WO2001061383A1 - Corps a forme irreguliere, feuille reflechissante et element d'affichage a cristaux liquides de type reflechissant, et dispositif et procede de production correspondants - Google Patents

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WO2001061383A1
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light
convex
concave
substrate
reflector
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PCT/JP2001/001140
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Seiji Nishiyama
Naohide Wakita
Hirofumi Kubota
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Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
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    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133553Reflecting elements

Definitions

  • the present invention provides a reflective plate and a reflective liquid crystal display device which can realize a bright and good image display with low power consumption by using ambient light. And its manufacturing method and manufacturing apparatus. Background technology
  • the reflection type liquid crystal display device performs display by reflecting external light from a reflection plate provided inside the liquid crystal display device. Therefore, unlike a conventional transmissive liquid crystal display device, the need for a light source as a light source is eliminated. As a result, power consumption is lower than that of a transmissive liquid crystal display device.
  • Mobile phones and portable information terminals are being installed as display devices that can be integrated.
  • Reflective liquid crystal display devices use liquid crystal display modes such as TN (Twisted Nematic), STN (Suoer Twisted Nematic), GH (Guest-Host), and PDLC (Polymer Dispersed Liquid Crystal). And substrates with TFTs (Thin Flat Transitor) and TFDs (Thin Flat Diodes), which are elements for writing video signals and video signals. Or a substrate with a simple matrix drive method, and a reflective plate provided inside or outside of the liquid crystal display element to reflect external light. Yes.
  • a concave-convex shape is usually formed on the surface of the reflector in order to impart scattering properties to the reflector.
  • the pitch of the convex shape is in the range of l ⁇ m to 100 zm
  • the height of the concave and convex is in the range of 0.1 zm to 10 / m
  • the height of the concave and convex is The angle of inclination is 0 to 30 degrees with respect to the horizontal plane of the substrate, and the interval from the concave-convex peak to the peak is irregular (Japanese Patent Publication No. 6-163090). Gazette).
  • a reflector having an irregular uneven structure, and the average distance between adjacent protrusions or recesses is in the range of 1 zin to 80 zm. — 1 8 4 8 4 6).
  • the reflector limits the scattering to a certain viewing angle range, concentrates the scattered light in this specific range, and provides a uniform brightness within that range. Is considered to be optimal if the scattering properties are controlled so that
  • Diffraction gratings emit light of high intensity in a particular direction for a particular wavelength. As described above, rainbow-like coloring is perceived due to the wavelength dependence of the diffraction grating, and white light scattering is impaired.
  • the reflective liquid crystal panel reflects outside light for display, so sufficient display performance can be obtained in environments with strong outside light, such as outdoors, but visibility in dark indoors or at night. Is extremely reduced.
  • the concave-convex structure is formed from a plurality of layers by repeating the process of applying and exposing the photosensitive polymer film, performing the development process, and then performing the thermal annealing process. Thus, a concave-convex structure was formed.
  • the reflectance of the panel toward the observer is determined by the concave and convex shape of the reflective layer. In this case, it is necessary to maintain a high brightness in the range from the front to the polar angle of 30 ° with ideal reflection characteristics.
  • the reflection type liquid crystal display element is a method of displaying an image by reflecting external light, and does not require a light source such as a knock light unit. Therefore, compared to the conventional transmissive liquid crystal display device, low power consumption, thinness, and light weight can be achieved.
  • the display mode of this reflective liquid crystal display device is a TN (Twisted Nematic) method, an STN (Super Twisted Nematic) method, or a guest-host method including a dichroic dye. They are mainly used.
  • incident light is reflected and scattered in the direction of the normal viewing angle perpendicular to the display screen. Need to increase the light intensity. Furthermore, regarding incident light, not only does external light incident at a fixed angle from a predetermined direction be reflected and scattered in the normal viewing direction, but also in various directions. At any angle Similarly, it is desirable that the incident external light be reflected and scattered in the normal viewing direction. Therefore, it is necessary to manufacture a reflector having optimal reflection characteristics so that external light incident from any direction can be efficiently used as display light. It becomes.
  • the optimum reflection characteristic means that the reflection plate has a characteristic of reflecting incident light in a wide range and with high reflectance.
  • the incident light is reflected only in the specular direction, and the specular In other directions, the reflectance was low. Therefore, there is a problem in that the display screen becomes extremely dark in a viewing direction of a viewer such as a normal viewing angle direction, which causes a significant deterioration in display quality. .
  • a pixel electrode having a reflection characteristic of reducing reflection of incident light to a specular reflection region is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-274814. It has been disclosed. According to this publication, as shown in FIG. 42, a reflective plate is made of a polymer on a substrate 211 on which a plurality of convex portions 211a and 211b are formed. A resin film 2103 is provided, and a pixel electrode 2104 is provided on the polymer resin film 2103. The surface of the pixel electrode 210 is in a continuous wave shape. The following method is used as a method of forming the above-mentioned reflector. First, as shown in FIG.
  • a resist film 2111 made of a photosensitive resin is formed on a substrate 2101 by a spin coating method. After application, pre-bake at the specified processing temperature. Subsequently, as shown in FIG. 42 (b), a photomask 2105 is used to dispose and expose the resist film 211 over the resist film 211. Then, as shown in FIG. Next, development is performed using a developing solution, and as shown in FIG. 42 (c), convex portions 2 1 1 2 a, 2 1 1 2 having different heights are formed on the substrate 2 101. b is formed. Then, as shown in Fig. 42 (d) In this way, the heat treatment is performed by heating the convex portions 211a and 211b at a predetermined temperature for one hour.
  • the convex portions 2111a and 211b are formed by rounding the corners of the convex portions 211a and 211b.
  • a polymer resin is spin-coated on the heat-treated substrate 211 to form a polymer resin film 210 3.
  • a pixel electrode 2104 is formed on the polymer resin film 2103 by a snow ring method (FIG. 42 (f)).
  • the inclination angles of the protrusions 2111a and 2112b (the minute surface on the concave-convex picture element electrode surface and the substrate surface are formed). Angle) to improve the reflection characteristics.
  • the manufacturing process margin is small, so it is desirable.
  • the reflector cannot be manufactured.
  • the manufacturing process margin can be increased is an important issue in the actual manufacturing process.
  • the shape is controlled by reflow by heating, and the second resist is applied. Therefore, there was a problem that the cost decreased due to a decrease in tact time. Disclosure of the invention
  • the present inventors have completed a first invention group to a third invention group in order to solve the problems of the prior art.
  • the purpose of the first invention group is to provide a reflection plate having ideal reflection characteristics and less coloring, and a reflection type liquid crystal display device having the reflection plate and a good display quality. It is to be .
  • An object of a second invention group is to provide a concave-convex structure, a reflecting mirror and a lens, and a manufacturing method and a manufacturing apparatus thereof, which can easily manufacture an uneven structure. is there .
  • the purpose of the third invention group is to control the inclination angle of the concave-convex reflecting surface with high accuracy by having a large manufacturing process margin. It is intended to provide a reflection plate excellent in contrast characteristics and paper whiteness, a reflection type liquid crystal display device using the reflection plate, and a method for manufacturing the same. .
  • the purpose of the third invention group is to simplify the manufacturing process, thereby improving the evening and reducing the manufacturing cost. It is an object of the present invention to provide a reflection plate, a reflection type liquid crystal display device using the reflection plate, and a method for manufacturing the same.
  • the first invention group has a plurality of microscopic elements that are scattered or reflected, and has a plurality of types of regions having different optical characteristics. It is characterized by Further, there may be a case in which a plurality of minute elements for scattering or reflecting are arranged and a plurality of types of regions having different polarization characteristics are arranged. Further, there may be a case in which a plurality of minute elements for scattering or reflecting are arranged and a plurality of regions having different reflection characteristics are arranged.
  • the term "element” refers to a component for providing a scattering property in a reflector having a scattering property. For example, in the case of a reflector provided with a scattering property by a concave-convex shape, the convex or concave portion formed on the surface of the reflector is referred to as “element”.
  • the present invention may be configured so that the diffraction angles of the reflected light in a plurality of types of regions are different. Specifically, the configuration is such that the average pitch between the elements is different, or the configuration is such that the minimum and maximum diffraction angles from multiple types of regions substantially overlap. .
  • the arrangement of elements may be regular or periodic.
  • a plurality of types of regions have anisotropy in the arrangement of the elements or the shape of the elements, and the orientation of the anisotropy is different in each region. In some cases.
  • the present invention includes a color filter having a transmission characteristic for controlling diffracted light from a plurality of types of regions. With such a configuration, the diffracted light from the color filter corresponding to the RGB region is superimposed, and the color is formed by white shading. Sticking can be suppressed.
  • a second invention group includes a concave-convex body having a concave-convex structure portion on a substrate, wherein the concave-convex structure portion includes a photosensitive material containing a light-absorbing substance. It is characterized by containing a conductive polymer. Another feature is that the concave-convex structure portion contains a photosensitive polymer containing a light-scattering substance.
  • a concave-convex structure having a predetermined inclination angle By using a photosensitive polymer containing a light-absorbing substance or a light-scattering substance and performing backside exposure and development processing, a concave-convex structure having a predetermined inclination angle can be obtained. This will be.
  • the present invention can be applied to a concave-convex body having a concave-convex structure portion, a scattering reflector, and further to a liquid crystal display element using the scattering reflector.
  • the first invention of the third invention group is provided with a plurality of projections obtained by melting and deforming a column made of a photosensitive resin material.
  • An anti-reflection film having a substrate and a light-reflective thin film covering the projection.
  • the photosensitive resin material may be defined as a straight line connecting a predetermined point on the outer peripheral edge of the bottom surface of the convex portion and a vertex of the convex portion, and an angle between the bottom surface of the convex portion and an average inclination angle of the convex portion.
  • the cross section of the columnar body may be circular, oval, polygonal, or any other irregular shape.
  • the “representative dimensions” in the present invention include not only the height and width of the column, but also the cross-sectional area of the column. Therefore, the term "aspect ratio" is used as a concept that includes not only the height of a column / width of a column, but also, for example, the height / cross section perpendicular to an axis. .
  • a second invention is characterized in that in the reflector according to the first invention, the aspect ratio is a ratio of a height to a width of the columnar body.
  • the "width of the columnar body” means, for example, the diameter or radius of the cross section when the columnar body is a columnar body, and the short side of the cross section when the columnar body is an elliptical columnar body. Means axis or major axis.
  • a third aspect of the invention is a method for manufacturing a reflector, which comprises forming a concave-convex thermoplastic resin layer composed of a thin film portion and a plurality of columnar portions on a substrate.
  • a heat treatment By subjecting the substrate on which the plurality of columnar portions are formed to a heat treatment, the columnar portions are melted and deformed to form a plurality of convex portions having a predetermined average inclination angle.
  • a heat treatment step and a step of forming a light-reflective thin film on the convex portion, wherein the resin material connects a predetermined point on the outer peripheral edge of the bottom surface of the convex portion with a vertex of the convex portion.
  • the angle formed is the average inclination angle of the projections, and the aspect ratio, which is indicated by the ratio of two representative dimensions that define the shape of the columnar body, is gradually increased from a value near 0.
  • the average tilt angle reaches a local maximum value through the process of rising and falling, and then converges to a constant value through the process of lowering.
  • the set value of the aspect ratio of the columnar body obtained in the resin layer forming step is larger than the starting point at which the column starts to converge to the constant value. It is characterized by an aspect ratio.
  • the aspect ratio that is larger than the starting point at which the average inclination angle starts converging to a constant value is determined as the aspect ratio of the columnar body.
  • the manufacturing process margin can be made much larger than in the conventional example. Therefore, a convex portion having a high-precision average inclination angle can be formed without being affected by a processing error or the like. As a result, a reflector having excellent reflection characteristics can be obtained.
  • the columnar body not only the photolithography method, but also a method such as a rectangular shape may be used.
  • the term “thin film portion” is equivalent to the “residual film” in the invention according to claim 4 using a photolithographic method.
  • a fourth invention is a method for manufacturing a reflector having a plurality of convex portions obtained by melting and deforming a columnar body made of a photosensitive resin material, wherein the photosensitive resin material is formed on a substrate.
  • the aspect ratio which is defined as the ratio of the two representative dimensions that define the shape of the columnar body, is gradually increased from a value near 0, It has an aspect ratio-average tilt angle characteristic such that the average tilt angle reaches a local maximum value through a rising and falling process, and then converges to a constant value through a descending and descending process.
  • the set value of the aspect ratio of the columnar body obtained in the developing step is set to a value larger than a starting point at which the column starts to converge to the constant value. It is characterized by
  • the manufacturing process margin can be significantly larger than that of the conventional example. Therefore, it is possible to form a convex portion having a high-precision average inclination angle without being affected by a processing error or the like. As a result, it is possible to obtain a reflection plate having excellent reflection characteristics.
  • the conventional manufacturing method using the photolithography method requires a step of forming a resin layer covering the projections before forming the light-reflective thin film.
  • the manufacturing method of the present invention does not require such a resin layer forming step. Therefore, the manufacturing process is simplified as compared with the conventional example, and the evening is improved.
  • the photosensitive resin material is a low registry material.
  • the aspect ratio-average tilt angle characteristic is determined by setting a heating temperature at which the columnar body is heated.
  • the heating temperature is set to a heating temperature corresponding to the predetermined average inclination angle of the projection.
  • the aspect ratio-average tilt angle characteristic increases the thickness of the residual film.
  • the convergence value of the average tilt angle changes to a small value, and the convergence value of the average tilt angle changes to a large value when the thickness of the remaining film is reduced.
  • Exposure to the photosensitive resin in the exposing step so that the thickness of the residual film obtained after the developing step becomes a thickness of the residual film corresponding to the predetermined average inclination angle of the projection. It is characterized in that the amount is adjusted.
  • the aspect ratio is in a range of 0.05 to 0.7. It is a feature.
  • a ninth invention is directed to the method for manufacturing a reflector according to the fourth invention, wherein the thickness of the photosensitive resin film in the coating step is in a range of 1 m to 10 m. It is characterized by the following.
  • the thickness of the photosensitive resin film is regulated for the following reasons. In other words, if the thickness of the photosensitive resin layer is smaller than 1 m, the concave-convex difference on the surface of the light-reflective thin film becomes small, and the light is reflected in the regular reflection direction. Is not desirable because it increases. Also, if the thickness of the photosensitive resin layer is as large as 10 m or more, the difference between the irregularities becomes too large, for example, the light is reflected from the reflector. This is because, when applied to a liquid crystal display device of the type, the nonuniformity of the cell gap is too large, which leads to deterioration of display quality such as display unevenness.
  • the tenth invention is the same as the photosensitive resin material prior to the application step of applying the photosensitive resin material on the substrate in the method for manufacturing a reflector according to the fourth invention. It is characterized by having a step of forming a film of a photosensitive resin material on a substrate.
  • the eleventh invention is different from the above-mentioned photosensitive resin material in the method for manufacturing a reflector according to the fourth invention, prior to a coating step of coating a photosensitive resin material on a substrate.
  • the photosensitive resin layer formed on the substrate may be composed of a plurality of layers, and the photosensitive resin serving as the underlayer is the same as the photosensitive resin of the upper layer.
  • the same material or different materials can be used.
  • the aspect ratio is a ratio of a height to a width of the columnar body. It is characterized by
  • a thirteenth aspect of the invention is a reflection type liquid crystal display element, wherein a substrate is provided on one side and a reflection plate according to claim 1 is provided on the other side with a liquid crystal display layer interposed therebetween.
  • a reflective liquid crystal display element having excellent contrast characteristics and paper whiteness is configured.
  • a fourteenth invention is directed to a reflective liquid crystal display element comprising a reflector, a substrate provided to face the reflector, and a liquid crystal display layer sandwiched between the reflector and the substrate.
  • the reflector is manufactured by the method according to the third invention.
  • the reflection type liquid crystal display element can be manufactured.
  • the fifteenth invention is directed to a plurality of convex portions arranged concentrically or side by side, and a columnar body made of a photosensitive resin material, which is arranged concentrically or side by side, is melt-deformed. And a light-reflective thin film covering the protrusions, and the incident light is reflected by reflection diffraction.
  • the photosensitive resin material includes a straight line connecting a predetermined point on the outer peripheral edge of the bottom surface of the convex portion and a vertex of the convex portion;
  • the angle formed with the bottom surface is defined as the average inclination angle of the projection, and the aspect ratio, which is indicated by the ratio of the two representative dimensions that define the shape of the columnar body, gradually increases from a value near 0.
  • the mean inclination angle increases, the average inclination angle reaches a maximum value through a rising and falling process, and then reaches a constant value through a falling process. It has an aspect ratio-to-average inclination characteristic such that the bundles are bundled, and the average inclination angle of the plurality of projections is equal to the aspect ratio-to-average inclination angle characteristic.
  • the convergence value is characterized in that
  • a diffraction grating reflector having a wide color reproduction range is configured.
  • the aspect ratio is a ratio of a height to a width of the columnar body. And are characterized.
  • a substrate is provided on one side and a diffraction grating type reflection plate according to the fifteenth aspect is provided on the other side with a liquid crystal display layer interposed therebetween. And are characterized.
  • a reflective liquid crystal display device including a diffraction grating reflector having a wide color reproduction range is configured.
  • the eighteenth invention has a feature in which a plurality of protrusions obtained by melting and deforming a columnar body made of a photosensitive resin material are used to split incident light by reflection diffraction.
  • a coating step of coating a photosensitive resin material on a substrate; and a photo-sensitive resin material film obtained by the coating step An exposure step of irradiating light via a photomask having a light-shielding portion patterned in a predetermined shape, and developing the photosensitive resin film irradiated with light.
  • the angle between the straight line connecting the predetermined point on the edge and the convex vertex and the convex bottom surface is defined as the average inclination angle of the convex, and two representative dimensions that define the shape of the columnar body.
  • the aspect ratio indicated by the ratio gradually increases from a value near 0, the average inclination angle reaches a local maximum value through a rising change process, and then goes through a falling process. And has an aspect ratio-average tilt angle characteristic that converges to a constant value, and the set value of the aspect ratio of the columnar body obtained in the developing step is adjusted.
  • the feature is that the aspect ratio is larger than the starting point at which convergence to the constant value starts.
  • a diffraction grating reflector having a wide color reproduction range can be manufactured.
  • a nineteenth aspect of the present invention is the method of manufacturing a diffraction grating reflector according to the eighteenth aspect, wherein the aspect ratio is a ratio of a height to a width of the columnar body. It is characterized by this.
  • a twenty-second invention is a reflective liquid crystal display device comprising a reflector, a substrate provided so as to face the reflector, and a liquid crystal display layer sandwiched between the reflector and the substrate.
  • the reflection plate may be arranged in the same manner as in the eighteenth invention. It is characterized by being manufactured by the law.
  • FIG. 1 is an oblique view of the reflector according to Embodiment 11;
  • FIG. 2 is a diagram for explaining a process of manufacturing the reflection plate of FIG.
  • Figure 3 is a diagram for explaining the measurement of scattering characteristics.
  • FIG. 4 is a diagram showing the scattering characteristics of the reflector of FIG.
  • FIG. 5 is a diagram showing the scattering characteristics of the reflector of Comparative Example 1.
  • FIG. 6 is an oblique view of the reflector according to Embodiment 1-2.
  • FIG. 7 is a diagram showing the scattering characteristics of the reflector of FIG.
  • FIG. 8 is a diagram showing the scattering characteristics of the reflector of Comparative Example 2.
  • FIG. 9 is an oblique view of the reflector according to Embodiments 13 to 13.
  • FIG. 10 is an oblique view of the reflector according to the first to fourth embodiments.
  • FIG. 11 shows d and d B so as to satisfy equations 3, 4, and 5. It is a diagram for explaining a determined example.
  • FIG. 12 is a perspective view of the reflector according to the embodiment 115
  • FIG. 13 is a perspective view of the reflector according to the embodiment 16.
  • FIG. 14 is a cross-sectional view of the liquid crystal display element of Embodiment 2-1.
  • Figure 15 is a graph showing the relationship between the thickness of the resist containing the dye and the transmittance.
  • FIG. 16 is a principle view showing a method of manufacturing the concave-convex structure portion according to Embodiment 2-1.
  • FIG. 17 is a diagram showing the relationship between the light absorptivity of the photosensitive polymer and the average tilt angle.
  • FIG. 18 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device according to Embodiment 2-3.
  • FIG. 19 is a cross-sectional view of the liquid crystal display element of Embodiments 2-5.
  • FIG. 20 is a principle diagram showing the method of manufacturing the uneven structure according to the second to fifth embodiments.
  • FIG. 21 is a cross-sectional view of a multilayer structure such as two layers composed of photosensitive polymers 2556A and 256B.
  • FIG. 22 is a configuration diagram of an array substrate of a liquid crystal display element according to Embodiments 2 to 6.
  • FIG. 23 shows a pixel configuration of the liquid crystal display element of Embodiments 2-7.
  • FIG. 24 is a diagram showing a state in which the exposure light is irradiated as a diffracted light onto the photosensitive resist.
  • FIG. 25 is a principle view showing the method of manufacturing the uneven structure according to the present embodiment 2-7.
  • FIG. 26 shows the principle of the substrate manufacturing apparatus of the present invention.
  • FIG. 27 is a principle view of an exposure apparatus used in Embodiments 2-9.
  • FIG. 28 is a cross-sectional view of a principal part of the reflector according to Embodiment 31-11.
  • FIG. 29 is a plan view of the reflector according to Embodiment 3-1.
  • FIG. 30 is an enlarged sectional view of the convex portion 304.
  • FIG. 31 is an enlarged perspective view of the convex portion 304.
  • FIG. 32 is a flowchart showing a manufacturing process of the reflector according to Embodiment 3-1.
  • FIG. 33 is a cross-sectional view showing a manufacturing step of the reflector according to Embodiment 3-1.
  • FIG. 37 is a cross-sectional view of a main part of a reflective liquid crystal display device using the reflector of Embodiment 3-1.
  • FIG. 38 is a cross-sectional view showing a manufacturing step of the reflector according to Embodiment 3-2.
  • Figure 39 is a characteristic diagram of the low y register.
  • FIG. 40 is a plan view of a principal part of the reflector according to Embodiment 3-3.
  • FIG. 41 is a cross section taken along the line X--X of FIG. 40.
  • FIG. 42 is a cross-sectional view showing steps of a conventional manufacturing method. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • a plurality of types of regions having different optical characteristics for example, polarization characteristics and reflection characteristics
  • a plurality of minute elements that scatter or reflect are arranged. It is characterized by having a reflector.
  • element means a means or a structure that generates scattering or reflection, for example, a convex or concave portion, and a concave or convex structure other than a convex or concave structure. This also applies to means and structures that can change the direction of light reflection.
  • Embodiments 11 to 11 will be described below as specific examples of the first invention group, and the contents of the first invention group will be described below.
  • Embodiment 11 is characterized in that at least two or more types of regions in which projections are regularly or periodically arranged on a reflection plate are formed. This is an effect, and the effect of such a configuration is that the coloring becomes less visible.
  • Embodiment 11 In order to facilitate understanding of Embodiment 11, prior to describing the specific configuration of Embodiment-1, the principle of Embodiment 11 shall be described. To facilitate understanding of Embodiment 11, prior to describing the specific configuration of Embodiment-1, the principle of Embodiment 11 shall be described. To facilitate understanding of Embodiment 11, prior to describing the specific configuration of Embodiment-1, the principle of Embodiment 11 shall be described.
  • a convex or concave portion that is in contact with a constant pitch interval is formed so as to have a periodicity.
  • the pitch at this time is dl ⁇ m.
  • Yo I Do to have One to reflector this, and against the shaft forming the Ni protrusions Let 's that have a periodic property, the incident angle one i 0.
  • the emission direction of the diffracted light at this time is ⁇
  • the wavelength of the diffracted light is m
  • the refractive index of the liquid crystal material layer is n
  • m is an integer
  • i 1 sin ⁇ 1 ( ⁇ ⁇ X10 _3 + sini 0 )
  • Equations 1 and 2 are each a function of the wavelength; I, the pitch that is the spacing between adjacent protrusions or recesses. Therefore, if the pitch is different, the position where the peak of the diffracted light is observed will be different.
  • the angle is ii. And a peak is observed at i 2 °. Therefore, if the wavelength of the diffracted light at this time is, for example, a green wavelength, the angle at which the green color is colored increases. On the other hand, since the amount of incident light is constant, the observer observes the image as if the green color is faint.
  • white light is basically derived from the three primary colors of RGB, namely, R light (red), G light (green light), and B light (blue). Therefore, it is necessary to consider R, G, and B components separately. Then, if there is a portion where the diffraction lights from the areas of the pitches dl and d 2 on the reflector overlap each other, the R, G and B also overlap. The area where the colors are combined also expands, and the effect of reducing the intensity of each color also decreases the coloring. That is, the coloring is less visible to the observer.
  • FIG. 1 is an oblique view of the reflector according to Embodiment 11;
  • the reflecting plate 11 in this embodiment has a different distance between adjacent convex portions.
  • a method for manufacturing this reflector will be described with reference to FIG.
  • a resist 22 is placed on one side of a glass substrate 21 (product name: Corning 1737) having a thickness of 0.7 mm.
  • a JSR post-type resist PC403 is formed to a thickness of 1.5 zm by a spin coating method.
  • pre-baking was performed at 90 ° C for about 120 seconds, for example, on a hot plate.
  • a photo mask 23 on which a predetermined pattern is formed is exposed.
  • the concave / convex shape on the reflector surface can be controlled by the thickness of the resist, the shape or density of the light-transmitting or light-shielding part of the photomask 23, etc. I can do it.
  • a portion corresponding to the region A has a diameter of 7 ⁇ and a circular light-shielding portion having an interval of 9 wm, and a portion corresponding to the region B has a diameter of 5 ⁇ m.
  • the one having a circular light-shielding portion pattern with a spacing of 7 m was used.
  • the diameter of the circle is preferably from 2 zm to 1, more preferably from 3 m; 10 m.
  • the spacing is preferably from 3 m to 2, more preferably from 5 ⁇ ⁇ to 1 m.
  • the exposure amount was 60 mJ / cm 2 .
  • TMAH trimethylammonium ammonia, idloxide
  • NMD-3 manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
  • the substrate is preferably heated to 80 ° C (up to 220 ° C for 3 to 120 minutes.
  • the substrate is heated at 150 ° C for 5 minutes. For a minute.
  • a convex portion 26 having a smooth convex shape with a corner of the convex portion 24 formed is formed.
  • a resist 27 was applied to the projection 26.
  • the resist 27 is made of the same material as the projection 26 (24), and the resist 27 is made to have a thickness of 0.3 ⁇ m by spin coating. It was applied. Further, by heating at 220 ° C. for 60 minutes, the resist 27 generates heat and smooth irregularities are formed.
  • a metal film 28 serving as a light reflection layer is formed.
  • Al, AlTa, Ag, AgPdCu, or the like is suitable.
  • A1 is 200 0 A film was formed.
  • FIG. 3 shows a pseudo-panel in which a reflection plate 11 is made of a material having a refractive index substantially equal to that of a liquid crystal material, for example, an ethylene glycol 32 is formed with a counter substrate 33.
  • the incident light 35 from the light source 34 and the incident angle 36 are i. Please arrange so that it becomes.
  • the incident light 35 incident on the pseudo panel 31 is reflected by the reflector 11, and the luminance of the reflected light 37 at this time is measured by the luminance meter 38.
  • the luminance was measured while the luminance meter 38 was rotated around the measurement point 39 of the reflector in the range of the measurement angle 40.
  • Figure 4 shows 30. This is the scattering characteristics obtained by making incident light impinge on the pseudo panel 11 from the direction, emitting a white beam from the light source to the reflector, and measuring with a luminance meter.
  • green and red filters are inserted in front of the light source 34, and the green light is turned on.
  • FIG. 6 is an oblique view of the reflecting plate in Embodiment 1-12.
  • the reflecting plate 61 in this embodiment has a gap between adjacent convex portions.
  • Two types of A region 62 and B region 63 having the same orientation but different orientations are formed.
  • the coordinate axis 64 shown in FIG. 6 is set so that the angle 66 formed by the straight line 65 indicating the arrangement direction of the projections is 90 °.
  • the azimuth angle 02 is set to 30 ° in the present embodiment.
  • the area B the area obtained by rotating the arrangement of the convex portions in the area A is referred to as the area B.
  • Fig. 7 shows the results obtained by injecting incident light into the pseudo panel 11 from the 30 ° direction, injecting a white beam from the light source into the reflector, and measuring with a luminance meter. It is a scattering characteristic. Further, in the measuring system shown in FIG. 3, green and red filters are inserted in front of the light source 34, and the luminance is similarly increased by the green light or the red light. As a result of the measurement, as shown in Fig. 7, the scattering characteristics of white 71, green 72, and red 73 are almost overlapped. I got it. This indicates that there is almost no coloring in the configuration of the reflector in the present embodiment. Also, when white light was incident on the reflector and the reflected image was magnified and projected on the screen, the coloring was hardly observed.
  • peaks were obtained in the white, green, and red specular directions in the scattering characteristics.
  • the angles of the peaks differed little by little, and the green was found to be off by about 3.5 ° from the specular direction and the red about 4 ° off the specular direction.
  • the peaks are 2.7 °, ie, 27.3 ° and 3.5 °, ie, 26 °. It is divided into points near 5 °, and the amount of light is distributed according to the area ratio of each area, so that each peak expands, In addition, since the luminance is reduced, coloring is suppressed. The same is true for blue and red.
  • FIG. 9 is an oblique view of the reflecting plate in the embodiment 13 c .
  • the reflecting plate 91 used in this embodiment has pixels 92 2 2
  • the projections are arranged so that they have periodicity.
  • two types of A region 93 and B region 94 having different intervals between adjacent convex portions are formed on the reflecting plate 91.
  • the protrusions 95 formed in the A region 93 are arranged so that the distance D1 between the adjacent protrusions is 9 m, and the protrusions 95 are formed in the B region 94.
  • the convex portions 96 are arranged such that the distance D 2 between adjacent convex portions is 7 ⁇ m. Areas A and B are formed in each pixel.
  • the reflection is performed using the measuring apparatus shown in FIG. 3 under the same conditions as in the case of Embodiment 11 above.
  • the characteristics were evaluated, it was possible to obtain reflection characteristics without coloring, that is, good characteristics with high uniformity at any part.
  • Embodiment 14 is a reflector in which the regions where the elements are regularly arranged in the corresponding color field are different from each other. It is characterized in that at least two or more types of the regions are formed, and it is said that coloring becomes less visible due to such a configuration. The effect is obtained.
  • the principle of Embodiment 1-4 will be described. And. [Explanation of Principle] When a concave shape is formed on the reflector, adjacent convex portions or concave portions are formed at regular intervals of pitch. The pitch at this time is dlzm. For such a reflector, the angle of incidence is i 0 .
  • the light beam passes through the color filter, so that it is only in a specific wavelength range. It is assumed that the light passes through the green portion of the color filter, and as a result, only light having a wavelength of G nm is transmitted. If the interval of green corresponding to that is rather also protrusions you adjacent to the partial recess of this is you and d G / zm, the emission Direction area of this or et diffracted light i 3 ° is an integer of m As a number
  • Intervals d R of each rather also recesses that Sessu adjacent convex portions in a region that corresponds to Ca La monounsaturated I le evening one RGB to cormorants yo above, d G, If you and d B ⁇ m Then, the diffracted light of each wavelength has a peak at the same measurement angle. As a result, the diffracted light from each region overlaps and becomes white, thereby suppressing the coloring.
  • FIG. 10 is an oblique view of the reflector in the first to fourth embodiments.
  • the reflectors 101 in this embodiment include pixels 104, 105, and 106 corresponding to the color filter 1102 on which RGB is formed.
