DE69735016T2 - Lithographisches Gerät mit zwei Objekthaltern - Google Patents

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Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft Lithographievorrichtungen zur Abbildung eines Maskenmusters auf einem Substrat.
  • Eine Positioniervorrichtung der Art, wie sie im Oberbegriff genannt ist, ist aus der EP-A-0 525 872 bekannt. Die bekannte Positioniervorrichtung wird in einer optischen Lithographievorrichtung bei der Herstellung integrierter Halbleiterschaltkreise mittels eines optischen Lithographieprozesses verwendet. Die Lithographievorrichtung bildet Untermuster solcher Halbleiterschaltkreise, welche auf einer Maske in verkleinertem Maßstab vorhanden sind, mittels einer Lichtquelle und einem Linsensystem auf einem Halbleitersubstrat ab. Da solche Halbleiterschaltkreise einen komplizierten Aufbau haben, sollten die Halbleitersubstrate mehrmals belichtet werden, jedes Mal mit einer unterschiedlichen Maske mit einem unterschiedlichen Untermuster. Die Masken werden nacheinander aus einem Magazin entnommen und in einer Betriebsposition in der lithographischen Vorrichtung mittels der bekannten Positioniervorrichtung angeordnet. Während der Bewegung einer Maske vom Magazin in die Betriebsposition durchläuft die Maske eine Messposition, wo eine Position gemessen wird, welche von der Maske relativ zu einer Referenz in der lithographischen Vorrichtung eingenommen wird. Eine Position des Objekthalters, mittels dem die Maske bewegt wird, wird während der Bewegung der Maske von der Messposition in die Betriebsposition relativ zu der Referenz gemessen, so dass die Maske bezüglich der Referenz mittels einer geeigneten Verschiebung des Objekthalters in einer gewünschten Betriebsposition angeordnet werden kann. Der betreffende Objekthalter hält die Maske während der Belichtung des Halbleitersubstrats in der gewünschten Betriebsposition. In der Zwischenzeit entnimmt der andere Objekthalter eine nächste Maske aus dem Magazin und bewegt sie in die Messposition. Die Verwendung der beiden Verschiebungseinheiten mit den beiden Objekthaltern macht es somit möglich, die Position einer folgenden Maske relativ zur Referenz bereits dann zu messen, während eine vorherige Maske in der Betriebsposition ist und das Halbleitersubstrat durch diese vorherige Maske hindurch belichtet wird. Die Produktionsleistung der lithographischen Vorrichtung wird auf diese Weise wesentlich erhöht.
  • Die Verwendung einer Positioniervorrichtung der in dem Oberbegriff erwähnten Art ist weiterhin allgemein in Werkzeugmaschinen und Bearbeitungsanlagen bekannt. In diesem Fall wird eine von einem Werkstück eingenommene Position, welches von einem der beiden Objekthalter gelagert wird, relativ zu diesem Objekthalter in der Messposition abgemessen. Dann wird der betreffende Objekthalter mit dem Werkstück in die Betriebsposition bewegt, in der das Werkstück bearbeitet werden soll. Eine von dem betreffenden Objekthalter relativ zu einer Referenz des Maschinenwerkzeugs eingenommene Position wird in der Betriebsposition gemessen, mit dem Ergebnis, dass das Werkstück in eine gewünschte Betriebsposition bezüglich der Referenz gebracht werden kann. Auch hier erhöht wieder die Verwendung der beiden Verschiebungseinheiten mit den beiden Objekttischen die Produktionsleistung bei Maschinenwerkzeugen oder Bearbeitungsanlagen erheblich, da ein nächstes Werkstück bereits in die Messposition bewegt wird, während ein vorhergehendes Werkstück bearbeitet wird.
  • Die erste und die zweite Verschiebungseinheit der bekannten Positioniervorrichtung weist jeweils ein erstes Bauteil auf, welches an dem betreffenden Objekthalter befestigt ist und ein zweites Bauteil, welches an einer Basis befestigt ist, wobei das erste Bauteil und das zweite Bauteil einer jeden Verschiebungseinheit relativ zueinander verschiebbar sind, während sie aufeinander eine Antriebskraft ausüben. Ein Nachteil der bekannten Positioniervorrichtung ist, dass die beiden Bauteile der Verschiebungseinheiten jeweils an der Basis befestigt sind, was folglich eine gemeinsame Basis für die erste und die zweite Verschiebungseinheit bildet. Reaktionskräfte werden auf die zweiten Bauteile während der Verschiebung der Objekthalter ausgeübt, wobei diese Kräfte in die Basis übertragen werden. Diese Reaktionskräfte führen zu mechanischen Vibrationen in der Basis, welche wiederum auf die zweiten Bauteile und die Objekthalter übertragen werden. Wenn der erste Objekthalter beispielsweise in der Betriebsposition ist, entstehen mechanische Vibrationen in dem ersten Objekthalter als Ergebnis von Reaktionskräften, welche von der zweiten Verschiebungseinheit während der Verschiebung einer nächsten Maske von dem Magazin in die Messposition auf die Basis ausgeübt werden. Eine derartige Wechselwirkung zwischen den beiden Verschiebungseinheiten führt zu Positionierungsgenauigkeiten der Verschiebungseinheit, welche üblicherweise unerwünscht sind. Zusätzlich werden die in der Basis erzeugten mechanischen Vibrationen auch auf andere Bauteile der Vorrichtung übertragen, in der die bekannte Positioniervorrichtung verwendet wird, was üblicherweise ebenfalls unerwünscht ist.
  • Es ist eine Aufgabe der Erfindung, eine Positioniervorrichtung der in der Einleitung genannten Art zu schaffen, deren Basis den beiden Verschiebungseinheiten gemeinsam ist, wobei die unerwünschte Wechselwirkung der beiden Verschiebungseinheiten gemäß obiger Erläuterung soweit als möglich vermieden ist.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung wird eine Lithographievorrichtung geschaffen, welche aufweist:
    Eine Strahlungsquelle zum Bereitstellen eines Lichtstrahls zur Beleuchtung einer Maske;
    einen ersten Objekthalter zum Halten der Maske;
    ein Projektionssystem zum Abbilden eines Maskenmusters auf ein Substrat; und
    einen zweiten Objekthalter zum Halten eines Substrats; und
    eine Verschiebungseinheit zum Verschieben eines Objekthalters in Bezug auf eine Basis der Vorrichtung in X- und Y-Richtungen, wobei die Verschiebungseinheit erste und zweite Bauteile aufweist, welche relativ zueinander verschiebbar sind und beim Betrieb wechselseitig eine Antriebskraft aufeinander ausüben, wobei das erste Bauteil der Verschiebungseinheit mit dem einen der genannten Objekthalter verbunden ist, dadurch gekennzeichnet, dass das zweite Bauteil der Verschiebungseinheit mit einer Ausgleichseinheit verbunden ist, welche verschiebbar in Bezug auf die Basis geführt ist, so dass sie in den X- und Y-Richtungen bewegbar und um zumindest eine Achse drehbar ist, die parallel ist zur Z-Richtung.
  • Es sei festzuhalten, dass der Ausdruck "Kraftbetätiger" so zu verstehen ist, dass er einen Betätiger zur Erzeugung einer Antriebskraft mit einem bestimmten Wert bedeutet. Neben solchen Kraftbetätigern sind sogenannte Positionsbetätiger zur Erzeugung von Verschiebungen mit einem bestimmten Wert bekannt.
  • Eine spezielle Ausführungsform einer Positioniervorrichtung gemäß der Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die Ausgleichseinheit einen Stützkörper aufweist, der mit einer Führungsoberfläche versehen ist, welcher sich parallel zur X-Richtung und parallel zur Y-Richtung erstreckt, welche gemeinsam zu beiden Objekthaltern ist und entlang der die beiden Objekthalter parallel zur X-Richtung und parallel zur Y-Richtung verschiebbar sind, wobei die Objekthalter beide mit einem Verbindungsbauteil versehen sind, mittels dem der betreffende Objekthalter wiederum mit dem ersten Bauteil des X-Betätigers der ersten Verschiebungseinheit und mit dem ersten Bauteil des X-Betätigers der zweiten Verschiebungseinheit verbindbar ist. Die Objekthalter in dieser Ausführungsform sind über die gemeinsame Führungsfläche verschiebbar geführt, welche zu der Ausgleichseinheit gehört, beispielsweise mittels statischer Gaslager. Der Stützkörper ist beispielsweise eine Granitplatte und hat eine zweifache Funktion, das heißt eine Lagerung und Führung der beiden Objekthalter und die Ausbildung einer Ausgleichseinheit für die beiden Verschiebungseinheiten. Wenn der erste Objekthalter von der Messposition in die Betriebsposition bewegt wird und der zweite Objekthalter von der Betriebsposition in die Messposition bewegt wird, müssen die Objekthalter über der gemeinsamen Führungsoberfläche aneinander vorbeilaufen. Um dies zu erreichen, wird der erste Objekthalter von der Messposition in eine erste Zwischenposition zwischen der Messposition und der Betriebsposition mittels der ersten Verschiebungseinheit verschoben, während der zweite Objekthalter von der Betriebsposition eine zweite Zwischenposition benachbart der ersten Zwischenposition zwischen der Messposition und der Betriebsposition mittels der zweiten Verschiebungseinheit verschoben wird. In den Zwischenpositionen wird der erste Objekthalter von der ersten Verschiebungseinheit getrennt und mit der zweiten Verschiebungseinheit verbunden, wohingegen der zweite Objekthalter von der zweiten Verschiebungseinheit getrennt und mit der ersten Verschiebungseinheit verbunden wird. Dann wird der erste Objekthalter von der ersten Zwischenposition in die Betriebsposition mittels der zweiten Verschiebungseinheit bewegt, während der zweite Objekthalter von der zweiten Zwischenposition in die Messposition mittels der ersten Verschiebungseinheit bewegt wird. Da die Objekthalter mit den Verbindungsbauteilen versehen sind, wird eine Distanz, über die die ers ten Bauteile der Verschiebungseinheiten relativ zu den betreffenden kooperierenden zweiten Bauteilen der Verschiebungseinheiten verschiebbar sein müssen, verringert, so dass die nötigen Abmessungen für die Verschiebungseinheiten verringert werden. Zusätzlich wird verhindert, dass verschiebbare Bauteile der ersten Verschiebungseinheit und verschiebbare Bauteile der zweiten Verschiebungseinheiten in der Lage sein müssen, aneinander vorbeilaufen zu können, was zu einem vergleichsweise komplizierten Aufbau der Verschiebungseinheiten führen würde.
