| About 69 results  | www.google.com/patents/WO2017104355A1?cl=en The present invention provides: a resist composition which contains a resin (P)
that has a repeating unit (a) having an inner salt structure; ... |
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 | www.google.com/patents/WO2017115629A1?cl=en Provided are: a pattern forming method which enables the achievement of a
pattern that is able to be suppressed in the occurrence of pattern ... |
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 | www.google.com/patents/CN101625526B?cl=en 本发明提供一种相对于显影的线宽稳定性高、可以形成高析像度的图案的着色感光性
树脂组合物、以及利用紫外线激光曝光的图案形成方法、使用了 ... |
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 | www.google.com/patents/WO2017029891A1?cl=en Provided are: a pattern forming method which exhibits high sensitivity and high
resolving power during the formation of an ultrafine pattern; ... |
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 | www.google.com/patents/CN102617445B?cl=zh 本发明涉及式(1)表示的化合物，可光聚合组合物，用于滤色器的可光聚合组合物，滤
色器和它们的制备方法，固态成像器件以及平版印刷版原版。 |
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 | www.google.com/patents/WO2014156463A1?cl=ja La présente invention a pour objet de réaliser une composition de résine
sensible à la lumière active ou sensible aux rayonnements qui est ... |
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 | www.google.com/patents/WO2015194330A1?cl=fr La présente invention concerne une composition de résine sensible au
rayonnement ou sensible aux rayons lumineux actifs qui contient un ... |
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 | www.google.com/patents/WO2015125554A1?cl=fr La présente invention concerne une composition de résine sensible à la lumière
active ou sensible au rayonnement actif, ladite composition ... |
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 | www.google.com/patents/WO2014129250A1?cl=fr L'invention porte sur une composition photosensible qui, du fait qu'elle contient
un composé ayant une structure particulière, produit ... |
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 | www.google.com/patents/WO2009122789A1?cl=fr Composition polymérisable contenant au moins un composé polymérisable, un
polymère de liaison, un déclencheur de photopolymérisation et ... |
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