  • two types of A region and B region in which the interval between the adjacent convex portions 103 is different are formed respectively. That is, pixel 104 has A region 107 and B region 108 formed therein, and pixel 105 has A region 109 and B region 110 formed therein.
  • an A region 111 and a B region 112 are formed in the pixel 106.
  • the angle at which peaks can be observed is broader on a reflector with adjacent convex or concave portions formed at different intervals for each pixel. Therefore, coloring with green light is alleviated. The same is true for red and blue. Therefore, when looking at the entire color filter, a specific color is unlikely to occur at a specific angle, and the whitened portion increases.
  • the distance between the adjacent convex portions in the region corresponding to the RGB of the color file is d or dB ⁇ m
  • the diffraction at each wavelength is obtained.
  • the light will have a peak at the same measurement angle.
  • the diffracted lights from the respective regions are superimposed on each other, and the coloring is suppressed by whitening.
  • FIG. 12 is an oblique view of the reflecting plate 1201 according to Embodiment 115.
  • the reflector 122 has two regions 1204 and 1205 in which rectangular pillars 1202 and 1203 of different sizes are formed. Exists. Also, the directions of forming the rectangular pillars 122 and 123 are different from each other. The heights of the rectangular pillars 1202 and 1203 are both 0.3 zm, the width of the rectangular pillar 122 is 7 m, The width of the rectangular pillars 123 was taken as the width, and the spacing between the rectangular pillars 122 and 123 was taken as 2 / m.
  • FIG. 13 is an oblique view of the reflector according to the embodiment 116.
  • the reflector 1301 has two types of regions 133 on which the polarization of the reflected light is different. 0 2 and 130 3 are formed. Element 13304 is formed in the region 1302, and element 135 is formed in the region 1303.The arrangement or shape of these elements is different.
  • the polarization of the diffracted light 1306 from the reflected light on the region 13 02 is different from that of the diffracted light 13 07 from the reflected light on the region 13 03. What is it. That is, when each of the diffraction lights 13 06 and 13 07 is decomposed into polarized light components, the polarized light components are different from each other.
  • reference numeral 1309 denotes a polarization component of the diffracted light 1306, and reference numeral 1310 denotes a polarization component of the diffracted light 1307.
  • the transflective liquid crystal display device has the following configuration: 1) a front light and a reflective liquid crystal display element, and 2) a reflector having both a reflective region and a transmissive region. 3) Reflective liquid crystal display element and back light, 3) For forming reflective plate elements such as reflective liquid crystal display element with semi-transparent reflective plate and back light More feasible as well.
  • each of the reflectors is manufactured by a photolithographic process.
  • the present invention is not limited to this.
  • the reflector according to the present invention can be similarly formed by printing using a printing plate or printing by an ink jet. It can be manufactured.
  • the present invention can be similarly performed in a concave portion. Further, the present invention can be similarly implemented as long as the “element” is not limited to the concave-convex structure, but can change the light reflection direction.
  • a second invention group is directed to the invention of an uneven body having a concave-convex structure on a substrate. Therefore, the main purpose is to form the concave-convex shape of the concave-convex structure portion by subjecting a photosensitive polymer containing a light-absorbing substance to a backside exposure treatment and a development treatment. It is a characteristic that
  • a second embodiment will be described below.
  • the contents of the second invention group will be described with reference to Examples 2 to 9.
  • a reflector of a liquid crystal display element will be described as an example of a concave-convex body.
  • FIG. 14 is a cross-sectional view of the liquid crystal display element of Embodiment 2-1.
  • a TFT element 202 as a pixel switching element is formed on an array substrate 200, and a flattening layer 201 is formed thereon.
  • a concave-convex structure composed of one layer of photosensitive polymer 203 is formed on flattening layer 201.
  • a negative photosensitive polymer is used as the photosensitive polymer 203, and the negative photosensitive polymer (hereinafter referred to as a resist) absorbs light such as a dye. It is desired that the substance is contained. As shown in FIG. 15, the resist containing the dye absorbs light in the direction of the layer thickness, so that the transmittance changes according to the film thickness.
  • the exposure side of the layer has a high exposure amount, and the exposure amount decreases as going to the opposite side. Since the exposed part of the negative type resist is left behind, if exposed from the back side, as shown in Fig. 16, the residual film property increases closer to the substrate side and depends on the development process. As a result, an uneven structure having a convex inclined surface is formed.
  • a conductive material such as metal is used on the concave-convex structure formed in this way.
  • the reflective layer 204 is laminated to form a reflective electrode.
  • the reflective electrode is in contact with the TFT element 202 via the contact hole 210 opened in the planarizing layer 201, and the reflective electrode is connected to the reflective element.
  • the image signal is supplied to the reflection electrode.
  • the optical characteristics of the liquid crystal 205 sandwiched between the reflective electrode and a counter electrode (not shown) formed on the counter substrate 207 are controlled according to an image signal. It is done.
  • the change in the optical characteristics of the liquid crystal layer 205 is converted into a change in transmittance by the polarizer 209 and the retarder 208 disposed outside the counter substrate, and an image is displayed. It is.
  • the active matrix method using a TFT element is taken as an example, but the simple matrix method without using a TFT is also applicable. It goes without saying that such a reflected electrode can be applied.
  • the role of the reflective electrode and the operation of the liquid crystal display element described here are the same in the following embodiments.
  • FIG. 16 is a principle view showing a method for manufacturing a concave-convex structure portion in the present embodiment.
  • a convex portion 2 15 is formed.
  • the photosensitive polymer 203 contains a dye
  • the ultraviolet rays 214 are absorbed in the layer thickness direction, and the etching rate during development is increased in the layer thickness direction. Is different. Therefore, a concave-convex structure having an inclined surface is formed after development.
  • etching rate By making the etching rate different in the layer thickness direction in this way, it becomes possible to form an inclined surface in the concave-convex structure after development. As a result, a concave-convex structure is formed with a one-layer structure. Also use backside exposure This gives an upwardly convex configuration.
  • the etching rate at this time is determined by the layer thickness and the content of the dye, and can be set arbitrarily according to the inclination angle of the concave-convex structure. Also, the thicker the layer and the greater the absorption by the dye, the greater the layer change of the etching rate and the sharper the projection.
  • a specific method of manufacturing the concave-convex structure portion in the present embodiment based on the above principle will be described.
  • a negative photosensitive polymer 203 (OMR-83, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was applied in a film thickness on an array substrate 200.
  • the photosensitive polymer 203 contained a dye so that the light absorption at a wavelength of 405 nm was 80% when the film thickness was 2 / m.
  • Figure 17 shows the results obtained by performing the same treatment by changing the light absorptance at a film thickness of 2 / m according to the pigment content and measuring the average inclination angle of the uneven structure.
  • the average tilt angle increased exponentially. This is because the etching rate in the direction of the layer thickness is related to the light absorption.
  • the light absorptivity is 50% or less, the difference in the etching rate is small, and the average inclination angle is also 1-2.
  • the degree of reflection was small and the reflection characteristics were mirror-like, and a good reflection display could not be obtained.
  • the average tilt angle was 3 ° or more, and scattering performance began to occur.
  • the average tilt angle of 8 ° to 15 ° at which good reflection display was obtained was obtained with a light absorption of 70% or more. If the light absorption is too large, the exposure time will be long, so from the viewpoint of productivity, the light absorption does not exceed 95%. This is desirable.
  • the photosensitive polymer is of a negative type, it does not follow the above example.
  • the film thickness and the dye content can be arbitrarily set using the light absorptivity as an index, but for practical use, the film thickness is preferably 1 m or more and 5 ⁇ m or less. If the film thickness is 1 ⁇ m or less, there is a possibility of peeling during development. There is a title.
  • the register may be any negative type register other than the above example.
  • Embodiment 2-2 has the same configuration as that of FIG. 14 except that the photosensitive high molecule 203 has a negative type in which the shape of the concave-convex structure is not substantially changed by the thermal annealing after development. It is characterized by being composed of a register.
  • a concave-convex structure is formed in the same manner as in Embodiment 2-1, the residual film property of the resist changes in the direction of the layer thickness, so that it has an upwardly convex slope.
  • a concave-convex structure is formed.
  • This concave-convex structure formed by the resist does not change its shape due to heat, so it can be used for high-temperature processes such as alignment film and seal hardening during panel production. Even at the time of heat, there is an effect that the concave-convex structure is not deformed and good reflection characteristics can be obtained.
  • the upper layer resist was melted by thermal annealing to form an inclined surface, and shape control was difficult. With this configuration, a heat treatment step is not required, and the controllability of the uneven shape is increased, so that the productivity is greatly improved. Further, since heat treatment is not required, a plastic substrate having lower heat resistance than glass can be used for the substrate. [Method of manufacturing concave / convex structure on substrate]
  • photosensitive polymer 203 is a negative resist (0MR — 85, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.), whose shape of the uneven structure does not substantially change due to thermal annealing after development. This is different from Embodiment 2-1.
  • a substrate was produced in the same manner as in Embodiment 2-1. Then, 200 V / 30 minutes (hardening of the alignment film), which corresponds to the heat treatment step at the time of panel manufacturing, and 160 VI 120 minutes (sealing) are applied to the manufactured substrate. After curing, the shape of the concave-convex structure was observed with a laser microscope. As a result, the change in the average inclination angle before and after annealing is very small, about 10.5 ° before annealing and 9.4 ° and 1 ° after annealing, and the change is less than 10%. there were. In addition, the reflection characteristics were almost the same.
  • the level can be used for small panels of 2 "or less, even if the tilt angle distribution is taken into account. In addition, if it is less than 10%, it can be applied to medium-sized or larger-sized non-metal (3 "or more).
  • FIG. 18 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device of Embodiments 2-3.
  • a concave-convex structure of a structure in which a plurality of photosensitive polymers are laminated (photosensitive polymers 23 A, 23 B, and 23 C) is formed on the array substrate 200. It is characterized in that at least one layer is a negative-type photosensitive polymer. At this time, the negative resist is exposed to the back side, as described above. For this reason, an uneven structure having an inclined surface is formed.
  • the photosensitive polymer layer has a multilayer structure, an effect that the height of the concave-convex structure and the angle of the inclined surface can be more easily controlled can be obtained. Further, by making the negative resist layer the top surface, the vertices of the convex portions become smooth and the regular reflection portion is reduced, so that the visibility is improved.
  • the poly-type photosensitive polymers 2311A and 2311B are each 12 mm in diameter. m, thickness of 0.5 ⁇ m, diameter of 8 ⁇ m, thickness of 0.6 zm, and then negative photosensitive polymer C 2 3 1 C (OMR-83, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) ) Is applied at a film thickness of 2 / m and exposed on the back side to obtain a diameter of 4 ⁇ m and a thickness of 1.
  • a concave-convex structure having a total step of 2.3 in the above three layers was obtained.
  • the concave-convex structure was covered with a resin, and a reflective layer 204 was formed thereon by using aluminum.
  • the average inclination angle of the projections of the reflection layer was 9 °, and good reflection characteristics and high brightness were obtained.
  • the configuration of the photosensitive polymer layer can be set arbitrarily according to the height of the concave-convex structure and the angle of the inclined surface, not according to the above example. Also, we had use of inorganic materials instead of the photosensitive polymer layer also rather good, eg if S i, S i 0 2, S i N x and the like may be formed a step and have use of.
  • the negative resist layer By making the negative resist layer the uppermost surface, the vertices of the convex portions become smoother and the regular reflection portion is reduced, so that the effect of improving visibility is obtained. However, this does not have to be the top layer. Even in the lower part, an inclined surface can be obtained by laminating the upper layer on the shape of the convex vertex. However, in this case, since the upper layer is a planar layer, shape control becomes somewhat difficult.
  • the photosensitive polymer 2311C is composed of a negative resist in which the shape of the concave-convex structure does not substantially change due to the thermal annealing after development. It is characterized by being described. If a negative resist in which the shape of the concave-convex structure does not change due to thermal annealing is used as described above, the concave resist is formed for the reason described in the above-described embodiment 2-2. A convex structure can be easily created, and productivity can be improved.
  • the photosensitive polymer 23 1 C is a negative resist (the shape of the concave-convex structure is not substantially changed by the thermal annealing after development).
  • OMR — 85 manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
  • the shape of the concave-convex structure does not change in the heat treatment step during panel fabrication, and the fabricated liquid crystal display element is Good reflection characteristics were obtained.
  • FIG. 19 is a cross-sectional view of the liquid crystal display element of Embodiments 2-5.
  • Embodiment 2-5 of this embodiment is similar to Embodiment 2-1, and the corresponding parts are denoted by the same reference characters.
  • the present Embodiment 2-5 is designed to be used when a light-shielding layer 241 having an opening 242, a flattening layer 201, and the like are formed on an array substrate 200.
  • the feature is that a vertex 240 of the concave-convex structure made of the photosensitive polymer 203 is formed on the opening part 242 of the light shielding layer 241.
  • the vertex 240 is formed at the opening 24.
  • the light-shielding layer is internally provided, an external mask is not required, and there is an effect that alignment accuracy is improved and shape control of the concave-convex structure is facilitated. It is also possible to form a storage capacitor between the light-shielding layer 24 1 and the reflective layer 204. And productivity is improved.
  • FIG. 20 is a principle view showing the method of manufacturing the uneven structure according to the present embodiment.
  • a light shielding layer 241 After forming a light shielding layer 241, an opening layer 201, etc. having an opening on a substrate 200, a dye or the like is contained.
  • a negative-type photosensitive polymer is applied to form a photosensitive polymer resin layer 203A.
  • the light-shielding layer 241 becomes a mask, and a convex portion having an apex in an opening area of the light-shielding layer. 2 15 (see FIG. 20 (b)) is formed.
  • the photosensitive polymer layer has a multilayer structure such as a two-layer structure composed of the photosensitive polymers 2556A and 2556B shown in FIG. 21 in addition to the one-layer structure shown in FIG. Is also good.
  • a negative photosensitive polymer 203 (OMR-83, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is applied with a film thickness of 2 ⁇ m, and the light-shielding layer 241 is used as a mask for the substrate. Exposure was performed from the back. When development and rinsing were performed after the exposure, a concave-convex structure having a vertex 240 was formed at the opening 242 of the light-shielding layer 241. At this time, the average inclination angle was 8 °. By performing backside exposure using the light-shielding layer 241 as a mask in this way, a concave-convex structure was formed in the negative photosensitive polymer 203.
  • OMR-83 manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
  • the space between the light-shielding layer 241 and the reflective layer 204 can also be used as a storage capacitor, thereby improving productivity.
  • the opening portion 242 may have any configuration according to the shape of the concave-convex structure.
  • FIG. 22 is a configuration diagram of an array substrate of a liquid crystal display element according to Embodiments 2-6.
  • a light-shielding layer 24 1 is formed on an array substrate 200, and the uneven structure has a plurality of photosensitive polymers (260 A, 260B, 260C).
  • a plurality of photosensitive polymers By using a plurality of light-sensitive polymers, it is possible to obtain an effect that the shape of the concave-convex structure can be easily controlled for the above-described reason.
  • the light-shielding layer 24 1 is internally provided, there is an effect that an external mask becomes unnecessary.
  • a light-shielding layer 2241 was formed on an array substrate 200 with aluminum. Further, the concave-convex structure was formed from a plurality of photosensitive polymers (260A, 260B, 260C) in the same manner as in Embodiments 2-3. At this time, the photosensitive polymer 260C of the uppermost layer was formed by exposing the negative resist to the back surface.
  • the effect of easily controlling the shape of the uneven structure can be obtained for the above-described reason.
  • the light-shielding layer 24 1 is internally provided, there is an effect that an external mask becomes unnecessary.
  • FIG. 23 shows a pixel configuration of the liquid crystal display element of Embodiments 2-7.
  • the opening 271 of the light-shielding layer 270 is formed in the shape of the opening of the diffraction grating. And are characterized.
  • the opening 271 has a structure including the apex of the projection 272.
  • the negative resist does not necessarily need to contain a dye or the like.
  • reference numeral 273 denotes a contact hole
  • reference numeral 274 denotes a reflective electrode
  • reference numeral 275 denotes a source line
  • reference numeral 276 denotes a cable line. Indicates a connection.
  • the exposed light 214 becomes a diffracted light and irradiates the photosensitive resist. It is done.
  • the 0th order of the diffracted light goes straight and becomes straight light 214A, but the diffracted light 211B of higher order than the first order is irradiated to the register obliquely, so the The later concave-convex shape has an uneven structure with an inclined surface (see Fig. 24 (a)).
  • a concave-convex structure having an inclined surface is formed without using a multilayer structure.
  • the resist does not need to contain a dye or the like.
  • FIG. 25 is a principle view showing a method of manufacturing a concave-convex structure according to the present embodiment.
  • the feature is that the light-shielding layer 270 is formed in a shape having diffraction performance in substantially the same configuration as in Embodiments 2-5.
  • the photosensitive polymer is exposed even to oblique light for the reasons described above.
  • a concave-convex structure having an inclined surface is formed.
  • the use of diffracted light eliminates the necessity of containing a dye or the like in the negative resist and has the advantage of low cost.
  • P be the pitch
  • d be the distance between the light-shielding layer 270 and the vertex of the convex part of the concave-convex structure.
  • the concave-convex structure can be changed by the shape of the opening of the light-shielding layer 270. For example, if it is a circle, a dot-shaped concave-convex structure can be formed, and if it is a stripe-shaped, a stripe-shaped concave-convex structure can be obtained.
  • the light-shielding layer 270 was formed in the shape of a diffraction grating having a dot shape.
  • the opening 271 of the diffraction grating was a circle having a diameter of 1 O ⁇ m.
  • a negative photosensitive polymer OMR — '83, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
  • OMR — '83 a negative photosensitive polymer
  • the photosensitive resist When the back surface was exposed with the light-shielding layer in the form of a diffraction grating, the photosensitive resist was irradiated with diffracted light. At this time, the 0th order of the diffracted light goes straight, but the diffracted light of higher order than the 1st order irradiates the resist obliquely, so the concave-convex shape after development has an inclined surface. It has a concave-convex structure with The average tilt angle at this time was 7 °.
  • a concave-convex structure having an inclined surface is formed without using a multilayer structure. Also, the resist does not need to contain a dye or the like, and low cost can be achieved.
  • Embodiment 2-8 when exposing the photosensitive polymer on the substrate, the exposure light is made to enter the substrate obliquely, so that the concave is formed on the substrate. It is characterized in that a convex structure is formed.
  • the manufacturing apparatus described below was used for producing the concave-convex structure.
  • Figure 26 shows the principle of the substrate manufacturing apparatus of the present invention.
  • the photosensitive polymer 200 is applied through the mask 2113 in a plurality of directions (ultraviolet rays 214).
  • C and the means (mechanism) for irradiating light to be exposed from ultraviolet rays 2 14 D) are provided on the substrate 200 so that the projections 2 15 (see FIG. 26 (b)) ) Is formed.
  • Irradiation from a plurality of directions changes the etching rate of the photosensitive polymer 203 in the direction of the layer thickness, and forms a concave-convex structure having an inclined surface. It is. In this case, it is desirable that the incident direction be within a polar angle of 60 °.
  • the solid angle of the exposure light should be between 0.5 ° and 15 °.
  • a concave / convex structure with an asymmetrical shape can be easily created by using a manufacturing device that has a mechanism that varies the angle of incidence of ultraviolet rays when entering from multiple directions. .
  • the reflection characteristic becomes asymmetric. For example, when the base plate is tilted, the reflected light is condensed on the observer side to increase the brightness.
  • the degree of interference can be adjusted by changing the phases of the ultraviolet rays 214C and the ultraviolet rays 214D to each other. In this case, an effect is obtained in which the etching rate in the layer thickness direction can be further arbitrarily adjusted. For this reason, an ultraviolet phase conversion mechanism may be provided in the substrate manufacturing apparatus.
  • the present embodiment is characterized in that a substrate having a concave-convex structure is manufactured by exposure using so-called two-beam interference method.
  • the photosensitive resin is irradiated with exposure light and development is performed. ⁇ m).
  • the thickness of the resin By setting the thickness of the resin to 2 to 3 ⁇ m, it was possible to produce a shaped body having a tilt angle of about 10 °.
  • a single light source, a pinhole, and two slits are used to observe two spherical wave exposure lights having the same phase.
  • two or more lasers can be used as well.
  • the pitch of the concave-convex shape is ⁇ m
  • the distance between the slits is hzn ⁇
  • the distance between the slit and the photosensitive resin is Ddm
  • the wavelength of the exposure light is nm.
  • the reflection plate of the liquid crystal display element has been described, but the present invention is not limited to this.
  • the present invention can be widely applied to an element or a concave-convex body used in other technical fields.
  • a light-absorbing substance such as a dye is contained in the photosensitive polymer.
  • a light-scattering substance such as metal particles is used. It may be contained in a polymer.
  • the absorptivity of ultraviolet light during exposure can be changed in the film thickness direction in the same manner as when a light-absorbing substance is contained.
  • a convex structure can be formed.
  • a negative photosensitive polymer is used, but a positive photosensitive polymer may be used.
  • the mask used when using the photosensitive polymer of the negative type has a structure in which the light-shielding part and the opening of the mask are reversed. You can use a special mask.
  • a third invention group is an invention of a reflector having a plurality of convex portions obtained by melting and deforming a columnar body made of a photosensitive resin material.
  • An angle formed between a straight line connecting a predetermined point on the outer peripheral edge of the bottom surface of the convex portion and the vertex of the convex portion and the bottom surface of the convex portion is defined as an average inclination angle of the convex portion, and two shapes defining the shape of the columnar body are defined.
  • the aspect ratio which is represented by the ratio of the representative dimensions, is gradually increased from a value near 0, the average inclination angle reaches a local maximum through an ascending change process.
  • the average tilt angle of the plurality of convex portions is It is characterized in that the .il flux value in the aspect ratio-average tilt angle characteristics is the above-mentioned .il flux value.
  • Embodiments 3-1 to 3-3 will be exemplified below as specific examples of the third invention group, and the contents of the third invention group will be described below.
  • FIG. 28 is a cross-sectional view of a principal part of the reflector according to Embodiment 3-1 and FIG. 29 is a plan view thereof.
  • FIG. 29 is a plan view of the reflector before the light reflective thin film is deposited.
  • the reflection layer 301 includes a substrate 302, a residual film 303, a plurality of convex portions 304 formed integrally with the residual film 303, and a plurality of convex portions 300.
  • a light-reflective thin film 300 having a surface (the top surface in FIG. 28) formed to be concave and convex.
  • the residual film means a portion that is left undeveloped in a developing step in a photolithographic process described later.
  • the substrate 302 is, for example, a substrate having an insulating property such as glass (product name: 17337, manufactured by Co., Ltd.), and has a thickness of For example, it is 1.1 mm.
  • the light-reflective thin film 305 is made of a metal thin film such as aluminum (A1).
  • the residual film 303 and the convex portions 304 are made of a photosensitive resin, and examples of the photosensitive resin include a post-type resist and an electron beam resist. .
  • a low-aperture type register as a post-type register is used. (Product name: PC 409, manufactured by JSR Corporation).
  • the convex portion 304 has a circular cross section parallel to the substrate 302, and has a gentle curved surface.
  • a predetermined point of the outer peripheral edge 304 a of the bottom surface of the convex portion 304 (in the present embodiment, since the bottom surface of the convex portion 304 is circular, the outer peripheral edge of the bottom surface 304) Regardless of which point a is selected, the average inclination angle ⁇ is the same, so in the present embodiment, the predetermined point means an arbitrary point on the outer peripheral edge 304 a of the bottom surface.)
  • the angle between the straight line connecting the vertex 300b of the convex portion 304 and the bottom surface of the convex portion 304 is defined as the average inclination angle S of the convex portion (see FIGS.
  • the average inclination angle 0 of all the convex portions 304 is almost the same. It should be noted, however, that this average inclination angle S has almost no error from the set value at the design stage.
  • the light reflecting thin film 3005 is characterized in that the concave-convex shape of the light-reflective thin film is highly accurate, and that the reflection characteristics of the reflector are extremely accurate. Because the light-reflective thin film 304 has a structure that covers the convex portion 304, the concave-convex state of the light-reflective thin film 300 reflects the surface shape of the flat portion 304. That's why.
  • the predetermined point on the outer peripheral edge 304 a of the bottom surface of the convex portion is such that, for example, if the bottom surface of the convex portion 304 is elliptical, the outer peripheral edge 304 a intersects with the long axis. Or a predetermined point such as a point where the outer periphery 304a intersects with the minor axis. Therefore, the average inclination angle 0 is uniquely determined based on the predetermined point. In addition, the reason why the convex portion 304 having the high-precision average inclination angle 0 can be manufactured will be described in detail in the description of the manufacturing method described later. .
  • FIG. 32 is a flowchart showing a manufacturing process of the reflector
  • FIG. 33 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the reflector.
  • the reflector is basically composed of six steps: a coating step, a pre-press step, an exposure step, a development step, a heat treatment step, and a light-reflective thin film formation step. It is produced by the step of. Each step is outlined below.
  • the photosensitive resin 310 is applied onto the substrate 302 (coating process: see Fig. 33 (a)).
  • the substrate 302 coated with the photosensitive resin 310 is pre-baked (pre-baking process).
  • a photomask 311 of a predetermined turn is disposed above the substrate 302, and ultraviolet light is irradiated through the photomask 311 to the photosensitive resin.
  • the photosensitive resin 310 is developed with a developing solution, whereby a predetermined thickness of the resin is left.
  • a film 303 and a columnar body 315 of a predetermined shape (which is a columnar body in the present embodiment) are formed (development step: see FIG. 33 (c)).
  • the columnar body 315 is melted, thereby forming a convex portion 304 having an average inclination angle of 0 (heat treatment process: see FIG. 33 (d)).
  • a plurality of convex portions 304 are covered, and a thin metal film such as aluminum (A1) is deposited to form a light-reflective thin film 304 (light-reflective thin film formation).
  • a thin metal film such as aluminum (A1) is deposited to form a light-reflective thin film 304 (light-reflective thin film formation).
  • Process See Fig. 33 (e) .
  • earthenware pots this, the reflecting plate 1 are shown in FIG. 2 8 Ru produced.
  • the main feature of the present invention is that in the above-described manufacturing method, the average inclination angle of the convex portion 304 can be manufactured with high accuracy. Specifically This can be achieved by (1) setting the aspect ratio of the columnar body 315 to the value described below, and (2) controlling the thickness and heating temperature of the remaining film 303. And can be done. The reason is described below.
  • the aspect ratio a of the columnar body 315 means the ratio HZD of the diameter D of the cross section of the columnar body 315 to the height H.
  • the height H of the columnar body 3 15 is the height from the residual film 303, and therefore, by controlling the thickness of the residual film 303, the height H of the columnar body 3 15 is controlled.
  • the height H of 3 15 can be changed.
  • the ratio HZS of the cross-sectional area S and the height H may be obtained by using the cross-sectional area S of the columnar body 315 instead of the diameter D.
  • the cross section is elliptical, polygonal or other irregular shape, it is preferable to set the aspect ratio H / S.
  • this aspect ratio which indicates the change of the average inclination angle 0 with respect to the change of the aspect ratio, are shown by the present inventors based on the experimental results. It is what you do. As can be seen from FIG. 34, when the aspect ratio is gradually increased from a value close to zero, the average inclination angle ⁇ becomes smaller. It can be seen that it has the characteristic that it reaches the maximum value through the ascending process and then converges to a constant value through the descending process. In Fig. 34, the heating temperature and the heating time were the same, the height H of the columnar body 3 15 was fixed, and the diameter D of the cross section of the columnar body 3 15 was changed.
  • the relationship between the aspect ratio a and the average inclination angle 0 was obtained by measuring the average inclination angle 0 of the convex portion 304 after the melt deformation at that time.
  • the change in the aspect ratio is such that the height H is fixed and the diameter D is changed, but conversely, the diameter D is fixed and the height H is changed.
  • the following characteristics can be obtained.
  • the height of the convex portion 304 becomes a maximum value, and thereafter, the softened portion expands in accordance with an increase in the aspect ratio ⁇ . The extent of this will be greater. Therefore, the average inclination angle 0 of the convex portion 304 becomes smaller. Then, as the aspect ratio increases, the convergence value approaches asymptotically. This is because, when the volume of the softened portion becomes a certain value or more, the contact angle mainly asymptotic to the contact angle determined due to the wettability inherent to the photosensitive resin constituting the convex portion 304. This is because it is considered to be something.
  • the average tilt angle ⁇ is Under conditions where the aspect ratio is sufficiently large compared to other conditions, the ratio of the average inclination angle to the ratio of the peak ratio to the ratio of “radix” In other words, the area where the average inclination angle changes with respect to the variation of the aspect ratio near the local maximum value is B1, and the area where the ascending or descending process is near.
  • the change area of the average inclination angle with respect to the variation of the cut-off ratio is B2, and the average inclination angle is If the area where the average inclination angle changes with respect to the variation of the aspect ratio in the area converging to a constant value is B3, then B1, B2> B3. This is because if the aspect ratio is set to a value equal to or higher than the convergence start point A of the average inclination angle ⁇ , even if the aspect ratio greatly changes, the final This has almost no effect on the average tilt angle 0 obtained in this case, and means that the average tilt angle almost equal to the desired average tilt angle S can be obtained. Therefore, by setting the aspect ratio to a value equal to or higher than the convergence start point A, the margin during the manufacturing process can be increased. As a result, a high accuracy average inclination angle can be obtained for those that are actually manufactured without being affected by processing errors or the like during manufacturing.
  • the aspect ratio y is set to a value equal to or more than the convergence start point A as described above, the margin during the manufacturing process can be increased.
  • a reflector having desired reflection characteristics cannot be obtained by this method alone. This is because, in order to produce a reflector having desired reflection characteristics, it is necessary to control the average inclination angle 0 to a desired angle.
  • Fig. 35 is a graph showing the characteristics of the aspect ratio 0-average tilt angle 0 when the remaining film thickness and the heating temperature are changed.
  • line L 1 shows the case where the heating temperature is 120 ° C. and the remaining film thickness is 0.6 ⁇ ⁇ ⁇
  • line L 2 shows the case where the heating temperature is 160 ° C.
  • C indicates the case where the remaining film thickness is 0.6 2 / m
  • line L 3 indicates the case where the heating temperature is 120 ° C and the remaining film thickness is 1.8 JULm.
  • In-line L 4 indicates the case where the heating temperature is 160 ° C. and the remaining film thickness is 1.74 ° ⁇
  • line L 5 indicates the case where the heating temperature is 120 ° C.
  • the remaining film thickness is The case where the thickness is 2.10 m is shown, and the line L6 is the case where the heating temperature is 160 ° C. and the remaining film thickness is 2.36 m.
  • the heating time and other conditions were the same. From line L1 and line L2 in Fig. 35, when the remaining film thickness is the same, the average inclination angle converges to a small value when the heating temperature is high when the heating temperature is high. However, it is recognized that the average inclination angle converges to a large value when the heating temperature is small.
  • the remaining film is formed according to the lines Ll, L3, and L5 in FIG. 35 or the lines L2, L4, and L6, when the heating temperature is the same. It is recognized that the average inclination angle converges to a small value when the thickness is large, and the average inclination angle converges to a large value when the remaining film thickness is small.
  • the convergence value of the average inclination angle ⁇ can be changed by changing the heating temperature and the remaining film thickness. .
  • the average inclination angle can be controlled by changing the heating temperature and the remaining film thickness.
  • the average inclination angle converges to a small value when photosensitive resin with high wettability is used, and the average inclination angle is large when photosensitive resin with low wettability is used. It has been confirmed by the present inventors that the value converges to the value. Therefore, the average tilt angle can be controlled by selecting the photosensitive resin material. Furthermore, it is considered that the average inclination angle can be controlled depending on the shape of the columnar body, the viscosity of the photosensitive resin material, the atmosphere at the time of production, and the like.