  • Eine weitere Ausführungsform einer Positioniervorrichtung gemäß der Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindungsbauteile der Objekthalter jeweils einen XY-Lorentzkraftbetätiger aufweisen, der mit einem ersten Bauteil, befestigt an dem betreffenden Objekthalter, und mit einem zweiten Bauteil, befestigt an dem ersten Bauteil, des X-Betätigers der betreffenden Verschiebungseinheit befestigt ist, wobei die ersten Bauteile der XY-Lorentzkraftbetätiger jeweils in der Lage sind, mit den zweiten Bauteilen der zwei XY-Lorentzkraftbetätiger zusammen zu wirken. Die XY-Lorentzkraftbetätiger haben jeweils eine Doppelfunktion, so dass ein einfacher und praktischer Aufbau der Positioniervorrichtung geschaffen wird. Die Objekthalter können jeweils über vergleichsweise geringe Distanzen und mit vergleichsweise hohen Genauigkeiten relativ zu dem ersten Bauteil des X-Betätigers der betreffenden Verschiebungseinheit mittels der XY-Lorentzkraftbetätiger verschoben werden. Da das erste Bauteil und das zweite Bauteil eines solchen Lorentzkraftbetätiger miteinander ausschließlich durch eine Lorentzkraft verbunden sind, können die Bauteile auf einfache Weise durch Deaktivierung bzw. Aktivierung der Lorentzkraft getrennt bzw. verbunden werden. Eine Konstruktion der ersten Bauteile der XY-Lorentzkraftbetätiger derart, dass sie jeweils mit beiden zweiten Bauteilen der XY-Lorentzkraftbetätiger zusammenwirken können, hat zum Ergebnis, dass das erste Bauteil eines jeden der beiden XY-Lorentzkraftbetätiger von dem zweiten Bauteil des anderen XY-Lorentzkraftbetätigers in der Zwischenposition der Objekthalter übernommen werden kann.
  • Die Erfindung schafft auch ein Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung unter Verwendung einer Lithographievorrichtung, wobei das Verfahren aufweist die Schritte von:
    Projizieren eines Bildes eines Maskenmusters auf eine Maske, die in einem ersten Objekthalter gehalten ist, auf ein Substrat, das in einem zweiten Objekthalter gehalten ist;
    Verschieben eines der genannten ersten und zweiten Objekthalter relativ zu einer Basis der Lithographievorrichtung in X- und Y-Richtungen unter Verwendung einer Verschiebungseinheit mit ersten und zweiten Bauteilen, welche relativ zueinander verschiebbar sind und eine Antriebskraft aufeinander beim Betrieb ausüben, wobei das erste Bauteil der Verschiebungseinheit mit dem genannten einen der Objekthalter verbunden ist, dadurch gekennzeichnet, dass das zweite Bauteil mit einer Ausgleichseinheit verbunden ist, welche verschiebbar in Bezug auf die Basis geführt ist, so dass sie in den X- und Y-Richtungen bewegbar und um zumindest eine Achse parallel zur Z-Richtung drehbar ist.
  • Die Erfindung wird nun genauer nachfolgend unter Bezugnahme auf die Zeichnung erläutert, in der:
  • 1 schematisch eine Lithographievorrichtung mit einem verschiebbaren Substrathalter gemäß der Erfindung zeigt;
  • 2 schematisch eine Draufsicht auf eine erste Ausführungsform einer Positioniervorrichtung gemäß der Erfindung zeigt, mit der der Substrathalter der Lithographievorrichtung von 1 verschoben werden kann;
  • 3 die Positioniervorrichtung von 2 in einer gedrehten Position zeigt;
  • 4 eine schematische Draufsicht auf eine zweite Ausführungsform einer Positioniervorrichtung gemäß der Erfindung zeigt, mit der der Substrathalter der Lithographievorrichtung von 1 verschoben werden kann;
  • 5 die Positioniervorrichtung von 4 zeigt, wobei zwei Substrathalter der Positioniervorrichtung in einer Zwischenposition sind;
  • 6 schematisch eine Lithographievorrichtung mit einem verschiebbaren Substrathalter und einem verschiebbaren Maskenhalter gemäß der Erfindung zeigt; und
  • 7 schematisch eine weitere Positioniervorrichtung gemäß der Erfindung zeigt, welche für die Verschiebung des Maskenhalters in der Lithographievorrichtung von 6 verwendet wird.
  • Die Lithographievorrichtung gemäß der Erfindung, welche schematisch in 1 gezeigt ist, wird für die Herstellung integrierter Halbleiterschaltkreise durch einen optischen Lithographieprozess und mittels eines Abbildungsverfahrens verwendet, welches dem sogenannten "step and repeat"-Prinzip folgt. Wie 1 schematisch zeigt, ist die Lithographievorrichtung mit einem Rahmen 1 versehen, der in der folgenden Reihenfolge und parallel zu einer vertikalen Z-Richtung trägt: eine Positioniervorrichtung 3 gemäß der Erfindung, eine Fokussiereinheit 5, einen Maskenhalter 7 und eine Strahlungsquelle 9. Die Positioniervorrichtung 3 weist einen ersten Substrathalter 11 und einen identischen zweiten Substrathalter 13 auf. Die Lithographievorrichtung gemäß 1 ist eine optische Lithographievorrichtung, deren Strahlungsquelle 9 eine Lichtquelle 15 aufweist. Die Substrathalter 11 und 13 weisen eine Stützfläche 17 auf, welche sich senkrecht zur Z-Richtung erstreckt und auf der ein erstes Halbleitersubstrat 19 angeordnet werden kann, sowie eine Stützfläche 21, welche sich senkrecht zur Z-Richtung erstreckt und auf der ein zweites Halbleitersubstrat 22 angeordnet werden kann. Der erste Substrathalter 11 ist relativ zum Rahmen 1 parallel zu einer X-Richtung senkrecht zur Z-Richtung und parallel zu einer Y-Richtung senkrecht zur X-Richtung und senkrecht zur Z-Richtung mittels einer ersten Verschiebungseinheit 25 der Positioniervorrichtung 3 verschiebbar, während der zweiten Substrathalter 13 relativ zum Rahmen 1 parallel zur X-Richtung und parallel zur Y-Richtung mittels einer zweiten Verschiebungseinheit 24 der Positioniervorrichtung 3 verschiebbar ist. Die Fokussiereinheit 5 ist ein Abbildungs- oder Projektionssystem und weist ein optisches Linsensystem 29 mit einer optischen Hauptachse 31, welche parallel zur Z-Richtung verläuft, auf, und deren optischer Verkleinerungsfaktor beispielsweise 4 oder 5 beträgt. Der Maskenhalter 7 weist eine Stützfläche 33 auf, welche sich senkrecht zur Z-Richtung erstreckt und auf der eine Maske 35 angeordnet werden kann. Die Maske 35 weist ein Muster oder Untermuster eines integrierten Halbleiterschaltkreises auf. Im Betrieb wird ein von der Lichtquelle 15 kommender Lichtstrahl durch die Maske 35 geführt und mittels des Linsensystems 29 auf das erste Halbleitersubstrat 19 fokussiert, so dass das auf der Maske 35 vorhandene Muster im verkleinerten Maßstab auf dem ersten Halbleitersubstrat 19 abgebildet wird. Das erste Halbleitersubstrat 19 weist eine große Anzahl individueller Felder auf, auf denen identische Halbleiterschaltkreise angeordnet sind. Die Felder des ersten Halbleitersubstrates 19 werden aufeinanderfolgend durch die Maske 35 zu diesem Zweck belichtet. Während der Belichtung eines einzelnen Feldes des ersten Halbleitersubstrats 19 sind das erste Halbleitersubstrat 19 und die Maske 35 relativ zur Fokussiereinheit 5 in festen Positionen, wohingegen nach der Belichtung eines einzelnen Feldes ein nächstes Feld in Position relativ zur Fokussiereinheit 5 gebracht wird, indem der erste Substrathalter 11 durch die erste Verschiebungseinheit 25 parallel zur X-Richtung und/oder parallel zur Y-Richtung verschoben wird. Dieser Prozess wird eine Anzahl Male wiederholt und jedesmal mit einer unterschiedlichen Maske, so dass komplizierte integrierte Halbleiterschaltkreise mit einer Schichtstruktur hergestellt werden. Die mittels der Lithographievorrichtung herzustellenden integrierten Halbleiterschaltkreise haben einen Aufbau mit Detailabmessungen, welche im Sub-Micron-Bereich liegen. Da das erste Halbleitersubstrat 19 nacheinander durch eine Anzahl unterschiedlicher Masken belichtet wird, sollte das auf diesen Masken vorhandene Muster auf dem Halbleitersubstrat 19 mit einer Genauigkeit abgebildet werden, welche ebenfalls im Sub-Micron-Bereich oder sogar im Nanometerbereich liegt. Daher muss das Halbleitersubstrat 19 relativ zur Fokussiereinheit 15 vergleichsweise genau zwischen den beiden aufeinanderfolgenden Belichtungsschritten positioniert werden, so dass sehr hohe Anforderungen an die Positioniergenauigkeit der Positioniervorrichtung gestellt werden.
