungssystem
auftreten. Die Neigung zu einem Lichtbogen kann auch das Ergebnis anderer
Unregelmäßigkeiten
sein. Durch das Umkehren der Spannung wird der Strom nicht nur sofort unterbrochen,
sondern die Bedingungen bewirken, dass ein solcher Strom umgekehrt
werden kann. Das Plasma wird folglich in seiner reinen gleichmäßigen Verteilung
wiederhergestellt. Wie sowohl in 2 als auch
in 3 gezeigt ist, kann
eine typische Wiederherstellung stattfinden, wie sie im Stand der
Technik bekannt ist. Diese kann, wie gezeigt ist, ein Ansteigen
oder ein Wiederherstellen der Spannung beinhalten, bis der Strom
wiederhergestellt ist und wieder eine stabile Zustandsform angenommen
ist.
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Wie
erwähnt
ist, kann die unausgeglichene Ladungsansammlung in dem Plasma (5)
oder an dem Materialtarget (6) oder sogar an einer anderen Maske
oder an einem anderen Element in dem Bearbeitungssystem auftreten.
Die Neigung zu einem Lichtbogen kann auch das Ergebnis von anderen
Unregelmäßigkeiten
sein. Durch das Umkehren, das Unterbrechen oder ein anderweitiges
Eingreifen – ob nach
dem Erfassen eines Lichtbogenfalls oder strikt nach dem Ablauf der
Zeit – wird
ein solcher Strom nicht nur sofort unterbrochen, sondern die Bedingungen
bewirken, dass ein solcher Strom umgekehrt werden kann. Das Plasma
wird folglich in seiner reinen gleichmäßigen Verteilung wiederhergestellt.
Wie erwähnt
ist, könnten
entweder diese gleichmäßige Verteilung
oder eventuell lediglich einige Bearbeitungsvorteile in einigen
Systemen auf vielfältige
Weise erreicht werden, einschließlich dadurch, lediglich die
Leistungs- oder Spannungsversorgung zur Kammer zu unterbrechen.
Die Vorgänge
werden zwar nicht völlig
verstanden, es ist aber verständlich,
dass ungeachtet der betreffenden Gründe durch das Nutzen der offenbarten
Techniken Vorteile erzielt werden können.
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Wie
dem Fachmann auf dem Gebiet ohne weiteres klar wird, kann der Strom,
obwohl die Leistungsversorgung bei Konstruktionen des Standes der Technik
wirksam abgeschaltet wird, nicht sofort unterbrochen oder verringert
werden. Dies kann das Ergebnis der Energiespeicherung in der Schaltungsanordnung
der Leistungsversorgung sein. Um eine sofortige Unterbrechung des
Stroms zu erreichen, muss bei einigen Systemen jede Energieentladung, die
das Verfahren beeinflusst, vermieden oder minimiert werden. In reaktiven
Anwendungen wie etwa der für
optische Beschichtungen kann es sein, dass sich dies in Bruchteilen
einer Mikrosekunde ereignen muss.
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Wiederum
in 1 ist eine Ausführungsform für das Erreichen
dieser Ziele durch das Umkehren der Spannung offenbart. Wie ersichtlich
ist, umfasst diese Ausführungsform
einen Induktor mit einem ersten Induktorabschnitt (13)
und einem zweiten Induktorabschnitt (14), die mit der ersten
Leitung (8) in Reihe geschaltet sind. Wie ohne weiteres
klar wird, können
der erste Induktorabschnitt (13) und der zweite Induktorabschnitt
(14) auf vielfältige
Weise angeordnet und sogar in einer Transformatorkonfiguration vorgesehen
sein. Wichtig ist, dass dieser erste Induktorabschnitt (13)
und dieser zweite Induktorabschnitt (14) magnetisch gekoppelt
sind. Außerdem
ist ein Schalter (15) zwischen dem ersten Induktorabschnitt (13)
und dem zweiten Induktorabschnitt (14) mit der zweiten
Leitung (9) verbunden. Dieser Schalter kann durch die Auslösungsschaltungsanordnung
oder, wie gezeigt ist, direkt durch einen Sensor (17) gesteuert werden.