  • an aspect ratio is set prior to the manufacture of the reflector.
  • the photosensitive resin material to be used has been determined, use that photosensitive resin to determine the remaining film thickness and heating temperature.
  • various characteristics of the aspect ratio, the average inclination angle, and the characteristics should be determined in advance by experiments.
  • an aspect ratio is set to any value equal to or higher than the convergence start point of the aspect ratio-average inclination angle characteristic.
  • the aspect ratio and the average inclination angle at which the convergence value of the average inclination angle is 7.5 are as follows. Search for characteristics.
  • the remaining film thickness is 0.62 zm, and the heating temperature is 120 ° C. Under such conditions, the reflector is manufactured by the method already described with reference to FIGS. 31 and 32.
  • a photosensitive resin material is applied on a substrate 302 (product name: 17337, manufactured by Koingen Co., Ltd.) by spin coating. Apply more.
  • spin coating is performed at a rotational speed of 70 Or rpm for 30 seconds so that the thickness of the applied film is 3.
  • the substrate 302 coated with the photosensitive resin material is pre-baked at 105 ° C for 90 seconds to evaporate the solvent in the coating film, thereby forming the photosensitive resin layer 3.
  • Form 10
  • the photo mask 314 is arranged above the photosensitive resin layer 310, and the photo mask 331 is formed. Irradiate with ultraviolet light through the process (exposure step).
  • a residual film 303 and a plurality of columnar bodies 315 are formed on the substrate 302.
  • the width (diameter) of the columnar body manufactured in the present invention is preferably at least l ⁇ m. If the diameter is smaller than ⁇ , the exposure limit will be exceeded and it will be difficult to form such a large columnar body.
  • the reflector is applied to a reflection type liquid crystal display device, it is desirable that the height of the columnar body is 30 ⁇ m or less.
  • the thickness of the photosensitive resin layer 310 is desirably not less than l m. If the diameter is smaller than that, it is preferable because the concave-convex difference on the surface of the light-reflective thin film 300 becomes too small, and the light reflected in the regular reflection direction increases. It is not. Further, when the reflection plate is applied to a reflection type liquid crystal display device, it is desirable that the thickness of the photosensitive resin layer 310 be 10 m or less. If it is larger than 1, the difference between the concave and convex will be too large, the unevenness of the cell gap will be too large, and the display quality such as display unevenness will be degraded. This is because it is a matter of fact. (6) Heat treatment process
  • the substrate 302 is heated at 120 ° C. for 5 minutes to perform a heat treatment.
  • a residual film 303 and a plurality of convex portions 304 are formed.
  • the aspect ratio y of the columnar body 3 15 is set to the above value, the production margin can be increased, and the results and As a result, almost all the convex portions 304 have the same average inclination angle. In other words, even if there is a processing error in the manufacturing process, a convex part having an average inclination angle of the set value is hardly affected by the processing error, etc. You can do it.
  • FIG. 36 (a) it is assumed that the diameters: D are the same due to machining errors, but the columnar bodies PI, P2 with different heights are formed. .
  • the average inclination angle ⁇ 1 of the convex portion G1 manufactured and the average inclination angle 02 of the convex portion G2 are different from each other. It becomes something.
  • the convex portions G1 and G2 manufactured as shown in FIG. 36 (b) have substantially similar shapes, and have an average inclination angle. ⁇ 1 and the average inclination angle ⁇ 2 are almost equal.
  • a plurality of rounded convex portions 4 are formed without further coating a resin layer on the convex portions as in the conventional example. Can be achieved. Therefore, compared to the conventional example, the resin layer coating process Can be omitted, and the manufacturing cost and the manufacturing time can be reduced.
  • FIG. 28 is produced. Since the average inclination angle of the convex portion of this reflecting plate 301 is almost the same as the set value, the concave-convex state of the light reflective thin film 300 formed on the convex portion 304 is almost It is as set. As a result, it is possible to obtain a reflector having desired reflection characteristics.
  • FIG. 37 is a sectional view of a principal part of the reflective liquid crystal display device.
  • the reflection type liquid crystal display element 330 includes a reflection plate 301, a counter substrate 33 1 (display surface side), and a liquid crystal layer 33 sandwiched between the reflection plate 301 and the counter substrate 33 1. It has 2 and. Reflective thin film of reflector 301
  • An alignment film 333 is formed on the layer 305.
  • the light-reflective thin film 305 functions as a pixel electrode.
  • the opposing substrate 33 1 is a light-transmissive substrate such as a glass substrate, for example.
  • the liquid crystal layer 332 is configured to include a guest host liquid crystal in which a black dichroic dye is dissolved in the liquid crystal.
  • the alignment films 33 33 and 33 35 are made of, for example, a polyimide resin, and their alignment processing directions are set so as to be opposite to each other. At this time, the alignment state of the liquid crystal molecules is twisted about 360 degrees between the substrates.
  • the aspect ratio is not within the area where the average inclination angle ⁇ converges.
  • an aspect ratio within a region where the average inclination angle 0 converges is used. Therefore, in the conventional example, the average inclination angle of the manufactured convex portions varies, and the reflection characteristics of the reflector are not desired.
  • the manufacturing margin is large because the aspect ratio in the region where the average inclination angle is 0 converges is used as described above. As a result, even if there is a processing error, a projection having a desired average inclination angle can be formed without being affected by the processing error.
  • FIG. 38 is a cross-sectional view showing a manufacturing step of the reflector according to Embodiment 31-2.
  • the reflector according to the present embodiment is a reflector used for an active matrix driven reflective liquid crystal display device.
  • the method of manufacturing such a reflector is very similar to the method of Embodiment 3-1.
  • the reflecting plate of Embodiment 3-2 is slightly used because it is a reflecting plate used for a reflective liquid crystal display element driven by an active matrix. There are differences.
  • the features of the manufacturing method according to Embodiment 3-2 will be mainly described.
  • the thin-film transistor (TFT) 340 as a pixel switching element is formed on the reflector of the present embodiment 2-2. Therefore, the TFT 340 and the light-reflective thin film 300 having the function as a pixel electrode A contact hole 341 (Fig. 38 (c)) is required for electrical connection between the contact hole and the remaining film at the contact hole formation site. Must be absent. This is because, if a residual film is present in the contact hole forming portion, poor conduction may occur and display quality may be degraded.
  • a low-aperture type resist (trade name: PC409, manufactured by JSR Corporation) was used as the photosensitive resin.
  • a low registry is used.
  • the reason for this is as follows: As shown by the solid line in Fig. 39, the low resist shows a linear decrease in the residual film thickness as the integrated exposure increases. It has characteristics that make it worse. In the case of ordinary photosensitive resin material, the remaining film thickness shows a constant value up to the integrated exposure amount as shown by the broken line in Fig. 39, but exceeds the integrated exposure amount. The characteristics show that the remaining film thickness rapidly decreases.
  • the present invention it is necessary to form a portion having no residual film and a columnar body formed integrally with the residual film and the residual film, and a normal photosensitive resin material is used. In such a case, it is difficult to remove the residual film at the contact hole forming portion, and it is difficult to control the residual film thickness at other portions. Cannot be manufactured. Regarding this point, when a low register is used, the above-described configuration according to the present invention can be easily performed by controlling the integrated exposure amount because the characteristics shown in FIG. 39 are provided. It can be manufactured.
  • the photomask used in the exposure step has the configuration shown in FIG. 38 (b).
  • the photomask 342 is composed of an ultraviolet light transmitting area 340a... and an ultraviolet light shielding area 340b, and an area 340c having a smaller light shielding ratio than the light shielding area.
  • ... It is composed of
  • Each region 3400a, 340b, region 340c is It is circular or elliptical.
  • the region 340a is for forming the contact hole 31 and the region 340b is for forming the columnar body 315.
  • the region 340 c is for forming the residual film 3.
  • a contact hole 341, a residual film 302, and a convex portion 304 can be formed on the substrate 302. Then, by forming a light-reflective thin film 305 by covering the convex portion 304 and depositing a metal thin film such as aluminum (A1), a contact is obtained.
  • the light reflecting thin film 305 and the TFT 340 are electrically connected to each other through the hole 341. (Fig. 33 (e)).
  • FIG. 40 is a plan view of a principal part of the reflector according to Embodiment 3-3
  • FIG. 41 is a cross-sectional view of FIG. 40 taken along the line X—X.
  • Embodiments 3 to 3 are examples in which the present invention is applied to a diffraction grating reflector.
  • Embodiment 3-3 is similar to Embodiment 3-1 and corresponding parts are denoted by the same reference characters.
  • the projections 304 of the Embodiment 3-1 instead of the projections 304 of the Embodiment 3-1, the projections 351 arranged concentrically are used.
  • the convex portions 351 were obtained by melting and deforming concentrically arranged columnar bodies made of a photosensitive resin material.
  • the diffraction grating type reflector 350 having such a configuration is manufactured by using the manufacturing method of the above-mentioned Embodiment 3-1 and a reflection type liquid crystal display element is manufactured, the projections 35 1 Since the average inclination angle of the side surface of the LED was almost the same as the set value, a reflective liquid crystal display device having a wide color reproduction range could be obtained.
  • a diffraction grating reflector having a characteristic of dispersing light by reflection diffraction high accuracy is required for the side surface inclination angle of the convex portion 351. Therefore, it is extremely mature to manufacture by the manufacturing method according to the present invention.
  • the diffraction grating patterns are not limited to concentric ones, but may be arranged in parallel.
  • the photo mask is also applied. It is also possible to form a concavo-convex structure after exposure / development via a substrate.
  • one photosensitive resin layer is formed. For example, after applying a photosensitive resin, the same photosensitive resin is further applied to form a two-layer photosensitive resin. It is also possible to form a resin layer, perform exposure and development via a photomask, and form a projection. In addition, after applying the first layer of the photosensitive resin, the same photosensitive resin is applied after a heat treatment, an electron beam irradiation treatment, an ultraviolet light irradiation treatment, and the like.
  • Exposure and development may be performed through a mask to form a convex portion. Further, even if the photosensitive resin of the first layer is different from the photosensitive resin of the second layer thereon, it is possible to set a stable region arbitrarily. It is feasible. Further, instead of the photosensitive resin on the first layer, the surface energy is formed of the same material as the photosensitive resin on the second layer, and then the second layer is formed. Even if the eye is formed into a film, a stable region can be set arbitrarily, and the same can be implemented.
  • the photolithography method was used for forming the columnar body, but other methods, for example, a rectangular shape or the like, were used. Even if the columnar body is formed by another method, it can be implemented as long as the photosensitive resin is used.
  • the photosensitive resin is formed on the substrate, and the projections are formed using the photolithography method, but the thermoplastic resin is formed on the substrate.
  • the resin may be formed and the protrusions may be formed by heat treatment.
  • At least two or more types of reflectors are formed in a region where elements are regularly arranged, and the diffracted light from the above-mentioned region is superposed. As a result, it was possible to suppress coloring due to diffracted light.
  • a reflector in which at least two or more types of regions where elements are regularly arranged is formed is formed.
  • the diffracted light from the region overlaps with each other, coloring due to the diffracted light can be suppressed.
  • the process margin can be made much larger than in the conventional example. Therefore, it is not affected by machining errors and the like, and the average inclination angle of the actually manufactured convex portion is almost equal to the set value. Therefore, the surface of the light-reflective thin film that covers the convex portions has the desired concave / convex shape, and the reflective plate and the reflective liquid crystal display element have excellent contrast properties and paper white properties. Can be obtained.

Description

明 細 書 凹凸形状体、 反射板及び反射型液晶表示素子、 並びに そ の製造 方法、 製造装置。 技 術 分 野
本発明は、 周 囲光 を利用 す る こ と に よ り 、 低消費電力 で 、 なお か つ、 明 る く 良好な画像表示 を実現す る こ と が可能な反射板及び反射 型液晶表示素子、 並び に そ の製造方法、 製造装置 に 関す る 。 背 景 技 術
(第 1 の背景技術)
反射型液晶表示装置は、 外光 を液晶表示装置内部 に具備 さ れた反 射板 に よ り 反射 し、 表示 を行 う 。 従っ て 、 従来の透過型液晶表示装 置の よ う に光源 と して のノ、" ッ ク ラ イ ト は不要 と な る 。 こ の結果、 透 過型液晶表示装置 よ り も 低消費電力化が可能な表示装置 と して携帯 電話、 携帯情報端末への搭載が進め ら れて い る 。
反射型液 晶表示装置は、 TN ( Twisted Nematic) 型、 STN ( Suoer Twisted Nematic)型、 GH( Guest- Host)型、 PDLC 型( Polymer Dispersed Liquid Crystal, 高分子分散型液晶) な どの液晶表示モー ド と 、 映 像信号 を書 き込む た め の素子で あ る TFT ( Thin Flat Transitor, 薄 膜 ト ラ ン ジ ス タ ) や TFD ( Thin Flat Diode, 薄膜ダイ オー ド ) を備 え た基板 も し く は単純マ ト リ ク ス駆動方式の基板、 と外光 を反射 す る た め に液晶表示素子 内部 も し く は外部 に備 え付 け ら れた反射板 と か ら 構成 さ れて い る 。
反射型液晶表示装置は良好な表示品位 を得 る た め に はい く つ か の 要件があ る が、 そ の う ち 最 も 重要な も の に は 白 色表示があ る 。 上記 の液晶表示モー ド の う ち 、 液晶材料層が外光 を 透過す る 状態 に あ る 場合 に は、 明 る く 、 かつ、 白 色の表示 を 呈す る こ と が表示性能上要 求 さ れて い る 。 こ の表示性能を実現す る た め、 反射板の反射特性 の 制御 が重要な 要素 と な っ て い る 。
鏡面性の反射板で は入射光 に対 して反射光が反射す る 方向 す な わ ち 正反射方 向 の みが明 る く 、 視角依存性が大 き い 。 こ の た め、 現在 で は、 あ る 範囲の視野角 で は 明 る い表示が可能な散乱性反射板が主 流 と な っ て い る 。 反射板に散乱性 を付与す る た め、 反射板表面 に は 通例 凹 凸形状が形成 さ れて い る 。
こ の反射板表面の 凹 凸形状 に関 して は、
( 1 ) 凸形状の ピ ッ チ が l 〃 mか ら 1 0 0 z m の範囲で あ り 、 該 凹 凸 の高 さ が 0 . 1 z m か ら 1 0 / m の範囲で かつ該凹 凸の傾斜角 が基板水平面上 に対 して 0 度か ら 3 0 度で あ り 、 該凹 凸 の 山か ら 山 ま で の 間隔は不規則で あ る (特公昭 6 1 一 6 3 9 0 号公報)。
( 2 ) 不規則凹凸構造を 有 す る 反射板で あ り 、 かつ 隣接する 凸部 あ る い は凹部間の距離分布 グ ラ フ の半値幅 を 隣接す る 凸部 あ る い は 凹部間の距離の平均値で規格化 し た値が 0 . 3 か ら 0 . 9 の範囲で あ る (特開平 8 — 1 8 4 8 4 6 号公報)。
( 3 ) 不規則凹凸構造 を 有す る 反射板で あ り 、 かつ 隣接す る 凸部 あ る い は 凹部間の 平均距離が 1 z inか ら 8 0 z m の範囲で あ る (特 開平 8 — 1 8 4 8 4 6 号公報)。
な どがすで に公知の事実 と な っ て お り 、 従来例 で は、 凹凸構造の不 規則配置が必要要件 と な っ て い る 。
し か し、 反射板は、 散乱性 を 一定の視野角範囲 に限定 し、 こ の特 定の範囲 に散乱光 を 集中 さ せ、 そ の範囲内で は均一 な 明 る さ が得 ら れ る よ う に散乱特性が制御 さ れ も のが最適で あ る と 考え ら れて い る
( . Sugiura and T . Uch i da AM-L CD 95 digest, 153 ( 1995 ) 、 T.Uchida;AM- LCD95 digest, 23(1995))。
そ して 、 かか る 散乱特性 を最適 に制御す る 際、 凹凸構造 の配置 に 不規則性があ る と 、 凹凸構造間の 平坦部が相対的 に 大 き く な り 、 入 射光 に対す る 正反射方 向への反射光の光量が相対的 に大 き く な っ て し ま う 。
ま た、 こ れ に対 して 、 平坦部 の 占め る 面積の比率を低 く す る た め、 凹凸構造 に規則性あ る い は周期性が持 たせ る と 、 こ れ ら の構造が 回 折格子 と して 働 く 。 回折格子は、 特定の波長に対 して特定の方 向 に 強度 の大 き い 光 を 出射す る 。 こ の よ う に、 回折格子の波長依存性 に よ っ て、 虹色様の着色が感知 さ れ、 白 色散乱性が阻害 さ れ る 。
(第 2 の背景技術)
モバィ ル端末等の急速な普及 に伴い、 反射型液晶パネ ルが注 目 さ れて い る 。 反射型液晶パ ネ ルは外光を反射 して表示 を行な う た め、 屋外等の外光が強い環境で は充分な表示性能が得 ら れる が、 暗い屋 内や夜間で は視認性が極端 に低下す る 。
そ の た め に は、 反射型液晶パ ネ ル に おい て 、 周辺か ら 入射 し た 光 を観察者の方 向 に集 中 的 に反射さ せ る よ う な散乱反射板を 用 い る こ と に よ り 観察者方 向 の反射率 を 向上す る こ と が望 ま しい 。 そ の実現 手段 と して、 画素電極に複数の 凹凸構造 を形成す る 手法が開示 さ れ て い る (特開平 5 — 2 8 1 5 3 3 号公報)。 こ の と き 、 凹 凸構造は、 感光性高分子膜の塗布 と 露光、 及び現像処理 を 行 っ た後、 熱ァニー ル処理を施す プ ロ セ ス を繰 り 返す こ と で複数層 か ら 成る 凹 凸構造が 形成 さ れて い た 。
パ ネ ルの観察者方 向 の反射率は反射層 の 凹 凸形状で決定 さ れる 。 こ の と き 、 理想的 な反射特性で は正面 か ら 極角 3 0 °ま で の 範 囲 で 高い輝度 を保つ こ と が必要 と な る 。
理想的な反射率特性 を 実現す る には、 凹凸形状の 凸部の傾斜面 が 略三角形状の よ う に急峻に す る 必要があ る 。 しか し、 H凸形状の 傾 斜面 を 略三角形状 に容易 に形成す る 手法は こ れ ま で得 ら れて い な か つ た。 ま た、 従来は凹 凸形状を形成す る た め に感光性高分子膜の 塗 布 と 露光、 及び現像 と 熱ァ ニール処理 を施す プ ロ セ ス を繰 り 返す手 法 が取 ら れて お り 、 プロ セ ス が複雑で生産性 に課題があ っ た 。
(第 3 の背景技術)