  • Eine Anzahl von sich in der Herstellung befindlichen Halbleitersubstraten wird nacheinander durch die Maske 35 in der Lithographievorrichtung gemäß 1 belichtet, wobei die Anzahl aufeinanderfolgend durch eine nächste Maske belichtet wird. Dieser Prozess wird eine Anzahl Male wiederholt, und zwar jedesmal mit einer anderen Maske. Die zu belichtenden Halbleitersubstrate liegen in einem Magazin vor, aus welchem die Halbleitersubstrate aufeinanderfolgend mittels eines Transportmechanismus in eine Messpositioniervorrichtung 3 bewegt werden. Das Magazin und der Transportmechanismus, welche beide von üblicher Art und per se bekannt sind, sind in 1 aus Gründen der Einfachheit nicht gezeigt. In dem Zustand der Lithographievorrichtung gemäß 1 ist der erste Substrathalter 11 in einer Betriebsposition, in der das erste Halbleitersubstrat 19, das auf dem ersten Substrathalter 11 liegt, von der Strahlungsquelle 9 durch die Fokussiereinheit 5 bestrahlt werden kann. Der zweite Substrathalter 13 ist in der Messposition der Positioniervorrichtung 3, in der eine Position des zweiten Halbleitersubstrates 23, welches auf dem zweiten Substrathalter 13 liegt, relativ zu dem zweiten Substrathalter 13 in Richtungen parallel zur X-Richtung und parallel zur Y-Richtung mittels einer optischen Positionsmesseinheit 37 der Lithographievorrichtung gemessen werden kann, wobei diese Einheit nur in 1 schematisch dargestellt ist und in der das zweite Halbleitersubstrat 23 bezüglich dem zweiten Substrathalter 13 mit einer bestimmten Genauigkeit mittels des Transportmechanismus positioniert ist. Wie 1 zeigt, ist die optische Positionsmesseinheit 37 ebenfalls an dem Rahmen 1 befestigt. Nachdem die Belichtung des ersten Halbleitersubstrats 19 abgeschlossen ist, wird der erste Substrathalter 11 von der Positioniervorrichtung 3 auf eine weiter unten noch zu erläuternde Weise von der Betriebsposition in die Messposition verschoben, von der das erste Halbleitersubstrat 19 durch den Transportmechanismus in das Magazin zurückgeführt wird. Gleichzeitig wird das zweite Halbleitersubstrat 23 durch die Positioniervorrichtung 3 auf eine noch näher zu erläuternde Weise von der Messposition in die Betriebsposition verschoben. Da die Position des zweiten Halbleitersubstrats 23 relativ zu dem zweiten Substrathalter 13 bereits in der Messposition gemessen wurde, und das zweite Halbleitersubstrat 23 bereits relativ zu dem zweiten Substrathalter 19 mit einer gewünschten Genauigkeit positioniert worden ist, ist eine vergleichsweise einfache Messung der Position des zweiten Substrathalters 13 relativ zum Rahmen 1 und der Fokussiereinheit 5 in der Betriebsposition ausreichend. Die Messung und Positionierung eines Halbleitersubstrats relativ zu einem Substrathalter benötigt ver gleichsweise viel Zeit, so dass die Verwendung der Positioniervorrichtung 3 gemäß der Erfindung mit den beiden Verschiebungseinheiten 25 und 27 einen erheblichen Anstieg der Produktionsleistung im Vergleich zu der Lithographievorrichtung mit nur einem Substrathalter ermöglicht, wo die Ausrichtung des Halbleitersubstrats relativ zu dem Substrathalter in der Betriebsposition stattfindet.
  • Die 2 und 3 zeigen eine erste Ausführungsform einer Positioniervorrichtung 3 gemäß der Erfindung, welche zur Verwendung in der Lithographievorrichtung von 1 geeignet ist. Die beiden Verschiebungseinheiten 25 und 27 der Positioniervorrichtung 3 sind jeweils mit einem X-Betätiger 39, 41 und einem Y-Betätiger 43, 45 versehen. Die X-Betätiger 39, 41 sind jeweils mit einem ersten Bauteil 47, 49 versehen, welches sich parallel zur X-Richtung erstreckt, welches mit dem Substrathalter 11, 13 der betreffenden Verschiebungseinheit 25, 27 befestigt ist und welches relativ zu einem zweiten Bauteil 51, 53 des betreffenden X-Betätigers 39, 41 verschiebbar ist. Die Y-Betätiger 43, 45 sind jeweils mit einem ersten Bauteil 55, 57 versehen, welches mit dem zweiten Bauteil 51, 53 des X-Betätigers 39, 41 der betreffenden Verschiebungseinheit 25, 27 in Verbindung ist und welches relativ zu einem zweiten Bauteil 59, 61 des relevanten Y-Betätigers 43, 45 verschiebbar ist, das sich parallel zur Y-Richtung erstreckt. Die X-Betätiger 39, 41 und die Y-Betätiger 43, 45 sind sogenannte Kraftbetätiger, wobei die ersten Bauteile 47, 49 und die zusammenwirkenden zweiten Bauteile 51, 53 der X-Betätiger 39, 41 eine gegenseitige Antriebskraft eines bestimmten Wertes parallel zur X-Richtung im Betrieb aufbringen, wohingegen die ersten Bauteile 55, 57 und die zusammenwirkenden zweiten Bauteile 59, 61 der Y-Betätiger 43, 45 eine gegenseitige Antriebskraft parallel zur Y-Richtung im Betrieb aufbringen, welche ebenfalls einen bestimmten Wert hat. Die Kraftbetätiger sind beispielsweise sogenannte lineare Lorentzkraft-Motoren, welche üblich und per se bekannt sind und welche im Betrieb ausschließlich eine Lorentzkraft eines bestimmten Wertes erzeugen. Die Substrathalter 11, 13 sind somit jeweils parallel zur X-Richtung unabhängig voneinander mittels einer geeigneten Antriebskraft der X-Betätiger 43, 45 der betreffenden Verschiebungseinheit 25, 27 verschiebbar. Die Substrathalter 11, 13 sind jeweils zusammen mit dem X-Betätiger 43, 45 der betreffenden Verschiebungseinheit 25, 27 parallel zur Y-Richtung unabhängig voneinander mittels einer geeigneten Antriebskraft des Y-Betätigers 43, 45 der betreffenden Verschiebungseinheit 25, 27 verschiebbar.a
  • Wie die 2 und 3 weiterhin zeigen, sind die Y-Betätiger 43, 45 der Verschiebungseinheiten 25, 27 mit einer gemeinsamen geradlinigen Führung 63 versehen, entlang der die ersten Bauteile 55 und 57 der Y-Betätiger 43 und 45 verschiebbar geführt sind, und zwar parallel zur Y-Richtung gesehen. Die Positioniervorrichtung 3 ist weiterhin mit einer drehbaren Einheit 65 versehen, welche in den Figuren nur schematisch gezeigt ist und welche mit einem ersten scheibenförmigen Bauteil 67, welches mit einer Ausgleichseinheit 69 der Positioniervorrichtung 3 verbunden ist, welche nachfolgend noch näher beschrieben wird und einem zweiten scheibenförmigen Bauteil 71 versehen ist, welches mit der gemeinsamen geradlinigen Führung 63 verbunden ist. Das zweite scheibenförmige Bauteil 71 ist relativ zum ersten scheibenförmigen Bauteil 67 um eine Drehachse 73 drehbar, welche parallel zur Z-Richtung verläuft. Zu diesem Zweck ist die drehbare Einheit 65 mit einem Elektromotor 75 versehen, der in den Figuren nur schematisch dargestellt ist und der mit der Ausgleichseinheit 69 verbunden und mit dem zweiten scheibenförmigen Bauteil 71 mittels eines Antriebsriemens 77 verbunden ist. Nachdem das erste Halbleitersubstrat 19 in der Betriebsposition im Betrieb belichtet wurde und das zweite Halbleitersubstrat 23 in der Messposition relativ zum zweiten Substrathalter 13 ausgerichtet wurde, wird das zweite scheibenförmige Bauteil 71 der drehbaren Einheit 65 um die Drehachse 73 um einen Winkel von 180° relativ zum ersten scheibenförmigen Bauteil 67 gedreht, so dass die gemeinsame geradlinige Führung 63 zusammen mit der ersten Verschiebungseinheit 25 und der zweiten Verschiebungseinheit 27 um die Drehachse 63 gedreht wird. Besagte Drehung der gemeinsamen geradlinigen Führung 63 bewirkt, dass die erste Verschiebungseinheit 25 mit dem ersten Substrathalter 11 in ihrer Gesamtheit von der Betriebsposition in die Messposition verschoben wird, während die zweite Verschiebungseinheit 27 mit dem zweiten Substrathalter 13 in ihrer Gesamtheit von der Messposition in die Betriebsposition verschoben wird. 3 zeigt die Positioniervorrichtung 3 in einer Position, in der die gemeinsame geradlinige Führung 63 einen Teil der Gesamtdrehbewegung von 180° durchgeführt hat.
