L'invention se rapporte à des techniques de formation de revêtements par stéréolithographie consistant à utiliser des applicateurs équilibrés qui sont arrêtés et/ou ralentis sur des parties sélectionnées de strates formées antérieurement. Il est également possible de balayer plusieurs fois avec l'applicateur équilibré des parties sélectionnées de strates formées antérieurement plutôt que de balayer des parties non sélectionnées. Ces parties sélectionnées peuvent comporter des régions volumiques piégées présentes sur les couches formées antérieurement. L'applicateur équilibré peut être conçu pour balayer plus lentement lorsqu'il sort d'une région volumique piégée que lorsqu'il y entre. On peut procéder à un arrêt, à un ralentissement ou à un balayage vers l'avant et vers l'arrière de manière à assurer une formation correcte du revêtement dans les régions volumiques piégées en assurant un transfert adéquat de matière à l'intérieur de la région volumique piégée et/ou un transfert adéquat hors de ladite région volumique piégée, ou bien en faisant en sorte que tout transfert non souhaité de matière hors du volume piégé est minimisé ou est pris en compte d'une manière ou d'une autre.