近年、 A V機器や情報機器の 小型化、 薄型化 に伴い、 こ れ ら の機 器 に対す る 液晶表示素子の 需要が高ま っ て き て い る 。 情報機器 につ い て は、 マルチ メ デ ィ ア社会の到来に よ っ て、 よ り 携帯性の高い ノ 一 ト 型パ ーソ ナル コ ン ピ ュ ー 夕 に搭載可能な液晶表示素子が求め ら れ、 ま た携帯情報端末の分野で は、 よ り 薄型で軽量かつ、 低消 費電 力 の液晶表示素子が求め ら れて い る 。 特に、 反射型液晶表示素子は、 外光 を反射さ せ る こ と に よ り 画像を表示す る 方式で あ り 、 ノ ツ ク ラ ィ ト ユ ニ ッ ト な どの光源 を 必要 と しな い た め、 従来の透過型液晶表 示素子 と 比べ る と 、 低消費電力、 薄型、 軽量化が可能で あ る 。 こ の 反射型液晶表示素子の表示モ ー ド と して は、 T N ( Twisted Nematic) 方式、 S T N ( Super Twisted Nematic) 方式、 二色性色素 を含む ゲ ス ト -ホス ト ( Guest- Host) 方式な どが主 に用 い ら れて い る 。
と こ ろ で、 こ の反射型液晶表示素子 におい て は、 よ り 明 る く 良好 な 表示 を 得 る た め に 、 入射光 を 表示画面 の 垂直 な 正視角 方 向 に 反 射 · 散乱 さ せ る 光の強度 を增加 さ せ る 必要があ る 。 さ ら に 、 入射光 に つ い て も 、 所定の方 向 か ら 一定の角度 に て入射す る 外光 を正視角 方 向 に反射 · 散乱 さ せ る だ けで な く 、 種々 の 方向 か ら 任意の角 度で 入射 す る 外光 に つ い て も 同様 に正視角 方 向 に反射 · 散乱 さ せ る こ と が望 ま し い 。 よ っ て 、 任意 の 方 向か ら 入射す る 外光 を表示光 と して 効率 よ く 利用 で き る よ う な、 最適な反射特性 を 有す る 反射板を作製 す る こ と が必要 と な る 。 こ こ で、 最適な反射特性 と はつ ま り 、 反射 板が入射光 を広範囲 に、 かつ高反射率 に て反射す る 特性 を 有 し て い る こ と を 意 味す る 。
. 従来の反射板、 例 え ば基板上 に鏡面状の金属膜が成膜さ れた も の を使用 し た 場合に は、 正反射方 向 に の み入射光が反射 さ れ、 正反射 方 向 以外の 方 向 で は反射率が低か っ た 。 よ っ て 、 正視角方 向 な ど観 察者の視認方 向 において は、 表示画面が非常 に 暗 く な り 、 著 し い表 示品位の劣化 を招来す る と い う 課題があ っ た。
こ の よ う な課題に対 して 、 正反射領域への入射光 の反射 を軽減 し た反射特性 を有 す る 絵素電極が、 例 え ば特開平 6 — 2 7 4 8 1 号公 報な どに 開示 さ れて い る 。 こ の公報に よ れば、 図 4 2 に示す よ う に、 反射板は、 複数の 凸部 2 1 1 2 a · 2 1 1 2 b が形成 さ れた基板 2 1 0 1 上に高分子樹脂膜 2 1 0 3 が設け ら れ、 さ ら に該高分子樹脂 膜 2 1 0 3 上 に絵素電極 2 1 0 4 が設け ら れた構成 を有 して い る 。 ま た 、 該絵素電極 2 1 0 4 の表面は連続 し た波状 と な っ て い る 。 上記反射板の形成方法 と して は、 以下の よ う な方法が用 い ら れて い る 。 ま ず、 図 4 2 ( a ) に示 す よ う に、 基板 2 1 0 1 上 に、 感光 性樹脂か ら な る レ ジ ス ト 膜 2 1 1 2 を ス ピ ン コ ー ト 法 に よ り 塗布 し た後、 所定 の処理温度 に て プ リ べー ク す る 。 続い て 、 図 4 2 ( b ) に示 す よ う に、 フ ォ ト マ ス ク 2 1 0 5 を使用 し、 レ ジ ス ト 膜 2 1 1 2 の上方 に 配置 して露光す る 。 次 に、 現像液 を使用 して現像を 行 い、 図 4 2 ( c ) に示す よ う に 、 基板 2 1 0 1 上 に高 さ の異な る 凸部 2 1 1 2 a , 2 1 1 2 b が形成 さ れ る 。 続い て 、 図 4 2 ( d ) に示 す よ う に 、 凸部 2 1 1 2 a、 2 1 1 2 b を所定の温度で 1 時間加熱 し て熱処理を 行 う 。 こ れ に よ り 、 凸部 2 1 1 2 a、 2 1 1 2 b の角 部 を丸め た 凸部 2 1 1 2 a、 2 1 1 2 b が形成さ れ る 。 次に、 図 4 2 ( e ) に示 す よ う に、 熱処理が済んだ基板 2 1 0 1 の上 に 、 高分子 樹脂 を ス ピ ン コ ー ト し て 高分子樹脂膜 2 1 0 3 を形成す る 。最後 に、 こ の高分子樹脂膜 2 1 0 3 上 に、 絵素電極 2 1 0 4 を スノ ッ 夕 リ ン グ法 に よ り 形成す る ( 図 4 2 ( f ) )。
そ し て、 上記の 方法 に よ り 、 凸部 2 1 1 2 a、 2 1 1 2 b の傾斜 角(凹 凸状の 絵素電極表面 に於け る 微小 な面 と基板面 と の な す角度) を 制御 し、 反射特性の 向上 を 図 っ て い る 。
し か し な が ら 、 上記従来例 の製造方法で は、 理論的 に は傾斜角 の 制御 は可能で あ っ て も 、 製造 プ ロ セ ス マー ジ ン が小 さ い た め、 希望 す る 反射板 を製造す る こ と がで き な い 。 即 ち 、 実際の製造時 に は、 例 え ば加熱温度 の誤差、 加熱時間の誤差等 に起因 し て、 希望す る 傾 斜角 を 有す る 反射板 を製造す る こ と がで き な い。 従 っ て、 従来例 の 製造方法 に よ り 得 ら れた反射板は、 視角 方向 の 明 る さ が不十分で あ り 、 広範囲 に於い て 良好なペーパーホ ワ イ ト 性が得 ら れな い と い う 問題点 を有 して い る 。 こ の よ う に、 製造 プ ロ セ ス マ ー ジ ン を 大 き く と れ る か否かは、 実際の製造 プ ロ セ ス にお い て重要 な 問題で あ る 。 ま た、 従来例 の製造方法で は、 加熱 に よ る リ フ ロ ー に よ り 形状制 御 を 行い、 かつ、 二眉 目 の レ ジ ス ト を塗布 し て い た。従っ て 、 タ ク ト の低下 を招 き、 コ ス ト が上昇す る と い つ た課題があ っ た 。 発 明 の 開 示
本発明者等は、 従来技術の課題を解決すべ く 、 第 1 の発明群〜第 3 の 発明群 を 完成 し た。 第 1 の発明群の 目 的 は、 理想的な反射特性 を備 え な が ら 色付 き の 少な い反射板、 そ の反射板 を備え た表示品位が良好な反射型液晶表 示素子 を提供 す る こ と で あ る 。
第 2 の発明群の 目 的 は、 凹凸構造を容易 に製造す る こ と が可能 な 凹 凸構造体、 反射 ¾及び レ ン ズ、 並びに そ の製造方法、 製造装置 を 提供 す る こ と で あ る 。
第 3 の発 明群の 目 的は、 大 き な製造 プ ロ セ ス マ ー ジ ン を 有 す る こ と に よ り 凹 凸状反射面 の傾斜角 を高精度で 制御す る こ と がで き 、 コ ン ト ラ ス ト 特性、 ペーパーホ ワ イ ト 性 に優れた反射板、 及び上記反 射板 を用 い た反射型液晶表示素子、 並びに そ の製造方法 を 提供 す る こ と で あ る 。
ま た、 第 3 の 発明群の 目 的は、 製造 プロ セ ス の簡略化す る こ と に よ り 、 夕 ク ト の 向上 を 図 り 、 製造コ ス ト の低減を 図 る こ と がで き る 反射板、 及び上記反射板を 用 い た反射型液晶表示素子、 並び に そ の 製造方法 を 提供す る こ と を 目 的 と する 。
上記 目 的 を達成す る た め、 第, 1 の発明群は、 散乱 も し く は反射す る 微小 な複数の素子が配列 さ れて い る 光学特性が異 な る 複数種類の 領域 を有す る こ と を 特徴 と す る 。 ま た、 散乱 も し く は反射す る 微小 な複数の素子が配列 さ れて い る 偏光特性が異 な る 複数種類の領域 を 有す る 場合 も あ る 。 ま た、 散乱 も し く は反射す る 微小 な複数の素子 が配列 さ れて い る 反射特性が異な る 複数種類 の領域を 有す る 場合 も あ る 。 こ こ で、 用語 「素子」 と は散乱性を備 え る 反射板 に おい て 、 散乱性 を付与 す る た め の構成要素 を示 して い る 。 例 え ば、 凹 凸形状 に よ り 散乱性が付与 さ れて い る 反射板の場合 に は、 反射板表面上 に 形成さ れた 凸部 も し く は 凹部 を 「素子」 と す る 。
こ の よ う な構成に よ り 、 回折光の重な る 部分が拡が り 、 色付 き が 小 さ く な る 。
ま た本発明は、 複数種類の領域の反射光 の 回折角 が異 な る よ う に 構成す る 場合も あ る 。 具体的 に は、 素子 の 間 の 平均 ピ ッ チが異な る よ う 構成 し た り 、 複数種類の領域か ら の 回折角 の極小 と極大 と が概 ね重な り 合 う よ う に構成す る 。
更 に、 素子の配列 が規則 的又は周期的 を 有 す る 場合も あ る 。
ま た、 複数種類の領域は、 素子の配列 も し く は素子の形状 に異方 性 を 有 して お り 、 し か も 、 各領域毎に そ の異方性の 方位 を異 に し て い る 場合 も あ る 。
ま た、 本発明は、 複数種類の領域か ら の 回折光 を 制御す る 透過特 性を 有 す る カ ラ 一 フ ィ ル タ ー を具備す る 場合 も あ る 。 こ の よ う な 構 成に よ り 、 カ ラ ー フ ィ ル タ ーの R G B に対応 す る 領域か ら の 回折光 が重な り 合い、 白 色ィ匕す る こ と に よ り 、 色付 き を抑制す る こ と がで ぎ る 。
上記 目 的 を達成す る た め、 第 2 の発明群は、 基板上 に 凹凸構造部 を有 す る 凹 凸形状体に おい て 、 前記凹 凸構造部が、. 光吸収性物質 を 含む感光性高分子 を含む こ と を特徴 と す る 。 若 し く は、 凹凸構造部 が、 光散乱性物質 を含む感光性高分子 を含む こ と を 特徴 と す る 。
光吸収性物質や光散乱性物質 を含む感光性高分子 を使用 し、 裏面 露光及び現像処理 を 行 う こ と に よ り 、 所定 の傾斜角 度 を 有 す る 凹 凸 構造が得 ら れ る こ と に な る 。 なお、 本発明 は、 凹凸構造部 を 有す る 凹 凸形状体、 散乱反射板、 更 に は、 散乱反射板を用 い た液晶表示素 子等 に も 適用 す る こ と がで き る 。
上記 目 的 を達成す る た め、 第 3 の発明群の う ち第 1 の発明は、 感 光性樹脂材料か ら 成 る 柱状体を 溶融変形 さ せて得 ら れた 凸部が複数 設け ら れた基板 と 、 前記凸部 を被覆す る 光反射性薄膜 と を有 す る 反 射板 におい て 、 前記感光性樹脂材料は、 前記凸部の底面外周縁上 の 所定の 点 と 凸部頂点 と を 結ぷ直線 と、 凸部底面 と の成す角 を 凸部 の 平均傾斜角 と し、 前記柱状体の形状を規定す る 2 つ の代表寸法.の 比 で示 さ れ る ァ ス ぺ ク ト 比 を 0 近傍の値か ら 徐々 に増加 し て い く と 、 平均傾斜角 が上昇変化過程 を経て極大値 に達 し、 そ の後下降過程 を 経て 一定値 に 収束す る よ う な ァス ぺク ト 比 一 平均傾斜角 特性を 有 し て お り 、 前記複数の 凸部の 平均傾斜角 が、 前記ァ ス ぺク ト 比 一 平均 傾斜角 特性 に お け る 前記収束値 と さ れて い る こ と を 特徴 と す る 。
上記構成に よ り 、 反射特性に優れた反射板が構成 さ れ る 。 こ こ で、 柱状体の横断面は、 円形、 楕 円形、 多角形、 あ る い はそ の他不規則 な形状で あ っ て も よ い 。 ま た、 本発明 にお け る 「代表寸法」 に は、 柱状体の高さ 、 幅の他 に、 柱状体の横断面積 も 含む。 従っ て 、 「ァ ス ぺク ト 比」 と は、 柱状体の高さ /柱状体の 幅、 の みな ら ず、 例 え ば、 高さ /軸直角 断面等 も 含む概念 と して使用 す る 。
第 2 の発明 は、 第 1 の発明 に係 る 反射板 に お い て 、 前記ァス ぺ ク ト 比は前記柱状体の 幅 に対する 高 さ の 比で あ る を こ と を 特徴 と す る , こ こ で 「柱状体の 幅」 と は、 例 え ば柱状体が 円柱状体の場合は横 断面の 直径 ま た は半径 を意味 し、 柱状体が楕 円柱状体の 場合は横断 面の短軸又は長軸 を 意味す る 。
第 3 の発 明は、 反射板の製造方法で あ っ て 、 基板上 に 、 薄膜部分 と複数の柱状体部分 と か ら 構成 さ れる 凹 凸状の 熱可塑性樹脂層 を形 成す る 工程 と 、 前記複数の柱状体部分が形成 さ れて い る 基板に熱処 理を施す こ と に よ り 、 柱状体部分 を溶融変形 さ せ、 所定の 平均傾斜 角 を 有 す る 複数の 凸部 を形成す る 熱処理工程 と 、 前記凸部上 に光反 射性薄膜を形成す る 工程 と 、 を備え、 前記樹脂材料が、 前記凸部 の 底面外周縁上 の所定の点 と 凸部頂点 と を結ぶ直線 と 、 凸部底面 と の 成す角 を 凸部の平均傾斜角 と し、 前記柱状体の形状 を規定す る 2 つ の代表寸法の 比で示 さ れ る ァ ス ぺ ク ト 比 を 0 近傍の値か ら 徐々 に増 加 し て い く と 、 平均傾斜角 が上昇変化過程 を絰て極大値 に達 し、 そ の後下降過程 を経て 一定値 に 収束す る よ う な ァ ス ぺク ト 比 一 平均傾 斜角 特性 を 有 して お り 、 前記樹脂層形成工程に おい て得 ら れ る 前記 柱状体の ァ ス ぺ ク ト 比の設定値 を 、 前記一定値 に収束 し始め る 開始 点 よ り も 大 き い ァ ス ぺ ク ト 比 と し た こ と を 特徴 と す る 。
上記の如 く 、 ァス ぺ ク ト 比 一 平均傾斜角特性 にお いて平均傾斜角 が一定値 に収束 し始め る 開始点 よ り も 大 き い ァ ス ぺ ク ト 比 を、 柱状 体の アス ペ ク ト 比の設定値 と す る こ と に よ り 、 製造 プロ セ ス マ ー ジ ン を 従来例 に 比べて格段 に大 き く と る こ と がで き る 。 従っ て 、 加工 誤差等の 影響 を 受け る こ と がな く 、 高精度 の平均傾斜角 を有 す る 凸 部 を形成 す る こ と がで き る 。 こ の結果、 反射特性の優れた反射板 を 得 る こ と がで き る 。 な お、 柱状体の形成に 際 し て は、 フ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ 法 に限 ら ず、 例 え ば錶型等の方法 を 用 い て も よ い。 ま た、 用 語 「薄膜部分」 と は、 フ ォ ト リ ソ グラ フ ィ 法 を 用 い た請求項 4 記載 の発明 に お け る 「残膜」 に相 当 す る も の で あ る 。
第 4 の 発明は、 感光性樹脂材料か ら 成る 柱状体を 溶融変形 さ せて 得 ら れた 複数の 凸部 を有 す る 反射板の製造方法 にお いて、 基板上 に 感光性樹脂材料 を塗布す る 塗布工程 と 、 前記塗布工程に得 ら れ た感 光性樹脂材膜 に、 所定の形状 にパ タ ーニ ン グ さ れた遮光部 を有 す る フ ォ ト マ ス ク を 介 し て 光 を 照射す る 露光工程 と 、 光照射さ れた前記 感光性樹脂膜 を現像 して 、 残膜及び複数の柱状体を形成す る 現像ェ 程 と 、 前記複数の柱状体が形成さ れて い る 基板 に ¾処理を施す こ と に よ り 、 柱状体を 溶融変形 さ せ、 所定の平均傾斜角 を有す る 複数の 湾曲状凸部 を形成す る 熱処理工程 と 、 前記凸部上 に 光反射性薄膜 を 形成す る 工程 と 、 を備 え、 前記感光性樹脂材料が、 前記凸部の底面 外周縁上の所定の 点 と 凸部頂点 と を結ぶ直線 と 、 凸部底面 と の成 す 角 を 凸部 の 平均傾斜角 と し、 柱状体の形状 を規定す る 2 つ の代表寸 法の 比で示 さ れ る ァス ぺク ト 比 を 0 近傍の値か ら徐々 に増加 し て い く と 、 平均傾斜角 が上昇変化過程 を経て極大値 に達 し、 そ の後下 降 過程 を経て 一定値 に収束す る よ う なア ス ペ ク ト 比 一 平均傾斜角特性 を 有 して お り 、 前記現像工程 において得 ら れ る 前記柱状体の ァ ス ぺ ク ト 比の設定値 を、 前記一定値 に収束 し始め る 開始点よ り も 大 き い ァス ぺ ク ト 比 と し た こ と を特徴 と す る 。
上記構成 に よ り 、 第 3 の発明 と 同様 に、 製造 プロ セ ス マ ー ジ ン を 従来例 に比べて格段に大 き く と る こ と がで き る 。 従 っ て、 加工誤差 等の影響 を 受け る こ と がな く 、 高精度の 平均傾斜角 を有 す る 凸部 を 形成す る こ と がで き る 。 こ の結果、 反射特性の優れた反射板 を得 る こ と がで き る 。
ま た、 フ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ 一法 を用 い た従来 の製造方法で は、 光 反射性薄膜形成前に 凸部を被覆す る樹脂層 を形成す る 工程が必要 で あ つ た が、 本発明の製造方法で は、 かか る 樹脂層形成工程 を不要 と して い る 。 従 っ て、 従来例 に 比べて製造 プ ロ セ ス が簡略化 さ れ、 夕 ク 卜 の 向上 が図 ら れる 。
第 5 の発明は、 第 4 の発明 に係 る反射板の製造方法 に お い て 、 前 記感光性樹脂材料が、 低 ァ レ ジ ス ト 材料で あ る こ と を特徴 と す る 。
上記の如 く 感光性樹脂材料 と し て低 ァ レ ジ ス ト 材料を 用 い る と 、 残膜の存在 し な い領域 を形成す る こ と がで き る 共に、 そ の他の領域 で は残膜の厚み を 制御 す る こ と が可能 と な る 。
第 6 の発明は、 第 4 の発明 に係 る 反射板の製造方法に おい て 、 前 記ァ ス ぺ ク ト 比 一 平均傾斜角特性は、 柱状体を加熱す る 加熱温度 を
1.1 大 き く す る と 平均傾斜角 の収束値が小 さ い値 に 変化 し、 逆 に加熱温 度 を 小 さ く す る と 平均傾斜角 の収束値が大 き い値 に 変化す る 性質 を 有 し て お り 、 前記熱処理工程 にお いて、 加熱温度が、 凸部の前記所 定平均傾斜角 に対応 した加熱温度 と さ れて い る こ と を特徴 と す る 。
上記の 如 く 加熱温度 を 制御 す る こ と に よ り 、 希望す る 平均傾斜角 を 有 す る 凸部 を形成す る こ と がで き る 。
第 7 の 発 明 は、 第 4 の発 明 に係 る 反射板の製造方法 に おい て 、 前 記ァ ス ぺ ク ト 比 一 平均傾斜角特性は、 前記残膜の厚み を 大 き く す る と 平均傾斜角 の収束値が小 さ い値 に変化 し、 残膜の厚み を 小 さ く す る と 平均傾斜角 の収束値が大 き い値 に 変化す る 性質 を有 して お り 、 前記現像工程後 に得 ら れた残膜の厚みが凸部 の前記所定平均傾斜角 に 対応 し た残膜の厚み と な る よ う に、 前記露光工程 にお け る 感光性 樹脂への 露光量を調整す る よ う に し た こ と を特徴 と す る 。
上記の如 く 残膜の厚み を 制御す る こ と に よ り 、 希望す る 平均傾斜 角 を 有 す る 凸部 を形成す る こ と がで き る 。
第 8 の 発明は、 第 3 の発明 に係 る 反射板の製造方法 に お い て、 前 記ア ス ペ ク ト 比が 0 . 0 5 以上、 0 . 7 以下の 範囲 に あ る こ と を 特 徴 と す る 。
第 9 の 発明は、 第 4 の発 明 に係 る 反射板の製造方法 に おい て 、 前 記塗布工程 に お け る 感光性樹脂膜の膜厚が、 1 m以上、 1 0 m 以下 の範囲 に あ る こ と を 特徴 と す る 。
感光性樹脂膜の膜厚 を規制 す る の は、 以下の理 由 に よ る 。 即 ち 、 感光性樹脂層 の膜厚が 1 m よ り も 小 さ い と 、 光反射性薄膜の表面 の 凹 凸差が小 さ く な り 過 ぎ 、 正反射方 向 に反射 さ れ る 光が増大す る の で 好 ま し く な いか ら で あ る 。 ま た、 感光性樹脂層 の膜厚が 1 0 m り も 大 き い と 凹凸 の差が大 き く な り す ぎ 、 例 え ば反射板を 反射 型液晶表示素子 に適用 し た場合に、 セ ル ギ ヤ ヅ プの不均一性が拡大 し す ぎ、表示 ム ラ 等の表示品位の劣化 を 招 く こ と に な る か ら で あ る 。 第 1 0 の発 明 は、 第 4 の発明 に係 る 反射板の製造方法 に おい て 、 基板上 に感光性樹脂材料 を塗布す る塗布工程に先だ っ て 、 前記感光 性樹脂材料 と 同一材料の感光性樹脂材料を基板上 に成膜す る 工程 を 有す る こ と を 特徴 と す る 。
第 1 1 の発明は、 第 4 の発明 に係 る 反射板の製造方法 におい て 、 基板上 に感光性樹脂材料 を塗布す る 塗布工程 に先だ っ て、 前記感光 性樹脂材料 と 異 な る 材料の感光性樹脂材料 を基板上 に成膜す る 工程 を有する こ と を 特徴 と す る 。
上記の如 く 、 基板上 に形成 さ れ る 感光性樹脂層は、 複数層か ら 構 成 さ れて いて も よ く 、 ま た、 下地層 と な る 感光性樹脂は上層 の感光 性樹脂 と 同一材料で あ っ て も 、 異な る 材料で あ っ て も よ い 。
第 1 2 の発明は、 第 3 の発明 に係 る 反射板の製造方法 に お い て 、 前記ァス ぺ ク ト 比は前記柱状体の幅に対す る 高 さ の 比で あ る を こ と を特徴 と す る 。
第 1 3 の発 明は、 反射型液晶表示素子で あ っ て、 液晶表示層 を挟 んで一方 に基板が、 他方 に前記請求項 1 記載の反射板が設け ら れて い る こ と を 特徴 と す る 。
上記構成に よ り 、 コ ン ト ラ ス ト 特性、 ペーパーホ ワ イ ト 性 に優れ た反射型液晶表示素子が構成さ れ る 。
第 1 4 の発明は、 反射板 と 、 反射板 に対向 す る よ う に 設け ら れた 基板 と 、 反射板及び基板 に挟 ま れた液晶表示層 と を備え た反射型液 晶表示素子の製造方法 におい て、 前記反射板は、 第 3 の発明 に係 る 方法 に よ っ て製造 さ れ る こ と を特徴 と す る 。
上記構成 に よ り 、 コ ン ト ラ ス ト 特性、 ペーパーホ ワ イ ト 性 に優れ た反射型液晶表示素子 を製造す る こ と がで き る 。
第 1 5 の発明は、 同心状又は並列状 に配列 さ れた複数の 凸部で あ つ て、 感光性樹脂材料か ら 成 る 同心状又は並列状 に配列 さ れた柱状 体を溶融変形 さ せて得 ら れた、 そ の よ う な複数の 凸部が設け ら れ た 基板 と 、 前記凸部 を被覆す る 光反射性薄膜 と 、 を 有 し、 入射光 を 反 射回折 に よ り 分光す る 特性 を 有す る 回折格子型反射板に お い て、 前 記感光性樹脂材料は、 前記凸部の底面外周縁上の所定の点 と 凸部頂 点 と を結ぶ直線 と 、 凸部底面 と の成す角 を 凸部の平均傾斜角 と し、 前記柱状体の形状を規定す る 2 つ の代表寸法の 比で 示さ れ る ァ ス ぺ ク ト 比 を 0 近傍の値か ら 徐々 に増加 し て い く と 、 平均傾斜角 が上昇 変化過程を 経て極大値 に達 し、 そ の後下降過程を経て一定値 に収束 す る よ う な ァ ス ぺ ク ト 比 一 平均傾斜角特性 を 有 してお り 、 前記複数 の 凸部の平均傾斜角 が、 前記ァス ぺク 卜比 一 平均傾斜角特性 に お け る 前記収束値 と さ れて い る こ と を 特徴 と す る 。
上記構成 に よ り 、 色再現範囲の広い 回折格子型反射板が構成 さ れ る 。
第 1 6 の発明は、第 1 5 の発明 に係 る 回折格子型反射板 に お い て 、 前記ア ス ペ ク ト 比は前記柱状体の幅に対す る 高 さ の 比で あ る を こ と を 特徴 と す る 。
第 1 7 の 発明 は、 反射型液晶表示素子に おいて 、 液晶表示層 を 挟 んで一方 に基板が、 他方 に第 1 5 の発明 に係 る 回折格子型反射板が 設け ら れて い る こ と を 特徴 と す る 。
上記構成 に よ り 、 色再現範囲の広い 回折格子型反射板を備え た反 射型液晶表示素子が構成さ れ る 。
第 1 8 の 発明は、 感光性樹脂材料か ら 成 る 柱状体を 溶融変形 さ せ て得 ら れた複数の 凸部 を 有 し、 入射光 を反射回折 に よ り 分光 す る 特 性 を 有する 回折格子型反射板の製造方法 に お い て、 基板上 に感光性 樹脂材料を塗布 す る 塗布工程 と 、 前記塗布工程 に よ っ て得 ら れた感 光性樹脂材膜に、 所定の形状 にパ タ ーニ ン グ さ れた遮光部 を 有 す る フ ォ ト マ ス ク を 介 し て 光 を 照射す る 露光工程 と 、 光照射さ れた前記 感光性樹脂膜を現像 して 、 残膜及び複数の 同心状又は並列状 に配列 さ れ た柱状体を形成す る 現像工程 と 、 前記複数の柱状体が形成 さ れ て い る 基板 に熱処理 を施す こ と に よ り 、 柱状体を溶融変形 さ せ、 同 心状又は並列状 に配列 さ れ所定の平均傾斜角 を 有 す る 複数の 凸部 を 形成す る 熱処理工程 と 、 前記凸部上 に 光反射性薄膜を形成す る 工程 と 、 を備え 、 前記感光性樹脂材料が、 前記凸部の底面外周縁上の所 定の点 と 凸部頂点 と を 結ぶ直線 と 、 凸部底面 と の成す角 を 凸部 の 平 均傾斜角 と し、 前記柱状体の形状を規定す る 2 つ の代表寸法の 比で 示 さ れる ァ ス ぺ ク ト 比 を 0 近傍の値か ら 徐々 に増加 して い く と 、 平 均傾斜角 が上昇変化過程 を経て極大値 に達 し、 そ の後下降過程 を 経 て一定値 に収束す る よ う な ア スペク ト 比 一 平均傾斜角特性 を有 し て お .り 、 前記現像工程 におい て得 ら れ る 前記柱状体の ァ スぺ ク ト 比 の 設定値 を、 前記一定値 に収束 し始め る 開始点 よ り も 大 き い ァ ス ぺ ク ト 比 と し た こ と を 特徴 と す る 。
上記構成 に よ り 、 色再現範囲の広い 回折格子型反射板を製造す る こ と がで き る 。
第 1 9 の発明は、 第 1 8 の発明 に係 る 回折格子型反射板の製造方 法 におい て、 前記ァ ス ぺク ト 比は前記柱状体の 幅 に対す る 高 さ の 比 で あ る を こ と を特徴 と す る 。
第 2 0 の発明は、 反射板 と 、 反射板 に対向 す る よ う に設け ら れ た 基板 と 、 反射板及び基板 に挟 ま れた液晶表示層 と を備 え た反射型液 晶表示素子の製造方法 に お い て、 前記反射板は、 第 1 8 の発明 の 方 法 に よ っ て製造 さ れる こ と を特徴 と す る 。
上記構成 に よ り 、 色再現範囲の広い 回折格子型反射板を を備え た 反射型液晶表示素子 を製造す る こ と がで き る 。 図 面 の 簡 単 な 説 明
図 1 は実施の形態 1 一 1 に係 る 反射板 を斜め か ら 見た 図で あ る 。 図 2 は 図 1 の反射板 を製造す る 工程 を 説明す る た め の 図で あ る 。 図 3 は散乱特性の測定を説明す る た め の 図で あ る 。
図 4 は 図 1 の反射板の散乱特性 を示す図 で あ る 。
図 5 は 比較例 1 の反射板の散乱特性 を 示 す図で あ る 。
図 6 は実施の形態 1 ― 2 に係 る 反射板 を斜め か ら 見た 図で あ る 。 図 7 は 図 6 の反射板の散乱特性 を示す図で あ る 。
図 8 は比較例 2 の反射板の散乱特性 を 示す図で あ る 。
図 9 は実施の形態 1 一 3 に係 る 反射板を斜めか ら 見た 図で あ る 。 図 1 0 は実施の形態 1 — 4 に係 る 反射板を斜めか ら 見た 図で あ る , 図 1 1 は 式 3 、 4、 5 を 満た す よ う に、 d い d い d B を定め た一 例 を 説明す る た め の 図で あ る 。
図 1 2 は実施の形態 1 一 5 に係 る反射板 を斜め か ら 見た 図で あ る , 図 1 3 は実施の形態 1 一 6 に係 る 反射板 を 斜め か ら 見た 図で あ る ( 図 1 4 は実施の形態 2 — 1 の液晶表示素子の 断面図 で あ る 。
図 1 5 は色素が含有 さ れて い る レ ジ ス ト の膜厚 と 透過率 と の 関係 を 示す グ ラ フ で あ る 。
図 1 6 は本実施の形態 2 — 1 に お け る 凹 凸構造部の製造方法 を 示 す原理図で あ る 。
図 1 7 は感光性高分子の光吸収率 と 平均傾斜角 の 関係 を 示す図 で あ る 。 図 1 8 は実施の形態 2 ― 3 の液晶表示素子の 断面図で あ る 。
図 1 9 は実施の形態 2 — 5 の液晶表示素子の 断面図で あ る 。
図 2 0 は本実施の形態 2 — 5 の 凹凸構造部の製造方法 を 示す原理 図で あ る 。
図 2 1 は感光性高分子 2 5 6 A、 2 5 6 B か ら 成 る 2 層等の 多層 構成の 断面図で あ る 。
図 2 2 は実施の形態 2 — 6 の液晶表示素子の ア レ イ 基板の構成図 で あ る 。
図 2 3 は実施の形態 2 - 7 の液晶表示素子の画素構成を 示す。 図 2 4 は露光光が回折光 と な っ て感光性 レ ジ ス ト を照射す る 状態 を示す図で あ る 。
図 2 5 は本実施の形態 2 - 7 の 凹凸構造部の製造方法 を 示す原理 図で あ る 。
図 2 6 は本発明の基板の製造装置の原理図 を 示す。
図 2 7 は実施の形態 2 — 9 に用い る 露光装置の原理図で あ る 。
図 2 8 は実施の形態 3 一 1 に係 る 反射板の要部断面図で あ る 。. 図 2 9 は実施の形態 3 ― 1 に係 る 反射板の平面図 で あ る 。
図 3 0 は 凸部 3 0 4 の拡大断面図で あ る 。
図 3 1 は 凸部 3 0 4 の拡大斜視図で あ る 。
図 3 2 は実施の形態 3 — 1 に係 る 反射板の製造工程 を示 す フ ロ ー チ ャ ー ト で あ る 。
図 3 3 は実施の形態 3 — 1 に係 る 反射板の'製造工程を 示す断面 図 で あ る 。
図 3 4 は ァ ス ぺ ク ト 比 ァ 一 平均傾斜角 0 特性を示 す グラ フ で あ る c 図 3 5 は残膜厚及び加熱温度の 変化 に応 じ た ァ ス ぺ ク ト 比 ァ 一 平 均傾斜角 Θ 特性 を 示 す グ ラ フ で あ る 。 図 3 6 従来例 と 本発 明 と にお け る 加工誤差 に よ る 影響の違い を 説 明す る た め の 図で あ る 。
図 3 7 は実施の形態 3 — 1. の反射板 を 用 い た反射型液晶表示素子 の要部 断面図で あ る 。
図 3 8 は実施の形態 3 — 2 に係 る 反射板の製造工程を 示す断面図 で あ る 。
図 3 9 は低 y レ ジ ス ト の特性図で あ る 。
図 4 0 は実施の形態 3 — 3 に係 る 反射板の要部平面図で あ る 。 図 4 1 は 図 4 0 の X — X矢視断面で あ る 。
図 4 2 は従来の製造方法の工程 を示す断面図で あ る 。 発明 を実施す る た め の最良の形態
以下、 本発明の実施の形態につ いて 図面 を参照 して説明 す る 。 本 実施の形態 に よ っ て 本発明が限定 さ れ る も ので は な い。
[第 1 の発明群 ]
第 1 の発 明群は、 散乱 も し く は反射す る 微小 な複数の素子が配列 さ れて い る 光学特性 (例 え ば偏光特性や反射特性等) が異 な る 複数 種類 の 領域 を 有 す る 反射板で あ る こ と を 特徴 と す る 。 こ こ で 、 「素 子」 と は、 散乱 も し く は反射を 発生 さ せ る 手段 · 構造を 意味 し、 例 え ば、 凸部若 し く は凹部、 更 に は、 凹 凸構造以外で も 光の反射方 向 を 変え得 る 手段 · 構造等が該当 す る 。
第 1 の発 明群の具体例 と して 、 以下 に実施の形態 1 一 1 〜 1 一 7 を例示 して 、 第 1 の発明群の 内容を説明す る 。
(実施の 形態 1 — 1 )
本実施の形態 1 一 1 は、 反射板上 に 凸部が規則 的又は周期的 に 配 列 さ れて い る 領域が少な く と も 2 種類以上形成 さ れて い る こ と を 特 徴 と す る も の で あ り 、 こ の よ う な構成 に よ り 色付 き が視認 さ れ に く く な る と い う 効果 を 奏す る 。
実施の形態 1 一 1 の理解の容易化の た め、 実施の形態 ー 1 の 具 体的な構成 を 説明す る に先立 っ て 、 実施の形態 1 一 1 の原理を説明 す る こ と に す る 。
[原理の 説明 ]
反射板に 凹凸形状 を形成す る 際 に、 周期性 を有す る よ う 、 すな わ ち 一定 ピ ッ チ の 間隔で 瞵接す る 凸部 も し く は凹部 を形成 し て お く 。 こ の 際 の ピ ヅ チ を d l〃 m と す る 。 こ の よ う な反射板 に つ い て 、 周 期性を 有す る よ う に 凸部 を形成 し た軸 に対 し て 、 入射角 一 i 0。で 白 色 ビー ム光 を入射す る と す る 。 こ の と き の 回折光の 出射方 向 を 丄 、 回折光の波長を え m、 液晶材料層の屈折率 を n と す る と 、 mを 整 数 と して i1=sin~1 ( ~~ X10_3+sini0) · . .式 l
で表せ ら れ る 測定角 に ピー ク が出 る よ う に観察さ れ る 。 従っ て 、 こ の反射板を用 い た液晶表示素子で は ό表示 を し た と き には、 色付 き が観察 さ れ る 。 '同様に して 、 凹 凸形状 を形成す る 際 に ピ ッ チ d 2 で 隣接す る 凸部 も し く は 凹部 を形成 した反射板の入射角 — i 0。で 白 色 ビー ム 光 を 入射 し た と き の 回折光 の 出射方 向 を i 2°、 回折光 の波長 を え m、 液 晶材料層 の屈折率を n と す る と 、' mを整数 と し て i0 . . .式 2
Figure imgf000021_0001
で表す こ と の で き る 測定角 に ピー ク が出 る よ う に観察さ れ る 。 従 つ て、 こ の反射板 を用 い た液晶表示素子で は 白 表示 を し た と き に は、 色付 き が観察 さ れ る 。
式 1 及び式 2 は そ れそれ波長 ; I 、 隣接す る 凸部 も し く は 凹部 の 間 隔で あ る ピ ッ チ の 関数 に な っ て い る 。 し た が っ て、 ピ ッ チ が異な れ ば 回折光 の ピー ク の観察 さ れ る 位置は異な っ て く る 。
そ こ で、 反射板に ピ ッ チ d 1 お よ び d 2 の 凹 凸形状の領域を 両者 と も 形成す る と 、 角度 . i i。及び i 2 °に ピー ク が観察 さ れる 。 従 っ て、 こ の と き の 回折光の波長が、 ^ え ば緑色の波長で あ れば、 そ の緑色 に色付い て い る 角度 が拡が る 。 一方、 入射光の光量は一定で あ る の で、 観察者 に は緑色 が薄 く な る よ う に観測 さ れ る こ と に な る 。
こ こ で、 白 色光 に つ い て考察すれば、 白 色光 は基本的 に は、 R G B の三原色、 すな わ ち 、 R 光 (赤色)、 G光 (緑光)、 B 光 (青色 ) か ら な る た め 、 R · G · B そ れそれの成分に分けて考 え る 必要があ る 。 そ う す る と 、 上記の反射板で の ピ ッ チ d l 及び d 2 の領域か ら の 回 折光が各々 重な り 合 う 部分があ れば、 R · G · B と も に重な り 合 う 部分 も 広が り 、 それぞれの 色 の強度が小 さ く な る 効果 も 相 ま っ て 色 付 き が小 さ く な る 。 すな わ ち 、 観察者 に は色付 き が視認 さ れ に く く な る 。
[実施の形態 1 一 1 の具体的構成 ]
上記原理 に基づ き 、 実施の形態 1 一 1 に係 る 反射板を完成 し た 。 以下、 実施の形態 1 一 1 に係 る 反射板に つ い て'説明 す る 。 な お、 実 施の形態 1 ― 1 に係 る 反射板で は、 「素子」 と して 凸部 を用 い た 。 図 1 は、実施の形態 1 一 1 に係 る 反射板を 斜め か ら 見た 図 で あ る 。 こ の実施の形態 にお け る 反射板 1 1 は、 隣接す る 凸部の 間隔が異 な る 2 種類の A領域 1 2 及び B領域 1 3 が形成 さ れて い る 。 A領域 ί 2 に は反射板表面に 凸部 1 4 が間隔 D 1 = 9 〃 mで配置 さ れて い る ま た、 B領域 1 3 に は反射板表面 に 凸部 1 5 が間隔 D 2 = 7 mで 形成 さ れて い る 。
こ の反射板の 製造方法 につ いて 、 図 2 を 用 い て説明す る 。 ま ず、 図 2 ( a ) に示 す よ う に、 厚 さ 0 . 7 mm の ガ ラ ス 基板 2 1 (商品 名 : Corning 1 7 3 7 ) の 一方 の 面 に レ ジ ス ト 2 2 と して た と え ば、 JSR製ポ ジ 型 レ ジ ス ト P C 4 0 3 を ス ピ ン コ ー ト 法 に よ っ て 1 . 5 z mの厚み に成膜す る 。 次 に ホ ッ ト プ レ ー ト 上な どで 9 0 °Cで、 1 2 0 秒程度 プ リ べー ク し た。 プ リ べ一 ク 後、 図 2 ( b ) に示す よ う に 、 所定パ タ ー ン が形成 さ れた フ ォ ト マ ス ク 2 3 を 配置 して 露光 を 行 う 。 反射板表面で の 凹 凸の形状は レ ジ ス ト の厚みや フ ォ ト マ ス ク 2 3 の透光部 も し く は遮光部の形状、 密度 な ど に よ っ て 制御 す る こ と がで き る 。 本実施の形態で は、 フ ォ ト マ ス ク 2 3 と して A領域 に 対応す る 部分は直径 7 πι、 間隔 9 w mの 円形遮光部、 B領域に対 応す る 部分 は直径 5 u m , 間隔 7 mの 円形遮光部パ タ ー ン が形成 さ れて い る も の を用 い た 。 円形の 直径は 2 z mか ら 1 が好 ま し く 、 さ ら に好 ま し く は 3 mか ら ; 1 0 mで あ る 。 間 隔は 3 〃 m か ら 2 ま でが好 ま し く 、 さ ら に好 ま し く は 5 ^ ιηか ら 1 mで あ る 。 露光量は 6 0 m J / c m 2 と し た 。