  • Die Ausgleichseinheit 69 der oben erläuterten Positioniervorrichtung 3 weist einen vergleichsweise schweren Ausgleichsblock auf, der beispielsweise aus Granit gefertigt ist. Die Ausgleichseinheit 69 ist parallel zur X-Richtung und parallel zur Y-Richtung gesehen über einer Führungsoberfläche 79 verschiebbar geführt, welche sich parallel zur X-Richtung und parallel zur Y-Richtung erstreckt, und zwar mittels statischer Gaslager, die in den 2 und 3 nicht sichtbar sind. Die Führungsoberfläche 79 ist auf einer Basis 81 der Positioniervorrichtung 3 gemäß 1 angeordnet, wobei diese Basis am Rahmen 1 der Lithographievorrichtung befestigt ist. Die zweiten Bauteile 59 und 61 der Y-Betätiger 43 und 45 der beiden Verschiebungseinheiten 25 und 27 sind parallel zur X-Richtung und parallel zur Y-Richtung gesehen mit der Ausgleichseinheit 69 über die gemeinsame geradlinige Führung 63 und die drehbare Einheit 65 verbunden, so dass die Ausgleichseinheit 69 somit eine gemeinsame Ausgleichseinheit für die beiden Verschiebungseinheiten 25 und 27 der Positioniervorrichtung 3 bildet. Im Betrieb werden Reaktionskräfte der Y-Betätiger 43 und 45, welche aus Antriebskräften entstehen, die von den Y-Betätigern 43 und 45 erzeugt werden und von den ersten Bauteilen 55 und 57 der Y-Betätiger 43 und 45 auf die zweiten Bauteile 59 und 61 ausgeübt werden, über die gemeinsame geradlinige Führung 63 und die drehbare Einheit 65 in die Ausgleichseinheit 69 übertragen. Reaktionskräfte der X-Betätiger 39 und 41, welche aus Antriebskräften entstehen, die von den X-Betätigern 39 und 41 erzeugt werden, und von den ersten Bauteilen 47 und 49 der X-Betätiger 39 und 41 auf die zweiten Bauteile 51 und 53 ausgeübt werden, werden über die ersten Bauteile 55 und 57 und die zweiten Bauteile 59 und 61 der Y-Betätiger 43 und 45, die gemeinsame geradlinige Führung 63 und die drehbare Einheit 65 in die Ausgleichseinheit 69 übertragen. Da die Ausgleichseinheit 69 über der Führungsfläche 79 parallel zur X-Richtung und parallel zur Y-Richtung verschiebbar ist, wird die Ausgleichseinheit 69 relativ zur Basis 81 parallel zur X-Richtung und/oder parallel zur Y-Richtung unter dem Einfluss der Reaktionskräfte verschoben, welche in die Ausgleichseinheit 69 übertragen werden. Die Ausgleichseinheit 69 ist vergleichsweise schwer, so dass Distanzen, über welche die Ausgleichseinheit 69 relativ zur Basis 81 verschoben wird, vergleichsweise klein sein werden. Die Reaktionskräfte der beiden Verschiebungseinheiten 25 und 27 werden somit in Verschiebungen der Ausgleichseinheit 69 über der Führungsoberfläche 79 umgewandelt, so dass diese Reaktions kräfte keine mechanischen Vibrationen in der Ausgleichseinheit 69, der Basis 61 der Positioniervorrichtung 3 und dem Rahmen 1 der Lithographievorrichtung bewirken. Solche mechanischen Vibrationen sind unerwünscht, da sie zu unerwünschten Positionierungenauigkeiten der beiden Verschiebungseinheiten 25 und 27 führen.
  • Wie oben beschrieben wurde, weisen die X-Betätiger 39 und 41 und die Y-Betätiger 43 und 45 der Verschiebungseinheiten 25 und 27 sogenannte Kraftbetätiger zur Erzeugung einer Antriebskraft eines bestimmten Wertes auf. Die Verwendung solcher Kraftbetätiger führt dazu, dass die Werte der Antriebskräfte für die Verschiebungseinheiten 25 und 27 im Wesentlichen unabhängig von den Positionen sind, die von den ersten Bauteilen 47, 49, 55, 57 der X-Betätiger 39, 41 und der Y-Betätiger 43, 45 relativ zu den zweiten Bauteilen 51, 53, 59, 61 eingenommen werden. Da die Positionen der Substrathalter 11 und 13 relativ zur Basis 81 aus den Werten der Antriebskräfte der ersten Verschiebungseinheit 25 und der zweiten Verschiebungseinheit 27 folgen, sind besagte Positionen der Substrathalter 11 und 13 im Wesentlichen unabhängig von den Relativpositionen der ersten Bauteile 47, 49, 55, 57 und der zweiten Bauteile 51, 53, 59, 61 der Verschiebungseinheiten 25 und 27 aufgrund der Verwendung der Kraftbetätiger und folglich im Wesentlichen unabhängig von der Position der Ausgleichseinheit 69, die mit den zweiten Bauteilen 59 und 61 relativ zu den Substrathaltern 11 und 13 verbunden ist und mit den ersten Bauteilen 47 und 49 verbunden ist. Es ist folglich klar, dass Verschiebungen der Ausgleichseinheit 69 relativ zur Basis 81, die parallel zur X-Richtung gerichtet sind, Verschiebungen der Ausgleichseinheit 69 relativ zur Basis 81, die parallel zur Y-Richtung gerichtet sind und Verschiebungen zur Ausgleichseinheit 69 relativ zur Basis 81 mit sowohl einer Komponente parallel zur X-Richtung als auch einer Komponente parallel zur Y-Richtung im Wesentlichen keinen Einfluss auf die Positionen der Substrathalter 11 und 13 relativ zur Basis 81 haben. Solche Verschiebungen der Ausgleichseinheit 69 entstehen, wie oben beschrieben, als Ergebnis der Reaktionskräfte der Verschiebungseinheiten 25 und 27. Man erreicht somit, dass in der Situation gemäß 1 die Position des zweiten Substrathalters 13 relativ zur Positionsmesseinheit 37 und die Position des ersten Substrathalters 11 relativ zur Fokussiereinheit 5 nicht durch mechanische Vibrationen oder durch besagte Verschiebungen der Ausgleichseinheit 69 beeinflusst werden, so dass gegenseitige Wechselwirkungen zwischen den Positionsgenauigkeiten der Verschiebungseinheiten 25 und 27 aufgrund der Reaktionskräfte der Verschiebungseinheiten 25 und 27 verhindert werden.
  • Da die Reaktionskräfte der Verschiebungseinheiten 25 und 27 zu einem mechanischen Moment an der Ausgleichseinheit 69 führen, wird die Ausgleichseinheit 69 nicht nur parallel zur X-Richtung und/oder parallel zur Y-Richtung unter dem Einfluss der Reaktionskräfte verschoben, sondern auch um eine Drehachse gedreht, welche parallel zur Z-Richtung verläuft. Im Gegensatz zu Verschiebungen der Ausgleichseinheit 69 parallel zur X-Richtung und/oder parallel zur Y-Richtung, welche im Wesentlichen keinen Einfluss auf die Positionen der Substrathalter 11 und 13 relativ zur Basis 81 aufgrund der Verwendung der Kraftbetätiger haben, beeinflussen solche Drehungen der Ausgleichseinheit 69 die Positionen der Substrathalter 11 und 13 relativ zur Basis 81 im Allgemeinen schon, wenn keine weiteren Gegenmaßnahmen ergriffen werden. Um so einen unerwünschten Einfluss zu verhindern, ist die Positioniervorrichtung 3 mit einer Steuereinheit 83 versehen, welche in 2 schematisch dargestellt ist und mit zwei optischen Positionssensoren 85 und 87 zusammenwirkt, die an der Basis 81 der Positioniervorrichtung 3 befestigt sind. Die Positionssensoren 85 und 87 messen eine Richtung der gemeinsamen geradlinigen Führung 63 relativ zur Y-Richtung. Der Elektromotor 75 der drehbaren Einheit 65 wird von der Steuereinheit 83 so gesteuert, dass die gemeinsame geradlinige Führung 63 im Betrieb in einer Position parallel zur Y-Richtung gehalten wird, mit Ausnahme derjenigen Momente, zu denen die geradlinige Führung 63 um 180° gedreht wird. Die ersten Bauteile 47 und 49 der X-Betätiger 39 und 41 werden somit in einer Position parallel zur X-Richtung gehalten. Da die gemeinsame geradlinige Führung 63 in einer Position parallel zur Y-Richtung aufgrund der Steuereinheit 83 gehalten wird, haben Verschiebungen der Ausgleichseinheit 69 relativ zur Basis 81 parallel zur X-Richtung und/oder parallel) zur Y-Richtung und haben auch Drehungen der Ausgleichseinheit 69 relativ zur Basis 81 im Wesentlichen keinen Einfluss auf die Positionen der Substrate 11 und 13 relativ zur Basis 81, so dass gegenseitige Wechselwirkungen zwischen den Positionsgenauigkeiten und Verschiebungseinheiten 25 und 27 aufgrund von Drehungen der Ausgleichseinheit 69, die von den Reaktionskräften erzeugt werden, verhindert sind.
  • Die Tatsache, dass die Ausgleichseinheit 69 über der Führungsoberfläche 79 mittels statischer Gaslager geführt wird, schafft eine im Wesentlichen reibungslose Führung der Ausgleichseinheit 69 entlang der Führungsoberfläche 79. Die Verschiebungen der Ausgleichseinheit 69 aufgrund der Reaktionskräfte werden von Reibungskräften zwischen der Ausgleichseinheit 69 und der Führungsoberfläche 79 im Ergebnis im Wesentlichen nicht gestört, so dass die Reaktionskräfte im Wesentlichen vollständig in Verschiebungen der Ausgleichseinheit 69 umgewandelt werden und im Wesentlichen keine Restvibrationen in der Basis 81 und der Ausgleichseinheit 69 auftreten.