In einer solchen Anordnung kann der Sensor (17) ausgelöst werden,
damit er auf vielfältige
Weise wirksam wird, um einen Lichtbogenzustand als das tatsächliche
Vorhandensein oder als das beginnende Vorhandensein einer Lichtbogenerscheinung
im Plasma (5) zu erfassen. Wie aus 1 offensichtlich ist, wird die an das
Plasma (5) angelegte Spannung dadurch, dass der Induktor
mit der ersten Leitung (8) in Reihe geschaltet ist, nach
dem Auslösen
des Schalters (15) sofort umgekehrt. Diese Umkehrung kann
die sofortige Unterbrechung des Stroms durch das Plasma (5)
hervorrufen, wobei sie außerdem
bewirken kann, dass jede unausgeglichene Ladungsansammlung von dem
Plasma entfernt wird, wie zuvor erörtert wurde, oder sie kann
aus unbekannten Gründen
einfach Verfahrensvorteile bieten. Die Spannung kann selbstverständlich auf
vielfältige
Weise umgekehrt werden und dennoch als ein Äquivalent der vorliegenden
Erfindung, das auch das Zuführen
eines anderen Leistungsquellenausgangs oder das Umschalten auf eine
entgegengesetzte Spannung und dergleichen umfasst, jedoch nicht
darauf beschränkt ist,
betrachtet werden.
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Um
die Spannung wie anhand der 2 und 3 erörtert umzukehren, kann der
zweite Induktorabschnitt (14) nicht nur mit dem ersten
Induktorabschnitt (13) magnetisch gekoppelt sein, sondern
sein Wicklungsverhältnis
zum ersten Induktorabschnitt (13) kann außerdem wenigstens
etwa 10% betragen. Auf eine solche Art würde das Wicklungsverhältnis die
Größe der entgegengesetzten
Spannung bestimmen. Da eine wesentliche entgegengesetzte Spannung
gewünscht
ist (und in einigen Fällen
entweder etwa 5% bis 20% des normalen Betriebspegels oder sogar
10 V bis 100 V), würde
ein Wicklungsverhältnis von
wenigstens etwa 10% die zuvor erwähnten Aufgaben lösen. Selbstverständlich könnten andere
Induktorformen und sogar andere Komponenten auf eine äquivalente
Art verwendet werden und würden immer
noch im Schutzumfang dieses Patents liegen. Die entgegengesetzte
Spannung kann nicht nur wenigstens ausreichend sein, um den unerwünschten Zustand
schnell zu beseitigen, sie darf auch nicht so groß sein,
dass das Risiko besteht, dass sie erneut einen Lichtbogen zündet oder
dass sie das Plasma in eine entgegengesetzte Betriebsart treibt
und es dadurch auslöscht.
Diese Grenzwerte variieren selbstverständlich je nach Anwendung, jedoch
wird bei den jetzt betrachteten Anwendungen angenommen, dass die
erörterten
Grenzen adäquat
sind. Es wird angemerkt, dass es möglich ist, dass einige bei
anderen Anwendungen vorhandene Konstruktionen eine geringfügige Spannungsumkehrung
erreichen könnten, wenn
sie ein Abschalten der Leistungsquelle bewirken. Selbst wenn diese
geringfügige
Spannungsumkehrung auf die reaktive Katodenzerstäubung angewendet wird, ist
sie lediglich eine Begleiterscheinung besonderer Schaltungsauslegungen
und wäre
nicht die wesentliche Spannungsumkehrung, die einige Aspekte der
vorliegenden Erfindung umfassen, da sie die Beseitigung der unausgeglichenen
Ladungsansammlungen erreichen. Außerdem wäre die Ausführung des Schalters (15)
vorzugsweise von der sich nicht verriegelnden Art, damit ein leichtes Öffnen des
Schalters (15) ermöglicht
wird, um die Umkehrung oder einen anderen Zustand zu beenden. In
Bezug auf bestimmte Ausführungen
des Schalters (15) wurde festgestellt, dass Bipolartransistoren
mit integriertem Steueranschluss, Feldeffekttransistoren, bipolare
Darlington-Transistoren
und normale Bipolartransistoren adäquat sind, wobei jedoch die
Bipolartransistoren mit integriertem Steueranschluss in der vorliegenden
Konfiguration eine leichtere Steuerung bieten.