露光後、 現像液 と して 例 え ば、 東京応化工業社製 の N M D — 3 を 含有成分 T M A H ( ト リ メ チルア ンモ ニ ゥ ムノ、 ィ ド ロ ォ キサイ ド ) が 0 . 4 % と な る よ う に希釈 して使用 し た 。 こ の結果、 図 2 ( c ) に 示す よ う な 凸部 2 4及び凹部 2 5 が形成 さ れ る 。
そ の後、 こ の基板を 好 ま し く は 8 0 ° ( 〜 2 2 0 °Cで 3 分か ら 1 2 0 分加熱す る 。 本実施の形態で は、 1 5 0 °Cで 5 分の加熱 を行 っ た 。 そ の結果、 図 2 ( d ) に 示す よ う な 凸部 2 4 の 角が と れて 滑 ら か な 凸形状 と な っ た 凸部 2 6 が形成さ れる 。
次いで、 図 2 ( e ) で示す よ う に、 凸部 2 6 に レ ジス ト 2 7 を 塗 布 し た 。 こ の レ ジス ト 2 7 は凸部 2 6 ( 2 4 ) と 同一材料で あ り 、 こ の レ ジ ス ト 2 7 を ス ピ ン コ ー ト に よ っ て 0 . 3 〃 m の厚み に塗布 し た 。 さ ら に、 2 2 0 °Cで 6 0 分加熱す る こ と に よ り 、 レ ジ ス ト 2 7 が熱だ れ を起 こ し て滑 ら かな 凹凸が形成 さ れ る 。
そ の後、 図 2 ( f ) に 示す よ う に光反射層 と な る 金属膜 2 8 を 成 膜す る 。 こ の金属膜 2 8 の材料 と して は A l 、 A l T a、 A g、 A g P d C u な どが適 して お り 、 本実施の形態で は A 1 を 2 0 0 0 A 成膜 し た 。
こ の よ う な工程 を経た作製 さ れた反射板 1 1 に以下の実験 を 行 つ た 。 反射板 1 1 に対 して、 白 色入射光が反射板水平面に対 して 、 極 角方 向 i 0。で入射 して い る と す る 。 こ の と き 、 図 3 に示 す よ う な 装 置 に よ り 、 散乱特性 を 測定 し た。 図 3 は、 反射板 1 1 を液晶材料 と ほぼ屈折率の等 し い物質、 例 え ば、 エチ レ ン グ リ コ ール 3 2 を 対 向 基板 3 3 と で構成 さ れた擬似パ ネ ル 3 1 に 対 して、 光源 3 4 か ら 入 射光 3 5 を 、 入射角 3 6 が i 。 と な る よ う に配置 してお く 。 そ して、 擬似パ ネ ル 3 1 に入射 し た 入射光 3 5 が反射板 1 1 で反射 さ れ る が、 こ の と き の反射光 3 7 の輝度 を輝度計 3 8 に よ り 測定す る 。こ の 際、 輝度計 3 8 は、 反射板の測定箇所 3 9 を 中 心 に測定角 4 0 の範囲で 回転 し な が ら 、 輝度 を測定 し た 。 こ の結果、 図 4 の よ う な特性 を 得 る こ と がで き た 。 図 4 は、 3 0 。方 向 か ら 擬似パ ネ ル 1 1 に入射光 を 入射 し、 光源か ら 白 色 ビーム を反射板に入射 し、 輝度計で の測定 に よ り 得 ら れ た散乱特性で あ る 。さ ら に 図 3 に 示 し た測定系 に おい て 、 光源 3 4 の 前 に 緑色及び赤色 の フ ィ ル タ ー を挿入 し、 緑色光 も し く は赤色光 に よ り 同様 に輝度 を 測定 し た と こ ろ 、 図 4 に示 す よ う に 白 色 4 1 、 緑色 4 2 、 赤色 4 3 で の散乱特性はほぼ重 な っ た。 こ れは、 本実施の形態で の反射板の構成で は、 色付 き がほ と ん どな い こ と を 示 して い る 。 ま た 、 白 色光 を反射板 に入射 し、 そ の反射像 を ス ク リ ー ン に拡大投射 し た と こ ろ 、 色付 き は ほ と ん ど観察 さ れな か っ た 。
(比較例 1 )
A領域の みが形成さ れた反射板 につ い て 、 図' 3 に 示 し た装置 を 用 い て 同様に 散乱特性の測定を 行 っ た と こ ろ 、 図 5 に示す よ う な散乱 特性 を得た 。 図 4 の場合 と 同様 に、 3 0 °入射で 白 色光、 緑色光、 赤 色光で の特性 を 測定 し た と こ ろ 、 白 色 5 1 、 緑色 5 2 、 赤色 5 3 で の正反射方 向近傍で ピー ク を得た 。 そ れそれの ピー ク の 角度は 少 し ずつ異な り 、 緑色は正反射方 向か ら 2 . 7 °程度 に ずれた位置、 すな わ ち 2 7 . 8 °近傍 に、 赤色で 3 . 1 °程度 に ずれた 位置す な わ ち 2 6 . 9 °近傍 に見 ら れた 。 ま た、 白 色光 を反射板 に入射 し、 そ の反射 像 を ス ク リ ー ン に拡大投射 し た と こ ろ 、 正反射の方 向か ら 赤色、 緑 色、 青色の輪が観察さ れた 。
次いで、 B 領域の みが形成 さ れた反射板につ いて も 同様の測定 を 行 っ た と こ ろ 、 散乱特性 にお いて 白 色、 緑色、 赤色で の正反射方 向 近傍で ピー ク を得 た 。 そ れそれの ピー ク の 角度 は少 し ずつ異 な り 、 緑色は正反射方 向 か ら 3 . 5 °程度ずれた位置、 すなわ ち 2 6 . 5 ° 近傍 に 、 赤色で 4 °程度ずれた位置、 す な わ ち 2 6 °近傍の ずれた位 置 に見 ら れた 。 ま た、 白 色光 を反射板 に入射 し、 そ の反射像を ス ク リ ー ン に拡大投射 し た と こ ろ 、 正反射の 方 向か ら 赤色、 緑色、 青色 の輪が観察 さ れた 。
こ の よ う に、 A領域、 B 領域を個 々 に形成 し た反射板で は色付 き が見 ら れた が、 A領域及び B 領域の両方 を 形成 さ れた反射板で は色 付 き は観察 さ れな か っ た 。 緑光 に着 目 す る と 、 A領域だ け、 も し く は B 領域だ け形成さ れた反射板で は各々 正反射方 向 か ら 2 . 7 °す な わ ち 、 2 7 . 3 。近傍お よ び 3 . 1 °すなわ ち 2 6 . 9 °近傍の測定角 にお いて 回折 ピー ク が観察 さ れて い る 。 こ れが、 A、 B 領域 と も に 形成 さ れて い る 場合 に は、 ピー ク が 2 · 7 °と 3 · 5 °の地点 に分割 さ れ、 し か も そ れそれの領域の形成さ れた面積比 に よ っ て 、 光量が 配分 さ れ る た め、 そ れそれの ピー ク が拡が り 、 かつ輝度が小 さ く な る た め、 色付 き が抑制 さ れ る 。 青色お よ び赤色 に つ いて も 同様で あ る 0
(実施の形態 1 — 2 )
図 6 は実施'の形態 1 一 2 に お け る 反射板を斜めか ら 見た 図で あ る こ の実施の形態に お け る 反射板 6 1 は、 隣接す る 凸部の 間 隔は 同 じ で あ る が、 そ の配列 の方 向 が異な る 2 種類の A領域 6 2 及び B 領域 6 3 が形成 さ れて い る 。 A領域 6 2 に は反射板表面 に 凸部 1 4 が間 隔 D 1 = 9 / mで 配置 さ れて い る 。 図 6 に示す座標軸 6 4 を 、 凸部 の配列方 向 を 示 す直線 6 5 と な す角度 6 6 が 9 0 °と な る よ う に 設 定す る 。 ま た、 こ れ に対 して 、 方位角 0 2 を本実施の形態で は 3 0 ° と し た 。 そ して 、 A領域の 凸部の配列 を 回転 さ せた も の を B 領域 と す る 。 こ の よ う 構成の反射板 に つ き、 図 3 に 示 し た測定装置を直線 6 5 に垂直 に 回転 さ せな が ら 反射特性 を測定 し た と こ ろ 、 図 7 に 示 す特性を得 る こ と がで き た 。 図 7 は、 3 0 °方 向 か ら 擬似パ ネ ル 1 1 に入射光 を入射 し、 光源か ら 白 色 ビー ム を反射板に 入射 し、 輝度計 で の測定に よ り 得 ら れた散乱特性で あ る 。 さ ら に図 3 に示 し た測定 系 に おい て 、 光源 3 4 の前 に緑色及び赤色 の フ ィ ル 夕 ー を揷入 し、 緑色光 も し く は赤色光 に よ り 同様 に輝度 を 測定 し た と こ ろ 、 図 7 に 示す よ う に 白 色 7 1 、 緑色 7 2 、 赤色 7 3 で の散乱特性は ほぼ重 な つ た 。 こ れは、 本実施の形態で の反射板の構成で は、 色付 き がほ と ん どな い こ と を示 して い る 。 ま た、 白 色光 を反射板 に入射 し、 そ の 反射像を ス ク リ ー ン に拡大投射 し た と こ ろ 、 色付 き はほ と ん ど観察 さ れな か っ た 。
( 比較例 2 )
A領域の みが形成さ れた反射板につ い て 、 図 3 に 示 し た装置 を 用 い て 同様 に 散乱特性の 測定 を 行 っ た と こ ろ 、 図 8 に 示す よ う な散乱 特性 を得 た 。 図 7 の場合 と 同様 に、 3 0 °入射で 白 色光、 緑色光、 赤 色光で の 特性を 測定 し た と こ ろ 、 白 色 8 1 、 緑色 8 2 、 赤色 8 3 で の正反射方 向近傍で ピー ク を得た 。 そ れぞれの ピー ク の角度は 少 し ずつ異 な り 、 緑色 は正反射方 向か ら 2 . 7 °程度、 赤色で 3 . 1 。程 度ずれた位置 に見 ら れた 。 ま た、 白 色光 を反射板に入射 し、 そ の反 射像を ス ク リ ー ン に拡大投射 し た と こ ろ 、 正反射の 方 向 か ら 赤色、 緑色、 青色 の輪が観察 さ れた 。
B 領域の みが形成さ れた反射板 につ い て も 、 散乱特性 に お い て 、 白 色、 緑色、 赤色で の正反射方 向近傍で ピー ク を得 た。 そ れそれの ピー ク の角 度は少 しずつ異な り 、 緑色は正反射方 向 か ら 3 . 5 °程度、 赤色で 4 °程度ずれた位置 に見 ら れた 。
こ れは、 図 6 におい て、 直線 6 5 に対 して 3 0 °だ け回転 さ せ た領 域で は、 座標軸 6 4 と な す方位角 9 0 。一 3 0 ° = 6 0 °の 余弦を A の ピ ッ チ 6 7 D l = 9 〃 m に 乗 じ た も の が領域 B の ピ ッ チ 6 8 D 1 ' = 4 . 5 m と な り'、 こ の ピ ッ チ に基づ い た 回折光が ピー ク と して 生 じ る 。
ま た、 白 色光 を反射板 に入射 し、 そ の反射像を ス ク リ ー ン に拡大 投射 し た と こ ろ 、 正反射の方 向か ら 赤色、 緑色、 青色の輪が観察 さ れた 。 こ の よ う に、 A領域、 B 領域を個々 に形成 し た反射板で は色付 き が見 ら れた が、 A領域及び B 領域の 両方 を形成さ れた反射板で は色 付 き は観察 さ れな か っ た 。 緑光に着 目 す る と 、 A領域だ け、 も し く は B 領域だ け形成 さ れた反射板で は各々 正反射方向か ら 2 . 7 °か ら ずれた 地点、 すな わ ち 2 7 . 8 。近傍、 お よ び 3 . 1 °程度 すな わ ち 2 6 . 9 °近傍の 測定角 にお いて 回折 ピー ク が観察 さ れて い る 。 こ れ が、 A 、 B 領域 と も に形成 さ れ.て い る 場合に は、 ピ ー ク が 2 . 7 ° すな わ ち 2 7 . 3 °と 3 . 5 °すな わ ち 2 6 . 5 °近傍の地点 に 分割 さ れ、 しか も それぞれの領域の形成さ れた 面積比 に よ っ て 、 光量が配 分 さ れ る た め、 そ れぞれの ピー ク が拡が り 、 かつ輝度が小 さ く な る た め、 色付 き が抑制 さ れ る 。 青色お よ び赤色 に つ いて も 同様で あ る 。
(実施の 形態 1 一 3 )
図 9 ,は実施の形態 1 一 3 にお け る 反射板 を斜め か ら 見た 図で あ る c こ の実施の 形態 にお いて 使用 さ れ る 反射板 9 1 は、 各画素 9 2 每 に 周期性 を有 す る よ う に 凸部が配列 さ れて い る 。 即 ち 、 反射板 9 1 に は、 隣接す る 凸部の 間隔が異 な る 2 種類の A領域 9 3 及び B 領域 9 4 が形成さ れて い る 。 A領域 9 3 に形成 さ れて い る 凸部 9 5 は、 隣 接 す る 凸部 の 間隔 D 1 が 9 m と な る よ う に配置 さ れて お り 、 B 領 域 9 4 に形成さ れて い る 凸部 9 6 は、 隣接す る 凸部の間 隔 D 2 が 7 〃 m と な る よ う に配置 さ れて い る 。 そ し て 、 領域 A , B は、 各画素 に形成 さ れて い る 。
こ の よ う な構成を有す る 反射板につ い て 、 上記図 3 に 示 し た測定 装置 を 用 い て 、上記実施の形態 1 一 1 の場合 と 同様の条件に基づ き 、 反射特性を 評価 し た と こ ろ 、 どの 部位で も 色付 き の な い反射特性、 すな わ ち 、 均一性の高い良好 な特性を得 る こ と がで き た 。
(実施の形態 1 一 4 ) 本実施の 形態 1 一 4 は、 対応す る カ ラ ー フ ィ ル 夕 一の色 に よ り 素 子が規則的 に配列 さ れて い る 領域が互い に異な る 反射板で あ っ て 、 前記領域が少な く と も 2 種類以上形成さ れて い る こ と を 特徴 と る も ので あ り 、 こ の よ う な構成 に よ り 色付 き が視認さ れに く く な る と い う 効果 を 奏す る 。 実施の形態 1 — 4 の理解の容易化の た め、 実施の形態 1 一 4 の 具 体的な構成 を 説明す る に先立 っ て、 実施の形態 1 一 4 の原理 を 説明 す る こ と に す る 。 [原理の 説明 ] 反射板に 凹 ΰ形状を形成す る 際 に、 一定ピ ッ チ の 間隔で 隣接す る 凸部 も し く は 凹部 を 形成 し て お く 。 こ の 際の ピ ッ チ を d l z m と す る 。 こ の よ う な反射板 に つ い て、 入射角一 i 0。で 白 色 ビーム 光 を 入 射す る 。 こ の際、 ビーム光は カ ラ 一 フ ィ ルタ ー を 通過す る こ と に よ り 、 特定の波長範囲の み に な る 。 カ ラ 一 フ ィ ル タ ーの う ち緑色 の 部 分 を通過 し、 こ の結果、 波長 え Gn mの光の みが通過 して く る と 仮定 す る 。 こ の緑色対応す る 部分 に 隣接す る 凸部 も し く は凹部の 間隔が d G/z m と す る と 、 こ の領域か ら 回折光の 出射方 向 を i 3°は、 mを 整 数 と して
· · ·式 3
Figure imgf000029_0001
で表せ ら れ る 測定角 に ピー ク が出 る よ う に観察 さ れ る 。 上記カ ラ ー フ ィ ル タ ーの う ち 、 緑色 に 隣接 す る 部分が赤色 の領域 で あ る と す る 。白 色 ビーム 光の う ち 波長 ; l Rn mの光の み透過 し て く る と 仮定す る 。 こ の赤色 に 対応 す る 部分 に緑色 と 同 じ 回折角 i 3°に ピ ー ク が 出 て く る よ う に 隣接 す る 凸部 も し く は 凹部の 間隔 d K m を 設定 す る 。 こ の と き、 間隔 d R
A G
dR = d
λ G 式 4
R を 満た す よ う に 設定すれば よ い 。
同様 に カ ラ ー フ ィ ル 夕 一の う ち 、 青色の領域 を 白 色 ビー ム光の み 波長 λ Β を通過 して く る 場合に、緑色 と 同 じ回折角角 i 3°に ピー ク が 出 て く る よ う に 膦接 す る 凸部 も し く は 凹部 の 間隔 d B/« m を 設定す る 。 こ の と き、 間隔 d B は λ G
dB = d Ό '
λ G 式
B を 満た す よ う に設定すれば よ い 。
以上の よ う に カ ラ 一 フ ィ ル 夕 一の RGB に対応す る領域に各々 隣 接す る 凹部 も し く は凸部の間隔 を d R、 d G、 d B〃 m と す る と 、 各々 の波長の 回折光は 同一の測定角 に ピー ク を有 す る こ と にな る 。 こ の 結果、 各領域か ら の 回折光が重な り 合い、 白 色化す る こ と に よ っ て 色付 き は抑制 さ れ る 。
な お、 上記反射板を 用 い た反射型液晶表示素子 に おいて 、 白 表示 を 行 う と 、 色付 き が視認 さ れに く く な る 。
[実施の形態 1 一 4 の具体的構成 ]
上記原理 に基づ き、 実施の形態 1 — 4 に係 る 反射板 を完成 した 。 以下、 実施の形態 1 一 4 に係 る 反射板 に つ い て 説明 す る 。 図 1 0 は実施の形態 1 — 4 にお け る 反射板 を斜めか ら 見た 図で あ る 。 こ の実施の形態にお け る 反射板 1 0 1 に は、 R G B が形成さ れ た カ ラ ー フ ィ ル 夕 一 1 0 2 に対応す る 画素 1 0 4、 1 0 5 、 1 0 6 毎 に、 隣接 す る 凸部 1 0 3 の間隔が異な る 2 種類の A領域及び; B 領 域がそ れそ れ形成 さ れて い る 。 即 ち 、 画素 1 0 4 に は A領域 1 0 7 と B領域 1 0 8 が形成さ れて お り 、 画素 1 0 5 に は A領域 1 0 9 と B領域 1 1 0 が形成さ れて お り 、 画素 1 0 6 に は A領域 1 1 1 と B 領域 1 1 2 と が形成 さ れて い る 。
次い で、 こ の よ う な構成の作用 につ い て 説明す る 。
先ず、 緑光 に 着 目 す る と 、 画素毎に、 異 な る 間隔 に隣接 す る 凸部 も し く は凹部が形成 さ れた反射板で は、 ピー ク の観測 さ れ る 角度 が 広が る た め、 緑光で の色付 き が緩和 さ れ る 。 赤色、 青色 に つ い て も 同様で あ る 。 従 っ て 、 カ ラ ー フ ィ ルタ ー全体で見て み る と 、 特定 の 角度 に特定 の色付 き が生 じ に く く 、 白 色化 し た部分が増大す る 。
次い で、 凸部の ピ ッ チ と 色付 き 抑制 の 関係 に つ い て考察す る 。 反 射板 に 凹凸形状 を形成す る 際に、 一定 ピ ッ チ の 間隔で 隣接す る 凸部 を形成 して お く 。 こ の際の ピ ヅ チ を d l z m と す る 。 こ の よ う な反射 板 に つ い て 、 入射角 一 3 0 °で 白 色 ビ ー ム 光 を 入射 す る 。 こ の 際、 ビー ム 光は カ ラ ー フ ィ ル タ ー を通過す る こ と に よ り 、 特定の波長範 囲 のみ に な る 。 カ ラ ー フ ィ ル タ ーの う ち 緑色 の部分 を通過 し、 こ の 結果、 波長 え an mの光の みが通過 して く る と 仮定す る 。 こ の緑色対 応す る 部分 に 隣接す る ΰ部の 間隔が d G〃 m と す る と 、 こ の領域か ら 回折光 の 出射方 向 を i 3°は、 mを整数 と し て 式 3 で 表せ ら れ る 測定 角 に ピー ク が出 る よ う に観察さ れ る 。
上記カ ラ ー フ ィ ル タ 一の う ち 、 緑色 に 隣接 す る 部分が赤色 の領域 で あ る と す る 。 白 色 ビーム光の う ち 波長 え Bn mの光 のみ透過 し て く る と 仮定す る 。 こ の 赤色 に対応す る 部分 に緑色 と 同 じ回折角 i 3 °に ピー ク が 出 て く る よ う に 隣接 す る 凸部 も し く は 凹部 の 間 隔 d B m を設定す る 。 こ の と き 、 間 隔 d B は式 4 を満 た す よ う に設定す れぽ よ い 。
同様に カ ラ ー フ ィ ルタ ーの う ち 、 青色の領域を 白 色 ビー ム 光の み 波長 え B を 通過 して く る 場合に 、緑色 と 同 じ 回折角角 i に ピー ク が 出て く る よ う に 隣接す る 凸部の 間隔 d B z m を 設定す る 。 こ の と き 、 間隔 d B は式 5 を 満た す よ う に 設定すれば よ い 。
そ こ で、 式 3 、 4 、 5 を満た す よ う に、 d B、 dい d B を 設定 し て 反射板を 作製 して 、 そ の特性 を 測定 し た一例 を 図 1 1 に示 す 。 図 1 1 は、 d ji= 1 0 . 3 z m、 d G = 9 . 0 z m、 d B= 7 . 4 m と し た場合の 特性で あ る 。 図 1 1 よ り 明 ら かな よ う に、 R G B の各画素 で の特定方 向 で 白 色化が達成さ れ、 特定方 向 の色付 きが抑 制 さ れ た こ と が認め ら れ る 。
以上の よ う に カ ラ 一 フ ィ ル夕 一の RGB に 対応 す る 領域に各 々 隣接 す る 凸部 の 間 隔 を dい dい d B < m と す る と 、 各々 の波長の 回折光 は 同一の 測定角 に ピー ク を 有 す る こ と に な る 。 こ の 結果、 各領域か ら の 回折光が重な り 合い、 白 色化す る こ と に よ っ て 色付 き が抑 制 さ れ る こ と に な る 。
(実施の形態 1 — 5 )
図 1 2 は実施の形態 1 一 5 に係 る 反射板 1 2 0 1 を斜めか ら 見 た 図で あ る 。 反射板 1 2 0 1 に は、 大 き さ の異な る 矩形柱体 1 2 0 2 お よ び 1 2 0 3 が形成さ れて い る 二つ の領域 1 2 0 4及び 1 2 0 5 が存在す る 。 ま た、 矩形柱体 1 2 0 2 お よ び 1 2 0 3 の形成方 向 は 互い に異 な る よ う に形成 さ れて い る 。 矩形柱体 1 2 0 2 及び 1 2 0 3 の高 さ は共 に 0 . 3 z m と し、 矩形柱体 1 2 0 2 の幅 を 7 m、 矩形柱体 1 2 0 3 の 幅 を と し、 矩形柱体 1 2 0 2 及び 1 2 0 3 の そ れそれ の配置間隔 を共 に 2 / m と し た 。
こ こ で、 領域 1 2 0 4 お よ び 1 2 0 5 の み を そ れぞれ形成 し た反 射板 に つ いて 観察 し た と こ ろ 、 色付 き が観察 さ れた が、 反射板 1 2 0 1 で は色付 き は ほ と ん ど観察さ れな か っ た 。
(実施の形態 1 一 6 )
図 1 3 は実施の形態 1 一 6 に係 る 反射板を 斜めか ら 見た 図で あ る 反射板 1 3 0 1 上 に反射光 に対す る 偏光性が異 な る 2 種類 の領域 1 3 0 2 、 1 3 0 3 が形成 さ れて い る 。 領域 1 3 0 2 上で は素子 1 3 0 4 が、 領域 1 3 0 3 で は素子 1 3 0 5 が形成 さ れてお り 、 こ れ ら の素子の配列 ま た は形状の相違に基づ き、 領域 1 3 0 2 上の反射光 か ら の 回折光 1 3 0 6 と 、 領域 1 3 0 3 上の反射光 か ら の 回折光 1 3 0 7 と は、 そ の偏光性が異 な っ て い る 。 す な わ ち 、 それそれの 回 折光 1 3 0 6 , 1 3 0 7 を偏光成分に分解す る と 、 そ の偏光成分は そ れぞれ異な っ て い る 。 なお、 図 1 3 に お い て 、 参照符号 1 3 0 9 は 回折光 1 3 0 6 の偏光成分 を 示 し、 参照符号 1 3 1 0 は 回折光 1 3 0 7 の偏光成分を 示す。
こ の よ う な 構成 に よ り 、 色付 き は特定の視角 方 向 で生ず る が、 偏 光性の違い に よ り 、 そ の視角 方向で は強度 を 抑制す る こ と がで き 、 そ の 結果、 白 表示時に色付 き を抑制す る こ と がで き る こ と に な る 。
(実施の形態 1 一 7 )
本発明 に係 る 反射板 を用 い た反射型液晶表示素子 におい て 白 表示 を 行 っ た場合、 色付 き の 少な い良好な表示 を 得 る こ と がで き た 。
さ ら に、 本発明 に係 る 液晶表示素子 を 用 い た反射型液晶表示装置 を用 いて 白 表示 を行 っ た場合、 色付 き の 少な い 良好な表示 を得 る こ と がで き た。 本発明 に係 る 反射板 を用 い た反射透過型兼用液晶表示素子 にお い て 白 表示 を 行 っ た場合、 色付 き の 少な い良好な表示 を得 る こ と がで ぎ た 。
さ ら に、 本発明 に係 る 液晶表示素子 を 用 い た反射透過型兼用液晶 表示装置 を 用 い て 白 表示 を 行 っ た場合、 色付 き の 少 な い 良好な 表示 を得 る こ と がで き た 。
なお 、 上記反射透過型液晶表示装置 の構成 と して は、 1 ) フ ロ ン ト ラ イ ト と 反射型液晶表示素子、 2 ) 反射板が反射領域 と 透過領域 の両方 を備 え て い る 反射型液晶表示素子 と ノ、 ッ ク ラ イ ト 、 3 ) 半透 過性の反射板 を備 え た反射型液晶表示素子 と バ ッ ク ラ イ ト な どで も 反射板の 素子の形成に よ り 同様に実施可能で あ る 。
(そ の他 の事項)
( 1 ) 上記実施の形態で は、 反射板は い ずれ も フ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ — プ ロ セ ス に よ っ て作製す る 場合につ いて 説明 したが、 本発明は こ れ に限定 さ れ る も の で は な く 、 例 え ば、 印刷版 を用 い た 印刷、 イ ン ク ジ エ ツ ト に よ る 印刷 に よ っ て も 同様 に本発明 に係 る 反射板 を製造 す る こ と が可能で あ る 。
( 2 ) ま た 、 上記実施の形態で は、 凸部 に よ っ て 「素子」 を 構成 し た例 を 示 し た が、 凹部で も 同様 に実施可能で あ る 。 ま た、 「素子」 と して 凹 凸構造以外で も 光の反射方 向 を 変 え う る も ので あ れば 同様 に 実施可能で あ る 。
( 3 ) ま た、 上記実施の形態で は、 異 な る 領域の 面積比が等 し い 場 合の例 を 示 し た が、 面積比 を任意 に設定 し て も 本発明の効果 に何 ら の障害 も な く 、 同様 に実施可能で あ る 。
[第 2 の発明群 ]
第 2 の発明群は、 基板上 に 凹 凸構造部 を 有す る 凹凸形状体の発 明 で あ っ て 、 光吸収性物質 を含む感光性高分子を 裏面露光処理 と 現像 処理 と を 行 う こ と に よ り 、 前記凹 凸構造部の 凹 凸形状を形成す る こ と を 主た る 特徴 と す る も ので あ る 。
第 2 の 発明群の具体例 と し て、 以下 に実施の形態 2 — ;! 〜 2 — 9 を例 示 し て 、 第 2 の発明群の 内容を説明 す る 。 なお、 以下の実施の 形態で は、 凹 凸形状体の一例 と し て液晶表示素子の反射板につ い て 説明 す る こ と に す る 。
( 実施 の形態 2 - 1 )
図 1 4 は実施の形態 2 — 1 の液晶表示素子の 断面図で あ る 。
本実施の形態で は、 ア レ イ 基板 2 0 0 上 に画素ス イ ッ チ ン グ素子 と し て の T F T 素子 2 0 2 が形成 されてお り 、 そ の上 に 平坦化層 2 0 1 が積層 さ れて い る 。 本実施の形態の特徴は、 平坦化層 2 0 1 の 上 に感光性高分子 2 0 3 の 1 層か ら成 る 凹 凸構造が形成 さ れて い る こ と で あ る 。 こ の と き 、 感光性高分子 2 0 3 と して はネ ガ型 を 用 い る と と も に ネ ガ型の感光性高分子 (以下、 レ ジ ス ト ) に は色素等の 光吸収物質が含有 さ れて い る こ と が望 ま しい。 色素が含有 さ れて い る レ ジ ス ト は、図 1 5 に 示す よ う に層厚方 向で光が吸収さ れ る た め、 膜厚 に応 じて透過率が変化す る 。 こ の た め、 露光時 に は層 の照射側 は露光量が多 く 、 反対側 に行 く に つれて 露光量が減少す る 。 ネ ガ型 レ ジ ス ト は露光部が残膜す る た め 、 裏面か ら 露光す る と 、 図 1 6 に 示す よ う に基板側ほ ど残膜性が高 ま り 、 現像処理に よ り 上 に 凸な傾 斜面 を有 す る 凹凸構造が形成 さ れ る 。
従来は、 レ ジ ス ト を 2 層 以上積層 して 凹 凸構造 を形成 して い た が、 上記手法 を 用 い る こ と で、 レ ジ ス ト 1 層 の みで傾斜面 を有す る 凹 凸 構造が容易 に形成さ れ る 。
こ の よ う に して形成 し た 凹 凸構造の上 に金属 な ど導電性材料を 用 い て反射層 2 0 4 を積層 して反射電極 と す る 。 反射電極は、 平坦化 層 2 0 1 に 開 口 し た コ ン タ ク ト ホ ール 2 1 0 を 介 して T F T 素子 2 0 2 と接鐃 さ れて お り 、 こ の T F T 素子 に よ っ て 画像信号が反射電 極 に供給さ れ る 。 そ し て反射電極 と、 対向基板 2 0 7 上 に形成 さ れ た対 向電極 (図示せ ず) と の 間 に は さ ま れた液晶 2 0 5 の光学特性 が画像信号 に応 じて 制御 さ れ る 。液晶層 2 0 5 の光学特性の 変化 は、 対向基板の外部 に配置 さ れた偏光板 2 0 9 と位相差板 2 0 8 に よ つ て透過率の 変化 に 変換 さ れて 画像が表示 さ れ る 。 な お、 本実施形態 では T F T 素子 を用 い る ァ ク テ ィ ブマ ト リ ヅ ク ス 方式を例 に と っ た が、 T F T を用 い な い単純マ ト リ ッ ク ス 方式で も こ の よ う な反射電 極が適用 で き る こ と は 言 う ま で も な い 。 こ こ で説明 し た反射電極 の 役割 と 液晶表示素子の動作は、 以降の実施形態で も 同様で あ る 。
[基板上 の 凹 凸構造部の製造方法 ]
先ず、 凹 凸構造部の製造方法の原理 を 説明 し、 そ の後 に具体的 な 製造方法 を 説明す る こ と に す る 。
( 1 ) 凹 凸構造部の製造方法の原理
図 1 6 は本実施の形態 にお け る 凹凸構造部の製造方法 を 示す原理 図で あ る 。 図 1 6 ( a ) に 示す よ う に 、 基板 2 0 0 上に ネ ガ型 の感 光性高分子 2 0 3 を 塗布 し た後、 マス ク 2 1 3 を 用 い て基板裏面 か ら 紫外線 2 1 4 で露光 す る こ と で、 凸部 2 1 5 (図 1 6 ( b ) 参照) を形成す る 。 こ の と き 、 感光性高分子 2 0 3 が色素 を含有 す る と 、 紫外線 2 1 4 が層厚方 向 で吸収 さ れ、 現像時の エ ッ チ ン グ レ ー ト が 層厚方 向で異な る 。 こ の た め現像後に傾斜面 を 有す る 凹 凸構造が形 成 さ れ る 。 こ の よ う に層厚方 向 にエ ッ チ ン グ レ ー ト を異な ら し め る こ と で、 現像後 の 凹 凸構造 に傾斜面を形成す る こ と が可能 と な る 。 こ の た め 1 層構成で 凹 凸構造が形成さ れ る 。 ま た裏面露光 を 用 い る こ と で上 に 凸の構成が得 ら れ る 。 こ の と き のエ ッ チ ン グ レ ー ト は、 層厚 と 色素 の含有量で決 ま り 凹 凸構造の傾斜角 に応 じて任意 に設定 で き る 。 ま た、 層厚が厚 く 、 色素で の 吸収が大 き い ほ ど、,. エ ツ チ ン グ レ ー ト の 層変化が大 き く 凸部は上に急峻 と な る 。
( 2 ) 凹 凸構造部の製造方法 の具体例
上記原理 に基づ き本実施の形態で の具体的な 凹 凸構造部 の製造方 法 を 説明す る 。 ア レ イ 基板 2 0 0 上に ネ ガ型の感光性高分子 2 0 3 ( O M R — 8 3 、 東京応化工業製) を膜厚 で塗布 し た 。 こ の と き 、 感光性高分子 2 0 3 に は色素 を含有 さ せ、 膜厚 2 / m の場合 に波長 4 0 5 n m の光吸収率 を 8 0 % と な る よ う に し た 。
次 に 開 口 部 と し て 直径 1 0 z m の 円形が多数並ん だ マ ス ク を用 い て 、 波長 4 0 5 n m の紫外線 を 用 いて基板裏面か ら プロ ジ ェ ク シ ョ ン露光 し た 後、 0 M R 現像液 と リ ン ス 液 (共 に東京応化工業製) で 現像処理 を 行 つ た 。
基板を レ ーザー顕微鏡で観察 し た と こ ろ 表面 に、平均傾斜角 1 0 。 の な だ ら か な 凹 凸構造部が形成 さ れて い た 。 色素含有率 に よ り 膜厚 2 / m の と き の光吸収率 を 変 え て 同様の処理 を 行い 凹凸構造の 平均 傾斜角 を 測定 し た 結果 を 図 1 7 に示す。光吸収率が増加す る に従い、 平均傾斜角 は指数関数的 に増大 し た。 こ れは層厚方 向 のエ ッ チ ン グ レ ー ト が光吸収率 に相 関 す る た めで あ る 。 光吸収率が 5 0 % 以下で は エ ッ チ ン グ レ ー ト の差 が小 さ い た め平均傾斜角 も 1 〜 2 。程度 と 小 さ く 反射特性 も 鏡面状で 良好な反射表示が得 ら れ な か っ た 。
光吸収率 5 0 % 以上で 平均傾斜角 は 3 °以上 と な り 、散乱性能が生 じ始め た。 良好な反射表示 が得 ら れ る 平均傾斜角 8 °〜 1 5 °は光吸 収率 7 0 % 以上で得 ら れた 。 な お、 光吸収率が大 き す ぎ る と 露光時 間が長 く な る の で 、 生産性の観点か ら 光吸収率は 9 5 % を超 え な い こ と が望 ま しい 。
従来は、 レ ジ ス ト を 2 層 以上積層 して 凹凸構造 を 形成 して い た が、 上記手法 を 用 い る こ と で、 レ ジス ト 1 層 の みで傾斜面を 有 す る 凹 凸 構造が容易 に形成 さ れた 。
感光性高分子は ネ ガ型で あ れば、 上記例 に よ ら な い。 ま た 。 膜厚 と 色素含有量は、 光吸収率 を指標 に し て任意 に 設定す る こ と がで き る が、 実用 上、 膜厚 は 1 m以上、 5 〃 m 以下が望 ま し い 。 膜厚 が 1 〃 m以下で は現像で剥離す る 可能性があ り 、 膜厚 が 5 m以上 は 現像時 に層上面が削れて 凹 凸構造の形状が不安定 に な り 生産性 に 課 題があ る 。
レ ジ ス ト は上記例以外 に任意 の ネ ガ型 レ ジ ス ト を 用 い て も 良い 。
(実施の形態 2 — 2 )
本実施の形態 2 — 2 は、 図 1 4 と 同様の構成 に お いて 、 感光性高 分子 2 0 3 が、 現像後の熱ァ ニールで 凹 凸構造の形状がほぼ変化 し な い ネ ガ型 レ ジス ト で構成 さ れて い る こ と を特徴 と す る 。 実施の形 態 2 ― 1 と 同様の手法で 凹 凸構造 を形成 し た場合、 レ ジ ス ト の残膜 性が層厚方 向で 変化す る た め、 上 に 凸 な傾斜面 を有 す る 凹 凸構造が 形成 さ れ る 。 レ ジ ス ト で形成 さ れた こ の 凹 凸構造が熱で形状変化 し な い構成 と す る こ と で、 パ ネ ル作成時の配向膜や シ ール硬化等の高 温プ ロ セ ス 時 に お い て も 凹 凸構造が変形せ ず良好な反射特性が得 ら れ る 効果があ る 。
従来は熱ァ ニール処理で上層 の レ ジ ス ト を 溶か し て傾斜面 を形成 して お り 、 形状制御が困難で あ っ た。 本構成 を 用 い る と 熱処理工程 が不要で、 かつ 凹凸形状の 制御性が増 し生産性が大幅 に 向上す る 。 ま た、 熱処理が不要 な た め基板 に は ガ ラ ス よ り 耐熱性が低い プラ ス チ ッ ク 基板等 を 用 い る こ と がで き る 。 [基板上の 凹 凸構造部の製造方法 ]
本実施の形態 に お け る 製造方法は、 基本的 に は実施の形態 2 — 1 と 同様で あ る 。 但 し、 感光性高分子 2 0 3 を、 現像後の熱ァ ニール で 凹凸構造の形状がほぼ変化 し な いネ ガ型 レ ジ ス ト ( 0 M R — 8 5 、 東京応化工業製) を使用 し た 点が、 実施の形態 2 — 1 と 異な る 。
こ の よ う な ネ ガ型 レ ジ ス ト を用 いて 、 実施の形態 2 — 1 と 同様の 方法で基板を 作製 した 。 そ して 、 作製さ れた基板にパ ネ ル作製時 の 熱処理工程 に相 当 す る 2 0 0 V /3 0 分(配向膜硬化 )、及び 1 6 0 V I 1 2 0 分 ( シ ール硬化) の ァニール処理 を施 して 凹 凸構造の形状変 化 を レ ーザー顕微鏡で観察 し た。 その結果、 ァ ニール前後で の 平均 傾斜角 の 変化 は、 ァニール前 1 0 .5 °に 対 しァ ニール後 9 .4 °と 1 ° 程度 と 非常 に 小 さ く 、 変化は 1 0 %以下で あ っ た。 ま た 、 反射特性 も ほぼ同様な も の が得 ら れた。
ァ ニール前後の平均傾斜角 の変化が 2 0 %以下で あれば傾斜角 分 布 のノ、' ラ ヅ キ を 考慮 に 入れて も 2 "以下の 小型パ ネ ル に 使用 で き る レ ベ ル と な る 。 ま た 、 1 0 % 以下で あ れば 中型以上 のノ ネ ル ( 3 " 以上 ) に応用 す る こ と が可能で あ る 。
こ の よ う に熱処理で形状が変化 し な い レ ジ ス ト で 傾斜面 を 有 す る 凹凸構造 を構成す る こ と で、 ァ ニール処理 に よ る 傾斜角 のバ ラ ツ キ が低減 し生産性が向上す る 。
(実施の形態 2 — 3 )
図 1 8 は実施の形態 2 — 3 の液晶表示素子の 断面図で あ る 。 ァ レ ィ 基板 2 0 0 上 に、 複数の感光性高分子が積層 さ れた構成 (感光性 高分子 2 3 1 A、 2 3 1 B 、 2 3 1 C ) の 凹 凸構造が形成さ れ た と き に 、 少な く と も 1 層 がネ ガ型の感光性高分子で あ る こ と を 特徴 と す る 。 こ の と き 、 ネ ガ型 レ ジ ス ト に裏面露光 を施す こ と で、 上述 し た理 由 に よ り 傾斜面を 有す る 凹凸構造が形成さ れ る 。 ま た、 感光性 高分子層 を 多層構成 と す る と、 凹 凸構造の高さ と 傾斜面の角度 を よ り 制御 し や す く な る 効果が得 ら れ る 。 さ ら にネ ガ型 レ ジ ス ト 層 を 最 上面 と す る こ と で 、 凸部 の頂点が滑 ら か に な り 正反射部が減少 す る こ と で視認性が向上す る 。
[基板上の 凹凸構造部の製造方法 ]
ア レ イ 基板 2 0 0 上 に、 ポ ジ型 の感光性高分子 2 3 1 A、 2 3 1 B (共に O F P R 5 0 0 0 、 東京応化工業製) を 、 そ れぞれ直径 1 2 〃 m、 厚 0 . 5 〃 m、 及び直径 8 〃 m、 厚 0 . 6 z mで形成 し た 後、 ネ ガ型の感光性高分子 C 2 3 1 C ( O M R — 8 3 、 東京応化工 業製) を 膜厚 2 / mで塗布 し、 裏面露光 を 行 っ て 直径 4 〃 m、 厚 1 .