  • Wie in 2 schematisch gezeigt, ist die Positioniervorrichtung 3 weiterhin mit einer sogenannten Anti-Drift-Vorrichtung 89 versehen. Da die Ausgleichseinheit 69 entlang der Führungsoberfläche 69 im Wesentlichen ohne Reibung geführt wird, könnte die Ausgleichseinheit 69 entlang der Führungsoberfläche 79 unter dem Einfluss externer Störkräfte, d. h. Störkräften, welche nicht von der Positioniervorrichtung 3 erzeugt werden, wegdriften, wenn keine Gegenmaßnahmen ergriffen werden. Ein Beispiel einer solchen Störkraft ist eine Komponente der Schwerkraft, die parallel zur Führungsoberfläche 79 verläuft und auf die Ausgleichseinheit 69 und die Positioniervorrichtung 3 wirkt, wobei diese Komponente vorhanden ist, wenn die Führungsoberfläche 79 nicht perfekt horizontal liegt. Die Anti-Drift-Vorrichtung 89 übt vergleichsweise kleine Anti-Drift-Kräfte auf die Ausgleichseinheit 69 aus, wodurch ein Wegdriften der Ausgleichseinheit 69 verhindert ist. Die Anti-Drift-Vorrichtung 89 sollte zusätzlich so aufgebaut sein, dass die Verschiebungen der Ausgleichseinheit 69 relativ zur Basis 81 aufgrund der Reaktionskräfte der Verschiebungseinheiten 25 und 27 nicht gestört werden. In der Ausführungsform von 2 weist die Anti-Drift-Vorrichtung 89 beispielsweise zwei mechanische Federn 91 und 93 auf, welche mit der Basis 81 und mit der Ausgleichseinheit 69 verbunden sind und welche eine vergleichsweise kleine Federkraft auf die Ausgleichseinheit 69 parallel zur X-Richtung ausüben, sowie eine mechanische Feder 95, welche eine verlgeichsweise kleine Federkraft auf die Ausgleichseinheit 69 parallel zur Y-Richtung ausübt.
  • Die 4 und 5 zeigen eine zweite Ausführungsform einer Positioniervorrichtung 97 gemäß der Erfindung, welche auch zur Verwendung in der Lithographievorrichtung von 1 geeignet ist. Bauteile der Lithographievorrichtung 97 entsprechend Bauteilen der Lithographievorrichtung 3 haben in den 4 und 5 gleiche Bezugszeichen. Die Substrathalter 11 und 13 in der Positioniervorrichtung 97 sind jeweils verschiebbar parallel zur X-Richtung und parallel zur Y-Richtung entlang einer Führungsoberfläche 103 verschiebbar, welche den beiden Substrathaltern 11, 13 gemeinsam ist und sich parallel zur X-Richtung und parallel zur Y-Richtung erstreckt, und zwar mittels eines sogenannten aerostatisch gelagerten Fußes 99, 101, der mit einem statischen Gaslager versehen ist. Die Verschiebungseinheiten 25 und 27 der Positioniervorrichtung 97 sind jeweils mit einem X-Betätiger 105, 107 und zwei Y-Betätigern 109, 111 und 113, 115 versehen, welche als Kraftbetätiger ausgelegt sind, wie in der Positioniervorrichtung 3. Die X-Betätiger 105 und 107 sind jeweils mit einem ersten Bauteil 117, 119 versehen, welches relativ zu einem zweiten Bauteil 121, 123 verschiebbar geführt ist, das sich parallel zur X-Richtung erstreckt, während die Y-Betätiger 109, 111, 113, 115 jeweils mit einem ersten Bauteil 125, 127, 129, 131 versehen sind, welches relativ zu einem zweiten Bauteil 133, 135, 137, 139 verschiebbar geführt ist, das sich parallel zur Y-Richtung erstreckt. Wie in 4 zeigt, sind die zweiten Bauteile 121 und 123 der X-Betätiger 105 und 107 jeweils mit den beiden ersten Bauteilen 125, 127 und 129, 131 der beiden Y-Betätiger 109, 111 und 113, 1i5 der betreffenden Verschiebungseinheiten 25, 27 verbunden, wobei besagte zweite Bauteile 121 und 123 der X-Betätiger 105 und 107 jeweils relativ zu den beiden ersten Bauteilen 125, 127 und 129, 131 der betreffenden Y-Betätiger 109, 111 und 113, 115 um eine Schwenkachse 141, 143, 145, 147 schwenkbar sind, welche parallel zur Z-Richtung ist. Die ersten Bauteile 117, 119 der X-Betätiger können jeweils mit dem Substrathalter 11, 13 der betreffenden Verschiebungseinheit 25, 27 (parallel zur X-Richtung gesehen und parallel zur Y-Richtung gesehen auf eine nachfolgend noch zu beschreibende Weise verbunden werden. Die zweiten Bauteile 133, 135, 137, 139 der Y-Betätiger 109, 111, 113, 115 sind jeweils mit einer Ausgleichseinheit 149 verbunden, welche den beiden Verschiebungseinheiten 25 und 27 gemeinsam ist und die Ausgleichseinheit 69 der Positioniervorrichtung 3 entspricht und welche parallel zur X-Richtung und parallel zur Y-Richtung mittels statischer Gaslager, die in den Figuren nicht gezeigt sind, entlang einer Führungsfläche 69 verschiebbar gelagert ist, die sich parallel zur X-Richtung und parallel zur Y-Richtung erstreckt und zu einer Basis 81 der Positionsvorrichtung 97 gehört, die mit dem Rahmen 1 verbunden ist. Die Ausgleichseinheit 149 ist gleichzeitig ein gemeinsamer Stützkörper für die beiden Substrathalter 11 und 13, wobei die gemeinsame Führungsoberfläche 103 der Substrathalter 11 und 13 eine obere Oberfläche der Ausgleichseinheit 149 ist. Wie die Ausgleichseinheit 69 der Positioniervorrichtung 3 ist die Ausgleichseinheit 149 der Positioniervorrichtung 97 mit Anti-Drift-Vorrichtungen 89, 91, 93 und 95 versehen. Die Substrathalter 11 und 13 sind jeweils parallel zur X-Richtung unabhängig voneinander mittels entsprechenden X-Betätiger 105 und 107 verschiebbar und sind parallel zur Y-Richtung unabhängig voneinander mittels Verschiebungen gleichen Wertes der beiden Y-Betätiger 109 und 111 und den beiden Y-Betätigern 113 und 115 verschiebbar. Im Betrieb werden Reaktionskräfte der X-Betätiger 105 und 107 der Ausgleichseinheit 149 über die zweiten Bauteile 121 und 123 der ersten X-Betätiger 105 und 107, die ersten Bauteile 125, 127, 129, 131 der Y-Betätiger 109, 111, 113, 115 und die zweiten Bauteile 133, 135, 137, 139 der Y-Betätiger 109, 111, 113, 115 übertragen, während Reaktionskräfte der Y-Betätiger 109, 111, 113, 115 direkt der Ausgleichseinheit 149 über die zweiten Bauteile 133, 135, 137, 139 der Y-Betätiger 109, 111, 113, 115 übertragen werden.
  • Die Substrathalter 11 und 13 sind jeweils mit einem Verbindungsbauteil 151, 153 versehen, welches nachfolgend genauer beschrieben wird, mittels dem die Substrathalter 11, 13 parallel zur X-Richtung und parallel zur Y-Richtung abwechselnd mit dem ersten Bauteil 117 des X-Betätigers 105 der ersten Verschiebungseinheit 25 und dem ersten Bauteil 119 des X-Betätigers 107 der zweiten Verschiebungseinheit 127 verbindbar sind. Das Verbindungsbauteil 151 des ersten Substrathalters 11 ist für diesen Zweck mit einem ersten Bauteil 155 versehen, mittels dem der erste Substrathalter 11 mit dem ersten Bauteil 117 des X-Betätigers 105 der ersten Verschiebungseinheit 25 verbindbar ist und mit einem zweiten Bauteil 157, mittels dem der erste Substrathalter 11 mit dem ersten Bauteil 113 des X-Betätigers 107 der zweiten Verschiebungseinheit 127 verbindbar ist. Ähnlich ist das Verbindungsbauteil 153 des zweiten Substrathalters 13 mit einem ersten Bauteil 159 versehen, mittels dem der zweite Substrathalter 13 mit dem ersten Bauteil 117 des X-Betätigers 105 der ersten Verschiebungseinheit 25 verbindbar ist und mit einem zweiten Bauteil 161, mittels dem der zweite Substrathalter 13 mit dem ersten Bauteil 119 des X-Betätigers 107 der zweiten Verschiebungseinheit 27 verbindbar ist. In der in den 1 und 4 gezeigten Situation, wo der erste Substrathalter 11 in der Betriebsposition ist und der zweite Substrathalter 13 in der Messposition ist, ist der erste Substrathalter 11 mit dem ersten Bauteil 107 des X-Betätigers 105 der ersten Verschiebungseinheit 25 über das erste Bauteil 155 des Verbindungsbauteils 151 verbunden, während der zweite Substrathalter 13 mit dem ersten Bauteil 119 des X-Betätigers 107 der zweiten Verschiebungseinheit 27 über das zweite Bauteil 161 des Verbindungsbauteils 153 verbunden ist.