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Anhand 3 ist ersichtlich, dass
das früheste
Erfassen eines potentiellen Auftretens eines Lichtbogens bei Aspekten
wünschenswert
ist, die auf ein potentielles Auftreten von Lichtbögen reagieren. Auf
diese Weise wird die Größe der Stromerhöhung aufgrund
eines Lichtbogens herabgesetzt. Bei der in 1 dargestellten Ausführungsform ist gezeigt, dass
der Sensor (17) wirksam wird, so nahe am Plasma (5)
wie möglich
Bedingungen zu erfassen. Dabei treten natürlich genauere Messwerte auf.
Wie der Fachmann auf dem Gebiet leicht versteht, kann durch eine
richtige Konfiguration eine Vielfalt von Erfassungsentscheidungen
genutzt werden. Wie in 3 gezeigt
ist, fällt
die Spannung in Reaktion auf ein Lichtbogenereignis abrupt ab, weshalb
eine Kombination entweder einer hohen Änderungsrate der Ausgangsspannung oder
des Ausgangsstroms oder beides und/oder einer niedrigen Ausgangsspannung oder
eines anwachsenden Stroms genutzt und erfasst werden kann. Es wurde
festgestellt, dass bei der bevorzugten Ausführungsform das Verwenden eines
absoluten Spannungswerts zum frühestmöglichen
Zeitpunkt zuverlässig
auf das beginnende Auftreten von Lichtbögen hinweist. Was den Spannungswert
anbelangt, so kann entweder ein spezifischer Spannungsabfall der
Ausgangsspannung wie etwa 200 Volt oder ein prozentualer Spannungsabfall
wie etwa 40% genutzt werden. Selbstverständlich kann die Bestimmung
des Prozentsatzes je nach Anwendung variieren, es wird jedoch angenommen,
dass eine niedrige Spannung von etwa 40% bis 50% des Nennausgangs
der Versorgung bei vielen Anwendungen eine adäquate Leistung erzielt, während eine natürlich auftretende Änderung
der normalen Betriebspegel berücksichtigt
wird. Außerdem
sind sicherlich weitere Entwürfe
einschließlich
der Schaltungen möglich,
die "erfassen", wenn die Ausgangsspannung
oder der Ausgangsstrom über
einen Pegel steigt und dann "reagieren", wenn sie bzw. er
anschließend
unter diesen Pegel zurückfällt. Während diese
neuartige Erfassungstechnik wiederum konzeptuell fundiert ist, könnten die
tatsächlichen
Werte für
die betreffenden speziellen Systeme experimentell bestimmt werden.