の 凸構造 に加工 し た 。 こ の と き、 上記 3 層で ト ー タ ルの段差 が 2 .3 の 凹 凸構造が得 ら れた。 そ して 、 そ の 凹 凸構造 を樹脂で 被覆 し、 さ ら に そ の上 に アル ミ を 用 いて反射層 2 0 4 を形成 し た 。 こ の と き の反射層 の 凸部の平均傾斜角 は 9 °で あ り 、反射特性 も 高輝 度で 良好な も の が得 ら れた 。
感光性高分子層 の構成は、 上記例 に よ ら ず凹 凸構造の高 さ と 傾斜 面の角度 に よ り 任意 に設定で き る 。 ま た、 感光性高分子層 に代え て 無機材料 を用 い て も 良 く 、 例 え ば S i 、 S i 0 2 、 S i N x等 を 用 いて 段差 を形成 し て も 良い 。 ネ ガ型 レ ジ ス ト 層 を 最上面 と す る こ と で、 凸部 の頂点が滑 ら か に な り 正反射部が減少す る こ と で視認性が 向上す る 効果が得 ら れ る が、こ れは必ず し も 最上層 で な く て も 良い 。 下部で あ っ て も 凸部頂点の形状の上 に上層 が積層 さ れ る こ と で傾斜 面が得 ら れ る 。 た だ し、 こ の と き は上層が プ レ ナ一層 と な る た め形 状制御が若干 困難 と 成 る 。
(実施の形態 2 — 4 ) 図 1 8 と 同様 の構成 に お い て、 感光性高分子 2 3 1 C が、 現像後 の熱ァ ニールで 凹 凸構造の形状がほぽ変化 しな い ネ ガ型 レ ジ ス ト で 構成 さ れて い る こ と を 特徴 と する 。 こ の よ う に熱ァ ニールで 凹 凸構 造の形状が変化 し な い ネ ガ型 レ ジ ス ト を 使用 す る と 、 上記実施の形 態 2 — 2 で述べ た理 由 に よ り 凹 凸構造が容易 に作成で き 生産性が 向 上す る こ と に な る 。
[基板上 の 凹 凸構造部の作製方法 ]
実施の形態 2 — 3 と 同様の構成 におい て、 感光性高分子 2 3 1 C が、 現像後の熱ァ ニールで 凹 凸構造の形状がほ ぼ変化 し な い ネ ガ型 レ ジ ス ト ( O M R — 8 5 、 東京応化工業製) で形成 し た 。 実施の形 態 2 - 2 で 述べ た理 由 に よ り パネ ル作製時の熱処理工程 にお い て 、 凹 凸構造の形状 に 変化がな く 、 そ の た め作製さ れた液晶表示素子 は 良好な反射特性が得 ら れた 。
(実施の形態 2 — 5 )
図 1 9 は実施の形態 2 — 5 の液晶表示素子の 断面図で あ る 。 本実 施の形態 2 - 5 は実施の形態 2 — 1 に類似、 対応す る 部分 に は 同 一 の参照符号 を付す。 本実施の形態 2 — 5 は、 ア レ イ 基板 2 0 0 上 に 開 口部 2 4 2 を有 す る 遮光層 2 4 1 、 平坦化層 2 0 1 等 が形成 さ れ た と き に、 感光性高分子 2 0 3 か ら な る 凹 凸構造の頂点 2 4 0 が遮 光層 2 4 1 の 開 口部 2 4 2 上 に形成さ れて い る こ と を特徴 と す る 。
遮光層 2 4 1 を マ ス ク と して裏面露光 を 行 う こ と で、 ネ ガ型 の 感 光性高分子 2 0 3 に 凹 凸構造 を形成す る こ と がで き る 。 こ の と き 、 頂点 2 4 0 は 開 口 部 2 4 2 に形成さ れ る 。
遮光層 を 内付 けす る こ と で外部マス ク が不要 と な り 、 かつ合わ せ 精度が向上 して 凹 凸構造の形状制御が容易 に な る 効果があ る 。ま た、 遮光層 2 4 1 と 反射層 2 0 4 と の 間で蓄積容量 を形成す る こ と も 可 能 と な り 生産性が向上す る 。
[基板上の凹 凸構造部の製造方法 ]
先 ず、 凹凸構 き部 の製造方法 の原理 を説明 し、 そ の後 に.具体的, よ 製造方法 を説明す る こ と に す る 。
( 1 ) 凹 凸構造部の製造方法の原理
図 2 0 は本実施の形態の 凹凸構造部の製造方法 を 示す原理図 で あ る 。 図 2 0 ( a ) に示 す よ う に、 基板 2 0 0 上 に 開 口部 を有 す る 遮 光層 2 4 1 、 平坦化層 2 0 1 等 を形成 し た後、 色素等を含有す る ネ ガ型 の感光性高分子 を塗布 して感光性高分子樹脂層 2 0 3 A を形成 ' す る 。 次 に基板の裏面か ら 紫外光 2 1 4 を 用 い て露光す る と 、 遮光 層 2 4 1 がマ ス ク と な り 、 遮光層 の 開 口部の領域に 頂点 を有 す る 凸 部 2 1 5 (図 2 0 ( b ) 参照) が形成 さ れ る 。
遮光層 2 4 1 を基板に 内付 け す る こ と で、 マ ス ク が不要 と な る と 共に パ タ ー ン ニ ン グ精度が 向上す る 利点があ る 。
感光性高分子層は、 図 2 0 に 示 し た 1 層構成以外 に、 図 2 1 に 示 し た 感光性高分子 2 5 6 A、 2 5 6 B か ら 成る 2 層等の 多層構成で も 良 い。
( 2 ) 凹 凸構造部 の製造方法 の具体例
ア レ イ 基板 2 0 0 上 に 直径 1 0 mの 円形の 開 口 部 2 4 2 を 有 す る ア ル ミ の遮光層 2 4 1 、 及び平坦化層 2 0 1 ( S i 0 2 層、 層厚 1 m ) 等 を形成 し た 。
次 に ネ ガ型の感光性高分子 2 0 3 ( O M R — 8 3 、 東京応化工業 製) を膜厚 2 〃 mで塗布 し た後、 遮光層 2 4 1 を マ ス ク と して基板 の裏面か ら 露光処理 を 行 っ た 。 露光後 に現像、 及び リ ン ス処理 を 行 つ た と こ ろ 遮光層 2 4 1 の 開 口部 2 4 2 に頂点 2 4 0 を 有す る 凹 凸 構造が形成さ れた 。 こ の と き の平均傾斜角 は、 8 °で あ っ た 。 こ の よ う に遮光層 2 4 1 を マ ス ク と し て 裏面露光 を行 う こ と で 、 ネ ガ型 の感光性高分子 2 0 3 に 凹 凸構造が形成 さ れ た。 遮光層 を 内 付けす る こ と で外部マ ス ク が不要 と な り 、 かつ合わ せ精度が向上 し て 凹 凸構造 の形状制御が容易 に な る 効果が あ る 。 ま た、 遮光層 2 4 1 と反射層 2 0 4 間は蓄積容量 と して 兼用 す る こ と も 可能 と な り 生 産性が 向上 す る 。
開 口 部 2 4 2 は、 凹 凸構造の形状に応 じ て任意の構成で 良い 。
(実施の形態 2 — 6 )
図 2 2 は実施の形態 2 - 6 の液晶表示素子の ア レ イ 基板の構成図 であ る 。 実施の形態 2 — 5 と 同様の構成 に お い て、 ア レ イ 基板 2 0 0 上 に遮光層 2 4 1 が形成 さ れ、 凹凸構造が、 複数の感光性高分子 ( 2 6 0 A、 2 6 0 B 、 2 6 0 C ) か ら 成 る こ と を 特徴 と す る 。 感 光性高分子 を複数 と す る こ と で上述 し た理 由で 凹 凸構造の形状制御 が容易 に な る 効果が得 ら れ る 。 ま た、 遮光層 2 4 1 を 内付 け す る こ と で外部マ ス ク が不要 に な る 等の効果があ る 。
[基板上 の 凹 凸構造部の製造方法 ]
実施の形態 2 — 5 と 同様の手法で、 ア レ イ 基板 2 0 0 上 に アル ミ で遮光層 2 4 1 を形成 し た 。 ま た、 凹 凸構造を上記実施の形態 2 — 3 と 同様の手法で複数の感光性高分子 ( 2 6 0 A、 2 6 0 B、 2 6 0 C ) か ら 形成 し た 。 こ の と き、 最上層 の感光性高分子 2 6 0 C は ネ ガ型 レ ジ ス ト を裏面露光す る こ と に よ っ て形成 し た 。
感光性高分子 を複数 と す る こ と で上述 し た理 由 で 凹凸構造の形状 制御が容易 に な る 効果が得 ら れる 。 ま た、 遮光層 2 4 1 を 内付 け す る こ と で外部マ ス ク が不要 に な る 等の効果があ る 。
(実施の形態 2 — 7 )
図 2 3 は実施の形態 2 — 7 の液晶表示素子の画素構成を 示す。 図 1 9 に示 し た実施の形態 2 — 5 と ほぼ同様の構成 に おい て 、 遮光層 2 7 0 の 開 口部 2 7 1 が、 回折格子の 開 口 部形状 に形成 さ れて い る こ と を 特徴 と す る 。 こ の と き、 開 口部 2 7 1 が、 凸部 2 7 2 の 頂点 を含む構造 と す る 。 ま た 、 ネ ガ型 レ ジ ス ト は色素等 を 必ず し も 含有 す る 必要 は な い。 な お、 図 2 3 に おいて、 2 7 3 は コ ン タ ク ト ホ ー ル、 2 7 4 は反射電極、 2 7 5 は ソ ース ラ イ ン、 2 7 6 は ケ一 ト ラ ィ ン を 示 す。
遮光層 を 回折格子形状 と し て裏面露光 を 行 う と 、 図 2 4 ( a ) に 示す よ う に 露光 し た 光 2 1 4 は 回折光 と な っ て感光性 レ ジ ス ト に 照 射 さ れ る 。 回折光 の 0 次は直進 して 直進光 2 1 4 A と な る が、 1 次 よ り 高次の 回折光 2 1 4 B は レ ジ ス ト に斜め か ら 照射 さ れ る た め、 現像後の 凹 凸形状は傾斜面 を 有す る 凹凸構造 と な る (図 2 4 ( a ) 参照)。 こ の よ う に 回折光 を用 いて 露光す る と 、 多層構造 を 用 い ず と も 傾斜面 を 有す る 凹 凸構造が形成 さ れ る 。 ま た、 レ ジ ス ト も 色素等 を含有 す る 必要がな い 。
な お、 上記原理の説明で は、 マ ス ク を使用 して 露光す る 場合を例 と し て説明 し た けれ ど も 、 開 口 部 を有す る 遮光層 を形成 し て 、 マ ス ク を 省略す る 露光 に お い て も 同様で あ る 。
[基板上 の 凹凸構造部の製造方法 ]
先 ず、 凹 凸構造部の製造方法の原理を説明 し、 そ の後 に 具体的 な 製造方法 を 説明す る こ と に す る 。
( 1 ) 凹 凸構造部の製造方法の原理
図 2 5 は本実施の形態の 凹 凸構造部の製造方法 を 示す原理図で あ る 。 実施の形態 2 — 5 と ほぼ同様の構成 にお い て、 遮光層 2 7 0 が 回折性能 を 有 す る 形状 に形成さ れた こ と を 特徴 と す る 。 回折光 を 用 いて 露光す る と 、 上述 し た理 由 で感光性高分子が斜め光で も 露光 さ れ傾斜面を 有 す る 凹 凸構造が形成さ れ る 。 回折光 を 用 い る と 、 ネ ガ 型 レ ジ ス ト に 色素等 を含有す る 必要がな く 低コ ス ト 化の利点があ る ま た、 遮光層 2 7 0 の 開 口 部の ピ ッ チ を P 、 遮光層 2 7 0 と 凹 凸 構造の 凸部 の頂点 と の距離を d と した と き に 、 P > d と す る こ と で 回折光 (干渉光) の節 と 腹が短い ピ ッ チで形成 さ れ、 結果的 に 凹 凸 構造を 密集 し て 形成す る こ と が可能 と な る 。
ま た、 遮光層 2 7 0 の 開 口 部の形状で凹 凸構造 を 変え る こ と がで き る 。 例え ば 円形 と すれば ド ッ ト 状の 凹 凸構造がで き、 ス ト ラ イ プ 状 と すれば、 ス ト ラ イ プ形状の 凹 凸構造が得 ら れ る 。
( 2 ) 凹 凸構造部の製造方法の具体例
上記原理 に基づ き 本実施の形態で の具体的 な 凹 凸構造部の製造方 法 を説明す る 。 実施の形態 2 — 5 と ほぼ同様の構成 にお いて、 遮光 層 2 7 0 を ド ッ ト 形状か ら 成 る 回折格子の形状 に形成 し た。 こ の と き、 回折格子の 開 口部 2 7 1 は、 直径 1 O ^ m の 円形 と し た 。 次 に、 ネ ガ型の感光性高分子 ( O M R — ' 8 3 、 東京応化工業製) を膜厚 2 mで塗布 し た 。 こ の と き 、 感光性高分子は色素等 を含有せず光吸 収率が 5 % の も の を 用 い た 。
遮光層 を 回折格子形状 と して 裏面露光 を 行 っ た と こ ろ 、 回折光が 感光性 レ ジ ス ト に照射 さ れた。 こ の と き 、 回折光の 0 次は直進す る が、 1 次 よ り 高次の 回折光は レ ジ ス ト に斜め か ら 照射 さ れ る た め、 現像後の 凹 凸形状は傾斜面 を有 す る 凹 凸構造 と な っ た 。 こ の と き の 平均傾斜角 は 7 °で あ っ た 。
こ の よ う に 回折光 を 用 い て 露光す る と 、 多層構造 を 用 いず と も 傾 斜面 を 有す る 凹 凸構造が形成 さ れ る 。 ま た 、 レ ジス ト も 色素等 を含 有 す る 必要がな く 低 コ ス ト ィ匕が図れ る 。
(実施の形態 2 — 8 ) 本実施の形態 2 - 8 は、 基板上の感光性高分子 を 露光す る 際 に、 露光光 を基板に対 し て斜め方 向か ら 入射 さ せ る こ と に よ り 、 基板上 に 凹 凸構造部 を形成す る よ う に し た こ と を 特徴 と す る 。
具体的 に は、 凹 凸構造部 の作製 に際 して 以下 に説明す る 製造装置 を使用 し た 。
図 2 6 は本発 明の基板の製造装置の原理図 を 示す。 図 2 6 ( a ) に示 す よ う に、 基板 2 0 0 上 に感光性高分子 2 0 3 を塗布 し た後、 マ ス ク 2 1 3 を 介 し て複数の方向 (紫外線 2 1 4 C 、 及び紫外線 2 1 4 D ) か ら 露光す る 光 を 照射す る 手段 (機構) を 有す る こ と で 基 板 2 0 0 上 に 凸部 2 1 5 ( 図 2 6 ( b ) 参照) を形成す る こ と を 特 徴 と す る 。 複数の方 向か ら 照射す る こ と で、 感光性高分子 2 0 3 の 層厚方 向 の エ ッ チ ン グ レ ー 卜 が変わ り 、 傾斜面 を有 す る 凹 凸構造 が 形成 さ れ る 。 こ の と き 、 入射方 向 は極角 6 0 °以 内 が望ま しい。 ま た . 露光光 の 立体角 は、 0 . 5 ° 以上、 1 5 ° 以下で あ る こ と が望 ま し い o
ま た、 複数の 方位か ら 入射す る 際に紫外線の入射角度 を 異 な ら せ る 機構を 有 す る 製造装置 と す る こ と で形状が非対称な凹 凸構造 も 容 易 に作成で き る 。 こ の と き 、 反射特性が非対称性 と な り 、 例 え ば基 板を傾け た 場合 に観察者側 に反射光 を集光 さ せて高輝度化 を 図 る こ と がで き る 。
ま た、 紫外線 2 1 4 C と 紫外線 2 1 4 D の位相 を 互い に 変 え る と 干渉度合い を調整す る こ と がで き る 。 こ の と き、 層厚方向 の エ ッ チ ン グ レ ー ト を 更 に任意 に調整で き る 効果が得 ら れ る 。 こ の た め、 当 該基板の製造装置 に、 紫外線 の位相変換機構を 設け る よ う に して も よ い 。
(実施の形態 2 — 9 ) 本実施の形態は、 い わ ゆ る 2 光束干渉法 を 用 い た 露光 に よ り 、 凹 凸構造を 有す る 基板を 製造す る こ と を特徴 と す る 。
本実施の形態 に用 い る 露光装置は、 図 2 7 に 示す よ う に、 径 5 /z mの ピ ン ホー ル 2 8 0 を 有 す る マ ス ク 2 8 1 と 、 2 個以上の ス リ ッ ト 2 8 3 を 介 し て 、 感光性樹脂 2 8 5 が塗布 さ れて い る 基板 2 0 0 上 に 露光光 を 照射す る 。 こ の際、 露光光の光源 と して超高圧水銀灯 を 用 い、 感光性樹脂 2 8 5 と して i 線 ( 3 6 5 nm) に感光特性 を 有 す る 樹脂を用 い た 。 ま た、 ス リ ッ ト 間の距離は h ( = 5 0 m ) と し、 ピ ン ホー ルか ら 等距離 に設定 し、 さ ら に ス リ ッ ト は径 5 ζ ιηの ピ ン ホール ¾ 用 い た。 ス リ ヅ ト と基板 と の 距離を D ( = 3 . 4 2 mm) と し て、 露光光 を感光性樹脂を 照射 し、 現像を 行 っ た と こ ろ 、 ピ ッ チ 厶 ( = 2 5 〃 m ) の 凸形状がで き た 。 樹脂の厚み を 2 か ら 3 〃 m と す る こ と で 、 傾斜角 が 1 0 ° 程度の形状体を作製す る こ と がで き た。
な お、 本実施の形態で は、 単一の光源 と 、 ピ ン ホ ール、 及 び、 2 つ の ス リ ヅ ト を 用 いて 、 同一位相 の 2 つ の球面波の露光光 を 見か け 上達成 し たが、 例 え ば、 レ ーザな どを 2 つ 以上用 い て も 同様 に実施 可能で あ る 。
ま た 、 凹 凸形状の ピ ッ チ を Δ m、 ス リ ッ ト 間の距離 を h z n^ ス リ ッ ト と感光性樹脂 と の距離 を D d m、 露光光の波長を え n m と す る と 、
A = 1 0 0 0 x A D / h
ま た、 傾斜角 を 6> ° 、 現像後の樹脂の最大膜厚 を d と す る と
2 d / A = t a n 0
上式 を満た す よ う に 、 △ 、 h、 D 、 え 、 d 、 0 を 適切 に設定す る こ と に よ り 、 任意 の 凹 凸形状 を作製す る こ と が可能で あ る 。 ( そ の他の事項)
( 1 ) 上記実施の形態で 示 した液晶表示素子 にバ ッ ク ラ イ ト 、 筐 体等 を付与 す る こ と に よ り 、 製造過程の簡略化 に伴 う 低コ ス ト 化が 図 れた 良好な 表示性能を示す液晶表示装置 を実現で き る 。
( 2 ) 上記実施の形態で は、 液晶表示素子の反射板に つ い て 説明 し た け れ ど も 、 本発明は こ れ に限定さ れ る も ので は な く 、 レ ン ズ等 の 光学素子、 或いは そ の他の技術分野に お いて使用 さ れ る 凹 凸形状 体等 に広 く 適用 す る こ と が可能で あ る 。
( 3 ) 上記実施の形態で は、 色素等の光吸収物質 を感光性高分子 に含有 さ せ る よ う に し た が、 光吸収物質 に代え て 、 金属粒子等の 光 散乱物質 を 感光性高分子 に含有 さ せ る よ う に して も よ い 。 光散乱物 質 を含有 さ せ る と 、 光吸収物質 を含有 さ せ た場合 と 同様 に露光の際 の紫外線の 吸収率が膜厚方 向で 変化 さ せ る こ と が可能 と な り 、 凹 凸 構造 を形成す る こ と がで き る 。
( 4 ) 上記実施の形態で は、 ネ ガ型の感光性高分子 を使用 し た け れ ど も 、 ポ ジ型 の感光性高分子 を使用 して も よ い。 ポ ジ型の感光性 高分子 を 用 い る 場合は、 ネ ガ型 の感光性高分子 を用 い る 場合に使用 す る マ ス ク の遮光部 と 開 .口 部 と が逆の構造 と な っ た マ ス ク を使用 す れば よ い 。
[第 3 の発明群 ]
第 3 の発明群は、 感光性樹脂材料か ら 成 る 柱状体を溶融変形 さ せ て得 ら れ た複数の 凸部 を有す る 反射板の発明で あ っ て 、 感光性樹脂 材料が、凸部 の底面外周縁上の 所定の点 と 凸部頂点 と を 結ぶ直線 と 、 凸部底面 と の成す角 を 凸部の平均傾斜角 と し、 前記柱状体の形状 を 規定す る 2 つ の代表寸法の比で 示 さ れ る ァス ぺ ク ト 比 を 0 近傍の値 か ら 徐々 に増加 して い く と 、 平均傾斜角 が上昇変化過程 を経て極大 値 に達 し、 そ の後下降過程を経て 一定値 に収束す る よ う な ァス ぺ ク ト 比 一 平均傾斜角特性 を 有 して お り 、 複数の 凸部の 平均傾斜角 が、 前 ァ ス ぺ ク ト 比 一 平均傾斜角特性にお け る 前記. il 束値 と さ れて い る こ と を特徴 と す る も の で あ る 。
第 3 の発 明群の具体例 と し て、 以下 に実施の形態 3 — 1 〜 3 — 3 を例示 して 、 第 3 の 発明群の 内容を説明す る 。
(実施の形態 3 — 1 )
図 2 8 は実施の形態 3 — 1 に係 る反射板の要部断面図 で あ り 、 図 2 9 は そ の 平面図で あ る 。 なお、 図 2 9 は光反射性薄膜が蒸着 さ れ る 前の状態 にお け る 反射板の平面図 を 示 し た も の で あ る 。 反射扳 3 0 1 は、 基板 3 0 2 と 、 残膜 3 0 3 と 、 残膜 3 0 3 と 一体的 に形成 さ れて い る 複数の 凸部 3 0 4 と、 複数の 凸部 3 0 4 を被覆 し て表面 ( 図 2 8 の上面 ) が凹 凸状 に形成さ れた光反射性薄膜 3 0 5 と を 有 す る 。 こ こ で、 残膜は、 後述す る フ ォ ト リ ソ グ ラ フ イ エ程にお け る 現像工程の 際 に、 現像さ れず に残 っ た部分 を 意味す る 。 従 っ て、 か か る 残膜の定義か ら すれば、 残膜 3 0 3 の う ち 凸部 3 0 4 間 に位置 す る 部分の み が残膜に該当 し、 残膜 3 0 3 の う ち 凸部 3 0 4 の下部 に位置す る 部分は、 正確 に は残膜 と はい え な い けれ ど も 、 説明の便 宜上、 残膜 3 0 3 の う ち 凸部 3 0 4 の下部 に位置す る 部分 も 残膜 と 称す る こ と に す る 。 ま た、 前記基板 3 0 2 は、 例 え ば ガ ラ ス な どの 絶縁性を 有 す る 基板 (商品名 : 1 7 3 7 、 コ 一ニ ン グ社製) で あ り 、 そ の厚みは例 え ば 1 . 1 m mで あ る 。 ま た、 光反射性薄膜 3 0 5 は、 アル ミ ニ ウ ム ( A 1 ) 等の金属薄膜か ら 成 る 。
残膜 3 0 3 及び凸部 3 0 4 は、 感光性樹脂か ら 成 り 、 該感光性樹 脂 と し て は、 ポ ジ型 レ ジ ス ト 、 電子線 レ ジ ス ト 等が挙げ ら れ る 。 本 実施の形態 に お い て は、 ポ ジ型 レ ジス ト と して の低 ァ ポ ジ型 レ ジ ス ト (商品名 : P C 4 0 9 、 J S R社製) を使用 して い る 。
凸部 3 0 4 は、 基板 3 0 2 に平行な 断面が円形状で あ り 、 表面が 緩やかな 曲 面形状 と な っ て い る 。 こ こ で、 凸部 3 0 4 の底 面外周縁 3 0 4 a の 所定 の点 (本実施の形態で は 凸部 3 0 4 の底面が 円形で あ る た め、 底面外周縁 3 0 4 a の何れの点 を選択 し て も 平均傾斜角 Θ は 同一 と な る ので 、 本実施の形態で は上記所定の 点は底面外周縁 3 0 4 a の 任意 の点 を意味す る 。)と 凸部 3 0 4 の頂点 3 0 4 b と を 結ぶ直線 と 、 凸部 3 0 4 の底面 と の成す角 を、 凸部の平均傾斜角 S (図 3 0 及び図 3 1 参照 )と定義す る と 、 全て の 凸部 3 0 4 の平均傾 斜角 0 はほぽ同一で あ る 。 し か も 、 注 目 すべ き は、 こ の平均傾斜角 S が設計段階で の設定値 と殆 ど誤差がな い こ と で あ る 。 こ の た め、 光反射性薄膜 3 0 5 の 凹 凸形状の精度が高 く 、 反射板の反射特性 の 精度が極め て高い と い う 特徴があ る 。 なぜな ら 、 光反射性薄膜 3 0 5 は 凸部 3 0 4 を被覆す る 構造で あ る ため、 光反射性薄膜 3 0 5 の 凹 凸状態は、 ΰ部 3 0 4 の表面形状を反映す る か ら で あ る 。 な お、 上記凸部の底面外周縁 3 0 4 a の所定の点は、 例 え ば凸部 3 0 4 の 底面が楕 円 で あ れば、 外周縁 3 0 4 a と 長軸 と が交差す る 点、 或い は外周縁 3 0 4 a と短軸 と が交差す る 点の よ う に、 予め定め た所定 の点 を 意味す る 。 従 っ て、 平均傾斜角 0 は、 当 該所定の点 に基づ い て 一義的 に決定 さ れ る も の で あ る 。 ま た、 高精度の 平均傾斜角 0 を 有 す る 凸部 3 0 4 を作製で き る 理 由 に つ い て は、 後述す る 製造方法 の説明の際 に 詳細 に述べ る こ と に す る 。
本発明 に係 る 反射板の用途 と して は、 反射型液晶表示素子の反射 板 に適用 す る こ と がで き る 。 但 し、 本発明 に係 る 反射板は、 こ れ に 限定さ れ る も の で は な く 、 そ の他の技術分野、 例 え ば光学機器の反 射板等 に広範囲 に適用 す る こ と がで き る 。 図 3 2 は反射板の製造工程 を示す フ ロ ーチ ャ ー ト で あ り 、 図 3 3 は反射板の製造工程 を 示す断面図で あ る 。 先ず、 図 3 2 及び図 3 3 を参照 し て 、 上記構成の反射板の製造方法の概略 を 説明 し、 そ の後 に、 本発 明の主 た る 特徴で あ る 平均傾斜角 Θ がほぼ一定な 凸部 3 0 4 の詳細 な製造方法及び当 該製造方法 に よ り 平均傾斜角 0 が一定 の 凸部 4 が得 ら れ る 理 由 に つ い て説明す る 。
反射板の製造方法の概略を 説明す る と 、 反射板は、 基本的 に は、 塗布工程、 プ リ べ一 ク 工程、 露光工程、 現像工程、 熱処理工程及び 光反射性薄膜形成工程の 6 つ の工程に よ り 作製 さ れ る 。 各工程を 以 下 に概略す る 。
先 ず、 基板 3 0 2 上 に感光性樹脂 3 1 0 を 塗布す る (塗布工程 : 図 3 3 ( a ) 参照)。 次い で、 感光性樹脂 3 1 0 が塗布 さ れた基板 3 0 2 を プ リ べー ク す る ( プ リ べ一 ク工程)。 次いで 、 基板 3 0 2 の上 方 に所定ノ、 " タ ー ン の フ ォ ト マ ス ク 3 1 1 を 配置 し、 フ ォ ト マ ス ク 3 1 1 を 介 し て 紫外光 を感光性樹脂 3 1 0 に 照射す る (露光工程 : 図 3 3 ( b ) 参照)。 次い で、 現像液に よ り 感光性樹脂 3 1 0 を 現像す る 。 こ れ に よ り 、 所定厚みの残膜 3 0 3 及び所定形状の柱状体 3 1 5 (本実施の形態で は 円柱状体で あ る ) が形成 さ れ る (現像工程 : 図 3 3 ( c ) 参照)。 次いで、 加熱処理 に よ り 柱状体 3 1 5 を 溶融す る 。 こ れに よ り 、 平均傾斜角 0 を有す る 凸部 3 0 4 が形成さ れ る (熱 処理工程 : 図 3 3 ( d ) 参照)。 次い で、 複数の 凸部 3 0 4 を被覆 し て ア ル ミ ニ ウ ム ( A 1 ) 等の金属薄膜を蒸着 して 光反射性薄膜 3 0 5 を形成す る (光反射性薄膜形成工程 : 図 3 3 ( e ) 参照)。 こ う し て、 図 2 8 に 示 す反射板 1 が作製 さ れ る 。
こ こ で、 上記の製造方法 において、 凸部 3 0 4 の 平均傾斜角 Θ を 高精度 に製造で き る こ と が、 本発明の主た る 特徴で あ る 。 具体的 に は、 ①柱状体 3 1 5 の ア ス ペク ト 比 ァ を 以下 に述べ る値 に設定 し、 且つ②残膜 3 0 3 の厚みや加熱温度を 制御 す る こ と に よ り 実現す る こ と がで き る 。 以下 に そ の理 由 に つい て 説明 す る 。