  • Die Substrathalter 11 und 13 müssen entlang der gemeinsamen Führungsoberfläche 103 bei einer Verschiebung des ersten Substrathalters 11 von der Betriebsposition in die Messposition und des zweiten Substrathalters 13 von der Messposition in die Betriebsposition aneinander vorbeilaufen. Um dies zu ermöglichen, wird der erste Substrathalter 11 von der ersten Verschiebungseinheit 25 von der Betriebsposition in eine erste Zwischenposition M' verschoben, welche gemäß 5 zwischen der Betriebsposition und der Messposition liegt, während gleichzeitig der zweite Substrathalter 13 mittels der zweiten Verschiebungseinheit 27 von der Messposition in eine zweiten Zwischenposition M'' gemäß 5 verschoben wird, welche benachbart der ersten Zwischenposition M' liegt und ebenfalls zwischen der Betriebsposition und der Messposition ist. Die Substrathalter 11 und 13 werden von der ersten Verschiebungseinheit 25 bzw. der zweiten Verschiebungseinheit 27 in den Zwischenpositionen M' und M'' getrennt. Dann wird das erste Bauteil 107 des X-Betätigers 105 der ersten Verschiebungseinheit 25 von der ersten Zwischenposition M' in die zweite Zwischenposition M'' bewegt und in dieser zweiten Zwischenposition M'' mit dem ersten Bauteil 159 des Verbindungsbauteils 153 des zweiten Substrathalters 113 verbunden. Gleichzeitig wird das erste Bauteil 119 des X-Betätigers 107 der zweiten Verschiebungseinheit 27 von der zweiten Zwischenposition M'' in die erste Zwischenposition M' bewegt und wird in dieser ersten Zwischenposition M' mit dem zweiten Bauteil 157 des Verbindungsbauteils 151 des ersten Substrathalters 11 verbunden. Dies führt zur Situation gemäß 5, wo der erste Substrathalter 11 in der ersten Zwischenposition M' mit dem ersten Bauteil 119 des X-Betätigers 107 der zweiten Verschiebungseinheit 27 verbunden ist und wo der zweite Substrathalter 13 in der zweiten Zwischenposition M'' mit dem ersten Bauteil 117 des X-Betätigers 105 der ersten Verschiebungseinheit 25 verbunden ist. Schließlich wird der erste Substrathalter 11 von der ersten Zwischenposition M' durch die zweite Verschiebungseinheit 27 in die Messposition bewegt, während gleichzeitig der zweite Substrathalter 13 von der zweiten Zwischenposition M'' durch die erste Verschiebungseinheit 25 in die Betriebsposition bewegt wird. Eine Distanz, über welche die ersten Bauteile 125, 127, 129, 131 der Y-Betätiger 109, 111, 113, 115 relativ zu den beiden Bauteilen 133, 135, 137, 139 verschiebbar sein müssen, wird unter Verwendung der Verbindungsbauteile 151 und 153 verkleinert, so dass die Abmessungen der Verschiebungseinheiten 25 und 27 verringert werden können. Zusätzlich wird verhindert, dass die zweiten Bauteile 121 und 123 der X-Betätiger 105 und 107 fähig sein müssen, parallel zur Y-Richtung 10 aneinander vorbeilaufen zu können, so dass der Aufbau der Verschiebungseinheiten 25 und 27 einfach gehalten wird.
  • Die Verbindungsbauteile 151 und 153 der Substrathalter 11 und 13 gemäß obiger Erläuterung sind als sogenannte XY-Lorentzkraftbetätiger aufgebaut. Die ersten Bauteile 155 und 159 der Verbindungsbauteile 151 und 153 weisen für diesen Zweck jeweils ein System von Permanentmagneten auf, wie es üblich und per se bekannt ist, während das erste Bauteil 117 des X-Betätigers 105 der ersten Verschiebungseinheit 25 ein elektrisches Spulensystem 63 aufweist, welches üblich und per se bekannt ist und dafür ausgelegt ist, abwechselnd mit dem ersten Bauteil 155 des Verbindungsbauteils 151 des ersten Substrathalters 11 und dem ersten Bauteil 159 des Verbindungsbauteils 153 des zweiten Substrathalters 13 zusammen zu wirken. Die zweiten Bauteile 157 und 161 der Verbindungsbauteile 151 und 153 weisen jeweils auch einen Satz von Permanentmagneten auf, was üblich und per se bekannt ist, während das erste Bauteil 119 des X-Betätigers 107 der zweiten Verschiebungseinheit 27 auch ein elektrisches Spulensystem 165 aufweist, welches üblich und per se bekannt ist und dafür ausgelegt ist, abwechselnd mit dem zweiten Bauteil 157 des Verbindungsbauteils 151 des ersten Substrathalters 11 und dem zweiten Bauteil 161 des Verbindungsbauteils 153 des zweiten Substrathalters 13 zusammen zu wirken. Der durch das Spulensystem 163 des ersten Bauteils 155 des Verbindungsbauteils 151 oder das erste Bauteil 159 des Verbindungsbauteils 153 gebildete XY-Lorentzkraftbetätiger ist klarerweise zur Erzeugung einer Lorentz-Kraft parallel zur X-Richtung, einer Lorentz-Kraft parallel zur Y-Richtung und einem Moment von Lorentz-Kräften um eine Momentachse geeignet, welche parallel zur Z-Richtung verläuft, so dass der erste Substrathalter 11 oder der zweite Substrathalter 13 relativ zum ersten Bauteil 119 des X-Betätigers 105 der ersten Verschiebungseinheit 25 über vergleichsweise kleine Distanzen parallel zur X-Richtung und/oder parallel zur Y-Richtung mittels des XY-Lorentzkraftbetätigers verschiebbar ist und auch um vergleichsweise kleine Winkel relativ zu dem ersten Bauteil 117 um eine Drehachse drehbar ist, welche parallel zur Z-Richtung verläuft. Ähnlich ist der XY-Lorentzkraftbetätiger, der durch das Spulensystem 165 und das zweite Bauteil 157 des Verbindungsbauteils 151 oder das zweite Bauteil 161 des Verbindungsbauteils 153 gebildet wird, zur Erzeugung einer Lorentzkraft parallel zur X-Richtung, einer Lorentzkraft parallel zur Y-Richtung und einem Moment von Lorentzkräften um eine Momentachse geeignet, welche parallel zur Z-Richtung verläuft, so dass der erste Substrathalter 11 oder der zweite Substrathalter 13 relativ zum ersten Bauteil 119 des X-Betätigers 107 der zweiten Verschiebungseinheit 27 über vergleichsweise kleine Distanzen parallel zur X-Richtung und/oder parallel zur Y-Richtung mittels des XY-Lorentzkraftbetätigers verschoben werden kann und relativ zum ersten Bauteil 119 über vergleichsweise kleine Winkel um eine Drehachse drehbar ist, welche parallel zur Z-Richtung verläuft. Die Verwendung der XY-Lorentzkraftbetätiger gemäß obiger Beschreibung schafft einen besonders einfachen und praktischen Aufbau der Verbindungsbauteile 151 und 153, wo das Verbinden und Trennen der Verbindungsbauteile 151 und 153 auf einfache Weise durch die Aktivierung und die Deaktivierung der Lorentzkraft erreicht wird, welche zwischen den Magnetsystemen und den Spulensystemen wirkt. Die XY-Lorentzkraftbetätiger wirken weiterhin als zweite Feinantriebsstufe für die Verschiebungseinheiten 25 und 27, mittels der die Substrathalter 11 und 13 vergleichsweise genau relativ zu einer ersten Antriebsstufe positioniert werden können, welche durch die X-Betätiger 105, 107 und die Y-Betätiger 109, 111, 113, 115 gebildet wird.
  • Wie die Ausgleichseinheit 69 der Positioniervorrichtung 3 wird auch die Ausgleichseinheit 149 der Positioniervorrichtung 97 um eine Drehachse gedreht, die parallel zur Z-Richtung verläuft, und zwar als Ergebnis der Reaktionskräfte der Verschiebungseinheit 25 und 27, welche auf die Ausgleichseinheit 149 ausgeübt werden. Um zu verhindern, dass solche Drehungen der Ausgleichseinheit 149 zu unerwünschten Verschiebungen der Substrathalter 11 und 13 relativ zur Basis 81 führen, ist die Positioniervorrichtung 97 mit einer ersten Steuereinheit 167 versehen, mittels der das zweite Bauteil 121 des X-Betätigers 105 der ersten Verschiebungseinheit 25 in einer Position parallel zur X-Richtung gehalten werden kann und mit einer zweiten Steuereinheit 169, mittels der das zweite Bauteil 123 des X-Betätigers 107 der zweiten Verschiebungseinheit 27 in einer Position parallel zur X-Richtung gehalten werden kann. Wie 4 zeigt, arbeitet die erste Steuereinheit 167 mit zwei optischen Positionssensoren 171 und 173 zusammen, welche an der Basis 81 befestigt sind und mittels denen eine Richtung des zweiten Bauteils 121 des X-Betätigers 105 relativ zur X-Richtung gemessen wird. Ähnlich arbeitet die zweite Steuereinheit 169 mit zwei optischen Positionssensoren 175 und 177 zusammen, die ebenfalls an der Basis 81 befestigt sind und mittels denen eine Richtung des zweiten Bauteils 123 des X-Betätigers 107 relativ zur X-Richtung gemessen wird. Die erste Steuereinheit 167 steuert die beiden Y-Betätiger 109 und 111 der ersten Verschiebungseinheit 25 so, dass das zweite Bauteil 121 des X-Betätigers 105 in einer Position parallel zur X-Richtung im Fall von Drehungen der Ausgleichseinheit 149 verbleibt. Ähnlich steuert die zweite Steuereinheit 169 die beiden Y-Betätiger 113 und 115 der zweiten Verschiebungseinheit 27 so, dass das zweite Bauteil 123 des X-Betätigers 107 in einer Position parallel zur X-Richtung für den Fall von Drehungen der Ausgleichseinheit 149 verbleibt. Die Tatsache, dass die beiden Bauteile 121 und 123 der X-Betätiger 105 und 107 somit jeweils in einer Position parallel zur X-Richtung gehalten werden, verhindert Drehungen der X-Betätiger 105 und 107 und der hiermit verbundenen Substrathalter 11 und 13, was üblicherweise zu unerwünschten Verschiebungen der Substrathalter 11, 13 relativ zur Basis 81 führen würde.