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Wiederum
aus 1 wird offensichtlich,
wie eine spezielle Leistungsquelle modifiziert werden könnte, um
die Aufgaben der vorliegenden Erfindung zu lösen. Wie der Fachmann auf dem
Gebiet leicht versteht, könnte
dann, wenn eine umschaltbare Leistungsversorgung beteiligt wäre, die
Gleichstromleistungsquelle (1) einen Oszillator (18)
enthalten. Der Oszillator (18) könnte lediglich ein Wechselstromeingang
oder ein Mittel zum Abnehmen von Wechselstrom sein. Der Wechselstrom
besitzt eine vorherrschende Frequenz und würde dann durch den Gleichrichter
(19) in Gleichstromleistung umgewandelt werden. Ein Leistungsversorgungsschalter
(20) würde
dann wie bekannt einbezogen werden, um ein alternierendes Signal
mit einer höheren
Frequenz zu erzeugen. Dieses alternierende Signal würde dann durch
einen Gleichrichter (21) in einen Gleichstromausgang zurücktransformiert
werden. Wenn in 1 auch
einige konzeptionelle Elemente im Leistungsversorgungsschalter (20)
und im Gleichrichter (21) gezeigt sind, so dienen diese
nur dem visuellen Verständnis.
Sie beschränken
nicht den Umfang der Vorrichtungen, von denen angenommen wird, dass
sie im Schutzumfang dieses Pa tents wie beansprucht liegen, da solche
Aspekte und ihre Äquivalente
Fachleuten wohl bekannt sind. Um die Leistungsquelle zu modifizieren,
würden
der Induktor, der einen ersten Abschnitt (13) und einen
zweiten Abschnitt (14) enthält, der Schalter (15)
und ein Steuermittel wie etwa der Sensor (17) sowie eine
Zeitgeberschaltungsanordnung (22), die zuvor gezeigt und
erörtert
wurden, in die Gleichstromleistungsquelle (1) einbezogen werden.
Folglich würde
die Gleichstromleistungsquelle nicht nur eine Spannung liefern,
sie würde
ein Mittel, um den Ausgang oder eine Spannung zu analysieren, und
ein Mittel, um den Stromfluss durch ihren Lastkreis sofort zu unterbrechen,
enthalten. Durch das Einbeziehen des zweiten Induktorabschnitts
(14) und des Schalters (15) würde diese modifizierte Leistungsquelle
eine Spannungsumkehrschaltungsanordnung enthalten, welche die Spannung
am Lastkreis umkehren kann. Weitere solcher Mittel einschließlich anderer
Konfigurationen lediglich eines Schalters oder sogar anderer Leistungsversorgungselemente
sind ebenfalls möglich.
Wenn kein zweiter Induktorabschnitt enthalten sein würde, könnten selbstverständlich der
Schalter (15) und die Zeitgeberschaltungsanordnung (22),
wiederum ungeachtet dessen, wo sie konfiguriert werden oder wie dies
erreicht wird, als eine Unterbrechungsschaltungsanordnung dienen,
welche die Gleichstromleistung unterbricht. Bei einem solchen Beispiel,
das keine Ausführungsform
ist, könnte
keine entgegengesetzte Spannung auftreten, bei einem korrekten Systementwurf
könnte
jedoch eine sofortige Unterbrechung des Stroms durch das Plasma
(5) oder lediglich eine Unterbrechung der Leistungs- oder
Spannungsversorgung auftreten. Bei einem solchen Entwurf kann das
Einbeziehen des ersten Induktorabschnitts (13) dennoch
einem wertvollen Zweck dienen. Wenn der Schalter (15) ausgelöst wird,
würde ein
großer
erster Induktorabschnitt (13) dazu dienen, eine ausreichende
Last an der Gleichstromleistungsquelle (1) zu erzeugen,
so dass diese direkte Laständerung
keine übermäßige Belastung
der Leistungsquelle (1) verursachen würde. Was die Größe des ersten
Induktorabschnitts (13) anbelangt, so würde dieser im Zusammenhang
mit dieser Erfindung als "groß" betrachtet werden,
so lange die Induktivität des
ersten Induktorabschnitts (13), wenn sie mit der Impedanz
des Schalters (15) und mit der Leistungsversorgungs-Ausgangsimpedanz
kombiniert wird, eine Zeitkonstante ergibt, die ausreichend größer als die
Zeitspanne ist, in der der Schalter geschlossen wäre. Wie
der Fachmann auf dem Gebiet leicht versteht, würde diese Art der Konfiguration
bewirken, dass die Leistungsversorgung während der Zeitdauer, in welcher
der Schalter (15) geschlossen wäre, ausreichend belastet und
entlastet bleibt.