柱状体 3 1 5 を溶融変形 さ せて 凸部 3 0 4 を 形成す る に際 して 、 凸部 3 0 4 の 平均傾斜角 Θ と 、 柱状体 3 1 5 の ァス ぺク ト 比 ァ と の 間 に は、 図 3 4 に 示す特性があ る 。 こ こ で、 柱状体 3 1 5 の ァ ス ぺ ク ト 比 ァ と は、 柱状体 3 1 5 の横断面の直径 D と 高 さ H の比 H Z D を意味す る 。 な お、 柱状体 3 1 5 の高 さ H と は残膜 3 0 3 か ら の高 さ で あ り 、 従 っ て、 残膜 3 0 3 の厚み を 制御す る こ と に よ り 柱状体 3 1 5 の高 さ H を 変 え る こ と がで き る 。 ま た、 アス ペク ト 比 y と し て は、 直径 D に代え て柱状体 3 1 5 の横断面積 S を 用 い て 、 横断面 積 S と高 さ H の 比 H Z S と して も よ く 、 特 に横断面が楕 円、 多角形、 あ る い は そ の他の不規則な形状で あ る 場合に は、 ァ スぺク ト 比 ァ を H / S と す る の が好 ま しい 。
こ の ァス ぺク ト 比 ァ の変化 に対す る 平均傾斜角 0 の変化 を 示す ァ ス ぺク ト 比 ァ 一 平均傾斜角 Θ 特性は、 本発明者等が実験結果 に よ り 見い だ し た も の で あ る 。 こ の 図 3 4 よ り 、 アス ペク ト 比 ァ 一 平均傾 斜角 0 特性は、 ァス ぺ ク ト 比 ァ を 0 近傍の値か ら 徐々 に増加 し て い く と 、 平均傾斜角 Θ が上昇変化過程を経て極大値 に達 し、 そ の後下 降過程 を経て 一定値 に 収束す る よ う な特性 を 有 して い る こ と が認め ら れ る 。 な お、 図 3 4 は、 加熱温度及び加熱時間 を 同一 と して 、 柱 状体 3 1 5 の高 さ H を 固定 して 、 柱状体 3 1 5 の横断面 の直径 D を 変化 さ せ た と き の溶融変形後の 凸部 3 0 4 の平均傾斜角 0 を 測定 し て、 ァス ぺ ク ト 比 ァ と 平均傾斜角 0 と の 関係 を 求め た も の で あ る 。 図 3 4 で は、 ア ス ペ ク ト 比 ァ の 変化は、 高 さ H を 固定 し直径 D を 変 ィ匕 さ せた けれ ど も 、 逆 に直径 D を 固定 し高 さ H を 変化 さ せて も 同様 の特性が得 ら れ る こ と を 、 本発明者は確認 し て い る 。 ま た、 上記ァ ス ぺ ク ト 比 ァ と 平均傾斜角 0 と の 間 に は、 感光性樹脂の種類 を 問わ ず、 同様の 関係 が あ る こ と を 確認 して い る 。
こ の よ う な 図 3 4 に示す特性が得 ら れ る の は、 以下の理 由 に よ る も の と 考 え ら れ る 。 即 ち 、 加熱 に よ り 柱状体 3 1 5 は そ の先端部か ら 溶融 し始め、 熱だ れ して い く 。 こ の と き、 軟化 し た感光性樹脂部 分の凝集力 に起 因 して 、 凸部 3 0 4 の高 さ がせ り 上 が っ て い く 。 こ のせ り 上 が り の程度は、ァス ぺ ク ト 比 ァ の増加 に応 じ て大 き く な る 。 従 っ て、 ァス ぺ ク ト 比 ァ の増加 に応 じて、 平均傾斜角 S は増加す る 。 そ し て、 凸部 3 0 4 のせ り 上が り 部分 に よ る 荷重が、 軟化 し た感光 性樹脂部分の凝集力 よ り 大 き く な る と 、 軟化部分はせ り 上が り 現象 か ら 横への広が り の現象 に移 っ て い く 。 従 っ て 、 こ の 臨界点 に お い て 、 凸部 3 0 4 の高 さ が極大値 と な り 、 そ れ以降は アス ペク ト 比 ァ の増加 に応 じ て 、 軟化部分の広が り の程度は大 き く な る 。 よ っ て 、 凸部 3 0 4 の 平均傾斜角 0 は 小 さ く な つ て い く 。 そ して 、 ァス ぺ ク ト 比 ァ の増加 に応 じて 収束値 に漸近 して い く 。 こ れは、 軟化部分 の 体積が一定以上 と な る と 、 主 と して、 凸部 3 0 4 を構成す る 感光性 樹脂固有 の濡れ性 に起因 して 決定 さ れ る 接触角 に漸近 して い く も の と 考え ら れ る か ら で あ る 。
こ の よ う な 図 3 4 に示 す特性お いて 、 ア ス ペ ク ト 比 ァ の 変動 に 対 す る 平均傾斜角 Θ の影響 を考察す る と 、 例 え ば、 平均傾斜角 が極大 と な る 条件な ど に 比べ る と 、 ァ ス ぺク ト 比が充分大 き い条件で は、 ァ ス ぺク ト 比 のノ、" ラ ヅ キ に対 して平均傾斜角 のバ ラ ヅ キが小 さ い こ と がわ か る 。 即 ち 、 極大値付近で の ア ス ペク ト 比の 変動 に対す る 平 均傾斜角 の 変化領域を B 1 、 上昇過程又は下降過程付近で の ァ ス ぺ ク ト 比の 変動 に対す る 平均傾斜角 の 変化領域を B 2 、 平均傾斜角 が 一定値 に収束す る 領域で の ア ス ペ ク ト 比の 変動 に 対す る 平均傾斜角 の変化領域 を B 3 と す る と 、 B 1 , B 2 > B 3 で あ る 。 こ の こ と は、 アス ペ ク ト 比が平均傾斜角 Θ の収束開始点 A以上の値 に設定 し てお' けば、 ァス ぺ ク ト 比が大 き く 変化 して も 、 最終的 に得 ら れ る 平均傾 斜角 0 に殆 ど影響 を 与え る こ と はな く 、 希望す る 平均傾斜角 S と ほ ぼ等 しい平均傾斜角 が得 ら れ る こ と を 意味す る 。 従 っ て、 ァス ぺ ク ト 比 ァ を収束開始点 A 以上の値 に設定すれば、 製造 プロ セ ス 時の マ 一ジ ン を大 き く と る こ と がで き る 。 こ の結果、 製造時にお け る 加工 誤差等 に影響 さ れず、 実際 に製造 さ れた も の は、 高精度の 平均傾斜 角 が得 ら れ る こ と に な る 。
と こ ろ で 、 上記の よ う に ァス ぺク ト 比 y を 収束開始点 A 以上の値 に設定すれ ば、 製造 プ ロ セ ス 時の マー ジ ン を大 き く と る こ と がで き る が、こ れだ けで は希望す る 反射特性 を 有 す る 反射板は得 ら れな い 。 なぜな ら 、 希望す る 反射特性を 有す る 反射板を製造す る た め に は 、 平均傾斜角 0 を希望 す る 角度 に 制御す る こ と が必要 だ か ら で あ る 。
こ の 点に 関 して 、 平均傾斜角 0 を制御す る た め に は、 種々 のパ ラ メ ー タ 、 例 え ば残膜厚、 加熱温度、 柱状体の形状等 を 変化 ざせ る こ と に よ り 実現で き る こ と を見い だ し た 。 以下、 図 3 5 を参照 し て 説 明す る 。
図 3 5 は残膜厚 と 加熱温度 と を 変化 さ せた場合の ァス ぺ ク ト 比 ァ — 平均傾斜角 0 特性 を 示す グ ラ フ で あ る 。 図 3 5 お いて 、 ラ イ ン L 1 は加熱温度が 1 2 0 °C且つ残膜厚が 0 . 6 Ζ Λί ΐη の場合を 示 し、 ラ イ ン L 2 は加熱温度が 1 6 0 °C且つ残膜厚が 0 . 6 2 / m の場合 を示 し、 ラ イ ン L 3 は加熱温度が 1 2 0 °C且つ残膜厚が 1 . 8 0 JUL mの場合を 示 し、ラ イ ン L 4 は加熱温度が 1 6 0 °C且つ残膜厚が 1 . 7 4 ί πιの場合を 示 し、 ラ イ ン L 5 は加熱温度が 1 2 0 °C且つ残膜 厚が 2 . 1 0 mの場合を 示 し、 ラ イ ン L 6 は加熱温度が 1 6 0 °C 且つ残膜厚が 2 . 3 6 mの場合を示す 。 なお、 加熱時間及びそ の 他の条件は 同一 と し た 。 図 3 5 の ラ イ ン L 1 と .ラ イ ン L 2 と か ら 、 残膜厚が 同一で あ る 場合に は、 加熱温度が大 き い と 平均傾斜角 が 小 さ い値 に 収束 し、 加熱温度が小 さ い と 平均傾斜角 が大 き い値 に収束 す る こ と が認め ら れ る 。 ま た、 図 3 5 の ラ イ ン L l , L 3 , L 5、 ま た は、 ラ イ ン L 2, L 4 , L 6 よ り 、 加熱温度が 同一で あ る 場合 に は、 残膜厚 が大 き い と 平均傾斜角が小 さ い値 に収束 し、 残膜厚 が 小 さ い と 平均傾斜角 が大 き い値 に収束す る こ と が認め ら れ る 。
従 っ て 、 同一ア ス ペ ク ト 比で あ っ て も 、 加熱温度や残膜厚 を 変 え る こ と に よ り 、 平均傾斜角 Θ の収束値 を 変化 さ せ る こ と がで き る 。 即 ち 、 加熱温度や残膜厚 を 変 え る こ と に よ り 、 平均傾斜角 を 制御で き る こ と が理解 さ れ る 。 な お、 濡れ性が大 き い感光性樹脂を使用 す る と 平均傾斜角 は 小 さ い値 に収束 し、 濡れ性が 小 さ い感光性樹脂 を 使用 す る と 平均傾斜角 は大 き い値 に収束 し する こ と が、 本発明者 に よ っ て確認さ れて い る 。 従 っ て 、 感光性樹脂材料の選定に よ っ て も 、 平均傾斜角 を 制御す る こ と がで き る 。 更 に 、 柱状体の形状、 感光性 樹脂材料の粘度、 製造時の雰囲気等に よ っ て も 、 平均傾斜角 を 制御 す る こ と がで き る も の と 考 え ら れ る 。
次いで、 上記 し た製造方法の概略説明 を 踏 ま え 、 更 に 図 3 4 及び 図 3 5 の特性 に基づ き 、 本実施の形態 に係 る 反射板の製造方法 を 詳 述す る 。
( 1 ) ア ス ペク ト 比 ァ の設定
先ず、 具体的 に反射板の製造 に先だ っ て 、 ア ス ペ ク ト 比 ァ を 設定 す る 。 ア ス ペク ト 比 ァ の設定 に 当 た っ て は、 使用 す る 感光性樹脂材 料が決定 さ れて い れば、 そ の感光性樹脂 を 用 い て 、 残膜厚や加熱温 度等 を 変 え て 予め種々 の ア ス ペ ク ト 比 ァ 一 平均傾斜角 Θ 特性 を実験 よ り 求め て お く 。 そ して 、 平均傾斜角 θ = 0 ρ の反射板を製造す る 場合 に、 こ の 平均傾斜 θ ρ が収束値 と な る ァ ス ぺ ク ト 比 一 平均傾 斜角特性を探 し だ す。 次いで、 該ァス ぺ ク ト 比 — 平均傾斜角特性 の 収束開始点 Α 以上の何れかの値 に ァス ぺ ク ト 比 ァ を 設定す る 。
例 え ば、 平均傾斜角 0 p = 7 . 5 と し た場合を 想定 して 説明 す る と 、 先ず、 平均傾斜角 の収束値が 7 . 5 と な る ア ス ペク ト 比 一 平均 傾斜角特性 を探 し 出 す。 こ の場合 に は、 図 3 5 の参照符号 L 1 が、 収束値が 7 . 5 と な る ア ス ペ ク ト 比 一 平均傾斜角特性で あ る 。 そ こ で、 収束開始点 A 以上 の値、 例 え ばア ス ペ ク ト 比 ァ = 0 . 8 に設定 す る 。 ま た 、 残膜厚は、 0 . 6 2 z m と し、 加熱温度は 1 2 0 °C と す る ,。 こ の よ う な条件下で 、 既に 図 3 1 及び図 3 2 に関 して 説明 し た 方法で反射板 を製造す る 。
( 2 ) 塗布工程
先ず、 図 3 3 ( a ) に示す よ う に、 基板 3 0 2 (商品名 : 1 7 3 7 、 コ 一二 ン グ社製) 上 に感光性樹脂材料を ス ピ ン コ ー ト 方式 に よ り 塗布す る 。 塗布条件 と して は、 例 え ば 回転数 7 0 O r p mで 3 0 秒間ス ピ ン コ ー ト し、 塗布膜の膜厚が 3 . と な る よ う に す る 。
( 3 ) プ リ べー ク 工程
次い で、 感光性樹脂材料が塗布 さ れた基板 3 0 2 を 1 0 5 °C で 9 0 秒間 プ リ べー ク して 、 塗布膜中 の溶剤 を 蒸発 さ せ、 感光性樹脂層 3 1 0 を形成す る 。
( ) 露光工程
次い で、 図 3 3 ( b ) に 示 す よ う に 、 フ ォ ト マ ス ク 3 1 4 を感光 性樹脂層 3 1 0 の上方 に配置 し、 該 フ ォ ト マ ス ク 3 1 1 を介 し て 紫 外線を 照射 ' 露光す る (露光工程)。 こ こ で 、 フ ォ ト マ ス ク 3 1 1 の 遮光部パ タ ー ン ( 円形パ タ ー ン の 直径)、 露光量、 露光時間、 更 に は 後続す る 現像工程で の現像時間等は、 所定の残膜厚、 所定の ァ ス ぺ ク ト 比 ァ (平均傾斜角 0 p = 7 . 5 の場合に は、 残膜厚 は、 0 . 6 2 m、 ア ス ペ ク ト 比 ァ は 0 . 8 ) と な と な る よ う に 予 め設定 さ れ て い る 。
( 5 ) 現像工程
続い て、 東京応化社製の N M D — 3 (商品名 ) を 0 . 4 %含む水 溶液を 現像液 と して 用 い現像を行い、不要な部分 を溶解処理す る(現 像工程)。 こ の工程 に よ り 、 図 3 3 ( c ) に示す よ う に、 基板 3 0 2 上 に残膜 3 0 3 と複数の柱状体 3 1 5 と が形成 さ れ る 。 なお、 本発 明 にお いて 製造 さ れ る 柱状体の幅 (直径) は、 l 〃 m以上で あ る こ と が望 ま し い 。 ΐ Λί πι よ り も 小 さ い と 、 露光限界 を 越え る た め そ の よ う な大 き さ の柱状体 を形成す る こ と が困難 と な る か ら で あ る 。 ま た、 反射板 を反射型液晶表示素子 に適用 す る 場合に は、 柱状体の高 さ は 3 0 〃 m以下で あ る こ と が望 ま しい 。 3 O z m よ り も 大 き い と 、 凹 凸の差が生 じ る 部分の面積が大 き く な り 、 こ の結果セ ルギ ャ ッ プ の不均一性が拡大 し す ぎ、 表示ム ラ 等の表示品位の 劣化 を招 く こ と に な る か ら で あ る 。
ま た、 感光性樹脂層 3 1 0 の膜厚は、 l 〃 m以上で あ る こ と が望 ま しい 。 よ り も 小 さ い と 、 光反射性薄膜 3 0 5 の表面 の 凹 凸 差が小 さ く な り 過 ぎ 、 正反射方 向 に反射 さ れ る 光が増大す る の で好 ま し く な い か ら で あ る 。 ま た、 反射板を反射型液晶表示素子 に適用 す る 場合に は、 感光性樹脂層 3 1 0 の膜厚は、 1 0 m以下で あ る こ と が望ま し い 。 1 よ り も 大 き い と 、 凹 凸の 差が大 き く な り す ぎ 、 セ ル ギ ャ ッ プの不均一性が拡大 しす ぎ 、 表示 ム ラ 等の表示 品 位の劣化 を招 く こ と に な る か ら で あ る 。 ( 6 ) 熱処理工程
次い で 、 図 3 3 ( d ) に示す よ う に、 基板 3 0 2 を 1 2 0 °Cで 5 .分間加熱 し て加熱処理 を行 う 。 れに よ り 、 残膜 3 0 3 及び複数の 凸部 3 0 4 が形成 さ れ る 。 こ の と き、 柱状体 3 1 5 の ァ ス ぺ ク ト 比 y が上記値 に設定 さ れて い る た め、 製造マ ー ジ ン を 大 き く と る こ と がで き 、 結果 と し て ほぼ全て の 凸部 3 0 4 はそ の平均傾斜角 がほぼ 同一 と な る 。 換言すれば、 製造工程 にお け る 加工誤差等があ っ て も 、 そ の 影響 を 殆 ど受 け る こ と な く 設定値 どお り の 平均傾斜角 を 有す る 凸部 を形成 す る こ と がで き る 。
従籴例 の反射板の製造方法 は、 凸部の平均傾斜角 を高精度で形成 すべ く 種々 の工夫がな さ れて い る 。 し か し な が ら 、 あ く ま で も 、 設 計段階で の 理論的 な も の で あ り 、 製造マ一 ジ ン は狭 い。 一方、 現実 に反射板を 製造す る 際 に は、 加工誤差等が発生 し、 理論的 に は高精 度の平均傾斜角 が得 ら れて も 、 そ の方法で製造す る と 、 現実 に製造 さ れた 凸部 の平均傾斜角 に は、 大 き な ば ら つ き が生 じて い る 。
こ の点に 関 し て 、 図 3 6 を 参照 して 、 従来例 と 本発明 と を 比較 し て説明す る 。 図 3 6 ( a ) に示す よ う に、 加工誤差 に よ り 直径 : D は 同 じで あ る が、 高 さ の異な る 柱状体 P I , P 2 が形成さ れた も の と 仮定す る 。 こ の と き 、 従来例で は、 図 3 6 ( c ) に 示す よ う に製造 さ れた 凸部 G 1 の平均傾斜角 θ 1 と 凸部 G 2 の 平均傾斜角 0 2 は異 な っ た も の と な る 。 こ れ に対 して、 本発明で は、 図 3 6 ( b ) に 示 す よ う に製造 さ れた 凸部 G 1 と 凸部 G 2 と は、ほぼ相似形状 と な り 、 平均傾斜角 θ 1 と 平均傾斜角 Θ 2 はほぼ等 し い も の と な る 。
ま た、 本発明 に係 る 製造方法 に よ れば、 従来例の よ う に 凸部 の上 に更 に樹脂層 を 被覆す る こ と な く 、 丸み を 帯びた複数の 凸部 4 を 形 成す る こ と がで き る 。 従 っ て 、 従来例 に比べて 、 樹脂層 の被覆工程 を省略す る こ と がで き、 製造費用 の低減及び製造時間の短縮化 を 図 る こ と がで き る 。
( 7 ) 光反射性薄膜形成工程
次い で、 複数の 凸部 3 0 4 を被覆 して アル ミ ニ ウ ム ( A 1 ) 等 の 金属薄膜を 蒸着 して 光反射性薄膜 3 0 5 を形成す る 。 こ う して 、 図
2 8 に示す反射板が作製 さ れ る 。 こ の反射板 3 0 1 は凸部の平均傾 斜角 が設定値 と ほぼ同一で あ る ので、 凸部 3 0 4 上 に形成 さ れた 光 反射性薄膜 3 0 5 の 凹 凸状態がほぼ設定 どお り と な る 。 よ っ て、 希 望す る 反射特性 を有す る 反射板を得 る こ と がで き る 。 ' 次 に、 上記構成の反射板 を反射型液晶表示素子の.反射板 に適用 し た場合につ い て 説明す る 。 図 3 7 は該反射型液晶表示素子の要部 断 面図で あ る 。 反射型液晶表示素子 3 3 0 は、 反射板 3 0 1 と 、 対向 基板 3 3 1 (表示面側) と 、 反射板 3 0 1 及び対向基板 3 3 1 間 に 挟持 さ れた 液晶層 3 3 2 と を有 す る 。 反射板 3 0 1 の光反射性薄膜
3 0 5 上 に は、 配向膜 3 3 3 が形成さ れて い る 。 な お、 光反射性薄 膜 3 0 5 は、 画素電極 と し て の機能を 果た し て い る 。
上記対向基板 3 3 1 は例 え ばガ ラ ス 基板等の光透過性 を有 す る 基 板で あ り 、 こ の対向基板 3 3 1 上 には、 イ ン ジ ウ ム錫酸化物 ( I T 0 : I n d i um T i n O x i d e ) か ら な る 透明電極 3 3 4 が形成さ れて い る 。 更 に、 透明電極 3 3 4 上 に は配向膜 3 3 5 が形成さ れて い る 。 上記 液晶層 3 3 2 は、 液晶 に黒色の二色性染料 を 溶解 さ せ た ゲス ト ホ ス ト 液晶 を含んで構成 さ れ る 。 上記配向膜 3 3 3 · 3 3 5 は、 例 え ば ポ リ イ ミ ド樹脂か ら な り 、 ま た それ ら の 配向処理方 向は相互 に反対 方 向 と な る 様 に設定 し た 。 こ の と き、 液晶分子 の配 向状態は、 基板 間で約 3 6 0 度捻れた配向 と な っ て い る 。
上記の様な構成の反射型液晶表示素子の表示状態 につ いて調べ る と 、 広範囲 で非常 に 明 る く 、 ペーパーホ ワ イ ト 性 に 優れ、 コ ン ト ラ ス ト の 良好 な表示品位が得 ら れた。
な お、 参考 ま で に述べ る と 、 ア スペク ト 比が例 え ば上記実施の形 態で使用 し た値、 例 え ば 0 . 4 3 程度の も の を使用 し た従来例 は 、 存在 して い る 。 しか し な が ら 、 ア スペク ト 比が 同 じ値で あ っ て も 、 従来例 と 本発明 と で は、 ア ス ペク ト 比の意義が異な る 。 即 ち 、 従来 例 で は、平均傾斜角 Θ の収束す る 領域内で の ア ス ペ ク ト 比で は な い 。 こ れ に対 し て本発明で は、 平均傾斜角 0 の収束す る 領域内で の ァス ぺ ク ト 比が使用 さ れて い る 。 従っ て、 従来例で は、 製造 さ れた 凸部 の 平均傾斜角 に ば ら つ き が生 じて お り 、 反射板の反射特性が所望 の も の で な い 。 こ れ に対 して、 本発 明で は、 上記 し た よ う に 平均傾斜 角 0 の収束 す る 領域内 で の ァ ス ぺク ト 比 を使用 す る た め、 製造マー ジ ン が大 き く と れる た め、 加工誤差があ っ て も 、 そ れに影響 さ れず、 所望の平均傾斜角 を 有 す る 凸部を形成す る こ と がで き る 。
(実施の形態 3 — 2 )
図 3 8 は実施の形態 3 一 2 に係 る反射板の製造工程 を 示す断面図 で あ る 。 本実施の形態 に係 る 反射板は、 ア ク テ ィ ブマ ト リ ッ ク ス 駆 動の反射型液晶表示素子 に用 い ら れる 反射板で あ る 。 こ の よ う な 反射板の製造方法は、上記実施の形態 3 - 1 の製造方法に頻似す る 。 但 し、 本実施の形態 3 — 2 の反射板は、 ア ク テ ィ ブマ ト リ ッ ク ス 駆 動の反射型液晶表示素子 に用 い ら れる 反射板で あ る こ と か ら 、 若干 相違す る 点 も あ る 。 以下 に、 本実施の形態 3 — 2 に係 る 製造方法 の 特徴点 を 中 心 に 説明す る こ と に す る 。
本実施の形態 3 — 2 の反射板 に は、 画素ス イ ッ チ ン グ素子 と し て の 薄膜 ト ラ ン ジ ス タ ( T F T ) 3 4 0 が形成 さ れて い る 。 従 っ て 、 T F T 3 4 0 と 画素電極 と し て の機能 を 有 す る 光反射性薄膜 3 0 5 と を 電気的 に接続す る た め の コ ン タ ク ト ホール 3 4 1 (図 3 8 ( c ) ) が必要で あ り 、 そ の た め コ ン 夕 ク ト ホール形成部位で は残膜が存在 し な い よ う に す る 必要があ る 。 コ ン タ ク ト ホール形成部位 に残膜が 存在す る と 、 導通不良 を 生 じ、 表示品位の低下 を招 く お そ れが あ る た め で あ る 。
従 っ て 、 感光性樹脂 と し て低 ァ ポ ジ型 レ ジ ス ト (商品名 : P C 4 0 9 、 J S R 社製) を使用 し た 。 上記実施の形態 1 で は、 感光性樹 脂 と して は 必ず し も 低 ァ レ ジ ス ト を使用 す る 必要は ない け れ ど も 、 本実施の形態 2 で は、 低 ァ レ ジ ス ト を 必ず使用 する 必要があ る 。 そ の理 由 を 説明す る と 、 低 ァ レ ジ ス ト は、 図 3 9 の実線で 示す よ う に 積算露光量が増大す る に つれ.て、 一次関数的 に残膜厚が小 さ く な る よ う な特性 を 有 して い る 。 通常の感光性樹脂材料で あ る と 、 図 3 9 の破線で 示 す よ う に あ る 積算露光量 ま で は残膜厚は一定値 を 示 すが、 そ の積算露 ^量を越え る と 急激に残膜厚が小 さ く な る 特性 を 示 す。 本発 明 に お い て は、 残膜がな い部位 と 、 残膜及び残膜に一体的 に形 成さ れ る 柱状体を構成す る 必要があ り 、 通常の感光性樹脂材料 を使 用 す る と、 コ ン タ ク ト ホール形成部位で残膜を な く し、 そ の他の 部 位で は残膜厚 を制御す る こ と が困難 と り 、 本発明 に係 る 上記構成 を 製造す る こ と は で き な い 。 こ の点に 関 して、 低 ァ レ ジス ト を使用 す る と 、 図 3 9 に 示す特性 を有 す る た め、 積算露光量 を制御 すれば、 本発明 に係 る 上記構成 を 容易 に製造す る こ と が可能 と な る 。
ま た、 本実施の形態 に 係 る製造方法で は、 露光工程に おい て 使用 す る フ ォ ト マス ク を 図 3 8 ( b ) に示す構成の も の を用い た 。 即 ち 、 フ ォ ト マ ス ク 3 4 2 は、 紫外線透過領域 3 4 0 a … と紫外線遮光領 域 3 4 0 b … と 、 遮光領域 よ り も 遮光率の 小 さ い領域 3 4 0 c … か ら 構成 さ れて い る 。 各領域 3 4 0 a , 3 4 0 b , 領域 3 4 0 c は、 円形状 ま た は楕 円形状で あ る 。 領域 3 4 0 a は コ ン タ ク ト ホール 3 1 を形成す る た めの も ので あ り 、 領域 3 4 O b は柱状体 3 1 5 を 形成す る た め の も の で あ. り 、 領域 3 4 0 c は残膜 3 を形成す る た め の も の で あ る 。 なお、 領域 3 4 0 で は、 露光限界の大 き さ 若 し く は こ の近傍の 大 き さ の 開 口 を 網 目 状 に形成す る こ と に よ り 実現で き る こ の よ う な フ ォ ト マ ス ク 3 4 2 の使用 に よ り 、露光量が調整 さ れ、 現像時 に溶解す る 部分 と 、あ ま り 溶解 し な い部分がで き、図 3 3 ( d ) に示 す よ う に 、 基板 3 0 2 上 に コ ン タ ク ト ホール 3 4 1 、 残膜 3 0 2 及び凸部 3 0 4 を形成す る こ と がで き る 。 そ して 、 凸部 3 0 4 を 被覆 し て ア ル ミ ニ ウ ム ( A 1 ) 等の金属薄膜を 蒸着 して光反射性薄 膜 3 0 5 を形成す る と 、 コ ン タ ク ト ホール 3 4 1 を介 し て、 光反射 性薄膜 3 0 5 と T F T 3 4 0 と が電気的 に接続 さ れ る こ と に な る 。 (図 3 3 ( e ) )。
(実施の形態 3 — 3 )
図 4 0 は実施の形態 3 — 3 に係 る 反射板の要部平面図で あ り 、 図 4 1 は図 4 0 の X — X矢視断面で あ る 。 本実施の形態 3 — 3 は、 本 発明 を 回折格子型反射板 に適用 し た例で あ る 。 本実施の形態 3 - 3 は、 実施の形態 3 - 1 と類似 し対応す る 部分 に は 同一の参照符号 を 付す。 本実施の形態 3 — 3 で は、 実施の形態 3 — 1 の 凸部 3 0 4 に 代え て、 同心状 に配列 さ れた 凸部 3 5 1 が用 い ら れ る 。 な お、 凸部 3 5 1 は、 感光性樹脂材料か ら 成 る 同心状 に配列 さ れた柱状体 を 溶 融変形 さ せて得 ら れた も ので あ る 。
こ の よ う な構成の 回折格子型反射板 3 5 0 を上記実施の形態 3 — 1 の製造方法 を 用 いて製造 し、 反射型液晶表示素子 を作製 し た と こ ろ 、 凸部 3 5 1 の側面の 平均傾斜角 が設定値 と ほぼ同一 と な っ た た め、 色再現範囲の広い反射型液晶表示素子 を得 る こ と がで き た 。 こ の よ う に、 反射回折に よ り 分光す る 特性 を 有 す る 回折格子型反 射板で は、 凸部 3 5 1 の側面傾斜角 に高い精度が要求 さ れ る 。 従 つ て、 本発 明 に係 る製造方法 に よ り 作製す る こ と は、 極め て 有熟で あ る 。 な お、 回折格子バ タ ー ン と し て は、 同心状 に 限 ら ず、 並列状 に 配列 さ れ た も ので あ っ て も よ い 。
( そ の他の 事項)
( 1 ) 上記実施の形態で は、 凸部下部 に 同一の感光性樹脂が残膜 と して 成膜 さ れて い る 場合に つ い て述べ ら れて い る が、 他の感光性樹 脂 を成膜 し た の ち 、 上述の J S R社製ポ ジ型 レ ジ ス ト P C 4 0 9 を 塗布 し、 フ ォ ト マ ス ク を 用 い て 露光現像 し て も プ ロ セ ス マ 一 ジ ン の 大 き い 安定な 領域におい て任意 の 平均傾斜角 に設定す る こ と が可能 と な り 、 同様 に実施可能で あ る 。 .