  • Ein Abbildungsverfahren, welches dem sogenannten "step and scan"-Prinzip folgt, wird bei der Lithographievorrichtung gemäß der Erfindung verwendet, wie es schematisch in 6 gezeigt ist. Bauteile der Lithographievorrichtung von 6, welche Bauteilen der Lithographievorrichtung von 1 entsprechen, haben in 6 die gleichen Bezugszeichen. Bei dem Abbildungsverfahren mittels des "step and scan"-Prinzips ist das erste Halbleitersubstrat 19 während der Belichtung nicht in einer konstanten Position relativ zur Fokussiereinheit 5, sondern das erste Halbleitersubstrat 19 und die Maske 35 werden während einer Belichtung synchron und parallel zur X-Richtung relativ zur Fokussiereinheit 5 verschoben. Die Lithographievorrichtung von 6 ist für diesen Zweck nicht nur mit der Positioniervorrichtung 3 zur Verschiebung des ersten Halbleitersubstrates 19 versehen, sondern auch mit einer weiteren Positioniervorrichtung 179, mittels der die Maske 35 parallel zur X-Richtung relativ zur Fokussiereinheit 5 verschiebbar ist. Die weitere Positioniervorrichtung 179 ist wieder eine Positioniervorrichtung gemäß der Erfindung in der Lithographievorrichtung von 6. Wie 6 schematisch zeigt, weist die weitere Positioniervorrichtung 179 einen ersten Maskenhalter 181 und einen identischen zweiten Maskenhalter 183 auf. Die Maskenhalter 181 und 183 haben jeweils eine Stützoberfläche, d. h. eine Stützoberfläche 185, die sich senkrecht zur Z-Richtung erstreckt und auf der eine erste Maske 35 anordenbar ist und eine Stützoberfläche 187, die sich senkrecht zur Z-Richtung erstreckt und auf der eine zweite Maske 35' anordenbar ist. Der erste Maskenhalter 181 kann relativ zum Rahmen 1 und parallel zur Y-Richtung mittels einer ersten Verschiebungseinheit 189 der Positioniervorrichtung 179 positioniert werden, während der zweite Maskenhalter 183 relativ zum Rahmen 1 parallel zur X-Richtung und parallel zur Y-Richtung mittels einer zweiten Verschiebungseinheit 191 der Positioniervorrichtung 179 positioniert werden kann. In der in 6 gezeigten Situation ist der erste Maskenhalter 181 mit der ersten Maske 35 in einer Betriebsposition der weiteren Positioniervorrichtung 179, in der das erste Halbleitersubstrat 19 durch die erste Maske 35 bestrahlt werden kann, wohingegen der zweite Maskenhalter 183 mit der zweiten Maske 35' in einer Messposition der weiteren Positioniervorrichtung 179 ist. In dieser Messposition kann eine Position der zweiten Maske 35' relativ zum zweiten Maskenhalter 183 mittels einer weiteren Positionseinheit 193 der Lithographievorrichtung gemessen werden, die am Rahmen 1 der Lithographievorrichtung befestigt ist. Die zweite Maske 35' kann zusätzlich in der Messposition mit einer gewünschten Genauigkeit relativ zum zweiten Maskenhalter 182 mittels eines weiteren Transportmechanismus positioniert werden, der aus Gründen der Einfachheit in 6 nicht gezeigt ist, und der für den Transport von aufeinander folgend verwendeten Masken aus einem Maskenmagazin in die Messposition der weiteren Positioniervorrichtung 179 verwendet wird. Nachdem die erste Maske 35 zur Bestrahlung eines oder verschiedener Halbleitersubstrate verwendet worden ist, wird der erste Maskenhalter 181 von der Betriebsposition in die Messposition mittels der weiteren Positioniervorrichtung 179 bewegt, die erste Maske 35 wird durch den weiteren Transportmechanismus von der Messposition in das Maskenmagazin zurückgebracht. Gleichzeitig wird der zweite Maskenhalter 183 mit der zweiten Maske 35' durch die weitere Positioniervorrichtung 179 von der Messposition in die Betriebsposition bewegt. Die Produktionsleistung der Lithographievorrichtung wird somit durch die Verwendung der weiteren Positioniervorrichtung 179 gemäß der Erfindung weiter erhöht, da die aufeinander folgend zu verwendenden Masken bereits relativ zu den relevanten Maskenhaltern bei Erreichen der Betriebsposition ausgerichtet worden sind.
  • Die weitere Positioniervorrichtung 179 ist schematisch in 7 gezeigt. Die Maskenhalter 181 und 183 der weiteren Positioniervorrichtung 179 sind verschiebbar parallel zur X-Richtung und parallel zur Y-Richtung entlang einer gemeinsamen Führungsoberfläche 199 eines Trägerkörpers 201 geführt, der sich parallel zur X-Richtung und parallel zur Y-Richtung erstreckt, was durch einen aerostatisch gelagerten Fuß 195 bzw. einen aerostatisch gelagerten Fuß 197 erfolgt. Der Stützkörper 201 ist über eine drehbare Einheit 203 mit einer Ausgleichseinheit 205 befestigt, welche verschiebbar parallel zur X-Richtung gesehen und parallel zur Y-Richtung gesehen mittels statischer Gaslager entlang einer Führungsoberfläche 207 geführt ist, welche Teil einer Basis 209 der weiteren Positioniervorrichtung 179 bildet. Wie 6 schematisch zeigt, ist die Basis 209 der weiteren Positioniervorrichtung 179 am Rahmen 1 der Lithographievorrichtung befestigt. Die drehbare Einheit 203 und die Ausgleichseinheit 205 der weiteren Positioniervorrichtung 179 entsprechen im Wesentlichen der dreh baren Einheit 65 und der Ausgleichseinheit 69 der voranstehend beschriebenen Positioniervorrichtung 3.
  • Die erste Verschiebungseinheit 189 und die zweite Verschiebungseinheit 191 der weiteren Positioniervorrichtung 179 weisen jeweils einen X-Betätiger 211 und 213 auf, der als Kraftbetätiger aufgebaut ist. Die X-Betätiger 211 und 213 weisen jeweils ein erstes Bauteil 215 und 217 auf, welches parallel zur X-Richtung gesehen relativ zu einem zweiten Bauteil 219, 221 des betreffenden X-Betätigers 211, 213 verschiebbar ist, der sich im Wesentlichen parallel zur X-Richtung erstreckt. Die zweiten Bauteile 219 und 221 der X-Betätiger 211 und 213 sind mit dem Stützkörper 201 Befestigt und weisen eine gemeinsame geradlinige Führung 223 auf, welche sich im Wesentlichen parallel zur X-Richtung erstreckt. Weiterhin weisen die Verschiebungseinheiten 189 und 191 jeweils einen XY-Lorentzkraftbetätiger 225, 227 mit einem Permanentmagnetsystem 229, 231 auf, befestigt am Maskenhalter 181, 183 der betreffenden Verschiebungseinheit 189, 191 und einem elektrischen Spulensystem 233, 235, befestigt am ersten Bauteil 215, 217 des X-Betätigers 211, 213 der betreffenden Verschiebungseinheit 189, 191. Die Maskenhalter 181 und 183 können parallel zur X-Richtung relativ zur Basis 209 über vergleichsweise große Distanzen und mit vergleichsweise niedrigen Genauigkeiten mittels der X-Betätiger 211 und 213 verschoben werden, während die Maskenhalter 181 und 183 relativ zu den ersten Bauteilen 215 und 217 der X-Betätiger 211, 213 parallel zur X-Richtung und zur Y-Richtung über vergleichsweise kleine Distanzen und vergleichsweise hohen Genauigkeiten mittels der XY-Lorentzkraftbetätiger 225 und 227 verschoben werden können und um begrenzte Winkel um eine Drehachse parallel zur Z-Richtung relativ zu den ersten Bauteilen 215 und 217 gedreht werden können. Die Verwendung der XY-Lorentzkraftbetätiger 225, 227 führt dazu, dass die Maskenhalter 181 und 183 mit vergleichsweiser hoher Genauigkeit parallel zur Y-Richtung während der Belichtung eines Halbleitersubstrates positioniert werden können, so dass die Verschiebungen der Maskenhalter 181 und 183, die parallel zur X-Richtung verlaufen, zu einem hohen Grad parallel zur X-Richtung sind. Schließlich hat die Positioniervorrichtung 179 eine Steuereinheit 237, wie die Positioniervorrichtung 103, mittels der die geradlinige Führung 223 in einer Position parallel zur X-Richtung während des Betriebs gehalten wird, mit Ausnahme der Momente, zu denen der Stützkörper 201 relativ zur Basis 209 mittels der drehbaren Einheit 203 um 180° gedreht wird. Wie 7 schematisch zeigt, arbeitet die Steuereinheit 237 mit zwei optischen Positionssensoren 239 und 241 zusammen und die Steuereinheit 237 steuert einen Elektromotor 243 der drehbaren Einheit 203.