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Wenn
sie in einem Gleichstrom-Plasmabearbeitungssystem genutzt wird,
würde die
Leistungsquelle selbst Gleichstromleistung zuführen, um eine Ablagerung eines
Beschichtungsmaterials hervorzurufen, und würde eine Konstruktion besitzen,
welche die erste Leitung und die zweite Leitung verbinden könnte, um
ihr Ziel zu erreichen. In jeder Anordnung könnte das Zeitgebermittel (22)
außerdem
dazu dienen, den Schalter (15) während der vorgeschriebenen
Zeiten zu schließen;
wobei es auch dazu dienen könnte,
während
der vorgeschriebenen Zeiten eine ununterbrochene kontinuierliche
Bearbeitung zu ermöglichen,
indem einfach bewirkt wird, dass der Schalter (15) so oft
ausgelöst
wird.
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Außerdem könnten eine
solche Leistungsquelle und ein solches System in einer Präventivbetriebsart
betrieben werden, durch die das Plasma (5) durch das Anlegen
einer im Wesentlichen entgegengesetzten Spannung periodisch von
jeder unausgeglichenen Ansammlung geladener Teilchen bereinigt werden
könnte.
Dieses periodische Beseitigen tritt so häufig wie alle 10 Mikrosekunden
bis alle 2000 Mikrosekunden auf, wiederum je nach dem speziellen
betroffenen Verfahren, wie zuvor erörtert wurde. Durch das Bereitstellen
eines Zeitgebers (22), um den Schalter (15) auszulösen, könnte, wiederum
ungeachtet dessen, wo er konfiguriert wird oder wie dies erreicht
wird, ein Mittel zum periodischen Bereinigen des Plasmas (5)
erzielt werden, wie der Fachmann auf dem Gebiet leicht versteht.
Selbstverständlich könnten auch
andere Mittel, die umfassen, lediglich die Leistungsversorgung zu
unterbrechen, die Spannung zu unterbrechen oder sogar andere physikalische
Phänomene
einzubringen, für
das Bereinigen des Plasmas geschaffen werden.
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Anhand
der Ansprüche
ist ersichtlich, dass in vielen Fällen ein Element auf ein anderes
Element anspricht. Dies ist im weitesten Sinn gemeint. Da das Sensormittel
(17) beispielsweise Zustände erfasst, die letztlich
eine Betätigung
des Schalters (15) hervorrufen, sollte angenommen werden,
dass der Schalter (15) auf das Sensormittel (17)
anspricht. Dies gilt trotz der Tatsache, dass der Ausgang gefiltert,
umgewandelt oder durch ein anderes Element wie etwa durch einen
programmierbaren Prozessor und dergleichen ausgewertet werden kann.
Eine Zwischenbearbeitung oder eine Manipulation würde sich auf
diese Ansprechbarkeit nicht auswirken. Ebenso können viele Schritte bei den
erörterten
Techniken zu verschiedenen Zeitpunkten, in verschiedenen Reihenfolgen
und sogar an äußeren Stellen
ausgeführt werden,
wie der Fachmann auf dem Gebiet versteht. Selbstverständlich würde jede
solche Änderung
im Umfang dieses Patents liegen. Dies gilt besonders für die vorliegende
Erfindung, da Eingänge
an verschiedenen Stellen geschaffen oder erzeugt werden können und
da die Prozessfähigkeit
erreicht oder über
die Konstruktion verteilt oder von außen auferlegt werden kann.
Selbstverständlich
liegen festverdrahtete Entwürfe,
Firmwareentwürfe
und eine reine Programmierung oder Unterroutinen ebenfalls im Umfang
dieser Erfindung.