( 2 ) ま た、 同 じ く J S R 社製ポ ジ型 レ ジ ス ト P C 4 0 9 を 塗布後、 加熱処理 を行 い、 さ ら に P C 4 0 9 を塗布後、 フ ォ ト マ ス ク を 介 し て露光 · 現像後に 凹凸構造体を形成 して も 同様 に実施可能で あ る 。 ( 3 ) 上記実施の形態で は、 一層 の感光性樹脂層 を形成 し た が、 例 え ば感光性樹脂 を 塗布後、 さ ら に 同一の感光性樹脂 を 塗布 して 二層 構造の感光性樹脂層 を形成 し、 フ ォ ト マ ス ク を介 して露光、 現像 を 行い 、 凸部 を 形成す る よ う に し て も よ い 。 ま た、 第一層 目 の感光性 樹脂 を 塗布後、 加熱処理、 も し く は、 電子線照射処理、 紫外光照射 処理な どの工程を経た後、 同一の感光性樹脂 を塗布 し、 フ ォ ト マ ス ク を 介 し て 露光、 現像 して 凸部 を形成す る よ う に して も よ い。 ま た 、 第一層 目 の感光性樹脂 と そ の上の第二層 目 の感光性樹脂 と が異な つ て も 、 安定な領域を任意 に設定す る こ と が可能 と な り 、 同様 に実施 可能で あ る 。 さ ら に は、 第一層 目 に感光性樹脂の代わ り に、 表面ェ ネ ル ギ一が第二層 目 の感光性樹脂 と ほぼ同 じ物質 を成膜後、 第二層 目 を 成膜 して も 安定な領域を 任意 に設定す る こ と が可能 と な り 、 同 様 に実施可能で あ る 。
( 4 ) 上記実施の形態で は、 柱状体形成に 当 た っ て は、 フ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ 法 を 使用 し た けれ ど も 、 その他の 方法、 例 え ば、 錶型や そ の他の方法で 柱状体を形成す る よ う に して も 、 感光性樹脂 を 用 い る 限 り にお いて 実施可能で あ る 。
( 5 ) 上記実施の形態で は、 基板上に感光性樹脂を形成 し、 フ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ 法 を使用 し て 凸部 を形成 し た けれ ど も 、 基板上 に熱可 塑性樹脂 を形成 し、 加熱処理 に よ り 凸部 を形成す る よ う に し て も よ い o 産業上の利用 可能性
以上の よ う に本発明の構成に よ れば、 以下の効果 を奏す る 。
( 1 ) 第 1 の 発明群の効果
①以上 の よ う に、 素子が規則的 に配列 さ れて い る 領域が少 な く と も 2 種類以上形成 さ れて い る 反射板で あ っ て 、 前記領域か ら の 回折 光が重な り 合 う こ と に よ り 回折光 に よ る 色付 き を抑制す る こ と が で き た 。
②さ ら に、 素子が一定の 間隔で規則 的 に配列 さ れて い る 領域が少 な く と も 2 種類以上形成 さ れて い る反射板 に よ っ て も よ り 回折光 に よ る 色付 き を 抑制 す る こ と がで き た。
③ま た、 カ ラ ー フ ィ ル タ ー に対応す る 画素 にお い て 素子が規則 的 に配列 さ れて い る 領域が少な く と も 2 種類以上形成さ れて い る 反射 板で あ っ て、前記領域か ら の 回折光が互い に重な り 合 う こ と に よ り 、 回折光 に よ る 色付 き を抑制 す る こ と がで き た 。
④互い に入射光 に対す る 反射光の偏光性が異な る 領域が少な く と も 2 種類以上形成 さ れて い る 反射板に よ っ て も 回折光 に よ る 色付 き を 抑制す る こ と がで き た 。
⑤上記何れか の反射板を 用 い た反射型液晶表示素子 におい て 、 白 表示 を 行 っ た と こ ろ 、 色付 き はほ と ん ど生 じ な か っ た 。
⑥ ま た、 上記何れかの反射型液晶表示素子 を用 い た反射型表示装 置 において 、 白 表示 を行 っ た と こ ろ 、 色付 き の ない 良好な表示品位 を得 る こ と がで き た 。
⑦本発明 に係 る 反射板 を用 い た反射透過型兼用液晶表示素子 に お い て 白 表示 を 行 っ た場合、 色付 き の少な い 良好な表示 を得 る こ と が で き た。
⑧ さ ら に、 本発明 に係 る 液晶表示素子 を 用 い た反射透過型兼用液 晶表示装置 を用 いて 白 表示 を行 っ た場合、 色付 き の 少な い 良好な 表 示 を得 る こ と がで き た 。
( 2 ) 第 2 の発明群の効果
基板上 に ネ ガ型 の感光性高分子を塗布 し た後、 裏面か ら 露光 を 行 う こ と で、 1 層構成で傾斜面 を 有す る 凹 凸構造が形成さ れ る 。 ま た、 熱ァ ニールで 凹 凸形状 を 制御す る 必要がな い た め生産性が 向上 し、 低コ ス ト ィ匕が図 れ る 。
( 3 ) 第 3 の発明群の効果
従来例 に 比べて格段 に プ ロ セ ス マー ジ ン を 大 き く と る こ と がで き る 。 そ の た め、 加工誤差等 に影響 を 受け る こ と がな く 、 実際 に製造 さ れた 凸部の 平均傾斜角 は設定値 と ほぼ等 し く な る 。 従っ て 、 凸部 を被覆す る 光反射性薄膜の表面は希望す る 凹 凸状 と な り 、 コ ン ト ラ ス ト 特性及びペーパーホ ワ イ ト 性 に優れた反射板、 反射型液晶表示 素子 を得 る こ と がで き る 。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 散乱 も し く は反射す る 微小 な複数の素子が配列 さ れて い る 光 学特性が異な る 複数種類の領域を有す る こ と を 特徴 と す る 反射板。
2 . 散乱 も し く は反射す る 微小な複数の 素子が配列 さ れて い る 偏 光特性が異 な る 複数種類の領域を 有す る こ と を 特徴 と す る 反射板。
3 . 散乱 も し く は反射す る 微小 な複数の素子が配列 さ れて い る 反 射光の反射特性が異 な る 複数種類の領域を 有 す る こ と を 特徴 と す る 反射板。
4 . 前記複数種類の領域の反射光の 回折角 が異な る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 記載の反射板。
5 前記素子の 間 の平均 ピ ッ チが異な る こ と を 特徴 と す る 請求項 4 記載の反射板。
6 - 前記複数種類 の領域か ら の 回折角 の極小 と極大 と が概ね重な り 合 う こ と を 特徴 と す る 請求項 4 記載の反射板。
7 . 前記素子の配列 が規則 的で あ る こ と を特徴 と す る 請求項 4 記 載の反射板。
8 . 前記素子の配列 が周期的 を有す る こ と を 特徴 と す る 請求項 5 記載の反射板。
9 . 前記複数種類 の領域は、 素子の配列 も し く は素子の形状 に異 方性 を 有 し て お り 、 しか も 、 各領域毎 に そ の異方性の 方位 を異 に し て い る こ と を特徴 と す る 請求項 1 記載の反射板。
1 0 . 前記複数種類の領域か ら の 回折光 を 制御す る 透過特性を 有 す る カ ラ ー フ ィ ル 夕 一 を 具備す る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 記載の 反射板。
1 1 . 請求項 1 記載の反射板 を備え た こ と を特徴 と す る 反射型液 晶表示素子。
1 2 . 基板上 に 凹 凸構造部 を有す る 凹凸形状体に おい て 、 前記凹凸構造部が、 光吸収性物質を含む感光性高分子 を含む こ と を 特徴 と す る 凹 凸形状体。
1 3 . 基板上 に 凹 凸,構造部 を有する 凹 凸形状体に おい て 、 前記凹 凸構造部 が、 光散乱性物質を含む感光性高分子 を含む こ と を特徴 と す る 凹 凸形状体。
1 4 . 前記光吸収性物質が色素で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 記載の 凹 凸形状体。
1 5 . 前記感光性樹脂が 1 層 か ら な る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 記載の 凹 凸形状体。
1 6 . 前記凹 凸構造部が無機層 を 有す る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 記載の 凹 凸形状体。
1 7 . 前記凹凸構造部が有機層 を有す る こ と を特徴 と す る 請求項 1 記載の 凹 凸形状体。
1 8 . 前記基板側 に遮光層 が形成さ れた こ と を 特徴 と す る 請求項 1 記載の 凹 凸形状体。
1 9 . 前記遮光層 がス ト ラ イ プ状 に形成さ れて い る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 8 記載の 凹 凸形状体。
2 0 . 前記遮光層 が ド ッ ト 状 に形成さ れて い る こ と を特徴 と す る 請求項 1 8 記載の 凹凸形状体。
2 1 . 前記 ド ッ ト 状の遮光層の ピ ッ チ を P m、 前記遮光層 と 前 記凸部頂点の 間 の厚み を d z m と し た と き に、 P > d が成 り 立つ こ と を特徴 と す る 請求項 2 0 記載の凹凸形状体。
2 2 . 基板上 に 凹 凸構造部 を 有す る 凹 凸形状体 に お いて 、 前記凹凸構造部の 凹凸形状が、 光吸収性物質 を含む感光性高分子 に対 し て裏面露光処理 と 現像処理 と を 行 う こ と に よ り 得 ら れた も の で あ る こ と を 特徴 と す る 凹凸形状体。
2 3 . 基板上 に 凹 凸構造部 を有す る 凹 凸形状体に お い て、 前記凹凸構造部の 凹凸形状が、 光散乱性物質 を含む感光性高分子 に対 し て 裏面露光処理 と 現像処理 と を 行 う こ と に よ り 得 ら れた も の で あ る こ と を 特徴 と す る 凹 凸形状体。
2 4 . 基板上 に 凹 凸構造部 を有 す る 凹 凸形状体の 製造方法 に お い て 、
基板上 に 少な く と も 感光性高分子層 を形成 し た後、 裏面露光 と 現 像処理を 行 う こ と で、 前記感光性高分子層 の 表面 に 凹 凸構造を 形成 す る こ と を 特徴 と す る 凹凸形状体の製造方法。
2 5 . 前記裏面露光が、 マ ス ク で の 回折光 を 用 い た露光で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 2 4 記載の 凹凸形状体の製造方法。
2 6 . 前記感光性高分子層 が一層 で あ る こ と を特徴 と す る 請求項 2 4 記載の 凹 凸形状体の製造方法。
2 7 . 前記感光性高分子層 が層厚方 向で透過光 を 減衰す る 材料 を 含有 し、 前記露光が前記感光性高分子層で の減衰光 を 用 い た露光で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 2 4 記載の凹 凸形状体の製造方法。
2 8 . 前記感光性高分子層 に お い て、 露光時 に入射す る 光 の 露光 波長に お け る 強度の 5 0 % 以上、 9 5 % 以下が吸収 さ れ る こ と を特 徴 と す る 請求項 2 7 記載の凹 凸形状体の製造方法。
2 9 . 前記感光性高分子層 に お い て、 露光時 に入射す る 光の 露光 波長に お け る 強度の 7 0 % 以上、 9 5 %以下が吸収 さ れ る こ と を特 徴 と す る 請求項 2 7 記載の 凹 凸形状体の製造方法。
3 0 . 前記感光性高分子層 の厚みが、 l z m以上、 5 /z m以下で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 2 4 記載の 凹 凸形状体の製造方法。
3 1 .基板上 に 凹凸構造 を 有す る 凹凸形状体の製造方法 に お い て 、 少な く と も 前記凹凸構造の 凸部 に相当 す る 位置 に 開 口 部 を有 す る 遮光層 を基板上 に形成 し た後、 感光性高分子層 を形成 し、 裏面露光 と 現像処理 を 行 う こ と で、 前記感光性高分子層 の 表面に 凹 凸構造 を 形成す る こ と を特徴 と す る 凹 凸形状体の製造方法。
3 2 . 前記裏面露光が、 前記遮光層 の 開 口部 に起 因 す る 回折光 を 用 い た裏面露光で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 3 1 記載の 凹 凸形状 体の製造方法。
3 3 . 前記感光性高分子層 が層厚方 向で透過光 を 減衰す る 材料を 含有 し、 前記露光が、 前記感光性高分子層で の減衰光を 用 い た露光 で あ る こ と を特徴 と す る 請求項 3 1 記載の 凹凸形状体の製造方法。
3 4 . 前記感光性高分子層 におい て 、 露光時 に入射す る 光 の露光 波長 に お け る 強度 の 5 0 %以上、 9 5 %以下が吸収 さ れ る こ と を特 徴 と す る 請求項 3 3 記載の 凹 凸形状体の製造方法。
3 5 . 前記感光性高分子層 に お い て、 露光時 に入射す る 光 の露光 波長に お け る 強度の 7 0 % 以上、 9 5 % 以下が吸収 さ れ る こ と を 特 徴 と す る 請求項 3 3 記載の 凹 凸形状体の製造方法。
3 6 . 凹凸構造 を 有す る 凹凸形状体の製造方法 に おい て 、 感光性 高分子層が積層 さ れた基板 に裏面露光 を行 う 際 に、 露光す る 光が基 板に斜め方 向 か ら 入射す る こ と を 特徴 と す る 請求項 2 4 記載の 凹 凸 形状体の製造方法。
3 7 . 前記裏面露光 を 行 う 際の露光す る 光の立体角 が 0 . 5 ° 以 上 1 5 ° 以下で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 3 6 記載の 凹凸形状体 の製造方法。
3 8 . 基板上 に 凹 凸構造部 を 有 す る 凹 凸形状体に おい て、 前記凹 凸構造部の 凹凸形状は、
基板上 に感光性高分子層 を形成 し、こ の感光性高分子層 に対 して、 立体角 が 0 . 5 ° 以上 1 5 ° 以下の露光光 を基板 に対 して斜め方 向 か ら 入射さ せ る 斜め露光方式の裏面露光処理 と現像処理 と を行 う こ と に よ り 得 ら れた も ので あ る こ と を 特徴 と す る 凹凸形状体。
3 9 . 基板の製造装置 に お い て 、 感光性高分子層 が積層 さ れた基 板 に裏面露光 を行 う 際に、 露光 す る 光 を基板 に斜め方向 か ら 入射 さ せ る 手段を 具備 す る こ と を 特徴 と す る 製造装置。
4 0 . 前記裏面露光 を 行 う 際の露光す る 光 の立体角 が 0 . 5 ° 以 上 1 5 ° 以下で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 3 9 記載の基板の製造 装置。
4 1 . 請求項 3 9 記載の製造装置 に よ り 製造 さ れた こ と を 特徴 と す る 凹 凸形状体。
4 2 . 基板 に感光性樹脂 を 塗布す る 工程 と、 少な く と も 2 個 の 同 一位相 の球面波 を有 す る 露光光 を前記感光性樹脂 に 照射す る 工程 と 前記露光光 を照射 し た感光性樹脂 を現像す る 工程 と を、 有 す る こ と を 特徴 と す る 凹 凸形状体の製造方法。
4 3 . 基板上 に 凹 凸構造部 を有す る 凹凸形状体に お い て 、 前記凹 凸構造部の 凹 凸形状は、
基板上 に感光性高分子層 を形成 し、 こ の感光性高分子層 に対 し て 少な く と も 2 個の 同一位相 の球面波を有 す る 露光光 を照射す る 露 光処理 と 現像処理 と を 行 う こ と に よ り 得 ら れた も の で あ る こ と を特 徴 と す る 凹 凸形状体。
4 4 . 請求項 1 2 記載の 凹 凸形状体を含む こ と を 特徴 と す る レ ン ズ。
4 5 . 請求項 1 2 記載の 凹 凸形状体 を含む こ と を 特徴 と す る 散乱 反射板。
4 6 . 請求項 4 5 記載の散.乱反射板 を具備す る こ と を 特徴 と す る 反射型液晶表示素子。
4 7 . 感光性樹脂材料か ら 成 る 柱状体を 溶融変形 さ せて得 ら れ た 凸部が複数設け ら れた基板 と 、 前記凸部 を被覆す る 光反射性薄膜 と を 有す る 反射板にお い て 、
前記感光性樹脂材料は、 前記凸部の底面外周縁上の所定の点 と 凸部頂点 と を結ぶ直線 と 、 凸部底面 と の成す角 を 凸部の平均傾斜角 と し、 前記柱状体の形状 を 規定する 2 つ の代表寸法 の 比で 示 さ れ る ァ ス ぺ ク ト 比 を 0 近傍の値 か ら 徐々 に增加 して い く と 、 平均傾斜角 が上昇変化過程 を経て極大 値に 達 し、 そ の後下降過程 を経て 一定値 に収束す る よ う な ァス ぺ ク ト 比 —平均傾斜角 特性 を 有 して お り 、
前記複数の 凸部の 平均傾斜角 が、 前記ァ ス ぺ ク ト 比 — 平均傾斜角 特性 にお け る 前記収束値 と さ れて い る こ と を 特徴 と す る 反射板。
4 8 . 前記ア ス ペ ク ト 比 は前記柱状体の 幅 に対す る 高さ の 比で あ る を こ と を 特徴 と す る 請求項 4 7 記載の反射板。
' 4 9 . 基板上 に、 薄膜部分 と複数の柱状体部分 と か ら 構成 さ れ る 凹 凸状の熱可塑性樹脂層 を形成す る 工程 と 、
前記複数の柱状体部分が形成さ れて い る 基板に熱処理を施す こ と に よ り 、 柱状体部分 を 溶融変形 させ、 所定の 平均傾斜角 を 有 す る 複 数の 凸部 を形成す る 熱処理工程 と 、
前記凸部上 に光反射性薄膜 を形成す る工程 と 、
を備え 、
前記樹脂材料が、
前記凸部の底面外周縁上 の所定の点 と 凸部頂点 と を結ぶ直線 と 、 凸部底面 と の成す角 を 凸部 の平均傾斜角 と し、 前記柱状体の形状 を 規定す る 2 つ の代表寸法の 比で 示 さ れ る ァ ス ぺク ト 比 を 0 近傍の値 か ら 徐々 に増加 し て い く と 、 平均傾斜角 が上昇変化過程 を経て極大 値 に達 し、 そ の後下降過程 を経て一定値 に 収束す る よ う な ァス ぺ ク ト 比 一 平均傾斜角特性 を有 して お り 、 前記樹脂層形成工程 に お いて得 ら れ る 前記柱状体の ァ ス ぺ ク ト 比 の設定値 を、 前記一定値 に収束 し始め る 開始点 よ り も 大 き い ァ ス ぺ ク ト 比 と し た こ と を 特徴 と す る 反射板の製造方法。 . 5 0 . 感光性樹脂材料か ら 成 る 柱状体を 溶融変形 さ せて得 ら れ た 複数の 凸部 を 有 す る 反射板の製造方法 に おい て 、
基板上 に感光性樹脂材料 を塗布す る 塗布工程 と 、
前記塗布工程 に得 ら れた感光性樹脂材膜に、 所定の形状 に パ 夕 ー ニ ン グさ れた遮光部 を 有 す る フ ォ ト マ ス ク を 介 して 光 を照射す る 露 光工程 と 、
光照射 さ れ た前記感光性樹脂膜を現像 して、 残膜及び複数の柱状 体を形成す る 現像工程 と 、
前記複数の 柱状体が形成 さ れて い る 基板に熱処理を施す こ と に よ り 、 柱状体を 溶融変形さ せ、 所定の平均傾斜角 を有す る 複数の湾 曲 状凸部 を形成 す る 熱処理工程 と 、
前記凸部上 に光反射性薄膜を形成す る 工程 と 、
を 備 え 、
前記感光性樹脂材料が、
前記凸部の 底面外周縁上 の所定の点 と 凸部頂点 と を 結ぶ直線 と 、 凸部底面 と の 成す角 を 凸部 の 平均傾斜角 と し、 柱状体の形状 を規定 す る 2 つ の代表寸法の 比で 示 さ れる ァ スぺク ト 比を 0 近傍の値か ら 徐々 に増加 し て い く と 、 平均傾斜角が上昇変化過程 を経て極大値 に 達 し、 そ の後下降過程 を 絰て一定値 に収束す る よ う な ァス ぺク' ト 比 一平均傾斜角 特性 を有 して お り 、
前記現像工程 におい て得 ら れ る 前記柱状体の ァス べク ト 比の設定 値を 、 前記一定値 に収束 し始め る 開始点 よ り も 大 き い ァス ぺク ト 比 と し た こ と を 特徴 と す る 反射板の製造方法。
5 1 . 前記感光性樹脂材料が、 低 y レ ジ ス ト 材料で あ る こ と を 特 徴 と す る 請求項 5 0 記載の反射板の製造方法。
5 2 . 前記アス ペ ク ト 比 一 平均傾斜角特性は、 柱状体を加熱す る 加熱温度 を 大 き く す る と 平均傾斜角 の収束値が小 さ い値 に 変化 し、 逆 に加熱温度 を 小 さ く す る と 平均傾斜角 の収束値が大 き い値 に 変化 す る 性質 を 有 して お り 、
前記熱処理工程 に お い て、 加熱温度が、 凸部の前記所定平均傾斜 角 に対応 し た加熱温度 と さ れて い る こ と を 特徴 と す る 請求項 5 0 記 載の反射板の製造方法。
5 3 . 前記アス ペ ク ト 比 一 平均傾斜角特性は、 前記残膜の厚み を 大 き く す る と 平均傾斜角 の収束値が小 さ い値 に 変化 し、 残膜の厚み を 小 さ く す る と 平均傾斜角 の収束値が大 き い値 に 変化 す る 性質 を 有 して お り 、
前記現像工程後 に得 ら れた残膜の厚みが凸部の前記所定平均傾斜 角 に対応 し た残膜の厚み と な る よ う に、 前記露光工程 にお け る 感光 性樹脂へ の露光量 を調整す る よ う に し た こ と を特徴 と す る 請求項 5 0 記載の反射板の製造方法。
5 4 . 前記アス ペ ク ト 比が 0 . 0 5 以上、 0 . 7 以下の範囲 に あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 5 0 記載の反射板の製造方法。
5 5 . 前記塗布工程 に お け る 感光性樹脂膜の膜厚が、 1 m以上、 1 0 m 以下の範囲に あ る こ と を特徴 と す る 請求項 5 0 記載の反射 板の製造方法 。
5 6 . 基板上 に 感光性樹脂材料を塗布す る 塗布工程 に先だ っ て、 前記感光性樹脂材料 と 同一材料の感光性樹脂材料を基板上 に成膜す る 工程 を 有す る こ と を特徴 と す る 請求項 5 0 記載の反射板の製造方 法。
5 7 . 基板上 に感光性樹脂材料を塗布す る塗布工程 に先 だ っ て 、 前記感光性樹脂材料 と 異な る 材料の感光性樹脂材料を基板上 に成膜 す る 工程 を有 す る こ と を特徴 と す る 請求項 5 0 記載の反射板の製造 方法。
5 8 . 前記ァス ぺク ト 比は前記柱状体の 幅に対す る 高 さ の比で あ る を こ と を 特徴 と す る 請求項 4 9 記載の反射板の製造方法。
5 9 . 液晶表示層 を挟んで一方 に基板が、 他方 に前記請求項 4 7 記載の反射板が設 け ら れて い る こ と を 特徴 と す る 反射型液晶表示素 子。
6 0 . 反射板 と 、 反射板 に対向 す る よ う に設け ら れた基板 と 、 反 射板及び基板 に挟 ま れた液晶表示層 と を備 え た反射型液晶表示素子 の製造方法に おい て 、
前記反射板は、 請求項 4 9 記載の方法 に よ っ て製造 さ れ る こ と を 特徴 と す る 反射型液晶表示素子の製造方法。 フ 4
6 1 . 同心状又は並列状に配列 さ れた複数の 凸部で あ っ て、 感光 性樹脂材料か ら 成 る 同心状又は並列状 に配列 さ れた柱状体を 溶融変 形 さ せて得 ら れた、 そ の よ う な複数の 凸部が設 け ら れた基板 と 、 前記凸部 を被覆す る 光反射性薄膜 と 、
を有 し、 入射光 を反射回折に よ り 分光す る 特性 を有 する 回折格子型 反射板にお い て 、
前記感光性樹脂材料は、
前記凸鄣 の底面外周縁上の所定の点 と 凸部頂点 と を結ぶ直線 と 、 凸部底面 と の成す角 を 凸部の平均傾斜角 と し、 前記柱状体の形状 を 規定す る 2 つ の代表寸法の 比で示 され る ァ ス ぺ ク ト 比 を 0 近傍の値 か ら 徐々 に増加 し て い く と 、 平均傾斜角 が上昇変化過程 を 経て極大 値に達 し、 そ の後下 降過程 を経て 一定値 に 収束す る よ う な ァ ス ぺ ク ト 比 — 平均傾斜角特性 を 有 して お り 、
前記複数の 凸部の 平均傾斜角 が、 前記ァ ス ぺ ク ト 比 - 平均傾斜角 特性 にお け る 前記収束値 と さ れて い る こ と を特徴 と す る 回折格子型 反射板。
6 2 . 前記ァ ス ぺ ク ト 比は前記柱状体の 幅 に 対す る 高 さ の 比で あ る を こ と を特徴 と す る 請求項 6 1 記載の 回折格子型反射板。
'
6 3 . 液晶表示層 を挟んで一方 に基板が、 他方 に前記請求項 6 1 記載の 回折格子型反射板が設け ら れて い る こ と を 特徴 と す る 反射型 液晶表示素子。 6 4 . 感光性樹脂材料か ら 成 る 柱状体を 溶融変形 さ せて得 ら れた 複数の 凸部 を 有 し、 入射光 を反射回折 に よ り 分光 す る 特性 を 有 す る 回折格子型反射板の製造方法 にお いて 、
基板上 に感光性樹脂材料 を 塗布する 塗布工程 と 、
前記塗布工程 に よ っ て得 ら れた感光性樹脂材膜 に、 所定の形状 に パ タ ーニ ン グ さ れた遮光部 を 有す る フ ォ ト マ ス ク を 介 して 光 を 照射 す る 露光工程 と 、
光照射 さ れた 前記感光性樹脂膜を現像 して、 残膜及び複数の 同 心 状又は並列状 に 配列 さ れた柱状体を形成す る 現像工程 と 、
前記複数の柱状体が形成 さ れて い る 基板 に熱処理 を施す こ と に よ り 、 柱状体を 溶融変形 さ せ、 同心状又は並列状 に配列 さ れ所定の 平 均傾斜角 を 有 す る 複数の 凸部を形成す る 熱処理工程 と 、
前記凸部上 に 光反射性薄膜を形成す る 工程 と 、
を備え 、
前記感光性樹脂材料が、
前記凸部の底面外周縁上の所定の点 と 凸部頂点 と を 結ぷ直線 と 、 凸部底面 と の 成す角 を 凸部の 平均傾斜角 と し、 前記柱状体の形状 を 規定す る 2 つ の代表寸法の 比で 示 さ れ る ァス ぺ ク ト 比 を 0 近傍の値 か ら 徐々 に増加 して い く と 、 平均傾斜角 が上昇変化過程 を経て極大 値 に達 し、 そ の後下降過程 を経て 一定値 に収束す る よ う な ァ ス ぺ ク ト 比 一 平均傾斜角特性 を 有 して お り 、
前記現像工程に お いて得 ら れ る 前記柱状体の ァ スぺク ト 比の設定 値 を 、 前記一定値 に収束 し始め る 開始点 よ り も 大 き い ァス ぺ ク ト 比 と し た こ と を 特徴 と す る 回折格子型反射板の製造方法。
6 5 . 前記ァ ス ぺ ク ト 比は前記柱状体の 幅 に対す る 高さ の比で あ る を こ と を 特徴 と す る 請求項 6 4 記載の 回折格子型反射板の製造方 法。
6 6 . 反射板 と 、 反射板 に 対向 する よ う に設 け ら れた基板 と 、 反 射板及び基板に挟ま れた液晶表示層 と を備 え た反射型液晶表示素子 の製造方法 に お いて 、 '
前記反射板は、 請求項 6 4 記載の方法 に よ っ て製造 さ れ る こ と を 特徴 と す る 反射型液晶表示素子の製造方法。
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