  • Bei den Lithographievorrichtungen der 1 und 6 wird eine Gruppe von Halbleitersubstraten, die herzustellen sind, aufeinander folgend mit einer gewissen Maske bestrahlt, wonach die Gruppe aufeinander folgend mit einer nächsten Maske bestrahlt wird. Die Verwendung der Positioniervorrichtung 3, 97 gemäß der Erfindung zur Verschiebung der Halbleitersubstrate ermöglicht einen beachtlichen Anstieg in der Produktionsleistung der Lithographievorrichtung, wobei die Produktionsleistung weiter durch die Verwendung der weiteren Positioniervorrichtung 179 gemäß der Erfindung für die Verschiebung der Maske erhöht wird. Es sei festzuhalten, dass die Erfindung auch Lithographievorrichtungen betrifft, bei denen ein herzustellendes Halbleitersubstrat aufeinander folgend durch einen Serie von Masken bestrahlt wird, wonach ein nächstes Halbleitersubstrat mit besagter Serie von Masken bestrahlt wird. Ein Hauptanstieg in der Produktionsleistung der Lithographievorrichtung wird bereits durch eine solche Lithographievorrichtung erreicht, wenn ausschließlich die Positioniervorrichtung für die Verschiebung der Masken eine Positioniervorrichtung gemäß der Erfindung ist, während die Positioniervorrichtung für die Verschiebung der Halbleitersubstrate eine herkömmliche Positioniervorrichtung ist.
  • Die erfindungsgemäßen Lithographievorrichtungen gemäß obiger Beschreibung werden verwendet zur Belichtung von Halbleitersubstraten bei der Herstellung integrierter elektronischer Halbleiterschaltkreise. Es sei festzuhalten, dass eine derartige Lithographievorrichtung auch bei der Herstellung anderer Produkte verwendbar ist, welche mit Strukturen versehen sind, die Detailabmessungen im Sub-Micron-Bereich haben, wobei Maskenmuster auf einem Substrat mittels der Lithographievorrichtung abzubilden sind. Beispiele hiervon sind Strukturen integrierter optischer Systeme oder Leiter- und Erkennungsmuster von Magnetic Domain Speichern, sowie die Strukturen von Flüssigkristallabbildungs-/Anzeigemustern.
  • Es sei weiterhin festzuhalten, dass eine Positioniervorrichtung gemäß der Erfindung nicht nur in einer Lithographievorrichtung verwendet werden kann, sondern auch bei Endbearbeitungsmaschinen, Werkzeugmaschinen und anderen Maschinen oder Vorrichtungen, bei denen ein zu bearbeitendes Objekt relativ zu einem Objekthalter in einer Messposition ausgerichtet und nachfolgend in einer Betriebsposition bearbeitet wird.
  • Die Verschiebungseinheiten 25 und 27 der Positioniervorrichtung 3 gemäß der Erfindung weisen, wie oben beschrieben, jeweils einen X-Betätiger 39, 41 und einen Y-Betätiger 43, 45 auf. Die Verschiebungseinheiten 25, 27 der Positioniervorrichtung 97 gemäß der Erfindung weisen, wie oben beschrieben, jeweils einen X-Betätiger 105, 107, zwei Y-Betätiger 109, 111 und 113, 115, sowie einen XY-Lorentzkraftbetätiger 151, 153 auf. Die Verschiebungseinheiten 189, 191 der Positioniervorrichtung 179 gemäß der Erfindung weisen, wie oben beschrieben, jeweils einen X-Betätiger 211, 213 und einen XY-Lorentzkraft-Betätiger 225, 227 auf. Es sei festzuhalten, dass eine Positioniervorrichtung gemäß der Erfindung auch mit einem anderen Typ von Verschiebungseinheit versehen sein kann. So können die linearen X-Betätiger und Y-Betätiger gemäß obiger Beschreibung durch sogenannte lineare elektromagnetische Motoren ersetzt werden, welche üblich und per se bekannt sind. Es ist alternativ möglich, in der Positioniervorrichtung 3 beispielsweise einen XYZ-Lorentzkraftbetätiger zwischen jedem der ersten Bauteile 47 und 49 der X-Betätiger 39 und 41 einerseits und dem entsprechenden Substrathalter 11, 13 andererseits zu verwenden, wodurch die Substrathalter 11, 13 relativ zu den entsprechenden ersten Bauteilen 47, 49 über kleine Distanzen mit hohen Genauigkeiten parallel zur X-Richtung, parallel zu Y-Richtung und parallel zur Z-Richtung verschiebbar werden, wobei der Substrathalter 11, 13 relativ zu dem entsprechenden ersten Bauteil 47, 49 um begrenzte Winkel um eine Drehachse parallel zur X-Richtung drehbar, eine Drehachse parallel zur Y-Richtung drehbar und eine Drehachse parallel zur Z-Richtung drehbar wird. Solche XYZ-Lorentzkraftbetätiger können auch beispielsweise in den Positioniervorrichtungen 97 und 179 zum Ersatz der XY-Lorentzkraftbetätiger und den hierin verwendeten aerostatisch gelagerten Füßen verwendet werden.

Claims (9)

  1. Lithographievorrichtung, folgendes aufweisend: eine Strahlungsquelle (9) zum Bereitstellen eines Lichtstrahls zur Beleuchtung einer Maske (35); einen ersten Objekthalter (7) zum Halten der Maske (35); ein Projektionssystem (5) zum Abbilden eines Maskenmusters auf ein Substrat; einen zweiten Objekthalter (11, 13) zum Halten eines Substrates; und: eine Verschiebungseinheit zum Verschieben eines der Objekthalter in Bezug auf eine Basis der Vorrichtung in X- und Y-Richtungen, wobei die Verschiebungseinheit erste und zweite Bauteile aufweist, die relativ zueinander verschiebbar sind und beim Betrieb wechselseitig eine Antriebskraft aufeinander ausüben, wobei das erste Bauteil der Verschiebungseinrichtung mit dem genannten einen der genannten Objekthalter gekoppelt ist, dadurch gekennzeichnet, dass das zweite Bauteil der Verschiebungseinheit mit einer Ausgleichseinheit (69) gekoppelt ist, die verschiebbar in Bezug auf die Basis geführt ist, sodass sie in den X- und Y-Richtungen bewegbar und um zumindest eine Achse drehbar ist, die parallel ist zur Z-Richtung.
  2. Lithographievorrichtung gemäß Anspruch 1, wobei die Ausgleichseinheit (69) über eine Führungsfläche (79) mittels statischer Gaslager verschiebbar geführt ist.
  3. Lithographievorrichtung gemäß einem der Ansprüche 1 oder 2, weiterhin ausgerüstet mit einer Anti-Drift-Einrichtung (89) zum Ausüben einer relativ kleinen Anti-Drift-Kraft auf die Ausgleichseinrichtung (69), wodurch ein Abdriften der Ausgleichseinheit (69) verhindert ist.
  4. Lithographievorrichtung gemäß Anspruch 3, wobei die Anti-Drift-Einrichtung eine mechanische Feder (91, 93, 95) aufweist.
  5. Lithographievorrichtung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4 mit weiterhin einem dritten Objekttisch zum Halten eines zweiten Substrates, wobei die genannte Verschiebungseinrichtung vorgesehen ist zum Verschieben der zweiten und dritten Objekttische, und weiterhin aufweisend dritte und vierte Bauteile, die relativ zueinander verschiebbar sind und beim Betrieb eine Antriebskraft wechselseitig aufeinander ausüben, wobei das genannte dritte Bauteil mit dem dritten Objekttisch gekoppelt ist und das genannte vierte Bauteil mit der Ausgleichseinheit (69) gekoppelt ist.
  6. Lithographievorrichtung gemäß Anspruch 5, wobei die genannte Ausgleichseinheit (149) ein gemeinsamer Stützkörper für die zweiten und dritten Objekthalter ist und eine obere Fläche aufweist, die als Führungsfläche für die genannten zweiten und dritten Objekthalter dient.
  7. Lithographievorrichtung gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Kraftbetätiger der genannten ersten und zweiten Verschiebungseinheiten ausschließlich Lorentz-Kräfte erzeugen.
  8. Lithographievorrichtung gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die ersten und zweiten Verschiebungseinrichtungen planare elektromagnetische Motoren aufweisen.
  9. Verfahren zum Herstellen einer Halbleitereinrichtung unter Verwendung einer Lithographievorrichtung, wobei das Verfahren die folgenden Schritte aufweist: – Projizieren eines Bildes eines Maskenmusters einer Maske (35), die in einem ersten Objekthalter (7) gehalten ist, auf ein Substrat, das in einem zweiten Objekthalter (11, 13) gehalten ist; – Verschieben von einem der genannten ersten und zweiten Objekthalter (7, 11 13) relativ zu einer Basis der Lithographievorrichtung in X- und Y-Richtungen, unter Verwendung einer Verschiebungseinheit mit ersten und zweiten Bauteilen, die relativ zueinander verschiebbar sind und eine Antriebskraft aufeinander beim Betrieb ausüben, wobei das erste Bauteil der Verschiebungseinheit mit dem genannten einen der Objekthalter gekoppelt ist, dadurch gekennzeichnet, dass das zweite Bauteil mit einer Ausgleichseinheit (69) gekoppelt ist, die verschiebbar in Bezug auf die Basis geführt ist, sodass sie in den X- und Y-Richtungen bewegbar und um zumindest eine Achse parallel zur Z-Richtung drehbar ist.
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